JPH01133215A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPH01133215A JPH01133215A JP62291091A JP29109187A JPH01133215A JP H01133215 A JPH01133215 A JP H01133215A JP 62291091 A JP62291091 A JP 62291091A JP 29109187 A JP29109187 A JP 29109187A JP H01133215 A JPH01133215 A JP H01133215A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- metal magnetic
- magnetic recording
- ions
- corrosion
- Prior art date
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- Granted
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は磁気記録装置、例えば磁気ディスク装置等に用
いられる磁気記録媒体に関するものである。
いられる磁気記録媒体に関するものである。
従来の技術
現在、磁気記録媒体として使用される磁気ディスクの多
くは酸化物塗布媒体であり、さらに記録密度を向上させ
るものとして、めっきあるいはスパッタリング等による
金属薄膜媒体が注目されている。
くは酸化物塗布媒体であり、さらに記録密度を向上させ
るものとして、めっきあるいはスパッタリング等による
金属薄膜媒体が注目されている。
しかしながら金属薄膜媒体は耐候性（耐食性〉が十分で
はな（、又起動・停止の時の磁気ヘッドとの接触による
耐摩耗性も不十分である。従って一般に、金属薄膜媒体
では、耐候性・耐摩耗性を付与するために、金属磁性膜
上に保護膜・潤滑膜を構成する。又、記録密度を高める
ためには、磁気ヘッドが金属磁性膜表面にできるだけ近
接している事が望ましいので、保護膜・潤滑膜は薄い程
よい。
はな（、又起動・停止の時の磁気ヘッドとの接触による
耐摩耗性も不十分である。従って一般に、金属薄膜媒体
では、耐候性・耐摩耗性を付与するために、金属磁性膜
上に保護膜・潤滑膜を構成する。又、記録密度を高める
ためには、磁気ヘッドが金属磁性膜表面にできるだけ近
接している事が望ましいので、保護膜・潤滑膜は薄い程
よい。
従来、この種の保護膜としては、湿式めっきによる金属
薄膜（Ｒｈ、Ａｕ、Ｃｒ、Ｎ１−Ｐ等）、酸化膜（金属
磁性膜の表面酸化、ＳｉＣユ 等）、窒化物膜（Ｓｉ３
Ｎ９等）、炭化物膜（ＳｉＣ等）等の硬質膜が提案さ
れている。
薄膜（Ｒｈ、Ａｕ、Ｃｒ、Ｎ１−Ｐ等）、酸化膜（金属
磁性膜の表面酸化、ＳｉＣユ 等）、窒化物膜（Ｓｉ３
Ｎ９等）、炭化物膜（ＳｉＣ等）等の硬質膜が提案さ
れている。
これらの保護膜のうちで、耐候性・耐摩耗性を備えた保
護膜がいくつかある。例えば、記録密度を高めるために
、保護膜の膜厚を５０ナノメートル以下にした２層保護
膜Ｃ下層に耐候性の良いＣｒ酸化物膜、上層にＳｉＯ膜
）が提案されている（特開昭５８−１７７５２８号公報
）。
護膜がいくつかある。例えば、記録密度を高めるために
、保護膜の膜厚を５０ナノメートル以下にした２層保護
膜Ｃ下層に耐候性の良いＣｒ酸化物膜、上層にＳｉＯ膜
）が提案されている（特開昭５８−１７７５２８号公報
）。
しかしながら、これらの保護膜はある程度の耐候性は確
保できるものの、膜厚が薄いほど多く腐食し、腐食試験
時間が長いほど多（腐食する。
保できるものの、膜厚が薄いほど多く腐食し、腐食試験
時間が長いほど多（腐食する。
（田子章男：「めっき形磁気ディスク用シリコン化合物
保護膜」、精密機械、４９巻、６号、Ｐ７４７から７５
１までのＦｉｇ６から８）一方、より記録密度を上げた
場合には、より微小な欠陥でも磁気記録媒体の信頼性を
損なうようになる。又、磁気記録装置の使用環境は、パ
ーソナルユース等により、磁気記録媒体にとってはより
厳しくなってきており、より優れた磁気記録媒体の開発
が望まれている。この要望に応じて活性なＣｒ単体でで
きたＣｒ保護膜を金属磁性膜上に形成した磁気記録媒体
があった。Ｃｒ保護膜は活性であるがゆえに金属磁性膜
の腐食因子である水などにＣｒ保護膜を形成しているＣ
ｒ原子が反応して不溶性のＣｒ水酸化物などのＣｒ腐食
生成物を生成し、そのＣｒ腐食生成物が金属磁性膜を被
覆し、優れた耐候性を得ていた。又Ｃｒ保護膜の膜厚が
薄いために生じる金属磁性膜のＣｒ保護膜によって被覆
されない未被覆部が存在したり、磁気ヘッドと磁気記録
媒体との突発的な衝突などによって、Ｃｒ保護膜が剥が
れ落ちてしまったりして、もしＣｒ保護膜の未被覆部や
Ｃｒ保護膜が剥がれ落ちた部分に腐食因子の水等が進入
してきて、その水の中に金属磁性膜中の金属イオン及び
Ｃｒ保護膜中のＣｒイオンが溶けだしてくるけれども、
Ｃｒイオンの方が腐食因子と反応しやすいのでＣｒ腐食
生成物を生成し、Ｃｒ腐食生成物が金属磁性膜を被覆し
ていた。
保護膜」、精密機械、４９巻、６号、Ｐ７４７から７５
１までのＦｉｇ６から８）一方、より記録密度を上げた
場合には、より微小な欠陥でも磁気記録媒体の信頼性を
損なうようになる。又、磁気記録装置の使用環境は、パ
ーソナルユース等により、磁気記録媒体にとってはより
厳しくなってきており、より優れた磁気記録媒体の開発
が望まれている。この要望に応じて活性なＣｒ単体でで
きたＣｒ保護膜を金属磁性膜上に形成した磁気記録媒体
があった。Ｃｒ保護膜は活性であるがゆえに金属磁性膜
の腐食因子である水などにＣｒ保護膜を形成しているＣ
ｒ原子が反応して不溶性のＣｒ水酸化物などのＣｒ腐食
生成物を生成し、そのＣｒ腐食生成物が金属磁性膜を被
覆し、優れた耐候性を得ていた。又Ｃｒ保護膜の膜厚が
薄いために生じる金属磁性膜のＣｒ保護膜によって被覆
されない未被覆部が存在したり、磁気ヘッドと磁気記録
媒体との突発的な衝突などによって、Ｃｒ保護膜が剥が
れ落ちてしまったりして、もしＣｒ保護膜の未被覆部や
Ｃｒ保護膜が剥がれ落ちた部分に腐食因子の水等が進入
してきて、その水の中に金属磁性膜中の金属イオン及び
Ｃｒ保護膜中のＣｒイオンが溶けだしてくるけれども、
Ｃｒイオンの方が腐食因子と反応しやすいのでＣｒ腐食
生成物を生成し、Ｃｒ腐食生成物が金属磁性膜を被覆し
ていた。
発明が解決しようとする問題点
しかしながら前記従来の構成では、Ｃｒ腐食生成物中の
Ｃｒイオンは大気中及び浮遊塵の成分として存在するＣ
Ｉイオンが侵入してくるとすぐに反応し、Ｃｒ腐食生成
物が破壊されてしまうので、金属磁性膜は腐食因子であ
る水等によって腐食されてしまうという問題点を有して
いた。
Ｃｒイオンは大気中及び浮遊塵の成分として存在するＣ
Ｉイオンが侵入してくるとすぐに反応し、Ｃｒ腐食生成
物が破壊されてしまうので、金属磁性膜は腐食因子であ
る水等によって腐食されてしまうという問題点を有して
いた。
本発明は前記従来の問題点を解決するもので、大気中や
浮遊塵の成分として存在するＣ１イオンが侵入してきて
も、Ｃｒ腐食生成物をＣＩイオンが破壊するのを防止し
、金属磁性膜が腐食しにくい磁気記録媒体を提供する事
を目的としている。
浮遊塵の成分として存在するＣ１イオンが侵入してきて
も、Ｃｒ腐食生成物をＣＩイオンが破壊するのを防止し
、金属磁性膜が腐食しにくい磁気記録媒体を提供する事
を目的としている。
問題点を解決するための手段
この目的を達成するために本発明の磁気記録媒体は、金
属磁性膜上にＭｏの成分が０．５アトミックパーセント
から８０アトミックパーセントであるＣ ｒ −Ｍ ｏ
合金膜を形成した。
属磁性膜上にＭｏの成分が０．５アトミックパーセント
から８０アトミックパーセントであるＣ ｒ −Ｍ ｏ
合金膜を形成した。
作 用
この構成により、大気中や浮遊塵の成分として存在する
ＣＩイオンが侵入してきても、Ｃ１イオンはまずＭｏと
反応して不溶性のＣＩとＭｏの化合物を作るのでＣｒと
ＣＩイオンの反応を防止できる。
ＣＩイオンが侵入してきても、Ｃ１イオンはまずＭｏと
反応して不溶性のＣＩとＭｏの化合物を作るのでＣｒと
ＣＩイオンの反応を防止できる。
実 施 例
第１図は本発明の一実施例における磁気記録媒体を示す
部分断面図である。第１図において１はアルミニウム合
金などからなる基板、２は基板１の上に形成され膜厚２
０マイクロメートルのＮ１−Ｐ無電解めっきの下地膜、
３は下地膜２の上に形成されＣｒを下地に持つＣｏ−Ｎ
ｉ合金やＣ。
部分断面図である。第１図において１はアルミニウム合
金などからなる基板、２は基板１の上に形成され膜厚２
０マイクロメートルのＮ１−Ｐ無電解めっきの下地膜、
３は下地膜２の上に形成されＣｒを下地に持つＣｏ−Ｎ
ｉ合金やＣ。
−Ｃｒ合金等でできた金属磁性膜、４は金属磁性膜３の
上に形成され、金属磁性膜３を水等の腐食から守る耐候
性を有するＣｒ−Ｍｏ合金膜、５はＣｒ−Ｍｏ合金膜４
の上に形成され、磁気ヘッドとの接触による摩耗を防ぐ
ために耐摩耗性の材料例えば二酸化ケイ素や炭素膜等で
できた保護膜、６は保護膜５の上に形成され、磁気ヘッ
ドと保護膜５の間の摩擦を減少させるためにフッ素系オ
イル等で構成された潤滑膜である。
上に形成され、金属磁性膜３を水等の腐食から守る耐候
性を有するＣｒ−Ｍｏ合金膜、５はＣｒ−Ｍｏ合金膜４
の上に形成され、磁気ヘッドとの接触による摩耗を防ぐ
ために耐摩耗性の材料例えば二酸化ケイ素や炭素膜等で
できた保護膜、６は保護膜５の上に形成され、磁気ヘッ
ドと保護膜５の間の摩擦を減少させるためにフッ素系オ
イル等で構成された潤滑膜である。
例えば、Ｃｒ−Ｍｏ合金膜４．保護膜５．潤滑膜６の厚
みを夫々１０ナノメートル、２０ナノメートル、５ナノ
メートルとして合計３５ナノメートルでも十分な耐候性
、耐摩耗性、低摩擦性を得る事ができる。
みを夫々１０ナノメートル、２０ナノメートル、５ナノ
メートルとして合計３５ナノメートルでも十分な耐候性
、耐摩耗性、低摩擦性を得る事ができる。
第２図はＣｒ−Ｍｏ合金膜の耐候性を示すグラフである
。第２図において横軸はＣｒ−Ｍｏ合金膜のＭｏの含有
率で、縦軸は金属磁性膜の全面積のうちとれ（らいの面
積が腐食しているかを示す腐食面積率である。どの実験
は、Ｃｏ−２０アトミックパーセントＮｉ金属磁性膜の
上に１０ナノメートルのＣｒ−Ｍｏ合金膜をスパッタリ
ングによりコーティングし、塩水噴霧試験装置（Ｊ Ｉ
ｓＺ ２３７１）で３日間保持した。第２図に示した
とおりＭｏの含有率が０．５アトミツクパ一セント以上
８０アトミックパーセント以下のＣｒ−Ｍｏ合金膜で被
覆された金属磁性膜は、腐食面積率が１パーセント以下
と極めて優れた耐候性を示す。
。第２図において横軸はＣｒ−Ｍｏ合金膜のＭｏの含有
率で、縦軸は金属磁性膜の全面積のうちとれ（らいの面
積が腐食しているかを示す腐食面積率である。どの実験
は、Ｃｏ−２０アトミックパーセントＮｉ金属磁性膜の
上に１０ナノメートルのＣｒ−Ｍｏ合金膜をスパッタリ
ングによりコーティングし、塩水噴霧試験装置（Ｊ Ｉ
ｓＺ ２３７１）で３日間保持した。第２図に示した
とおりＭｏの含有率が０．５アトミツクパ一セント以上
８０アトミックパーセント以下のＣｒ−Ｍｏ合金膜で被
覆された金属磁性膜は、腐食面積率が１パーセント以下
と極めて優れた耐候性を示す。
又この様な防食作用を持つＣｒ−Ｍｏ合金膜は、Ｃｒ保
護膜とＭｏの両特性を兼ね備えた膜であり合金でなけれ
ば優れた防食作用は期待できない。
護膜とＭｏの両特性を兼ね備えた膜であり合金でなけれ
ば優れた防食作用は期待できない。
Ｃｒ保護膜だけであれば耐ＣＩイオン性に欠けて金属磁
性膜が腐食し、Ｍｏだけでも金属磁性膜は腐食する。
性膜が腐食し、Ｍｏだけでも金属磁性膜は腐食する。
金属磁性膜上にＣｒ−Ｍｏ合金膜を形成すれば、Ｃ１イ
オンが侵入してきても％ＭｏはＣＩイオンと結合しやす
いので、Ｃｒ−Ｍｏ合金膜表面や、Ｃｒ腐食生成物の表
面に偏析し、ＣＩとＭｏの化合物を形成し、ＣＩとＭｏ
の化合物を表面に形成することによってＣＩイオンを遮
断し、Ｃｒ８食生成物のＣＩイオンによる破壊を防ぐこ
とが可能になる。従ってＣＩイオンが侵入してきても優
れた耐候性を得ることができる。
オンが侵入してきても％ＭｏはＣＩイオンと結合しやす
いので、Ｃｒ−Ｍｏ合金膜表面や、Ｃｒ腐食生成物の表
面に偏析し、ＣＩとＭｏの化合物を形成し、ＣＩとＭｏ
の化合物を表面に形成することによってＣＩイオンを遮
断し、Ｃｒ８食生成物のＣＩイオンによる破壊を防ぐこ
とが可能になる。従ってＣＩイオンが侵入してきても優
れた耐候性を得ることができる。
発明の効果
本発明は金属磁性膜上にＭｏの含有率が０．５アトミッ
クパーセントから８０アトミックパーセントのＣｒ−Ｍ
ｏ合金膜を形成したことにより、大気中や浮遊展の成分
として存在するＣ１イオンが侵入してきても、ＣＩイオ
ンはまずＭｏと反応して不溶性のＣＩとＭｏの化合物を
作るのでＣｒ腐食生成物とＣＩの反応を防止できるので
、極めて薄い膜でも金属磁性膜が腐食するのを防止でき
る。
クパーセントから８０アトミックパーセントのＣｒ−Ｍ
ｏ合金膜を形成したことにより、大気中や浮遊展の成分
として存在するＣ１イオンが侵入してきても、ＣＩイオ
ンはまずＭｏと反応して不溶性のＣＩとＭｏの化合物を
作るのでＣｒ腐食生成物とＣＩの反応を防止できるので
、極めて薄い膜でも金属磁性膜が腐食するのを防止でき
る。
第１図は本発明の一実施例における磁気記録媒体を示す
部分断面図、第２図はＣｒ−Ｍｏ合金膜の耐候性を示す
グラフである。 １・・・・・・基板 ２・・・・・・下地膜 ３・・・・・・金属磁性膜 ４・・・・・・Ｃｒ−Ｍｏ合金膜 ５・・・・・・保護膜 ６・・・・・・潤滑膜 代理人の氏名 弁理士 中尾敏男 ほか１名１−・−基
板 第２図
部分断面図、第２図はＣｒ−Ｍｏ合金膜の耐候性を示す
グラフである。 １・・・・・・基板 ２・・・・・・下地膜 ３・・・・・・金属磁性膜 ４・・・・・・Ｃｒ−Ｍｏ合金膜 ５・・・・・・保護膜 ６・・・・・・潤滑膜 代理人の氏名 弁理士 中尾敏男 ほか１名１−・−基
板 第２図
Claims (1)
- 基板と、前記基板の上に形成された金属磁性膜と、前記
金属磁性膜の上に形成されたＣｒ−Ｍｏ合金膜を備え、
前記Ｃｒ−Ｍｏ合金膜のＭｏの含有率が０．５アトミッ
クパーセントから８０アトミックパーセントである事を
特徴とする磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62291091A JP2506850B2 (ja) | 1987-11-18 | 1987-11-18 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62291091A JP2506850B2 (ja) | 1987-11-18 | 1987-11-18 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01133215A true JPH01133215A (ja) | 1989-05-25 |
| JP2506850B2 JP2506850B2 (ja) | 1996-06-12 |
Family
ID=17764328
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62291091A Expired - Lifetime JP2506850B2 (ja) | 1987-11-18 | 1987-11-18 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2506850B2 (ja) |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5883334A (ja) * | 1981-11-10 | 1983-05-19 | Sekisui Chem Co Ltd | 磁気記録媒体 |
-
1987
- 1987-11-18 JP JP62291091A patent/JP2506850B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5883334A (ja) * | 1981-11-10 | 1983-05-19 | Sekisui Chem Co Ltd | 磁気記録媒体 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2506850B2 (ja) | 1996-06-12 |
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