JPS64437B2 - - Google Patents
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- JPS64437B2 JPS64437B2 JP60154404A JP15440485A JPS64437B2 JP S64437 B2 JPS64437 B2 JP S64437B2 JP 60154404 A JP60154404 A JP 60154404A JP 15440485 A JP15440485 A JP 15440485A JP S64437 B2 JPS64437 B2 JP S64437B2
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- 238000005498 polishing Methods 0.000 claims description 77
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 27
- 239000004033 plastic Substances 0.000 claims description 22
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 claims description 22
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims description 9
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 claims description 9
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 6
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 6
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 5
- USFZMSVCRYTOJT-UHFFFAOYSA-N Ammonium acetate Chemical compound N.CC(O)=O USFZMSVCRYTOJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000005695 Ammonium acetate Substances 0.000 claims description 3
- PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L Sodium Sulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=O PMZURENOXWZQFD-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M Sodium acetate Chemical compound [Na+].CC([O-])=O VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- MQRWBMAEBQOWAF-UHFFFAOYSA-N acetic acid;nickel Chemical compound [Ni].CC(O)=O.CC(O)=O MQRWBMAEBQOWAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 150000008043 acidic salts Chemical class 0.000 claims description 3
- 229940043376 ammonium acetate Drugs 0.000 claims description 3
- 235000019257 ammonium acetate Nutrition 0.000 claims description 3
- BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N ammonium sulfate Chemical compound N.N.OS(O)(=O)=O BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052921 ammonium sulfate Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 235000011130 ammonium sulphate Nutrition 0.000 claims description 3
- 229940044175 cobalt sulfate Drugs 0.000 claims description 3
- 229910000361 cobalt sulfate Inorganic materials 0.000 claims description 3
- KTVIXTQDYHMGHF-UHFFFAOYSA-L cobalt(2+) sulfate Chemical compound [Co+2].[O-]S([O-])(=O)=O KTVIXTQDYHMGHF-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 159000000011 group IA salts Chemical class 0.000 claims description 3
- XIXADJRWDQXREU-UHFFFAOYSA-M lithium acetate Chemical compound [Li+].CC([O-])=O XIXADJRWDQXREU-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 3
- 229940071264 lithium citrate Drugs 0.000 claims description 3
- WJSIUCDMWSDDCE-UHFFFAOYSA-K lithium citrate (anhydrous) Chemical compound [Li+].[Li+].[Li+].[O-]C(=O)CC(O)(CC([O-])=O)C([O-])=O WJSIUCDMWSDDCE-UHFFFAOYSA-K 0.000 claims description 3
- INHCSSUBVCNVSK-UHFFFAOYSA-L lithium sulfate Inorganic materials [Li+].[Li+].[O-]S([O-])(=O)=O INHCSSUBVCNVSK-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- UEGPKNKPLBYCNK-UHFFFAOYSA-L magnesium acetate Chemical compound [Mg+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O UEGPKNKPLBYCNK-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 235000011285 magnesium acetate Nutrition 0.000 claims description 3
- 239000011654 magnesium acetate Substances 0.000 claims description 3
- 229940069446 magnesium acetate Drugs 0.000 claims description 3
- 229910052943 magnesium sulfate Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 235000019341 magnesium sulphate Nutrition 0.000 claims description 3
- 229940078494 nickel acetate Drugs 0.000 claims description 3
- HZPNKQREYVVATQ-UHFFFAOYSA-L nickel(2+);diformate Chemical compound [Ni+2].[O-]C=O.[O-]C=O HZPNKQREYVVATQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- OTYBMLCTZGSZBG-UHFFFAOYSA-L potassium sulfate Chemical compound [K+].[K+].[O-]S([O-])(=O)=O OTYBMLCTZGSZBG-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 229910052939 potassium sulfate Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 235000011151 potassium sulphates Nutrition 0.000 claims description 3
- 239000001632 sodium acetate Substances 0.000 claims description 3
- 235000017281 sodium acetate Nutrition 0.000 claims description 3
- 229910052938 sodium sulfate Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 235000011152 sodium sulphate Nutrition 0.000 claims description 3
- AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L sodium thiosulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=S AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L 0.000 claims description 3
- 235000019345 sodium thiosulphate Nutrition 0.000 claims description 3
- RBTVSNLYYIMMKS-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 3-aminoazetidine-1-carboxylate;hydrochloride Chemical compound Cl.CC(C)(C)OC(=O)N1CC(N)C1 RBTVSNLYYIMMKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- UGLUPDDGTQHFKU-UHFFFAOYSA-M [NH4+].S(=O)(=O)([O-])[O-].[Mg+] Chemical compound [NH4+].S(=O)(=O)([O-])[O-].[Mg+] UGLUPDDGTQHFKU-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 2
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 18
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 5
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000004580 weight loss Effects 0.000 description 4
- BNGXYYYYKUGPPF-UHFFFAOYSA-M (3-methylphenyl)methyl-triphenylphosphanium;chloride Chemical compound [Cl-].CC1=CC=CC(C[P+](C=2C=CC=CC=2)(C=2C=CC=CC=2)C=2C=CC=CC=2)=C1 BNGXYYYYKUGPPF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 229910000746 Structural steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001593 boehmite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 2
- FAHBNUUHRFUEAI-UHFFFAOYSA-M hydroxidooxidoaluminium Chemical compound O[Al]=O FAHBNUUHRFUEAI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- NNWNNQTUZYVQRK-UHFFFAOYSA-N 5-bromo-1h-pyrrolo[2,3-c]pyridine-2-carboxylic acid Chemical compound BrC1=NC=C2NC(C(=O)O)=CC2=C1 NNWNNQTUZYVQRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002574 CR-39 Polymers 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- DCNGHDHEMTUKNP-UHFFFAOYSA-L diazanium;magnesium;disulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[Mg+2].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O DCNGHDHEMTUKNP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N nickel Substances [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
Landscapes
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
Description
〈産業上の利用分野〉
本発明は、プラスチツクを研磨する組成物に関
する。 〈従来の技術とその課題〉 プラスチツク製品の研磨用組成物は、特公昭53
−3518号公報に開示されているように、水と、酸
化アルミニウムの研磨剤、及び、硝酸アルミニウ
ムの研磨促進剤からなる。 この研磨用組成物は、プラスチツクを高能率か
つ高品質に研磨することができる。 ところが、この研磨用組成物は、研磨促進剤の
硝酸アルミニウムが強酸塩であるので、強酸性で
あり、PH値が４〜２位である。 従つて、この研磨用組成物は、酸性が強いの
で、研磨機や治具が錆び易く、また、作業者の手
が荒れ易く、機械や作業者を害し易い。 本発明の目的は、上記のような従来の課題を解
決することである。 〈課題を解決するための手段〉 本発明は、水と、酸化アルミニウムの研磨剤、
及び、研磨促進剤からなり、プラスチツクを研磨
する研磨用組成物において、 研磨促進剤が、プラスチツクの研磨を促進する
中性塩又は弱酸性塩若しくは弱アルカリ性塩であ
つて、酢酸ニツケル、酢酸リチウム、硫酸リチウ
ム、硫酸ナトリウム、酢酸ナトリウム、酢酸アン
モニウム、硫酸アンモニウム、硫酸マグネシウ
ム、酢酸マグネシウム、硫酸マグネシウムアンモ
ニウム、硫酸カリウム、硫酸コバルト、チオ硫酸
ナトリウム、ギ酸ニツケル又はクエン酸リチウム
であり、 研磨用組成物が中性又は弱酸性若しくは弱アル
カリ性である ことを特徴とするプラスチツク製品の研磨用組成
物である。 〈作用〉 本発明の研磨用組成物の研磨作用は、明確には
解明されていないが、次のように推察される。 本発明の研磨用組成物を用いて、プラスチツク
を研磨すると、いわゆるメカノケミカル研磨が行
われ、研磨促進剤と水がプラスチツクの被研磨面
を化学的に研磨され易く改質し、又は溶解し、同
時に、研磨剤と水がプラスチツクの被研磨面を機
械的に研磨して、プラスチツクの被研磨面が機械
的かつ化学的に研磨される。 機械的化学的研磨の際、本発明の研磨用組成物
においては、プラスチツクに対する機械的作用力
と化学的作用力が適合しており、プラスチツクに
対する両作用力の適合によつて優れた研磨面が得
られる。 本発明の研磨用組成物は、研磨促進剤が中性塩
又は弱酸性塩若しくは弱アルカリ性塩であるの
で、中性又は弱酸性若しくは弱アルカリ性にな
る。 従つて、他の物質を酸化する力が弱いので、研
磨機や治具の金属を錆びさせる力や作業者の手を
荒れさせる力が弱い。 〈実施例〉 次に、本発明の実施例について説明する。 本例のプラスチツク製品の研磨用組成物は、純
水にα型酸化アルミニウム（α−Al2O3）の研磨
剤を懸濁し、これに次に列挙する研磨促進剤の１
種を添加した中性ないし弱酸性又は弱アルカリ性
のスラリーである。 研磨促進剤 (1) 酢酸ニツケル Ni（CH3COO）2・4H2O (2) 酢酸リチウム Li（CH3COO）・2H2O (3) 硫酸リチウム Li2SO4・H2O (4) 硫酸ナトリウム Na2SO4 (5) 酢酸ナトリウム CH3COONa・3H2O (6) 酢酸アンモニウム CH3COONH4 (7) 硫酸アンモニウム （NH4）SO4 (8) 硫酸マグネシウム MgSO4・7H2O (9) 酢酸マグネシウム Mg（CH3COO）2・4H2O (7) 硫酸マグネシウムアンモニウム
（NH4）2SO4・MgSO4・6H2O (10) 硫酸カリウム K2SO4 (11) 硫酸コバルト CoSO4・7H2O (13) チオ硫酸ナトリウム Na2S2O3・5H2O (14) ギ酸ニツケル Ni（HCOO）2・2H2O (15) クエン酸リチウム Li3C6H5O7・4H2O 上記のスラリー中の研磨促進剤の重量割合は１
〜20％であり、PH値は５〜９である。 また、研磨剤の重量割合は２〜30％であり、研
磨剤の平均粒子径は0.7〜4.0μｍであり、研磨剤
の最大粒子径は20μｍ以下である。 また、研磨剤のα型酸化アルミニウムは、粒状
のベーマイト（Al2O3・H2O，AlO（OH））を
1.100〜1.200℃で２〜３時間仮焼し、その後、粉
砕して整粒したものである。 本例の研磨用組成物を用いてプラスチツク製品
を研磨する場合は、従来の研磨用組成物を用いる
場合と同様であり、研磨用組成物をプラスチツク
製品の表面とその表面を摺動する研磨パツトの表
面の間に供給する。 次に、本発明の効果を確認する比較実験につい
て説明する。 研磨能力の実験 本発明の研磨用組成物には、純水にα型酸化ア
ルミニウム（α−Al2O3）の研磨剤を懸濁し、こ
れに実施例の説明において列挙した研磨促進剤の
１種を重量割合で10.0％添加したスラリーを用い
る。このスラリーのPH値は、後の表に示す通りで
ある。 従来の研磨用組成物には、純水にα型酸化アル
ミニウム（α−Al2O3）の研磨剤を懸濁し、これ
に硝酸アルミニウム（Al（NO3）3・9H2O）の研
磨促進剤を重量割合で10.0％添加したスラリーを
用いる。このスラリーのPH値は、後の表に示す。 本発明と従来の上記の研磨スラリーにおいて、
研磨剤の重量割合は20％であり、研磨剤の平均粒
子径は1.3μｍであり、研磨剤の最大粒子径は20μ
ｍ以下である。 また、研磨剤のα型酸化アルミニウムは、粒状
のベーマイト（Al2O3・H2O，AlO（OH））を
1.150℃で３時間仮焼し、その後、粉砕して整粒
したものである。 プラスチツク製品には、アリルジグリコールカ
ーボネート樹脂の65mm径の眼鏡用レンズを用い
る。 このレンズは、非球面レンズ研磨機に装填し、
レンズの表面に植毛布の研磨パツトを当接し、レ
ンズと研磨パツトを相対的に摺動して、10分間研
磨する。研磨の間、レンズと研磨パツトの間に本
発明の研磨スラリー又は従来の研磨スラリーを２
／minの割合で供給する。なお、研磨圧は270
ｇ／cm2である。 研磨の後、レンズの研磨表面を検査して、オレ
ンジピールやスクラツチのような表面欠陥の有無
を調べる。次に、レンズの重量を計測し、研磨に
よる重量損失を算出して、研磨量を求める。 この実験結果は、次の表に示す通りである。
する。 〈従来の技術とその課題〉 プラスチツク製品の研磨用組成物は、特公昭53
−3518号公報に開示されているように、水と、酸
化アルミニウムの研磨剤、及び、硝酸アルミニウ
ムの研磨促進剤からなる。 この研磨用組成物は、プラスチツクを高能率か
つ高品質に研磨することができる。 ところが、この研磨用組成物は、研磨促進剤の
硝酸アルミニウムが強酸塩であるので、強酸性で
あり、PH値が４〜２位である。 従つて、この研磨用組成物は、酸性が強いの
で、研磨機や治具が錆び易く、また、作業者の手
が荒れ易く、機械や作業者を害し易い。 本発明の目的は、上記のような従来の課題を解
決することである。 〈課題を解決するための手段〉 本発明は、水と、酸化アルミニウムの研磨剤、
及び、研磨促進剤からなり、プラスチツクを研磨
する研磨用組成物において、 研磨促進剤が、プラスチツクの研磨を促進する
中性塩又は弱酸性塩若しくは弱アルカリ性塩であ
つて、酢酸ニツケル、酢酸リチウム、硫酸リチウ
ム、硫酸ナトリウム、酢酸ナトリウム、酢酸アン
モニウム、硫酸アンモニウム、硫酸マグネシウ
ム、酢酸マグネシウム、硫酸マグネシウムアンモ
ニウム、硫酸カリウム、硫酸コバルト、チオ硫酸
ナトリウム、ギ酸ニツケル又はクエン酸リチウム
であり、 研磨用組成物が中性又は弱酸性若しくは弱アル
カリ性である ことを特徴とするプラスチツク製品の研磨用組成
物である。 〈作用〉 本発明の研磨用組成物の研磨作用は、明確には
解明されていないが、次のように推察される。 本発明の研磨用組成物を用いて、プラスチツク
を研磨すると、いわゆるメカノケミカル研磨が行
われ、研磨促進剤と水がプラスチツクの被研磨面
を化学的に研磨され易く改質し、又は溶解し、同
時に、研磨剤と水がプラスチツクの被研磨面を機
械的に研磨して、プラスチツクの被研磨面が機械
的かつ化学的に研磨される。 機械的化学的研磨の際、本発明の研磨用組成物
においては、プラスチツクに対する機械的作用力
と化学的作用力が適合しており、プラスチツクに
対する両作用力の適合によつて優れた研磨面が得
られる。 本発明の研磨用組成物は、研磨促進剤が中性塩
又は弱酸性塩若しくは弱アルカリ性塩であるの
で、中性又は弱酸性若しくは弱アルカリ性にな
る。 従つて、他の物質を酸化する力が弱いので、研
磨機や治具の金属を錆びさせる力や作業者の手を
荒れさせる力が弱い。 〈実施例〉 次に、本発明の実施例について説明する。 本例のプラスチツク製品の研磨用組成物は、純
水にα型酸化アルミニウム（α−Al2O3）の研磨
剤を懸濁し、これに次に列挙する研磨促進剤の１
種を添加した中性ないし弱酸性又は弱アルカリ性
のスラリーである。 研磨促進剤 (1) 酢酸ニツケル Ni（CH3COO）2・4H2O (2) 酢酸リチウム Li（CH3COO）・2H2O (3) 硫酸リチウム Li2SO4・H2O (4) 硫酸ナトリウム Na2SO4 (5) 酢酸ナトリウム CH3COONa・3H2O (6) 酢酸アンモニウム CH3COONH4 (7) 硫酸アンモニウム （NH4）SO4 (8) 硫酸マグネシウム MgSO4・7H2O (9) 酢酸マグネシウム Mg（CH3COO）2・4H2O (7) 硫酸マグネシウムアンモニウム
（NH4）2SO4・MgSO4・6H2O (10) 硫酸カリウム K2SO4 (11) 硫酸コバルト CoSO4・7H2O (13) チオ硫酸ナトリウム Na2S2O3・5H2O (14) ギ酸ニツケル Ni（HCOO）2・2H2O (15) クエン酸リチウム Li3C6H5O7・4H2O 上記のスラリー中の研磨促進剤の重量割合は１
〜20％であり、PH値は５〜９である。 また、研磨剤の重量割合は２〜30％であり、研
磨剤の平均粒子径は0.7〜4.0μｍであり、研磨剤
の最大粒子径は20μｍ以下である。 また、研磨剤のα型酸化アルミニウムは、粒状
のベーマイト（Al2O3・H2O，AlO（OH））を
1.100〜1.200℃で２〜３時間仮焼し、その後、粉
砕して整粒したものである。 本例の研磨用組成物を用いてプラスチツク製品
を研磨する場合は、従来の研磨用組成物を用いる
場合と同様であり、研磨用組成物をプラスチツク
製品の表面とその表面を摺動する研磨パツトの表
面の間に供給する。 次に、本発明の効果を確認する比較実験につい
て説明する。 研磨能力の実験 本発明の研磨用組成物には、純水にα型酸化ア
ルミニウム（α−Al2O3）の研磨剤を懸濁し、こ
れに実施例の説明において列挙した研磨促進剤の
１種を重量割合で10.0％添加したスラリーを用い
る。このスラリーのPH値は、後の表に示す通りで
ある。 従来の研磨用組成物には、純水にα型酸化アル
ミニウム（α−Al2O3）の研磨剤を懸濁し、これ
に硝酸アルミニウム（Al（NO3）3・9H2O）の研
磨促進剤を重量割合で10.0％添加したスラリーを
用いる。このスラリーのPH値は、後の表に示す。 本発明と従来の上記の研磨スラリーにおいて、
研磨剤の重量割合は20％であり、研磨剤の平均粒
子径は1.3μｍであり、研磨剤の最大粒子径は20μ
ｍ以下である。 また、研磨剤のα型酸化アルミニウムは、粒状
のベーマイト（Al2O3・H2O，AlO（OH））を
1.150℃で３時間仮焼し、その後、粉砕して整粒
したものである。 プラスチツク製品には、アリルジグリコールカ
ーボネート樹脂の65mm径の眼鏡用レンズを用い
る。 このレンズは、非球面レンズ研磨機に装填し、
レンズの表面に植毛布の研磨パツトを当接し、レ
ンズと研磨パツトを相対的に摺動して、10分間研
磨する。研磨の間、レンズと研磨パツトの間に本
発明の研磨スラリー又は従来の研磨スラリーを２
／minの割合で供給する。なお、研磨圧は270
ｇ／cm2である。 研磨の後、レンズの研磨表面を検査して、オレ
ンジピールやスクラツチのような表面欠陥の有無
を調べる。次に、レンズの重量を計測し、研磨に
よる重量損失を算出して、研磨量を求める。 この実験結果は、次の表に示す通りである。
【表】
【表】
この表から明らかなように、本発明の研磨スラ
リーは、PH値が6.0〜8.2であつて中性ないし弱酸
性又は弱アルカリ性であり、これに対し、従来の
研磨スラリーは、PH値が3.2であつて強酸性であ
る。ところが、本発明の研磨スラリーを用いる
と、従来のそれを用いた場合と同様に、研磨量が
多くて研磨能率が高く、また、表面欠陥が認めら
れず、研磨表面の品質が高い。 錆び易さの実験 本発明と従来の研磨スラリーには、それぞれ、
一般構造用鋼材（SS41）の試験片を一週間浸漬
する。 その後、研磨スラリー中で錆びた試験片は、錆
を落して、試験片の重量を計測し、錆による重量
損失を算出し、その重量損失を試験片の最初の重
量で割つて重量減少率を求める。 この実験結果は、次の表の通りである。
リーは、PH値が6.0〜8.2であつて中性ないし弱酸
性又は弱アルカリ性であり、これに対し、従来の
研磨スラリーは、PH値が3.2であつて強酸性であ
る。ところが、本発明の研磨スラリーを用いる
と、従来のそれを用いた場合と同様に、研磨量が
多くて研磨能率が高く、また、表面欠陥が認めら
れず、研磨表面の品質が高い。 錆び易さの実験 本発明と従来の研磨スラリーには、それぞれ、
一般構造用鋼材（SS41）の試験片を一週間浸漬
する。 その後、研磨スラリー中で錆びた試験片は、錆
を落して、試験片の重量を計測し、錆による重量
損失を算出し、その重量損失を試験片の最初の重
量で割つて重量減少率を求める。 この実験結果は、次の表の通りである。
【表】
この表から明らかなように、本発明の研磨スラ
リーは、従来のそれに比し、研磨機や治具が非常
に錆び難い。また、作業者の手が荒れ難いものと
推認される。 〈発明の効果〉 本発明の研磨用組成物は、プラスチツクを、従
来の研磨用組成物と同様に、高能率かつ高品質に
研磨することができる上に、従来の研磨用組成物
とは異なり、中性又は弱酸性若しくは弱アルカリ
性であるので、研磨機や治具が錆び難く、また、
作業者の手が荒れ難く、機械や作業者を害し難
い。
リーは、従来のそれに比し、研磨機や治具が非常
に錆び難い。また、作業者の手が荒れ難いものと
推認される。 〈発明の効果〉 本発明の研磨用組成物は、プラスチツクを、従
来の研磨用組成物と同様に、高能率かつ高品質に
研磨することができる上に、従来の研磨用組成物
とは異なり、中性又は弱酸性若しくは弱アルカリ
性であるので、研磨機や治具が錆び難く、また、
作業者の手が荒れ難く、機械や作業者を害し難
い。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 水と、酸化アルミニウムの研磨剤、及び、研
磨促進剤からなり、プラスチツクを研磨する磨用
組成物において、 研磨促進剤が、プラスチツクの研磨を促進する
中性塩又は弱酸性塩若しくは弱アルカリ性塩であ
つて、酢酸ニツケル、酢酸リチウム、硫酸リチウ
ム、硫酸ナトリウム、酢酸ナトリウム、酢酸アン
モニウム、硫酸アンモニウム、硫酸マグネシウ
ム、酢酸マグネシウム、硫酸マグネシウムアンモ
ニウム、硫酸カリウム、硫酸コバルト、チオ硫酸
ナトリウム、ギ酸ニツケル又はクエン酸リチウム
であり、 研磨用組成物が中性又は弱酸性若しくは弱アル
カリ性である ことを特徴とするプラスチツク製品の研磨用組成
物。 ２ 研磨促進剤の重量割合が１〜20％であり、研
磨用組成物のPH値が５〜９である特許請求の範囲
第１項記載のプラスチツク製品の研磨用組成物。 ３ 研磨剤の重量割合が２〜30％であり、研磨剤
の平均粒子径が0.7〜4.0μｍであり、研磨剤の最
大粒子径が20μｍ以下である特許請求の範囲第１
項又は第２項記載のプラスチツク製品の研磨用組
成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60154404A JPS6215282A (ja) | 1985-07-12 | 1985-07-12 | プラスチツク製品の研磨用組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60154404A JPS6215282A (ja) | 1985-07-12 | 1985-07-12 | プラスチツク製品の研磨用組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6215282A JPS6215282A (ja) | 1987-01-23 |
| JPS64437B2 true JPS64437B2 (ja) | 1989-01-06 |
Family
ID=15583404
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60154404A Granted JPS6215282A (ja) | 1985-07-12 | 1985-07-12 | プラスチツク製品の研磨用組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6215282A (ja) |
Families Citing this family (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0197560A (ja) * | 1987-10-09 | 1989-04-17 | Showa Denko Kk | アルミニウム磁気ディスク研磨用組成物 |
| JP2632889B2 (ja) * | 1988-01-19 | 1997-07-23 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 研磨用組成物 |
| JP2632898B2 (ja) * | 1988-02-09 | 1997-07-23 | 株式会社フジミインコーポレーテッド | 研磨用組成物 |
| JPH0214280A (ja) * | 1988-07-01 | 1990-01-18 | Showa Denko Kk | プラスチック研磨用組成物 |
| JP2013035110A (ja) * | 2011-08-11 | 2013-02-21 | Hoya Corp | プラスチックレンズの研磨方法、それに用いられる研磨工具、及びプラスチックレンズの製造方法 |
| JP6358740B2 (ja) * | 2014-04-08 | 2018-07-18 | 山口精研工業株式会社 | 研磨用組成物 |
| JP6358739B2 (ja) * | 2014-04-08 | 2018-07-18 | 山口精研工業株式会社 | 研磨用組成物 |
-
1985
- 1985-07-12 JP JP60154404A patent/JPS6215282A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6215282A (ja) | 1987-01-23 |
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