JPH01130842A - 高圧鋳造用中子の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 （産業上の利用分野） この発明は、ダイカスト法などの高圧鋳造用中子の製造
方法に関する。

（従来の技術） 模型のキャビティに充填した充填砂に高周波を照射し、
充填砂を加熱硬化させて造型する方法は、たとえば特開
昭５７−１５６８６０号公報、特開昭６１−７１１５２
号公報等で知られている。

これらの造型方法は、模型のキャピテイ内面に水ガラス
などの液状塗型剤を霧状に吹付けて塗膜を形成し、つぎ
に塗膜を形成したキャビティ内に流動性のある充填砂を
充填する。そして、このキャビティ内の充填砂に高周波
を照射して充填砂を加熱硬化させて中子を造型する方法
である。

この方法によれば、充填砂に流動砂を使用し、しかも塗
型剤に無機質のバインダを使用しているため、鋳肌の平
滑な鋳物が製造されるが、高圧鋳造用として開発された
ものではない。したがって、前記方法で得られた中子を
高圧鋳造に用いた場合、１００＃／ｒｉ程度の加圧力で
塗型剤層へ溶湯が浸透してしまうという問題がある。

一方、高圧鋳造用中子の製造方法としては、たとえば特
開昭５６−１３９２５６＠公報、特開昭５８−１２８２
４５号公報等が知られている。この方法は、有機バイン
ダを用いて砂中子を造型し、この砂中子表面に粉末状の
耐火物と水溶性熱硬化樹脂とを混合したアルカリ性水溶
液からなるスラリーを塗布し、これを乾燥して第１コー
ティング層を形成し、さらにこの第１コーティング層の
表面に合成雲母を含む溶液を塗布し、これを乾燥して第
２コーティング層を形成した方法である。

この方法によれば、耐圧性に優れた中子を造型でき、ま
た表面は合成雲母を含む溶液でコーティングされている
ために、中子の表面にクラックあるいは空孔が形成され
ないが、２回のコーティング作業が必要となる。

（発明が解決しようとする問題点） 萌述したように、従来の造型方法の前者の方法は、中子
を高圧鋳造に用いた場合に加圧力で塗型剤層へ溶湯が浸
透してしまうという問題があり、また後者の方法は、２
回のコーティング作業が必要となり、作業が繁雑となる
。

この発明は、前記事情に着目してなされたもので、その
目的とするところは、耐圧性に優れた中子を容易に製造
できる高圧鋳造用中子の製造方法を提供することにある
。

〔発明の構成〕

（問題点を解決づるための手段及び作用）この発明は、
模型のキャビティ内面に微粒子を含有した塗型剤を塗布
して塗膜を形成し、つぎにこのキャビティ内に充填砂を
充填しこれを高周波加熱して硬化させ、表面に微粒子が
コーティングされた基中子を形成する。さらにこの基中
子の表面に雲母系物質または鱗片状物質のスラリーをコ
ーティングしてコーティング層を形成する。そして、中
子の表面に塗型剤に含有している微粒子層を介して雲母
系物質または鱗片状物質からなるコーティング層を形成
したことにある。

（実施例） 以下、この発明の一実施例を図面にもとづいて説明する
。

第１図（ａ）〜（ｆ）は高圧鋳造用中子を製造する工程
を示すもので、１は耐熱性に優れたシリコンゴム等の樹
脂材料によって成形された模型であり、２はキャピテイ
である。まず、（ａ）に示すようにキャビティ２に塗型
剤３を流し込み、その内面に塗を剤３を一様に付着し、
余分な塗型剤３は（１））に示すように排出する。ここ
で使用する塗型剤３は、微粒子として１μｍジルコンパ
ウダー５０部、１０部ｍジルコンパウダー５０部に、１
９６０ＭＣ（カルボキシメチル 溶液４０部と水ガラス１部を添加して良く攪拌した水溶
液であり、キャビティ２の内面に微粒子を含有した塗１
１１４が形成される。つぎに、（Ｃ）に示すように塗膜
４が形成されたキャビティ２に充填砂５を充填するが、
この充填砂５は、フラタリー珪砂１００部に水ガラス３
部を添加し、５分間混練しながら５０°Ｃの温風で乾燥
した混練砂であり、キャビティ２に密に充填したのち、
（ｄ）に示すように高周波加熱炉６の内部に模型１を収
納する。そして、４ｋＷの高周波を１分間照射すると、
充填砂５は加熱硬化され、（ｅ）に示すような基中子７
が造型される。造型後、模型１から基中子７を取出す。

この基中子７の表面には前記キャビティ２の内面に形成
した塗膜４、つまり微粒子を含有した塗型剤３のコーテ
ィング層８が形成される。

つぎに、前記基中子７の表面に（ｅ）に示すようにスラ
リー９を塗布するが、このスラリー９は、２％ＣＭＣ水
溶液１００部、２００メツシユ以下の天然雲母３０部、
界面活性剤０．２部の混合スラリー液であり、このスラ
リー９に前記基中子７を１秒間浸漬して基中子７の表面
に雲母コーティング層１０を形成する。表面に雲母コー
ティング層１０を形成した基中子７を（ｆ）に示すよう
に加熱炉１１に入れ、１１０°Ｃで１時間乾燥すると、
雲母コーティング層１０は加熱硬化され、基中子７の表
面に微粒子を含有した塗型剤３からなる塗膜４を介して
雲母コーティング層１０が形成される。したがって、第
２図に拡大して示すように基中子７の表面には充填砂５
に一部侵入した微粒子を含んだコーティング層８および
その外側に雲母コーティング層１０が被覆される。

以上の方法で製造された高圧鋳造用中子を金型にセット
し、加圧力５００８９／ｃｄ，’Ｓ口速度０、９ＴｒＬ
／Ｓｅｃ、溶ｍＷ度７００’　Ｃの条件下で加圧鋳造し
た。この結果、中子折れは皆無で、中子の表面が雲母コ
ーティング層によって平滑であるため中子砂は振動のみ
で１００％落ちた。

なお、前記一実施例における雲母物質は、白雲母、金雲
母、黒雲母、合成雲母等を用い、塗布方法としては浸漬
法に限定されず、スプレー塗布、へヶ塗り法でもよい。

また、前記一実施例においては、雲母物質のスラリーを
コーティングしたが、雲母物質に限定されず、つぎに示
す鱗片状物質（金属薄片）をコーティングしてもよい。

メチールアルコール　　　　　　１００部鱗片状ステン
レス　　　　　　　　１０部鱗片状黒鉛　　　　　　　
　　　　３０部ノボラックフェノール樹脂　　　　　２
部へキサメチレンテトラミン　　　０．３部の混合スラ
リー液に基中子を１分間浸漬するか、前述したようにス
プレー塗布、へヶ塗り等によってコーティング層を形成
する。

〔発明の効果〕

以上説明したように、この発明によれば、表面に微粒子
を含有する塗型剤がコーティングされた基中子の表面に
雲母系物質または鱗片状物質のコーティング層を形成す
ることによって、従来のように２回のコーティング作業
を行なうことなく、高圧鋳造に耐えられる中子を製造で
きる。また、鋳造時の加圧力で溶湯が中子の表面に浸透
することはなく、平滑な鋳肌となるという効果がある。

【図面の簡単な説明】

第１図（ａ）〜（ｆ）はこの発明の製造方法の一実施例
を示す説明図、第２図は中子の一部を拡大した断面図で
ある。 １・・・模型、２・・・キャビティ、３・・・塗型剤、
４・・・塗膜、５・・・充填砂、７・・・基中子、１０
・・・コーティング層。 出願人代理人　　弁理士　鈴江武彦

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 模型のキャビティ内面に微粒子を含有した塗型剤を塗布
   して塗膜を形成する第１の工程と、前記キャビティ内に
   充填砂を充填しこれを高周波加熱して硬化させ、表面に
   微粒子がコーティングされた基中子を形成する第２の工
   程と、前記基中子の表面に雲母系物質または鱗片状物質
   のスラリーをコーティングする第３の工程とからなる高
   圧鋳造用中子の製造方法。