JPH0112756B2 - - Google Patents

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JPH0112756B2
JPH0112756B2 JP60046851A JP4685185A JPH0112756B2 JP H0112756 B2 JPH0112756 B2 JP H0112756B2 JP 60046851 A JP60046851 A JP 60046851A JP 4685185 A JP4685185 A JP 4685185A JP H0112756 B2 JPH0112756 B2 JP H0112756B2
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JP
Japan
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bis
substituted
butadienyl
derivative
butadienylsilane
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Application number
JP60046851A
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English (en)
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JPS61205285A (ja
Inventor
Fumie Sato
Shuji Tsucha
Yoshio Obara
Toshihiro Ishii
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nissan Chemical Corp
Original Assignee
Nissan Chemical Corp
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Publication date
Application filed by Nissan Chemical Corp filed Critical Nissan Chemical Corp
Priority to JP60046851A priority Critical patent/JPS61205285A/ja
Publication of JPS61205285A publication Critical patent/JPS61205285A/ja
Publication of JPH0112756B2 publication Critical patent/JPH0112756B2/ja
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  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 (イ) 産業上の利用分野 本発明は構造式〔〕で表される (式中、Y1、Y2は低級アルコキシ基を示す。)新
規なビス−置換−1,3−ブタジエニルシラン誘
導体の無水マレイン酸付加物及びその製造方法に
関するものである。
(ロ) 従来技術 従来より、4−〔トリエチル〕シリル−1,2,
3,6−テトラヒドロ無水フタル酸は知られて
〔テトラへドロンレターズ(Tetrahedoron
Letters)、36巻、3323頁〕おり、2位の珪素原子
とハロゲン原子、アルキル基及びアルコキシ基が
結合した新規な4−置換−1,2,3,6−テト
ラヒドロ無水フタル酸については、本発明者のう
ちの一人が特願昭59−199855号で提案している。
しかし、2位の珪素原子に1,3−ブタジエニ
ル基が結合したビス−置換−1,3−ブタジエニ
ルシラン誘導体の無水マレイン酸付加物は知られ
ていない。
(ハ) 発明の概要 本発明者らは、構造図〔〕で表される (式中、Xはハロゲン原子を示す。) 置換−1,3−ブタジエニルハロゲン化マグネシ
ウムと 構造式〔〕で表される SiX1X2X3X4 〔〕 (式中、X1、X2、X3、X4はハロゲン原子又は低
級アルコキシ基を示す。但し、X1、X2、X3、X4
のうち二つまではハロゲン原子であつてもよい。) シラン化合物との反応で前記構造式〔〕で表
されるビス−置換−1,3−ブタジエニルシラン
誘導体が得られる事を見出した。
本発明者らは、このビス−置換−1,3−ブタ
ジエニルシラン誘導体について、更に鋭意検討を
行なつた結果、これらと無水マレイン酸とを反応
させる事により、構造式〔〕で表される1分子
中に二個の二重結合、二個の酸無水物基を有する
新規なシラン誘導体が得られると共に、この化合
物がポリイミド樹脂原料、シランカツプリング剤
特にポリイミド樹脂カツプリング剤、塩化ビニー
ル樹 (式中、Y1、Y2は低級アルコキシ基を示す。)脂
等に対する可塑剤、エポキシ樹脂硬化剤等、種々
の用途に有効に使用される事見出し、本発明をな
すに至つたものである。
以下、本発明につき更に詳しく説明する。
(ニ) 発明の構成 本発明に係る新規ビス−置換−1,3−ブタジ
エニルシラン誘導体は前記構造式〔〕で表され
るもので、具体的にはビス−〔4−(1,2,3,
6−テトラヒドロ無水フタル酸)〕ジメトキシシ
ラン、ビス−〔4−(1,2,3,6−テトラヒド
ロ無水フタル酸)〕ジエトキシシラン、ビス−〔4
−(1,2,3,6−テトラヒドロ無水フタル
酸)〕ジプロポキシシラン、ビス−〔4−(1,2,
3,6−テトラヒドロ無水フタル酸)〕ジプトキ
シシラン等を挙げる事が出来る。
ここで、構造式〔〕で表される本発明化合物
ビス−置換−1,3−ブタジエニルシラン誘導体
の無水マレイン酸付加物は、構造式〔〕で表さ
れるビス−置換−1,3−ブタジエニルシラン誘
導体と無水マレイン酸とにデイールス・アルダー
反応により合成することが出来る。
デイールス・アルダー反応は無溶媒で充分進行
するが、必要ならクロロホルム、ベンゼン、トル
エン、キシレン、シクロヘキサン、エチルエーテ
ル、テトラヒドロフラン、ジオキサン及びテトラ
リン等の溶媒を使用する事が出来る。
又、反応は常温でも進行するが、溶媒の還流温
度で反応させても差支えない。
更に又、反応時間は約30分乃至10時間を採用出
来ると共に、反応に際して塩化錫、三弗化硼素等
の触媒を使用しても差支えない。
尚、本発明に使用される構造式〔〕で表され
るビス−置換−1,3−ブタジエニルシラン誘導
体としては、具体的にはビス〔2(1,3−ブタ
ジエニル)〕ジメトキシラン、ビス〔2−(1,3
−ブタジエニル)〕ジエトキシシラン、ビス〔2
(1,3−ブタジエニル)〕ジプロポキシシラン、
ビス〔2−(1,3−ブタジエニル)〕ジブトキシ
シラン等の2−置換−1,3−ブタジエニルシラ
ン誘導体を挙げる事が出きる。
(ホ) 発明の効果 本発明に係る新規物質、即ち構造式〔〕で表
されるビス−置換−1,3−ブタジエニルシラン
誘導体の無水マレイン酸付加物は、上述したよう
に分子中に各種シリル基と酸無水物基及び二重結
合を有するもので、含珪素ポリエステル樹脂、ポ
リアミド樹脂及び付加型ポリイミド樹脂の原料、
シランカツプリング剤、特にポリイミド樹脂及び
そのカツプリング剤、塩化ビニール樹脂等に対す
る可塑剤、エポキシ樹脂硬化剤等、種々の用途に
使用される。
以下、実施例を挙げて本発明を説明するが、本
発明はこれら実施例に制限されるものではない。
実施例 1 ビス−〔2(1,3−ブタジエニル)〕ジメトキ
シラン0.36g(1.84ミリモル)に無水マレイン酸
0.19g(1.9ミリモル)及び乾燥テトラヒドロフ
ラン5mlを室温で加え、6時間撹拌した。反応
後、減圧下溶媒を留去しビス−〔4−(1,2,
3,6−テトラヒドロ無水フタル酸)〕ジメトキ
シシラン0.54gを得た。ガスクロ分析の結果、収
率は75%であつた。
1HNMR(CDCl3):内標テトラメチルシラン δ2.05〜2.80(m、8H、4CH2)、3.28〜3.43(m、
4H、4CH)、3.46(s、6H、2OCH3)、6.43〜6.53
(m、2H、CH=C) マススペクトル M+:392 参考例 反応容器にマグネシウム金属4.0g(0.15モ
ル)、乾燥チトラヒドロフラン4ml及び乾燥ジブ
ロモエタン1mlを加える。発熱が起こり、テトラ
ヒドロフランの還流が始まる。発熱が終了した
後、塩化亜鉛を反応させるクロロプレンに対して
2モル%の量と、更に乾燥テトラヒドロフラン50
mlとを添加する。
次に、クロロプレン10ml(0.1モル)、乾燥テト
ラヒドロフラン40ml及びジブロモエタン1.8mlの
混合溶液を約30分間で添加し反応を進める。発熱
が起こり、テトラヒドロフランの還流が始まり、
更に引続き1時間反応させると、テトラヒドロフ
ラン溶液中に、2−(1,3−ブタジエニル)塩
化マグネシウムが生成した。
尚、その含有量は水と過剰の塩酸で2−(1,
3−ブタジエニル)塩化マグネシウムを加水分解
した後、苛性ソーダ水溶液で塩酸を逆滴定して求
めた。
上記のようにして得られた2−(1,3−ブタ
ジエニル)塩化マグネシウム(20ミリモル)のテ
トラヒドロフラン溶液をアルゴン気流下で反応容
器に仕込む。次に、反応容器を0℃に冷却し、テ
トラメトキシシラン1.4ml(10ミリモル)をゆつ
くり加え、その後反応温度を室温とし、3時間反
応させる。反応終了後溶媒を減圧下留去し、ビス
〔2−(1,3−ブタジエニル)〕ジメトキシラン
を得た。ガスクロマト分析の結果、収率は65%で
あつた。
1HNMR(CDCl3) δ3.55(s、6H、CH3、O)、5.10(d、J=10.8
Hz、2H、CH2CH)、5.46(d、J=17Hz、2H、
CH2CH)、5.80(d、J=3.0Hz、2H、CH2C)、
5.95(d、J=3.0Hz、2H、CH2C)、6.46(dd、J
=10.8、17.8Hz、2H、CH=CH2) マススペクトル M+:196、M/Z164、143、117。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 構造式〔〕で表される (式中、Y1、Y2は低級アルコキシ基を示す。)ビ
    ス−置換−1,3−ブタジエニル誘導体の無水マ
    レイン酸付加物。 2 構造式〔〕で表されるビス−置換−1,3
    −ブタジエニルシラン誘導体と無水マレイン酸を
    反応させる事を特徴とする (式中、Y1、Y2は低級アルコキシ基を示す。)構
    造式〔〕で表される (式中、Y1、Y2は低級アルコキシ基を示す。)ビ
    ス−置換−1,3−ブタジエニル誘導体の無水マ
    レイン酸付加物の製造法。
JP60046851A 1985-03-09 1985-03-09 ビス−置換−1,3−ブタジエニル誘導体の無水マレイン酸付加物およびその製造法 Granted JPS61205285A (ja)

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JP60046851A JPS61205285A (ja) 1985-03-09 1985-03-09 ビス−置換−1,3−ブタジエニル誘導体の無水マレイン酸付加物およびその製造法

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US5117001A (en) * 1990-02-28 1992-05-26 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Siloxane compound containing tetrahydrophthalic anhydride group and method of producing the same
DE69130185T2 (de) * 1990-02-28 1999-05-27 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., Tokio/Tokyo Butadienyl enthaltende Siloxane und ein Verfahren zu deren Herstellung
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