JPH01132753A - クラッド容器 - Google Patents
クラッド容器Info
- Publication number
- JPH01132753A JPH01132753A JP29019787A JP29019787A JPH01132753A JP H01132753 A JPH01132753 A JP H01132753A JP 29019787 A JP29019787 A JP 29019787A JP 29019787 A JP29019787 A JP 29019787A JP H01132753 A JPH01132753 A JP H01132753A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- oxides
- vessel
- dispersed
- alloy
- coating
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/24—Vacuum evaporation
- C23C14/243—Crucibles for source material
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は、高温で使用するクランド容器に関するもので
ある。
ある。
（従来技術とその問題点）
従来、Ｗ又はＷ合金にＩｒ又はＩｒ合金を被覆したクラ
ッド容器は高温ガラスや金属酸化物を含む鉱石溶解用る
つぼや真空蒸着用のトレー、ボートなどに広く用いられ
ていた。これは耐酸化性に優れているが、高温で使用す
るので使用時間と共にＩｒ又はＩｒ合金膜の結晶粒が粗
大化し、粒界からの他の元素による浸入汚染や膜の機械
的強度の低下でクラッド容器の寿命が短いという欠点が
あった。
ッド容器は高温ガラスや金属酸化物を含む鉱石溶解用る
つぼや真空蒸着用のトレー、ボートなどに広く用いられ
ていた。これは耐酸化性に優れているが、高温で使用す
るので使用時間と共にＩｒ又はＩｒ合金膜の結晶粒が粗
大化し、粒界からの他の元素による浸入汚染や膜の機械
的強度の低下でクラッド容器の寿命が短いという欠点が
あった。
本発明は上記欠点に鑑みなされたものであり、長寿命の
容器を提供することを目的とする。
容器を提供することを目的とする。
（問題点を解決するための手段）
本発明は、Ｗ又はＷ合金に、酸化物を分散させたＩｒ又
は■「合金が被覆されていることを特徴とするクラッド
容器である。
は■「合金が被覆されていることを特徴とするクラッド
容器である。
本発明において、酸化物を分散させたＩｒ又はＩｒ合金
を用いるのは、１「の融点が２４５４℃と高く、しかも
高温における結晶粒の粗大化が起こりにくいからである
。しかし、酸化物を分散させたＩ「やＩｒ合金を板にす
るなどの加工が困難なため被覆することとした。被覆は
スパッタリングにて行うのが良い。これはイオンブレー
ティングや真空蒸着や湿式めっきでは、ｌｒ又はＩｒ合
金に酸化物を分散・させるのが困難な為である。
を用いるのは、１「の融点が２４５４℃と高く、しかも
高温における結晶粒の粗大化が起こりにくいからである
。しかし、酸化物を分散させたＩ「やＩｒ合金を板にす
るなどの加工が困難なため被覆することとした。被覆は
スパッタリングにて行うのが良い。これはイオンブレー
ティングや真空蒸着や湿式めっきでは、ｌｒ又はＩｒ合
金に酸化物を分散・させるのが困難な為である。
このように酸化物を分散させたＩｒ又はＩｒ合金を被覆
したるつぼは耐酸化性に優れ、しかも被膜中には酸化物
が分散していて高温での結晶粒の成長が抑えられている
ことから長寿命のものとなる。
したるつぼは耐酸化性に優れ、しかも被膜中には酸化物
が分散していて高温での結晶粒の成長が抑えられている
ことから長寿命のものとなる。
なお、酸化物を分散したＩｒ合金としては、Ｉｒ−ｐｔ
−酸化物、ｌｔ−Ｒｈ−酸化物などがある。
−酸化物、ｌｔ−Ｒｈ−酸化物などがある。
また酸化物としては／１１０３、Ｚ「０７、Ｙ ｔ Ｏ
２などがあり、その酸化物の分散量としては、０．０２
体積％未満では高温での結晶粒の成長を抑制する効果が
薄＜、１０体積％を超えると酸化物がクラッド容器内で
溶かすガラス等と反応するので、酸化物の量としては、
０．０２〜１０体積％が好ましい。さらに被膜の厚さと
しては、０．１μｍ未満ではＷ又はＷ合金の酸化を防止
する効果が薄く、１００μｍを超えると効果（長寿命化
）に対する被覆時間の割合が高くなるので、被膜の厚さ
としては０．１〜１００μｍの範囲が好ましい。
２などがあり、その酸化物の分散量としては、０．０２
体積％未満では高温での結晶粒の成長を抑制する効果が
薄＜、１０体積％を超えると酸化物がクラッド容器内で
溶かすガラス等と反応するので、酸化物の量としては、
０．０２〜１０体積％が好ましい。さらに被膜の厚さと
しては、０．１μｍ未満ではＷ又はＷ合金の酸化を防止
する効果が薄く、１００μｍを超えると効果（長寿命化
）に対する被覆時間の割合が高くなるので、被膜の厚さ
としては０．１〜１００μｍの範囲が好ましい。
以下、実施例と従来例について説明する。
（実施例１）
ｌｒとＹ ｔ Ｏｚの２つのターゲットを同時に用いて
、肉厚５鶴、高さ１００ｉｎ、内径８０龍の断面コの字
形Ｗ製るつぼの内壁に次の条件でＩｒ−Ｙ！０゜２．５
体積％を厚さ５μｍまで２元同時スパンタリングした。
、肉厚５鶴、高さ１００ｉｎ、内径８０龍の断面コの字
形Ｗ製るつぼの内壁に次の条件でＩｒ−Ｙ！０゜２．５
体積％を厚さ５μｍまで２元同時スパンタリングした。
Ａｒガス １．ＯＸ １０−’Ｔ ｏ ｒ ｒＩｒ
ＤＣ２ＫＷ、スパッタ速度 １００００００ｉｎ’
／、０． ＲＦ ＩＫＷ、スパッタ速度 ２５人／
ｍｉｎ高周波電源 １３．５６Ｍ Ｈｚ Ｗ製るつぼ 自公転 これを実施品１とする。
ＤＣ２ＫＷ、スパッタ速度 １００００００ｉｎ’
／、０． ＲＦ ＩＫＷ、スパッタ速度 ２５人／
ｍｉｎ高周波電源 １３．５６Ｍ Ｈｚ Ｗ製るつぼ 自公転 これを実施品１とする。
（実施例２）
Ｉｒ−ＺｒＯｚｏ、１体積％のターゲットを用いて、実
施例１と同一形状のＷ製るつぼの内外壁に次の条件でＩ
ｒ−ＺｒＯ２０，１体積％を厚さ１０μｍマグネトロン
スパッタリングした。
施例１と同一形状のＷ製るつぼの内外壁に次の条件でＩ
ｒ−ＺｒＯ２０，１体積％を厚さ１０μｍマグネトロン
スパッタリングした。
Ａ「ガス ｔ、ｏｘ ｔｏ−”ｒ ｏ ｒ ｒＩ
ｒ−ＺｒＯｘ ＲＦ Ｉ Ｋ Ｗ、スパッタ速度２０
００人／ｍｉｎ高周波電源 １３．５６Ｍ Ｈｚ Ｗ製るつぼ 自転 これを実施品２とする。
ｒ−ＺｒＯｘ ＲＦ Ｉ Ｋ Ｗ、スパッタ速度２０
００人／ｍｉｎ高周波電源 １３．５６Ｍ Ｈｚ Ｗ製るつぼ 自転 これを実施品２とする。
（従来例）
実施例１で用いたＷ製るつぼの内外壁にＩ「を１０μｍ
スパッタリングしたものを従来品とした。
スパッタリングしたものを従来品とした。
次に、上記実施品１．２と従来品にアルカリ亜鉛硼珪酸
ガラスを５００ｇ入れＡ「雰囲気、温度約り５００℃×
６０分間で使用した。これを１０回くり返したところ、
従来品は３μｍその容器の表面から削られたのに対し、
実施品１は１μｍ、実施品２は０．５μｍ削られたにと
どまった。
ガラスを５００ｇ入れＡ「雰囲気、温度約り５００℃×
６０分間で使用した。これを１０回くり返したところ、
従来品は３μｍその容器の表面から削られたのに対し、
実施品１は１μｍ、実施品２は０．５μｍ削られたにと
どまった。
次に、従来品、実施品２の容器の底部を大気中で直接ヒ
ーター加熱して温度約１０００℃で２０時間保持したと
ころ、従来品は１０時間では減量しなかったが、【ｒ＋
＆膜の結晶粒の粗大化が著しく限界状態となり、２０時
間ではＩｒ被膜が破壊され８ｇ減量したのに対し、実施
品２は被膜の結晶粒の成長は認められず、減量もしなか
った。
ーター加熱して温度約１０００℃で２０時間保持したと
ころ、従来品は１０時間では減量しなかったが、【ｒ＋
＆膜の結晶粒の粗大化が著しく限界状態となり、２０時
間ではＩｒ被膜が破壊され８ｇ減量したのに対し、実施
品２は被膜の結晶粒の成長は認められず、減量もしなか
った。
これらのことから本発明のクラッドるつぼは従来品に比
べて金属酸化物の溶解用るつぼとして著しく寿命が長く
、また耐消耗性にも優れていることがわかる。
べて金属酸化物の溶解用るつぼとして著しく寿命が長く
、また耐消耗性にも優れていることがわかる。
尚、上記実施例ではＷに酸化物を分散した１、ｒを直接
被覆したが、必要に応じＷとＩｒの拡散を防止するため
の拡散防止層を介在するようにしてもよいものである。
被覆したが、必要に応じＷとＩｒの拡散を防止するため
の拡散防止層を介在するようにしてもよいものである。
（発明の効果）
以上詳述したように本発明によれば、耐消耗性の優れた
長寿命のクラ、ラド容器を提供することができる。しか
も、Ｗ製容器を完全に被覆すれば大気中でも長寿命のも
のかえられる。
長寿命のクラ、ラド容器を提供することができる。しか
も、Ｗ製容器を完全に被覆すれば大気中でも長寿命のも
のかえられる。
出願人 田中貴金属工業株式会社
Claims (1)
- Ｗ又はＷ合金に、酸化物を分散させたＩｒ又はＩｒ合金
が被覆されていることを特徴とするクラッド容器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62290197A JP2565940B2 (ja) | 1987-11-17 | 1987-11-17 | クラッド容器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62290197A JP2565940B2 (ja) | 1987-11-17 | 1987-11-17 | クラッド容器 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01132753A true JPH01132753A (ja) | 1989-05-25 |
| JP2565940B2 JP2565940B2 (ja) | 1996-12-18 |
Family
ID=17753011
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62290197A Expired - Lifetime JP2565940B2 (ja) | 1987-11-17 | 1987-11-17 | クラッド容器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2565940B2 (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5515550A (en) * | 1978-07-18 | 1980-02-02 | Matsushita Electric Works Ltd | Smoke sensor |
| JPS60200982A (ja) * | 1984-03-26 | 1985-10-11 | Tanaka Kikinzoku Kogyo Kk | クラツド容器 |
-
1987
- 1987-11-17 JP JP62290197A patent/JP2565940B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5515550A (en) * | 1978-07-18 | 1980-02-02 | Matsushita Electric Works Ltd | Smoke sensor |
| JPS60200982A (ja) * | 1984-03-26 | 1985-10-11 | Tanaka Kikinzoku Kogyo Kk | クラツド容器 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2565940B2 (ja) | 1996-12-18 |
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