JPH01131180A - フロベンゾイソオキサゾール誘導体の製法 - Google Patents

フロベンゾイソオキサゾール誘導体の製法

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JPH01131180A
JPH01131180A JP63200359A JP20035988A JPH01131180A JP H01131180 A JPH01131180 A JP H01131180A JP 63200359 A JP63200359 A JP 63200359A JP 20035988 A JP20035988 A JP 20035988A JP H01131180 A JPH01131180 A JP H01131180A
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formula
lower alkyl
alkyl group
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JP63200359A
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English (en)
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Hiroshi Koga
弘 古賀
Haruhiko Sato
晴彦 佐藤
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Chugai Pharmaceutical Co Ltd
Original Assignee
Chugai Pharmaceutical Co Ltd
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Publication date
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  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
  • Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、尿酸排泄剤または利尿剤等の医薬として有用
な、一般式(I)で示されるフロベンゾイソオキサゾー
ル誘導体の新規な合成方法およびその合成中間体(一般
式■)に関する。
CHt−λ (式中R1は、ハロゲン原子・低級アルキル基で置換さ
れているか又は、非置換のフェニル基を意味し、R2お
よびR3は、同−又は異なって水素原子、ハロゲン原子
、低級アルキル基を意味し、R5は低級アルキル基を意
味する)。
前記一般式CI)で示されるようフロベンゾイソオキサ
ゾール誘導体は、例えばヨーロッパ特許公開第2058
72号公報に記載され、尿酸排泄作用又は、利尿作用を
有する化合物として知られている。又、その合成法とし
て、6−ヒトロキシー7−アリルー3−フェニル−1,
2,−ベンゾオキサゾールをm−クロロ過安息香酸等の
過酸で処理し、生成する7、8−ジヒドロ−3−フェニ
ルフロ[2,3−g] −1,2−ベンゾイソオキサゾ
ール−7−メタノール誘導体を酸化クロムで処理する方
法が知られている。しかしながらこの方法にあっては、
工程数が長(処理操作が煩雑であり、収率等の点で満足
できないばかりでなく、使用する過酸は爆発の危険があ
り、工場等における大量合成には不向きの方法である。
また、使用する酸化クロムも発癌性物質であり、微量金
属による環境汚染の問題もある。
本発明者は、かかる事情を鑑がみ、工業生産上宵利な合
成法につき鋭意研究した結果、短工程で、しかも、前述
の過酸および酸化クロムのような問題もな(、又収率の
点でも極めて満足のいく一般式(I)で示されるフロベ
ンゾイソオキサゾール誘導体を合成し得る方法を見出し
、本発明に至ったO 本発明の一般式(I)で示されるフロベンゾイソオキサ
ゾール誘導体の製法を以下の■〜■に示す。
■ 一般式(III) f (式中R1は、ハロゲン原子・低級アルキル基で置換さ
れているか又は、非置換のフェニル基を意味し、R2お
よびR3は、同−又は異なって、水素原子、ハロゲン原
子、低級アルキル基を意味する。)で示されるベンゾイ
ソオキサゾール誘導体に、ホルマリン又はその誘導体ル
キル基を意味する。)を反応させるか、もしくは、ホル
マリン又はその誘導体と水酸化アルカリを反応させて得
られる一般式(II)で示される化合物に不活性溶媒中
、一般式(fV)、は、低級アルキル基又は、2−ヒド
ロキシエチル基等の置換低級アルキル基を、R7は低級
アルキル基を意味し、nは0又は1の整数である。で示
される化合物を反応させ、次いで所望により加水分解す
る方法。
この製法において、一般式(III)で示される化合物
から、一般式(n)で示される化合物を得る工程で用い
られるホルマリン誘導体としては反応に際し、ホルムア
ルデヒドを発生するものであり、例えばホルマリンおよ
びパラホルムアルデヒド等′があげられる。一般式(n
)で示される化合物でAが、−OH基であるものを得る
には、水酸化ナトリウム等の水酸化アルカリは前記と同
一のものを意味する。)である化合物は前記と同一のも
のを意味する)を反応させる。又反応はH2O中で行う
のが好ましく、反応温度としては、0〜50℃で、好ま
しくは室温で行える。
一般式(II)で示される化合物から一般式(I)で示
される化合物を得る工程では、一般式(IV)で示され
る化合物は、例えば一般式(0)n (R8)2=8(式中R6およびnは前記と同じものを
意味する)のようなスルフィド類と一般式YCH2C0
OR?  (式中Yはハロゲン原子を、R7は前記と同
一のものを意味する)で示される化合物を反応させ、次
いで塩基で処理することによって合成するか、又は、一
般式記と同一のものを意味する)で示される化合物に、
一般式Y@C00R7(式中YおよびR7は前記と同一
のものを意味する)で示される化合物を反応させ、次い
で塩基で処理することにより合成できる。ここで用いら
れる塩基としては、特に制限はないが、例えば炭酸アル
カリ、水素化アルカリ等である。尚、一般式(rV)で
示される化合物は通常不安定であるため、一般に反応液
中から単離することなく、一般式(n)で示される化合
物と反応させる。不活性溶媒としては反応に不活性で、
かつ一般式(n)で示される化合物の溶解性が、優れて
いるものであれば制限なく使用しろるが、好ましくは、
ジメチルホルムアミド等の非プロトン性極性溶媒があげ
られる。反応温度はO〜150”Cの間で適宜選択でき
る。又、加水分解は常法により、例えば水酸化アルカリ
類を用いて容易に行える。
この製法は、従来の製法に比べて、短工程で極めて収率
が良<、シかも過酸および酸化クロムを使用せず、コス
トの点も有利である等工業的に非常に有利な製法といえ
る。
又、この製法の中間体である一般式(II)で示される
化合物は新規化合物であり、例えば前述のように、一般
式(III)で示される化合物より得られる。この化合
物は、一般式(I)で示される化合物の有用な合成中間
体である。
■ 一般式(III)で示される化合物に不活性溶媒中
、塩基の存在下、X−CH2CH=CH2(式中Xは、
ハロゲンを意味する。)を反応させ、一般式(V) R。
(式中RI N R2およびR3は前記と同一のものを
意味する。)で示される化合物を得て、これをジメチル
アニリン等の溶媒下で加熱させることによりアリル基を
転移させ、 一般式(VI) (式中R11R2およびR3は、前記と同一のものを意
味する。)で示される0−アリルフェノール誘導体を生
成し、これにハロゲノヒドリン化剤を反応させ、次いで
塩基で処理することにより、一般式(■) (式中R1、R2およびR3は、前記と同一のものを意
味する。)で示される化合物を製造し、これを触媒下で
過マンガン酸酸化する製法。
この製法において、一般式(III)で示される化合物
から、一般式(V)で示される化合物を得る工程で用い
られる不活性溶媒としては、反応に際し、不活性であり
、かつ一般式(III)で示される化合物の溶解性が優
れているものであれば特に制限なく使用しうるが、好ま
しくはジメチルホルムアミド等があげられる。又、塩基
としては、特に制限なく、例えば水酸化アルカリ、炭酸
アルカリ等があげられ、反応温度としては、0〜80℃
、好ましくは、50〜60℃の間で進行する。反応時間
は1〜5時間で行える。
一般式(V)で示される化合物から、一般式(Vl)で
示される化合物を得る工程において用いられる溶媒とし
ては、高温の温度条件に不活性なものであればよく、例
えばジメチルアニリン、ジエチルアニリン等である。反
応温度は、130℃〜溶媒の沸点の間で行われ、好まし
くは160〜165℃である。反応時間は1〜8時間で
行える。
化合物(VI)から化合物(■)を得る反応において、
ハロゲノヒドリン化剤としては、例えば、N−プロムサ
クシンイミド、N−ブロムアセトアミド、N−クロロサ
クシンイミド、カルシウムハイポクロライド、N−クロ
ロ尿素、塩素等のハロゲン化剤を水の存在下で作用させ
たものを言う。また、次いで用いられる塩基としては、
特に制限はないが、好ましい例として、アミン類、水酸
化アルカリ、炭酸アルカリ等がある。
化合物(■)から化合物(I)を得る酸化反応において
酸化剤としては、例えば過マンガン酸カリウム等が用い
られる。
、また、触媒としては、例えば、TDA−IC(CH3
0CH2CH20CH2CH2)3N]、18−cro
wn−6等の非環状および環杖クラウンエーテル類又は
、第四級アンモニウム塩等の相関移動触媒等が用いられ
る。反応温度は、0〜120℃の間で適宜選択できる。
化合物(Vl)から化合物(I)までの工程では、反応
は、不活性溶媒中で行うのが好ましく、不活性溶媒とし
ては、反応に際し、不活性であり、かつ原料化合物の溶
解性が優れているものであれば特に制限なく使用しつる
が、望ましくは、水、酢酸、アルコール類、ジメチルス
ルホキサイド等の極性溶媒が用いられる。
■ 一般式(nI)で示される化合物に、一般式(■)
  CH2=CHC(OR4) 3 (■)(式中R4
は、低級アルキル基を意味する。)で示される化合物を
反応させ、一般式(IX)R1 (式中R1s R2、R3およびR4は、前記と同一の
ものを意味する。)で示される化合物を製造し、これに
ハロゲン化剤を作用させ、次いで、加水分解することを
特徴とする方法。
この製法において、一般式(III)で示される化合物
に一般式(■)で示される化合物を反応させる工程およ
び一般式(IX)で示される化合物にハロゲン化剤を反
応させる工程は、不活性溶媒中で行われのが好ましく、
用いられる不活性溶媒としては、反応に際し、不活性で
、かつ原料化合物の溶解性が優れているものであれば、
特に制限なく使用し得るが、好ましくは、トルエン、ベ
ンゼン等の炭化水素やハロゲン化炭化水素又は、アミン
類やジメチルホルムアミド等があげられる。又、一般式
(III)で示される化合物から一般式(IX)で示さ
れる化合物を製造する反応は、酸の存在下に行うのが望
ましく、酸としては、無機酸、有機酸の制限なく使用し
得るが、特に好ましい酸としては、例えば、酢酸、ピバ
リン酸等の何機カルボン酸である。−般式(■)で示さ
れる化合物において式中のR4は炭素数1〜5の低級ア
ルキル基が好ましく、具体的には例えばメチル基、エチ
ル基等である。
一般式(IX)で示される化合物に、ハロゲン化剤を反
応させる反応において、用いられるハロゲン化剤として
は塩素、臭素、又はこれらの誘導体、例えば、スルフリ
ルクロライド、N−クロロフハク酸イミド等が用いられ
、この際、発生するハロゲン化水素等を捕捉するために
、ピリジン、トリエチルアミン等の膏機アミン類や、炭
酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウムなど
の無機塩基等を用いるのが好ましい。
この反応により、一般式(X) (式中RI N R2、R3およびR4は前記と同一の
ものを意味する。)で示される化合物が得られるが、次
いで、これを加水分解反応に付することにより一般式(
I)で示される化合物が得られる。
この加水分解反応は、常法により、例えば塩酸、硫酸な
どの無機酸や水酸化アルカリ類等を用いて容易に行われ
る。
これらの一般式(I)で示されるフロベンゾイソオキサ
ゾール誘導体の合成中間体である一般式(III)で示
される化合物は、例えば以下式示する方法によって製造
することができる。
(式中R1、R2およびR3は、前記と同一のものを示
す。) しかしながら、この方法にあっては、原料物質であるク
ロルフェノール誘導体中に発癌物質であるダイオキシン
の原料となりうる2、4.5−トリクロルフェノールが
混入する恐れがあり、工業的には、以下式示する方法が
特に優れているみ ”  (XIII)            (XIV
)     (Xv)C更)            
(R)(式中R11R2およびR3は、前記と同一のも
のを示す、) 一般式(XI)で示される化合物に、触媒下R1−C0
CQを反応させ、一般式(X II ) テ示される化
合物を得る。用いられる触媒としては、AQCQ3、S
bCρ5等があげられ、反応は、例えばトルエン等の不
活性溶媒中で行われる。次に、ピリジン等の溶媒中、N
H2OH・HCl、を反応させて、一般式(XIII)
で示される化合物を得る。反応は還流により行われ、反
応時間は、1〜2時間で行える。次いで、ジメチルホル
ムアミドやジメチルスルホキサイド等の不活性溶媒中、
無水酢酸やアセチルクロライド等の脱水剤および酢酸ナ
トリウムや炭酸カリウム等を反応させて、一般式(XI
V)および(X、V)で示される化合物を生成する。こ
れに濃硫酸等、常法により酸加水分解し、アルカリ性に
することにより一般式(XV)を除くことができる。次
いで一般式(X■)を脱アルキル化反応に付すことによ
り、一般式(III)で示される化合物を得られる。こ
の脱アルキル化反応は、トルエン、ベンゼン等の不活性
溶媒中、塩化アルミニウム、三フッ化ホウ素等のルイス
酸の存在下で行われる。又、ピリジンの塩酸塩等でも反
応は、進行する。
以下に実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明するが
、本発明はこれらに限定するものではない。
実施例1 a)、2.5−ジクロルフェノール51g(0,31モ
ル)、ベンゾイルクロライド102.7g(0,73モ
ル)を1,2−ジクロルエタン500mQに溶解し、水
冷下撹拌しながら、塩化アルミニウム102.4g (
0,77モル)を徐々に加えた後、33時間還流する。
冷機氷水中に反応液を加え、濃塩酸を少量加え、エーテ
ル−酢酸エチルで抽出する。水洗乾燥し、溶媒を留去し
た後、エタノール50mQ、4N−水酸化ナトリウム水
溶液500m、Qを加え30分間撹拌する。冷機、濃塩
酸で中性にし、炭酸水素ナトリウムを加えてpH8〜9
にすると結晶が析出する。この結晶をろ取し、水洗し、
トルエンから再結晶すると4−ベンゾイル−2,5−シ
クロルフエノール50.8g(収率θ1%)を得る。
b)前記a)で得たフェノール50.8g (0゜19
モル)、塩酸ヒドロキシアミン21.2g(0,30モ
ル)およびピリジ7400mQの混合物を2.5時間還
流した後溶媒を留去する。得られた油状物にジメチルホ
ルムアミド500mρを加えて溶解し、攪拌しながら粉
末水酸化カリウム69.4g (1,24モル)を加え
、その後12時間還流する。冷機水を加え、塩酸酸性に
すると結晶が析出する。この結晶をろ取し、水洗し乾燥
する。得られた結晶を活性炭処理し、酢酸エチル−ヘキ
サンで再結晶すると、5−クロロ−6−ヒドロキシ−3
−フェニル−1,2ベンゾイソオキサゾール40.0g
(収率85.5%)を得る。
C) 前記b)で得たベンゾオキサゾール体5.0g 
(0,02モル)、ホルマリン0.2モルおよび水50
mQの混合物を攪拌しながら、ジメチルアミン0.2モ
ルの水溶液<水25m、Q)を室温で滴下する。1時間
撹拌の後、固体をろ取水性し、5−クロロ−7−ジメチ
ルアミノメチル−6−ヒドロキシ−3−フェニル−1,
2−ベンゾイソオキサゾールを8.0g(収率97%)
を得る。融点164〜5℃。
d) ジメチルスルフィド0.01モルおよびブロム酢
酸エチル0.01モルの混合物を一夜放置した。ジメチ
ルホルムアミド10mρ、炭酸カリウム1.4g (0
,01モル)を加え室温で30分間撹拌後、前記C)で
得た化合物を1゜0g (0,003モル)加えた。5
5〜65℃で6時間撹拌後、20%水酸化ナトリウム水
溶液10mΩを加え70〜80℃で30分間撹拌した。
冷浸、塩酸酸性にし析出した結晶をろ取水性し、乾燥後
、テトラヒドロフラン−アセトンで再結晶、無色結晶の
5−クロロ−7,8−ジヒドロ−3−フェニルフロ[2
,3−g] −1、2−ベンゾイソオキサゾール−7−
カルボン48〜50℃。
実施例2 前記実施例1d)で用いたヅメチルスルフィドに代えて
チオジグリコールを用い、以下同様の反応を行い、5−
クロロ−7、8−ジヒドロ−3−フェニルフロ[2. 
3−g] −1. 2−ベンゾイソオキサゾール−7−
カルボン酸を得る。(収率80%) 実施例3 前記実施例1d)で用いたジメチルスルフィド、ブロム
酢酸エチルおよび炭酸カリウムに代えて化合物(CH3
 ) 3SoLクロル炭酸エチルおよびナトリウムハイ
ドライドを用い、以下同様の反応を行い、5−クロロ−
7、8−ジヒドロ−3−フェニルフロ[2.3−g]−
1.2−ベンゾインオキサゾール−7−カルボン酸を得
る。
(収率80%) 実施例4 前記実施例1d)で用いた炭酸カリウムに代えて、ナト
リウムハイドライドを用い、以下同様の反応を行い、5
−クロロ−7、8−ジヒドロ−3−フェニルフロ[2.
3−gツー1,2−ベンゾイソオキサゾール−7−カル
ボン酸を得る。(収率87%) 実施例5 5−クロロ−6−ヒドロキシ−3−フェニル−1.2−
ベンゾイソオキサゾール8.58gをジメチルホルムア
ミド95mΩに溶かし、炭酸カリウム7、2gおよびア
リルブロマイド4。
52mQを加え、50〜60℃で2.5時間攪拌する。
その後、水400mQを加え、室温で1時間撹拌し、析
出した結晶をろ取し水洗、乾燥すると、6−アリルオキ
シ−5−クロロ−3−フェニル−1,2−ベンゾイソオ
キサゾール9、63g(収率96.5%)が得られる。
b)6−アリルオキシ−5−クロロ−3−フェニル−1
,2−ベンゾイソオキサゾール17.16gとジメチル
アニリン150mΩの混合物を160〜165℃で8時
間撹拌する。反応液を冷却後、濃塩酸250mf!、を
加え、エーテル抽出する。エーテル層をNaCΩ水洗、
乾燥後エーテルを留去する。得られた結晶をクロロホル
ム−n−ヘキサンで再結晶すると、7−アリル−5−ク
ロロ−6−ヒドロキシ−3−フェニル−1,2−ベンゾ
イソオキサゾール8.83g(収率51.5%)が得ら
れる。ついで母液を濃縮、乾固した後、ジメチルアニリ
ン80mΩを加え、160〜165℃で5.5時間撹拌
する。反応液を冷却後、濃塩酸100mΩと水を加え、
40〜50分撹拌し、析出した結晶をろ取する。その結
晶を水洗、乾燥すると、目的の7−アリル−5−クロロ
−6−ヒドロキシ−3−フェニル−1,2−ベンゾイソ
オキサゾール7.27gが得られ、先の結晶と合わせて
16゜1g(収率93.8%)が得られる。
四5.5gを乾燥DMS095mNに溶かし、20℃以
下に保った水浴中、N−ブロモスクシンイミド6.78
gと水3.42mQを加える。窒素ガス雰囲気中、22
時間撹拌した後、水120mρをゆっくりと加え、30
分撹拌する。デカンテーションで上清み液を除き、粘稠
な沈殿物を充分に水洗した後、IN水酸化ナトリウム水
溶液38mρを加え、2.5時間撹拌する。エーテル抽
出し、エーテル層を水洗、乾燥後エーテルを留去すると
、 −ロローム又ムニ区4.9g(収率85%)を得る
d)  5−クロロ−7,8−ジヒドロ−3−フェニル
フロ[2,3−gツー1,2−ベンゾイソオキサゾール
−7−メタノール1.8gを1,2ジクロロ工タン80
mpに溶かし、過マンガン酸カリウム2.8gとTDA
−1(CH3QCH2CH2,0CH2CH2)3  
Nコ 1. 9rr3Qを加え、1.25時間加熱還流
する。放冷後、亜硫酸ナトリウム1.8gと水80mΩ
を加え、室温で30分撹拌する。4N塩酸水溶液2Om
!2とエーテルを加え、不溶物をろ過し、取り除いた後
エーテル層を0.5N水酸化ナトリウムで洗浄し、その
アルカリ水溶液に4N塩酸水溶液とエーテルを加える。
そのエーテル抽出液をNaCΩ水洗、乾燥後エーテルを
留去し、テトラヒドロフランとアセトンの混合溶媒から
mg(収率43%)を得る。
融点253−255℃ 実施例6 前記実施例5−C)で得た化合物1.51gを1.2−
ジクロロエタン80mρに溶かし、過マンガン酸カリウ
ム1.11gおよび18−Cr。
wn−6185mgを加え、室温〜40℃で16時間撹
拌する。亜硫酸ナトリウム126m g 1水30mΩ
を加え室温で攪拌する。さらに希塩酸および酢酸エチル
エステルを加え、不溶物をろ過し取り除いた後、酢酸エ
チルエステルを飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗い、
そのアルカリ水溶液に4N塩酸水溶液と酢酸エチルエス
テルを加える。その酢酸エチルエステル抽出液をNaC
Ω水洗、乾燥後、酢酸エチルエステルを留去し、テトラ
ヒドロフランとアセトンの混合溶媒か(収率32%)を
得る。
融点253−5℃ 災監肚り 過マンガン酸カリウム3.58gに水20mρを加え、
氷水溶中、AQiQuat336 (登録商標、CH3
N [(CH2)7 CH3コ3Cρ、ヘンケル社製)
をトルエン4mρに溶かした溶液を加え、続けて前記実
施例5−c)で得た化合物1.0gをトルエン6mgに
懸濁した溶液を加え、さらにトルエン20mρを加える
。室温〜50℃で23時間攪拌した後、亜硫酸す) I
Jウム・7水塩4.8gと水生量を加え、室温で30分
撹拌する。希塩酸とエーテルを加え、不溶物をろ過し取
り除いた後、有機層をIN水酸化ナトリウム水溶液で洗
い、そのアルカリ水溶液に4N塩酸水溶液とエーテルを
加える。
そのエーテル抽出液をNaCΩ水洗、乾燥後エーテルを
留去すると −ロロー   −ジヒドmg(収率28%
)を得る。融点252−5℃実施例8 15gを乾燥ジメチルスルホキサイド16mρに溶かし
、10℃以下に保った水浴中に、N−ブロモスクシンイ
ミド1.43gと水0.72rrl!を加える。窒素ガ
ス雰囲気中、約22℃の水浴中に24時間撹拌した後、
氷水洛中で1.2−ジクロロエタン30mρを加え、続
いてゆっくりと水20mρを加える。そのまま1時間撹
拌した後、有機層を分離し水洗後、IN水酸化ナトリウ
ム水溶液88m色1,2−ジクロロエタン5mρを加え
る。室温で1.5時間撹拌した後、有機層を分離し、水
洗、乾燥後濃縮して約20m9の溶液にする。その濃縮
液に過マンガン酸カリウム2.21gとTDA−11,
34rr3Qを加え、45分加熱還流する。放冷後、亜
硫酸す) IJJウム、70gと水20mQを加え、室
温で1時間攪拌する。
希塩酸水溶液と酢酸エチルエステルを加え、水層をpH
1以下とした後、酢酸エチルエステル層を分離し、N 
a Cρ水洗する。その酢酸エチルエステル溶液を飽和
炭酸水素ナトリウム水溶液で洗い、そのアルカリ水溶液
に4N塩酸水溶液と酢酸エチルエステルを加える。その
酢酸エチルエステル抽出液をNaCΩ水洗、乾燥後、酢
酸エチルエステルを留去し、テトラヒドロフランとアセ
トンの混合溶媒から再結晶すると、 −ロロー   −
20mg(収率33%)を得る。
融点254−5℃。
実施例9 a)5−’yロロー6−ヒドロキシー3−フェニル−1
,2−ベンゾイソオキサゾール−2,5gトリエチルオ
ルトアクリレート3.5g1ピバリン酸2.0gおよび
トルエン15mΩの混合物を2時間加熱還流する。冷却
後ジエチルエーテルを加え、5%水酸化ナトリウム、水
溶液、次いで水で洗浄し、乾燥後溶媒を留去する。ジク
ロロメタンとn−へキサンの混合溶媒から再結晶すると
、3.6gの5−クロロ−7,7−ジェトキシ−3−フ
ェニルイソキサゾロ[5,4−f]クロロンを得る。
融点 119〜120℃ b)  5−クロロ−7,7−シエトキシー3−フェニ
ルイソキサゾロ[5,4−f] りovン1゜5g1ピ
リジン0.35gおよびクロロボルム20rnQの混合
物を水冷上攪拌しながら、これに臭素0.7gおよびク
ロロホルム5m9.の混合物を滴下する。室温で一夜攪
拌した後、4時間加熱還流する。溶媒を留去後、ジエチ
ルエーテル30mΩおよび10%塩酸水溶液50mQを
加え、室温で2時間攪拌し、エーテル層を分離、乾燥後
溶媒を留去する。残渣をジクロロメタンを展開溶媒とし
、シリカゲルクロマトグラフィーでM ’El すると
、0.9gの5−クロロ−7,8−ジヒドロ−3−フェ
ニルフロ[2,3−gl−1,2−ベンゾイソオキサゾ
ール−7−カルボン酸エチルエステルヲ得ル。
c)  5−クロロ−7,8−ジヒドロ−3−フェニル
フロ[2,3−gl −1,2−ベンゾイソオキサゾー
ル−7−カルボン酸エチルエステル0゜9gをエタノー
ル20mgに加熱しながら溶解させ、10%水酸化す)
 IJウム水水溶液10交Ω加え、80〜90℃で、3
0分間撹拌する。
冷却後、塩酸酸性にして、析出する結晶をろ取水法し、
テトラヒドロフランとアゼトンの混合溶媒から再結晶す
ると、0.8gの5−クロロ−7,8−ジヒドロ−3−
フェニルフロ[2゜3−gl−1,2−ベンゾイソオキ
サゾール−7−カルボン酸を得る。
融点 254〜255℃。
実施例10 実施例9−a)で得られた5−クロロ−7,7−ジェト
キシ−3−フェニルイソキサゾロ[5゜4−f]クロロ
ン3.7gと、ピリジン0.87g1クロロホルム50
m9の混合物を水冷下撹拌し、これにスルフリルクロラ
イド1.5gとクロロホルム20mΩの混合物を滴下し
、以下実施例9と同様に処理すると、2.0gの5−ク
ロロ−7,8−ジヒドロ−3−フェニルフロ[2,3−
g]−1,2−ベンゾイソオキサゾール−7−カルボン
酸を得る。
融点 254〜256℃。
実施例11 a)NaOH2,Og (0,05モル)をH2O10
0mρに溶解したものに、5−クロロ−〇−ヒドロキシ
ー3−フェニルー1.2−ベンゾイソオキサゾールf3
.Og (0,0244モル)を溶かし、35%ホルマ
リン10.8g (0゜125モル)を加え、70℃で
3時間攪拌する。
冷却後、水を加え塩酸酸性にした後、ジエチルエーテル
−酢酸エチルで抽出する。
有機層を水洗乾燥後、溶媒を留去すると、5−クロロ−
6−ヒトロキシー7−ヒドロキシメチルー3−フェニル
−1,2−ベンゾイソオキサゾール66g(臭率98%
)を得る。
融点 158〜158℃。
元素分析値 C+4 H(。CρNO3(分子量275
.69) NMRCCDCQ3+DMSO−d6)δ:5゜05 
(2H,s)、7.25〜7.57 (3H% m) 
、7.84 (IH% s) 、7.57〜7.95 
(2H,m) 、9.50 (IHlbS) b)前記実施例1l−a)で得た5−クロロ−6−ヒト
ロキシー7−ヒドロキシメチルー3−フェニル−1,2
−ベンゾイソオキサゾール0゜91g (0,0033
モル)、に2 CO31゜4g(0,01モル)、エト
キシカルボニルメチルスルホニウムブロマイド2.3g
 (0,01モル)およびジメチルホルムアミド10m
ρの混合物を室温下、6時間攪拌する。有機層を水洗乾
燥後溶媒を留去すると、5−クロロ−7゜8−ジヒドロ
−3−フェニルフロ[2,3−g]−1,2−ベンゾイ
ソオキサゾール−7−カルボン酸エチルエステルを得る
。これを精製する事な(,2N−NaOH15mRを加
え、加熱する。冷却後、2N−HCl2を加え、塩酸酸
性にした後、ジエチルエーテル−酢酸エチルで抽出する
。有機層を水洗乾燥後、溶媒を留去して得た残渣をアセ
トンで結晶化させ、これをろ取し乾燥すると、5−クロ
ロ−7,8−ジヒドロ−3−フェニルフロ[2,3−g
ツー1,2−ベンゾイソオキサゾール−7−カルボン酸
0゜84g(収率81%)を得る。
実施例12 S (CH2CH20H)21.4g (0,0115
モル)およびBrCH2COOC2H51゜7g (0
,0102モル)の混合物を一夜撹拌する。そこへ5−
クロロ−6−ヒトロキシー7−ヒドロキシメチルー3−
フェニル−1,2−ベンゾイソオキサゾール0.91g
 (0,0033モル)、K2 CO31,4g (0
,01モル)およびジメチルホルムアミド10mΩを加
え、室温下6時間撹拌する。水を加え、ジエチルエーテ
ル−酢酸エチルで抽出する。有機層を水洗乾燥後、溶媒
を留去して得た残渣に、2N−NaOH15mρを加え
加熱する。冷却後、2N−HCρを加え塩酸酸性にした
後、ジエチルエーテル−酢酸エチルで抽出する。有機層
を水洗乾燥後、溶媒を留去して得た残渣をアセトンで結
晶化した後、結晶をろ取し乾燥すると、5−クロロ−7
,8−ジヒドロ−3−フェニルフロ[2,3−g]−1
,2−ベンゾイソオキサゾール−7−カルボン (収率51%)を得る。
実施例13 レゾルシンφジメチルエーテル100g(0。
724モル)を水冷下撹拌しながらSO2CQ2e1m
ρ(0,759モル)を2.5時間かけて滴下し、その
後室温下2.5時間撹拌する。そこへトルエン300m
ρ、ベンゾイル・クロライド105.9g (0,75
3モル)を加え、水冷下撹拌しながらkQCQa 10
2.3g (0,767モル)を1時間かけて加え、そ
の後室温下2時間撹拌後、40分還流する。冷機、氷水
中に徐々に注ぎ、conc  HCQ400mfiを加
え、Ac0Etで抽出する。有機層を水洗後、溶媒を留
去すると粗結晶2−ベンゾイル−4−クロロ−5−メト
キシフェノールを得る。この結晶をピリジン500mΩ
に溶解し、NH2OH4IHCI2201.2g (2
,90モル)を加えて、1.5時間還流する。冷機、溶
媒を留去し、塩酸酸性にした後Ac0E tで抽出する
。有機層を水洗乾燥後、溶媒を留去して得た結晶をジメ
チルホルムアミド600mQに溶解し、無水酢酸20’
7mQ(2゜18モル)、酢酸ナトリウム180.7g
 (2゜20モル)を加え、3時間還流する。冷機、0
゜2N−NaOH10Rに徐々に注ぎ、析出した結晶を
濾取し、水で洗い乾燥する。この結晶を酢酸1000m
Ωに加温して溶解し、濃硫酸50mρ(0,938モル
)、H2O800rrl!を加えて4時間還流する。冷
機、水冷した3N−NaOH8Ω中に撹拌しながら徐々
に注ぎ、析出した結晶を濾取し、水で洗い乾燥して得た
結晶をCH2CΩ21ρに溶解し、活性炭20gを加え
、30分還流した後、活性炭を吸引濾過して除き、溶媒
を留去した後、C2H50H3Ωで再結晶すると、5−
クロロ−6−メドキシー3−フェニル−1,2−ベンゾ
イソオキサゾール84.8g(収率overallで3
5%)を得る。
得られた5−クロロ−6−メドキシー3−フェニル−1
,2−ベンゾイソオキサゾール25g(0,096モル
)をトルエン250mρに溶解し、水冷下撹拌しながら
AρCΩ328.3g (0゜213モル)を徐々に加
え、80±5°Cで3.5時間撹拌する。冷機、H(、
Q溶液中へ徐々に注ぎ、酢酸エチルで抽出する。有機層
を水洗乾燥後、溶媒を留去し、酢酸エチル−n−ヘキサ
ンで再結晶すると、5−クロロ−6−ヒドロキシ−3−
フェニル−1,2−ベンゾイソオキサゾール22.4g
(収率95%)。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中R_1はハロゲン原子・低級アルキル基で置換さ
    れているか、又は非置換のフェニル基を、R_2および
    R_3は、同一もしくは異なって、水素原子、ハロゲン
    原子、低級アルキル基を意味する。)で示されるフロベ
    ンゾイソオキサゾール誘導体を製造するにあたり、a)
    一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中R_1は、ハロゲン原子・低級アルキル基で置換
    されているか、または非置換の フェニル基を意味し、R_2およびR_3は、同一又は
    異なって、水素原子、ハロゲン原 子、低級アルキル基を意味し、AはOH基 又は▲数式、化学式、表等があります▼を表し、R_4
    およびR_5は 低級アルキル基を意味する。)で示される ベンゾイソオキサゾール誘導体に、不活性 溶媒中一般式▲数式、化学式、表等があります▼ R_7(式中R_6は低級アルキル基、又は2−ヒドロ
    キシエチル基等の置換低級アルキ ル基を、R_7は低級アルキル基を意味し、nは0又は
    1である。)で示される化合物 を反応させ、次いで所望により加水分解す ることを特徴とする製法、 b)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中R_1は、ハロゲン原子・低級アルキル基で置換
    されているか又は非置換のフェ ニル基を意味し、R_2およびR_3は、同一又は異な
    って、水素原子、ハロゲン原子、 低級アルキル基を意味する。)で示される o−アリルフェノール誘導体に、ハロゲノ ヒドリン化剤を反応させ、次いで塩基で処 理し、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中R_1、R_2およびR_3は、前記と同一のも
    のを意味する。)で示される化合物 を製造し、これを触媒下、過マンガン酸酸 化することを特徴とする製法、又は、 c)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中R_1は、ハロゲン原子・低級アルキル基で置換
    されているか、又は非置換のフ ェニル基を意味し、R_2およびR_3は、同一又は異
    なって、水素原子、ハロゲン原 子、低級アルキル基を意味する。)で示さ れるベンゾイソキオキサゾール誘導体に、 一般式 CH_2=CHC(OR_4)_3(式中R_
    4は、低級アルキルを意味する。)で示される化合物を
    反応させ、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中R_1、R_2、R_3およびR_4は、前記と
    同一のものを意味する。)で示される 化合物を製造し、次いでハロゲン化剤を作 用させ、さらに加水分解することを特徴と する製法。 2、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中R_1は、ハロゲン原子・低級アルキル基で置換
    されているか、又は非置換のフェニル基を意味し、R_
    2およびR_3は、同一又は異なって、水素原子、ハロ
    ゲン原子、低級 アルキル基を意味し、AはOH基又は基− ▲数式、化学式、表等があります▼を表わし、R_4お
    よびR_5は低級アルキル基を意味する。)は、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中R_1、R_2およびR_3は、前記と同一のも
    のを意味する。)で示されるベンゾイソオキサゾール誘
    導体に、ホルマリン又はその誘導体と、 一般式▲数式、化学式、表等があります▼(式中R_4
    およびR_5 は、低級アルキル基を意味する。)を反応させるか、も
    しくは、ホルマリン又はその誘導体と水酸化アルカリを
    反応させることによって得ることを特徴とする特許請求
    の範囲第1項に記載のフロベンゾイソオキサゾール誘導
    体の製法。 3、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中R_1は、ハロゲン原子・低級アルキル基で置換
    されているか、又は非置換のフェニル基を意味し、R_
    2およびR_3は、同一又は異なって、水素原子、ハロ
    ゲン原子、低級アルキル基を意味する。)は、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中R_1、R_2およびR_3は、前記と同一のも
    のを意味する。)で示されるベンゾイソオキサゾール誘
    導体に、塩基の存在下、X−CH_2−CH=CH_2
    (式中Xはハロゲン原子を意味する。)を反応させて、
    一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中R_1、R_2およびR_3は前記と同一のもの
    を意味する。)で示される化合物を得 て、これを溶媒中で加熱により転移させることによって
    得ることを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載のフ
    ロベンゾイソオキサゾール誘導体の製法。 4、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中R_1は、ハロゲン原子・低級アルキル基で置換
    されているか、又は非置換のフ ェニル基を意味し、R_2およびR_3は、同一又は異
    なって水素原子、ハロゲン原子、低級アルキル基を意味
    し、Aは−OH基又は基 ▲数式、化学式、表等があります▼を表わし、R_4お
    よびR_5は低級アルキル基を意味する。)で示される
    ベンゾイソオキサゾール誘導体。 5、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中R_1は、ハロゲン原子・低級アルキル基で置換
    されているか、又は非置換のフェニル基を意味し、R_
    2およびR_3は、同一又は異なって、水素原子、ハロ
    ゲン原子、低級アルキル基を意味する。)で示されるベ
    ンゾイソオキサゾール誘導体に、ホルマリン又はその誘
    導体と一般式▲数式、化学式、表等があります▼(式中
    R_4お よびR_5は、低級アルキル基を意味する。)を反応さ
    せるか、もしくは、ホルマリン又はその誘導体と水酸化
    アルカリを反応させることを特徴とする一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中R_1、R_2およびR_3は前記と同一のもの
    を意味し、Aは−OH基又は基 ▲数式、化学式、表等があります▼を表わし、R_4お
    よびR_5は前記と同一のものを意味する。)で示され
    るベンゾイソオキサゾール誘導体の製法。 2)一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中R_1はハロゲン原子・低級アルキル基で置換さ
    れているか又は非置換のフェニル基を意味し、R_2お
    よびR_3は同一又は異なって水素原子、ハロゲン原子
    、低級アルキル基を意味し、Aは−OH基又は、▲数式
    、化学式、表等があります▼を R_4およびR_5は低級アルキル基を意味する)で示
    されるベンゾイソオキサゾール誘導体。
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