JPH01121163A - アルミニウム磁気ディスク研磨用組成物 - Google Patents
アルミニウム磁気ディスク研磨用組成物Info
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- JPH01121163A JPH01121163A JP62275645A JP27564587A JPH01121163A JP H01121163 A JPH01121163 A JP H01121163A JP 62275645 A JP62275645 A JP 62275645A JP 27564587 A JP27564587 A JP 27564587A JP H01121163 A JPH01121163 A JP H01121163A
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Landscapes
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明はアルミニウム（以下アルミと略する）磁気ディ
スクを迅速且つ高精度鏡面に研磨するアルミ磁気ディス
クの研磨用組成物に関する。更に詳述すると、アルミサ
ブストレート及びアルミサブストレートの上にニッケル
リンを無電解等によりメツキしたニッケルサブストレー
ト、アルミサブストレートを陽極酸化したアルマイトサ
ブストレート等、の研磨用組成物に係り、特にアルミサ
ブストレートの研磨に好適な弱アリカリ性の研磨用組成
物に関するものである。
スクを迅速且つ高精度鏡面に研磨するアルミ磁気ディス
クの研磨用組成物に関する。更に詳述すると、アルミサ
ブストレート及びアルミサブストレートの上にニッケル
リンを無電解等によりメツキしたニッケルサブストレー
ト、アルミサブストレートを陽極酸化したアルマイトサ
ブストレート等、の研磨用組成物に係り、特にアルミサ
ブストレートの研磨に好適な弱アリカリ性の研磨用組成
物に関するものである。
アルミ磁気ディスクに対し、従来使用されている研磨用
組成物は主にアルミナと酸性の研磨用促進剤を水に懸濁
又は溶解した水性スラリーである。
組成物は主にアルミナと酸性の研磨用促進剤を水に懸濁
又は溶解した水性スラリーである。
特開昭８１−２７８５８７にはアルミナと硫酸ニッケル
と水からなる弱酸性の研磨用組成物が開示されている。
と水からなる弱酸性の研磨用組成物が開示されている。
また、特開昭６２−２５１８７にはアルミナと硝酸アル
ミ等と水からなる強酸性の研磨用組成物が開示されてい
る。
ミ等と水からなる強酸性の研磨用組成物が開示されてい
る。
しかし、これら弱酸性又は強酸性の研磨用組成物はニッ
ケルサブストレートやアルマイトサブストレードの研磨
においては性能を発揮するもののアルミサブストレート
の研磨においては、オレンジピールが発生して曇りが生
じ鏡面に仕上らず品質上使用することができない。アル
ミサブストレートに要求される品質は基本的にはニッケ
ルサブストレート等と同様であるが、材質や硬度が異な
るためにオレンジピール、そして金属間化合物の研磨さ
れた突起や逆の脱落によるピットが発生し易く、又うね
りも大きくなり易い。
ケルサブストレートやアルマイトサブストレードの研磨
においては性能を発揮するもののアルミサブストレート
の研磨においては、オレンジピールが発生して曇りが生
じ鏡面に仕上らず品質上使用することができない。アル
ミサブストレートに要求される品質は基本的にはニッケ
ルサブストレート等と同様であるが、材質や硬度が異な
るためにオレンジピール、そして金属間化合物の研磨さ
れた突起や逆の脱落によるピットが発生し易く、又うね
りも大きくなり易い。
本発明はこれらの問題点を解決するオレンジピールがな
く、突起、ピットの少ない、そしてうねりの小さい高精
度な鏡面が得られ、且つ研磨能率の高い研磨用組成物を
提供することが目的である。本発明による研磨用組成物
はアルミサブストレートの研磨に好適であるが、ニッケ
ルサブストレートやアルマイトサブストレートの研磨に
使用しても一向に差支えない。
く、突起、ピットの少ない、そしてうねりの小さい高精
度な鏡面が得られ、且つ研磨能率の高い研磨用組成物を
提供することが目的である。本発明による研磨用組成物
はアルミサブストレートの研磨に好適であるが、ニッケ
ルサブストレートやアルマイトサブストレートの研磨に
使用しても一向に差支えない。
本発明者らはアルミサブストレートの研磨において、従
来の酸性研磨促進剤では、アルミサブストレートと酸性
化合物との反応によりオレンジピールや酸化被膜が生ず
るために鏡面が得られないことに鑑み、アルカリ性の研
磨促進剤に着目した。しかし、水酸化ナトリウムの如き
アルカリ金属の水酸化物では反応が強すぎるため、アル
ミナに各種アミン系化合物を加えてアルミサブストレー
トの研磨を行なった所、トリエタノールアミンカルボン
酸塩とトリエタノールアミン塩酸塩の組み合せが研磨促
進効果が高く、高精度の研磨面が得られることを見出し
、本発明を完成させた。
来の酸性研磨促進剤では、アルミサブストレートと酸性
化合物との反応によりオレンジピールや酸化被膜が生ず
るために鏡面が得られないことに鑑み、アルカリ性の研
磨促進剤に着目した。しかし、水酸化ナトリウムの如き
アルカリ金属の水酸化物では反応が強すぎるため、アル
ミナに各種アミン系化合物を加えてアルミサブストレー
トの研磨を行なった所、トリエタノールアミンカルボン
酸塩とトリエタノールアミン塩酸塩の組み合せが研磨促
進効果が高く、高精度の研磨面が得られることを見出し
、本発明を完成させた。
即ち、本発明はアルミナ研磨材粉末とトリエタノールア
ミンカルボン酸塩とトリエタノールアミン塩酸塩と水か
らなるアルミ磁気ディスク研磨用組成物である。
ミンカルボン酸塩とトリエタノールアミン塩酸塩と水か
らなるアルミ磁気ディスク研磨用組成物である。
以下、本発明を詳しく述べる。
アルミナ研磨材粉末はα−Ａρ２０３等で平均粒子径が
０．５〜ＩＯμｍのものが好ましい。トリエタノールア
ミンカルボン酸塩はＨＮ（ＣＨ２ＣＨ２０Ｈ）３・ＲＣ
ＯＯ−（Ｒは炭化水素基）で表わされ、トリエタノール
アミン塩酸塩はＨＮ（ＣＨ２ＣＨ２０Ｈ）３・ｃ、ｌ？
−で表わされるものである。トリエタノールカルボン酸
塩とトリエタノール塩酸塩の割合は任意であるが、研磨
速度を高め、突起やピットの発生を押えるためにはトリ
エタノールアミンカルボン酸塩の割合が５０重量％〜９
０重量％が好ましい。
０．５〜ＩＯμｍのものが好ましい。トリエタノールア
ミンカルボン酸塩はＨＮ（ＣＨ２ＣＨ２０Ｈ）３・ＲＣ
ＯＯ−（Ｒは炭化水素基）で表わされ、トリエタノール
アミン塩酸塩はＨＮ（ＣＨ２ＣＨ２０Ｈ）３・ｃ、ｌ？
−で表わされるものである。トリエタノールカルボン酸
塩とトリエタノール塩酸塩の割合は任意であるが、研磨
速度を高め、突起やピットの発生を押えるためにはトリ
エタノールアミンカルボン酸塩の割合が５０重量％〜９
０重量％が好ましい。
本発明の研磨用組成物はトリエタノールアミンカルボン
酸塩とトリエタノールアミン塩酸塩の水溶液にアルミナ
研磨材粉末を懸濁したもので、好ましい組成としてはア
ルミナ研磨材粉末１〜２５重量％、トリエタノールアミ
ンカルボン酸塩とトリエタノールアミン塩酸塩の合計が
０．１〜５重量％の弱アルカリ性スラリーである。又、
これに炭酸ソーダ等を加えてｐＨを調整することも可能
である。
酸塩とトリエタノールアミン塩酸塩の水溶液にアルミナ
研磨材粉末を懸濁したもので、好ましい組成としてはア
ルミナ研磨材粉末１〜２５重量％、トリエタノールアミ
ンカルボン酸塩とトリエタノールアミン塩酸塩の合計が
０．１〜５重量％の弱アルカリ性スラリーである。又、
これに炭酸ソーダ等を加えてｐＨを調整することも可能
である。
好ましいｐＨは９．０〜１０．０である。特に炭酸ソー
ダは研磨速度を高め、突起やピットの発生を押える効果
があり、非常に有用である。その好ましい添加量は０．
０１〜０．０５重量％である。
ダは研磨速度を高め、突起やピットの発生を押える効果
があり、非常に有用である。その好ましい添加量は０．
０１〜０．０５重量％である。
又、実際の研磨では、この研磨用組成物を原液で使用す
ることは勿論、２〜６倍程度に任意に希釈して使用する
ことも可能である。研磨促進剤の濃度は研磨能率を上げ
、且つ突起やピットの発生を少なくするため０．１重量
％以上が好ましい。又５重量％を超えても逆に研磨速度
は低下し、且つピットが発生し易くなるので５重量％以
下が好ましい。実際の使用に当っては０．１〜１重量％
が最も好ましい。
ることは勿論、２〜６倍程度に任意に希釈して使用する
ことも可能である。研磨促進剤の濃度は研磨能率を上げ
、且つ突起やピットの発生を少なくするため０．１重量
％以上が好ましい。又５重量％を超えても逆に研磨速度
は低下し、且つピットが発生し易くなるので５重量％以
下が好ましい。実際の使用に当っては０．１〜１重量％
が最も好ましい。
アルミナ研磨材粉末は１重量％を下廻ると研磨能率の低
下とスクラッチの発生があり、又２５重量％を超えても
研磨能率の向上は認められず且つ粘度が増大して作業性
が悪くなるので１〜２５重量％が好ましい。アルミナ研
磨材粉末の平均粒度は０．５μｍを下廻ると研磨能率が
低くなり、又１０μｍを超えると表面粗さが粗くなるの
で０．５〜１０μｍが好ましい。
下とスクラッチの発生があり、又２５重量％を超えても
研磨能率の向上は認められず且つ粘度が増大して作業性
が悪くなるので１〜２５重量％が好ましい。アルミナ研
磨材粉末の平均粒度は０．５μｍを下廻ると研磨能率が
低くなり、又１０μｍを超えると表面粗さが粗くなるの
で０．５〜１０μｍが好ましい。
本発明において、トリエタノールアミンカルボン酸塩と
トリエタノールアミン塩酸塩は研磨促進と研磨面を高精
度にする働きがあり、オレンジビールの発生が全くなく
、突起やピットの少ない、うねりの小さい高精度な研磨
面を迅速に得ることを可能とした。更に機械の腐蝕性、
人体に対する有害性も低いという特徴を有している。
トリエタノールアミン塩酸塩は研磨促進と研磨面を高精
度にする働きがあり、オレンジビールの発生が全くなく
、突起やピットの少ない、うねりの小さい高精度な研磨
面を迅速に得ることを可能とした。更に機械の腐蝕性、
人体に対する有害性も低いという特徴を有している。
次に、実施例により、本発明を更に詳しく説明する。以
下の実施例における研磨特性は、次の様な研磨試験で評
価した。研磨は４ウ工イ式の両面ポリシングマシン（定
盤径φ８４０ ｍｍ）を使用し、定盤にはスェードタイ
プのパッド（昭和ポリシングシステム■製Ｓ Ｐ Ｄ
Ｎｏ、４２３５）を貼り付け、３．５インチのアルミニ
ウムサブストレート１０枚を６分間研磨する。研磨条件
は下定盤回転数： ７０ｒｐｍ 。
下の実施例における研磨特性は、次の様な研磨試験で評
価した。研磨は４ウ工イ式の両面ポリシングマシン（定
盤径φ８４０ ｍｍ）を使用し、定盤にはスェードタイ
プのパッド（昭和ポリシングシステム■製Ｓ Ｐ Ｄ
Ｎｏ、４２３５）を貼り付け、３．５インチのアルミニ
ウムサブストレート１０枚を６分間研磨する。研磨条件
は下定盤回転数： ７０ｒｐｍ 。
加工圧カニ １００ｇ／ａｔ スラリー供給量： １０
０ ｍｌ／ｎ＋ｉｎ、である。研磨後アルミニウムサブ
ストレートを秤量し、重量減から研磨速度を求める。又
、表面は微分干渉顕微鏡及び１０万ルクススポツトライ
トで観察し、突起、ピット、スクラッチなどの度合を判
定する。又。表面粗さはランクテーラーホブソン社製の
タリステップとタリデータ２０００で測定する。
０ ｍｌ／ｎ＋ｉｎ、である。研磨後アルミニウムサブ
ストレートを秤量し、重量減から研磨速度を求める。又
、表面は微分干渉顕微鏡及び１０万ルクススポツトライ
トで観察し、突起、ピット、スクラッチなどの度合を判
定する。又。表面粗さはランクテーラーホブソン社製の
タリステップとタリデータ２０００で測定する。
実施例 １〜５
平均粒子径１．９μｍのアルミナ粉末を２２重量％含有
するスラリーに、トリエタノールアミン酢酸塩とトリエ
タノールアミン塩酸塩を前者の比率を８２重量％になる
様に保って、この両者の合計の組成物中に占める割合が
０．４２５． １．２７５． ２．１２５゜３．４００
、及び４．２５０重量％になる様に溶解した後、炭酸
ソーダを０，１５〜０．３０重量％添加してｐＨを９．
８に調整し、本発明の研磨用組成物を得た。この研磨用
組成物を容量比で４倍に水で希釈してアルミニウムサブ
ストレートの研磨試験を実施した。試験の結果を第１表
に示す。
するスラリーに、トリエタノールアミン酢酸塩とトリエ
タノールアミン塩酸塩を前者の比率を８２重量％になる
様に保って、この両者の合計の組成物中に占める割合が
０．４２５． １．２７５． ２．１２５゜３．４００
、及び４．２５０重量％になる様に溶解した後、炭酸
ソーダを０，１５〜０．３０重量％添加してｐＨを９．
８に調整し、本発明の研磨用組成物を得た。この研磨用
組成物を容量比で４倍に水で希釈してアルミニウムサブ
ストレートの研磨試験を実施した。試験の結果を第１表
に示す。
（以下余白）
第 １
表
通常アルミニウムサブストレートに必要とされる品質は
、表面粗さ（Ｒｔ＋ｎ）で２．０００Å以下、うねり（
ｖｔ）で７００Å以下であるが、第１表によれば本発明
の研磨用組成物による研磨面は全てに大幅にこの値を下
廻っている。勿論オレンジピールの発生は全く認められ
なかった。
、表面粗さ（Ｒｔ＋ｎ）で２．０００Å以下、うねり（
ｖｔ）で７００Å以下であるが、第１表によれば本発明
の研磨用組成物による研磨面は全てに大幅にこの値を下
廻っている。勿論オレンジピールの発生は全く認められ
なかった。
又、真直度は５μｍ／２５＋ｎｍ長以下、外周面ダレは
０．５μｍ ／ ４ ｍｍ長以下が必要とされるが、こ
のためには研磨速度は０，８μｍ／ｍｉｎ、以上が好ま
しい。本発明の研磨用組成物による研磨速度はこの値を
上廻っており、真直度０．１２μｍ７２５ｍｍ長、外周
面ダレは０．１３μｍ ／ ４ ｍｎ長で非常に優れた
研磨面であった。但し、研磨促進剤の濃度が０．１重量
％以下と１．０重量％以上になるとややピットの発生が
認められたので、研磨促進剤の最適濃度は０．１〜１，
０重量％である。
０．５μｍ ／ ４ ｍｍ長以下が必要とされるが、こ
のためには研磨速度は０，８μｍ／ｍｉｎ、以上が好ま
しい。本発明の研磨用組成物による研磨速度はこの値を
上廻っており、真直度０．１２μｍ７２５ｍｍ長、外周
面ダレは０．１３μｍ ／ ４ ｍｎ長で非常に優れた
研磨面であった。但し、研磨促進剤の濃度が０．１重量
％以下と１．０重量％以上になるとややピットの発生が
認められたので、研磨促進剤の最適濃度は０．１〜１，
０重量％である。
本発明によるトリエタノールアミンカルボン酸塩とトリ
エタノール塩酸塩を組み合せた研磨促進剤を使用した研
磨用組成物は、特にアルミニウムサブストレートの研磨
に有効であり、 １）高い研磨能率がある ２）オレンジピールが発生しない ３）突起やピットの発生が少ない ４）表面粗さが小さい ５）真直度、外周面ダレの小さい優れた面が得られるな
どの効果があり、 ６）機械に対する腐蝕性が少ない ７）人体に対する有害性が少ない という点でも効果的である。
エタノール塩酸塩を組み合せた研磨促進剤を使用した研
磨用組成物は、特にアルミニウムサブストレートの研磨
に有効であり、 １）高い研磨能率がある ２）オレンジピールが発生しない ３）突起やピットの発生が少ない ４）表面粗さが小さい ５）真直度、外周面ダレの小さい優れた面が得られるな
どの効果があり、 ６）機械に対する腐蝕性が少ない ７）人体に対する有害性が少ない という点でも効果的である。
Claims (3)
- （１）水とアルミナ研磨材粉末及びトリエタノールアミ
ンカルボン酸塩とトリエタノールアミン塩酸塩の研磨促
進剤からなる弱アルカリ性のアルミニウム磁気ディスク
研磨用組成物。 - （２）研磨促進剤の組成物中に占める割合が０．１〜５
重量％である特許請求の範囲第１項記載のアルミニウム
磁気ディスク研磨用組成物。 - （３）アルミナ研磨材粉末の組成物中に占める割合が１
〜２５重量％であり、平均粒子径が０．５〜１０μｍで
ある特許請求の範囲第１項又は第２項記載のアルミニウ
ム磁気ディスク研磨用組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62275645A JPH01121163A (ja) | 1987-11-02 | 1987-11-02 | アルミニウム磁気ディスク研磨用組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62275645A JPH01121163A (ja) | 1987-11-02 | 1987-11-02 | アルミニウム磁気ディスク研磨用組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01121163A true JPH01121163A (ja) | 1989-05-12 |
Family
ID=17558351
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62275645A Pending JPH01121163A (ja) | 1987-11-02 | 1987-11-02 | アルミニウム磁気ディスク研磨用組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01121163A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH04201069A (ja) * | 1990-11-29 | 1992-07-22 | C Uyemura & Co Ltd | 研磨方法 |
| JPH06267068A (ja) * | 1993-03-16 | 1994-09-22 | Sky Alum Co Ltd | 磁気ディスク基板およびその製造方法 |
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