JPH0114060B2 - - Google Patents
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- JPH0114060B2 JPH0114060B2 JP59081331A JP8133184A JPH0114060B2 JP H0114060 B2 JPH0114060 B2 JP H0114060B2 JP 59081331 A JP59081331 A JP 59081331A JP 8133184 A JP8133184 A JP 8133184A JP H0114060 B2 JPH0114060 B2 JP H0114060B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- transistor
- capacitor
- wiper
- resistor
- washer
- Prior art date
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-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B60—VEHICLES IN GENERAL
- B60S—SERVICING, CLEANING, REPAIRING, SUPPORTING, LIFTING, OR MANOEUVRING OF VEHICLES, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B60S1/00—Cleaning of vehicles
- B60S1/02—Cleaning windscreens, windows or optical devices
- B60S1/46—Cleaning windscreens, windows or optical devices using liquid; Windscreen washers
- B60S1/48—Liquid supply therefor
- B60S1/481—Liquid supply therefor the operation of at least part of the liquid supply being controlled by electric means
- B60S1/482—Liquid supply therefor the operation of at least part of the liquid supply being controlled by electric means combined with the operation of windscreen wipers
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Water Supply & Treatment (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はウオツシヤを動作させた場合必ずワイ
パーが設定された回数動作するように構成したウ
オツシヤ連動間欠ワイパー装置に関するものであ
る。
パーが設定された回数動作するように構成したウ
オツシヤ連動間欠ワイパー装置に関するものであ
る。
従来におけるウオツシヤ連動間欠ワイパー装置
は第１図に示すように構成されていた。
は第１図に示すように構成されていた。
すなわち、第１図において、１はワイパーモー
タ、２は定位置停止スイツチ、３はモータ駆動用
リレー、４はコンデンサ４ａ、抵抗４ｂ、トラン
ジスタ４ｃなどにより構成される間欠ワイパー回
路部、５は間欠ワイパー始動スイツチ、６はコン
デンサ６ａ，６ｂ、トランジスタ６ｃ、抵抗６ｄ
などによつて構成されるウオツシヤ連動用回路
部、７はウオツシヤモータ、８はウオツシヤ始動
スイツチである。間欠動作の時定数は抵抗４ｂと
コンデンサ４ａとにより決定されている。
タ、２は定位置停止スイツチ、３はモータ駆動用
リレー、４はコンデンサ４ａ、抵抗４ｂ、トラン
ジスタ４ｃなどにより構成される間欠ワイパー回
路部、５は間欠ワイパー始動スイツチ、６はコン
デンサ６ａ，６ｂ、トランジスタ６ｃ、抵抗６ｄ
などによつて構成されるウオツシヤ連動用回路
部、７はウオツシヤモータ、８はウオツシヤ始動
スイツチである。間欠動作の時定数は抵抗４ｂと
コンデンサ４ａとにより決定されている。
このような構成において、小形化を計るために
は、抵抗やトランジスタなどはチツプ部品が使用
できるがコンデンサとしてのアルミ電解コンデン
サはチツプ化されていないため小形化できず、タ
ンタル電解コンデンサではチツプ化されたものも
あるが大容量のものでは価格が高くなりコスト面
で著しく不利になるものであつた。
は、抵抗やトランジスタなどはチツプ部品が使用
できるがコンデンサとしてのアルミ電解コンデン
サはチツプ化されていないため小形化できず、タ
ンタル電解コンデンサではチツプ化されたものも
あるが大容量のものでは価格が高くなりコスト面
で著しく不利になるものであつた。
コンデンサ容量を小さくしてできるだけ小形化
を計ることも考えられるが、時定数を合せるため
に抵抗値を大きくしなければならず、抵抗４ｂ，
６ｄはトランジスタ４ｃ，６ｃのバイアス用抵抗
でもあるため、トランジスタを正常に動作させる
には限度があり、抵抗値をあまり大きくすること
ができない。
を計ることも考えられるが、時定数を合せるため
に抵抗値を大きくしなければならず、抵抗４ｂ，
６ｄはトランジスタ４ｃ，６ｃのバイアス用抵抗
でもあるため、トランジスタを正常に動作させる
には限度があり、抵抗値をあまり大きくすること
ができない。
また、トランジスタ４ｃ，６ｃとしてダーリン
トン接続したトランジスタを使用することも考え
られるが、コレクタ・エミツタ飽和電圧が高いた
め、モータ駆動用リレー３に加える電圧のロスが
生じ、回路ユニツトとしての減電圧特性が悪化す
る。
トン接続したトランジスタを使用することも考え
られるが、コレクタ・エミツタ飽和電圧が高いた
め、モータ駆動用リレー３に加える電圧のロスが
生じ、回路ユニツトとしての減電圧特性が悪化す
る。
以上のように従来の構成では小形化をはかるこ
とがきわめて困難であつた。
とがきわめて困難であつた。
本発明は以上のような従来の欠点を除去するも
のであり、安価で小形化が計れるウオツシヤ連動
間欠ワイパー装置を提供しようとするものであ
る。
のであり、安価で小形化が計れるウオツシヤ連動
間欠ワイパー装置を提供しようとするものであ
る。
以下、本発明の一実施例を図面第２図より説明
する。
する。
まず、第２図に示す一実施例について説明する
と、９はバツテリ、１０はワイパーモータ、１１
は定位置停止スイツチ、１２はモータ駆動用リレ
ー、１３はコンデンサ１３ａ、可変抵抗１３ｂ、
抵抗１３ｃ，１３ｄ、トランジスタ１３ｅ，１３
ｆによつて構成される間欠動作回路部で、コンデ
ンサ１３ａは間欠時間の時定数用で、トランジス
タ１３ｅはモータ駆動用リレー１２を駆動するた
めのトランジスタ、トランジスタ１３ｆはトラン
ジスタ１３ｅのバイアス回路を駆動するためのト
ランジスタ、可変抵抗１３ｂはトランジスタ１３
ｆのバイアス抵抗である。１４は間欠ワイパー始
動スイツチでバツテリ９に接続される常閉接点１
４ａと常開接点により構成されている。１５はプ
ログラム作動回路部で、このプログラム作動回路
部１５は遅延時定数用コンデンサ１５ａ、遅延時
定数用抵抗１５ｂ、保持時定数用コンデンサ１５
ｃ、保持時定数用抵抗１５ｄ、コンデンサ１５ｃ
を充電するための充電用トランジスタ１５ｅ、放
電抵抗１５ｆ、保護抵抗１５ｇによつて構成され
ている。
と、９はバツテリ、１０はワイパーモータ、１１
は定位置停止スイツチ、１２はモータ駆動用リレ
ー、１３はコンデンサ１３ａ、可変抵抗１３ｂ、
抵抗１３ｃ，１３ｄ、トランジスタ１３ｅ，１３
ｆによつて構成される間欠動作回路部で、コンデ
ンサ１３ａは間欠時間の時定数用で、トランジス
タ１３ｅはモータ駆動用リレー１２を駆動するた
めのトランジスタ、トランジスタ１３ｆはトラン
ジスタ１３ｅのバイアス回路を駆動するためのト
ランジスタ、可変抵抗１３ｂはトランジスタ１３
ｆのバイアス抵抗である。１４は間欠ワイパー始
動スイツチでバツテリ９に接続される常閉接点１
４ａと常開接点により構成されている。１５はプ
ログラム作動回路部で、このプログラム作動回路
部１５は遅延時定数用コンデンサ１５ａ、遅延時
定数用抵抗１５ｂ、保持時定数用コンデンサ１５
ｃ、保持時定数用抵抗１５ｄ、コンデンサ１５ｃ
を充電するための充電用トランジスタ１５ｅ、放
電抵抗１５ｆ、保護抵抗１５ｇによつて構成され
ている。
また、１６は間欠作動回路部１３とプログラム
作動回路部１５の信号のOR回路で、上記間欠ワ
イパースイツチの常開接点に接続された抵抗１６
ａとダイオード１６ｂ，１６ｃ、抵抗１６ｄによ
つて構成されている。１７はウオツシヤモータ、
１８はウオツシヤ始動スイツチである。
作動回路部１５の信号のOR回路で、上記間欠ワ
イパースイツチの常開接点に接続された抵抗１６
ａとダイオード１６ｂ，１６ｃ、抵抗１６ｄによ
つて構成されている。１７はウオツシヤモータ、
１８はウオツシヤ始動スイツチである。
この構成の動作について設明すると、第２図の
ようなワイパーが停止位置にあり、間欠ワイパー
始動スイツチ１４が閉位置の１４ａ側にある場
合、コンデンサ１３ａの両端は電源電圧まで充電
されている。ここで間欠ワイパー始動スイツチ１
４を常開接点側に切換えればトランジスタ１３
ｆ，１３ｅはすぐに導通状態になり、モータ駆動
用リレー１２がONになつてワイパーモータ１０
が作動する。ワイパーモータ１０が作動すれば定
位置停止スイツチ１１の常開接点が閉じ、Ａ点は
バツテリ９の倍に電位になるがトランジスタ１３
ｆのベース回路にコンデンサ１３ａの電荷が放電
し、Ａ点はほぼ零電位まで下がる。次にワイパー
が停止位置にくると、定位置停止スイツチ１１の
常閉接点が閉じ、Ａ点は負の電源電位となるた
め、トランジスタ１３ｆは非導通となりワイパー
の休止期間にはいる。やがて可変抵抗１３ｂより
コンデンサ１３ａが充電されＡ点が正電位になる
と再びトランジスタ１３ｆは導通しワイパーが動
作する。
ようなワイパーが停止位置にあり、間欠ワイパー
始動スイツチ１４が閉位置の１４ａ側にある場
合、コンデンサ１３ａの両端は電源電圧まで充電
されている。ここで間欠ワイパー始動スイツチ１
４を常開接点側に切換えればトランジスタ１３
ｆ，１３ｅはすぐに導通状態になり、モータ駆動
用リレー１２がONになつてワイパーモータ１０
が作動する。ワイパーモータ１０が作動すれば定
位置停止スイツチ１１の常開接点が閉じ、Ａ点は
バツテリ９の倍に電位になるがトランジスタ１３
ｆのベース回路にコンデンサ１３ａの電荷が放電
し、Ａ点はほぼ零電位まで下がる。次にワイパー
が停止位置にくると、定位置停止スイツチ１１の
常閉接点が閉じ、Ａ点は負の電源電位となるた
め、トランジスタ１３ｆは非導通となりワイパー
の休止期間にはいる。やがて可変抵抗１３ｂより
コンデンサ１３ａが充電されＡ点が正電位になる
と再びトランジスタ１３ｆは導通しワイパーが動
作する。
このように間欠ワイパー動作は上記トランジス
タ１３ｆの間欠動作によつて行われ、このトラン
ジスタ１３ｆの間欠動作時間は可変抵抗１３ｂと
コンデンサ１３ａによつて決定されている。
タ１３ｆの間欠動作によつて行われ、このトラン
ジスタ１３ｆの間欠動作時間は可変抵抗１３ｂと
コンデンサ１３ａによつて決定されている。
また、ウオツシヤ始動スイツチ１８を閉じると
ウオツシヤモータ１７が作動してウオツシヤ液を
フロントウインドに吹付ける。と同時に遅延時定
数用コンデンサ１５ａに充電が開始され一定の電
位に達すると充電用トランジスタ１５ｅが導通
し、保持時定数用コンデンサ１５ｃに充電が開始
される。この保持時定数用コンデンサ１５ｃの充
電電位が一定値以上になるとOR回路１６のダイ
オード１６ｃを介してトランジスタ１３ｆが導通
され、トランジスタ１３ｅも導通してモータ駆動
用リレー１２がONとなりワイパーモータ１０が
作動する。このワイパーモータ１０の作動時間は
トランジスタ１３ｆの動作時間で決定され、この
トランジスタ１３ｆの動作時間は保持時定数用コ
ンデンサ１５ｃと抵抗１５ｄによつて決められる
時定数で決定される。
ウオツシヤモータ１７が作動してウオツシヤ液を
フロントウインドに吹付ける。と同時に遅延時定
数用コンデンサ１５ａに充電が開始され一定の電
位に達すると充電用トランジスタ１５ｅが導通
し、保持時定数用コンデンサ１５ｃに充電が開始
される。この保持時定数用コンデンサ１５ｃの充
電電位が一定値以上になるとOR回路１６のダイ
オード１６ｃを介してトランジスタ１３ｆが導通
され、トランジスタ１３ｅも導通してモータ駆動
用リレー１２がONとなりワイパーモータ１０が
作動する。このワイパーモータ１０の作動時間は
トランジスタ１３ｆの動作時間で決定され、この
トランジスタ１３ｆの動作時間は保持時定数用コ
ンデンサ１５ｃと抵抗１５ｄによつて決められる
時定数で決定される。
上記構成においてモータ駆動用リレー１２の駆
動をトランジスタ１３ｅ，１３ｆの２段にしてい
るのでトランジスタ１３ｆのバイアス回路の抵抗
１３ｂ，１５ｄは高抵抗が使用でき、したがつて
コンデンサ１３ａ，１５ｃは小容量となり、小形
で低価格なコンデンサが使用できる。
動をトランジスタ１３ｅ，１３ｆの２段にしてい
るのでトランジスタ１３ｆのバイアス回路の抵抗
１３ｂ，１５ｄは高抵抗が使用でき、したがつて
コンデンサ１３ａ，１５ｃは小容量となり、小形
で低価格なコンデンサが使用できる。
また、無理にhFEの高いトランジスタを使用す
る必要もなく価格面で有利となる。更に、間欠ワ
イパー始動スイツチの常閉接点１４ａをバツテリ
９に接続したので、ワイパーの動作休止期間中に
間欠ワイパー始動スイツチを常閉接点側に切換後
すぐに常開接点側に切換えても、間欠ワイパー始
動スイツチ１４をOFFとした場合コンデンサ１
３ａは瞬時に充電され、Ａ点の電位は初期の状態
に戻るので、すぐに間欠ワイパー始動スイツチ１
４を閉じてもワイパーモータ１０が動作すること
になる。
る必要もなく価格面で有利となる。更に、間欠ワ
イパー始動スイツチの常閉接点１４ａをバツテリ
９に接続したので、ワイパーの動作休止期間中に
間欠ワイパー始動スイツチを常閉接点側に切換後
すぐに常開接点側に切換えても、間欠ワイパー始
動スイツチ１４をOFFとした場合コンデンサ１
３ａは瞬時に充電され、Ａ点の電位は初期の状態
に戻るので、すぐに間欠ワイパー始動スイツチ１
４を閉じてもワイパーモータ１０が動作すること
になる。
以上のように本発明のウオツシヤ連動間欠ワイ
パー装置は構成されるため、長時間の間欠ワイパ
ー動作やウオツシヤ連動のワイパー動作時間をコ
ンデンサ容量でなく抵抗値を大きくして設定で
き、hFEの高いトランジスタを用いたりする必要
がなく安価となり、コンデンサ容量を小さくでき
るため小形化を計る上で有利となり、コスト面で
も有利となり、さらにバツテリに接続された間欠
ワイパー始動スイツチの常閉接点を設けることに
より、間欠ワイパー始動スイツチの開閉を早く繰
返しても閉じれば必ずワイパーが作動することに
なり、車両運転上有効で安全性の確保が計れるな
どの利点をもち、実用的価値の大なるものであ
る。
パー装置は構成されるため、長時間の間欠ワイパ
ー動作やウオツシヤ連動のワイパー動作時間をコ
ンデンサ容量でなく抵抗値を大きくして設定で
き、hFEの高いトランジスタを用いたりする必要
がなく安価となり、コンデンサ容量を小さくでき
るため小形化を計る上で有利となり、コスト面で
も有利となり、さらにバツテリに接続された間欠
ワイパー始動スイツチの常閉接点を設けることに
より、間欠ワイパー始動スイツチの開閉を早く繰
返しても閉じれば必ずワイパーが作動することに
なり、車両運転上有効で安全性の確保が計れるな
どの利点をもち、実用的価値の大なるものであ
る。
第１図は従来のウオツシヤ連動間欠ワイパー装
置の電気的回路図、第２図は本発明のウオツシヤ
連動間欠ワイパー装置の一実施例を示す電気的回
路図である。 ９……バツテリ、１０……ワイパーモータ、１
１……定位置停止スイツチ、１２……モータ駆動
用リレー、１３……間欠動作回路部、１３ａ……
コンデンサ、１３ｂ……可変抵抗、１３ｃ，１３
ｄ……抵抗、１３ｅ，１３ｆ……トランジスタ、
１４……間欠ワイパー始動スイツチ、１４ａ……
常閉接点、１５……プログラム作動回路部、１５
ａ……遅延時定数用コンデンサ、１５ｂ……遅延
時定数用抵抗、１５ｃ……保持時定数用コンデン
サ、１５ｄ……保持時定数用抵抗、１５ｅ……充
電用トランジスタ、１５ｆ……放電抵抗、１５ｇ
……保護抵抗、１６……OR回路、１６ａ……抵
抗、１６ｂ，１６ｃ……ダイオード、１６ｄ……
抵抗、１７……ウオツシヤモータ、１８……ウオ
ツシヤ始動スイツチ。
置の電気的回路図、第２図は本発明のウオツシヤ
連動間欠ワイパー装置の一実施例を示す電気的回
路図である。 ９……バツテリ、１０……ワイパーモータ、１
１……定位置停止スイツチ、１２……モータ駆動
用リレー、１３……間欠動作回路部、１３ａ……
コンデンサ、１３ｂ……可変抵抗、１３ｃ，１３
ｄ……抵抗、１３ｅ，１３ｆ……トランジスタ、
１４……間欠ワイパー始動スイツチ、１４ａ……
常閉接点、１５……プログラム作動回路部、１５
ａ……遅延時定数用コンデンサ、１５ｂ……遅延
時定数用抵抗、１５ｃ……保持時定数用コンデン
サ、１５ｄ……保持時定数用抵抗、１５ｅ……充
電用トランジスタ、１５ｆ……放電抵抗、１５ｇ
……保護抵抗、１６……OR回路、１６ａ……抵
抗、１６ｂ，１６ｃ……ダイオード、１６ｄ……
抵抗、１７……ウオツシヤモータ、１８……ウオ
ツシヤ始動スイツチ。
Claims (1)
- １ ワイパーモータと、ワイパーモータの位置で
動作する定位置停止スイツチと、このワイパーモ
ータを駆動させるリレーと上記リレーを駆動する
第１のトランジスタと、この第１のトランジスタ
のベースを駆動する第２のトランジスタと、一方
が電源に接続された抵抗と、この抵抗の他方と上
記リレーの常閉接点を接続し、この抵抗とによつ
て上記第２のトランジスタを間欠動作させるコン
デンサと、上記抵抗の他方と上記第２のトランジ
スタのベースとの間に常閉接点を電源に、常開接
点をこの第２のトランジスタのベースに接続した
間欠ワイパー始動スイツチと、ウオツシヤモータ
と、このウオツシヤモータを駆動するウオツシヤ
始動スイツチと、ウオツシヤ動作時に充電される
コンデンサと、このコンデンサの充電電位により
動作する充電用トランジスタと、この充電用トラ
ンジスタの導通により充電されるコンデンサと、
このコンデンサとによつて上記第２のトランジス
タの動作時間を決定するように上記コンデンサの
充電電位を制御する上記第２のトランジスタのベ
ースに接続した他の抵抗より構成されるウオツシ
ヤ連動間欠ワイパー装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59081331A JPS59220086A (ja) | 1984-04-23 | 1984-04-23 | ウオツシヤ連動間欠ワイパ−装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59081331A JPS59220086A (ja) | 1984-04-23 | 1984-04-23 | ウオツシヤ連動間欠ワイパ−装置 |
Related Child Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63026124A Division JPS63232054A (ja) | 1988-02-05 | 1988-02-05 | 間欠ワイパー装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59220086A JPS59220086A (ja) | 1984-12-11 |
| JPH0114060B2 true JPH0114060B2 (ja) | 1989-03-09 |
Family
ID=13743395
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59081331A Granted JPS59220086A (ja) | 1984-04-23 | 1984-04-23 | ウオツシヤ連動間欠ワイパ−装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59220086A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP3951498A1 (en) | 2020-08-04 | 2022-02-09 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Positive photosensitive resin composition, positive photosensitive dry film, method for producing positive photosensitive dry film, patterning process, method for forming cured film, interlayer insulation film, surface protective film, and electronic component |
| EP3951499A1 (en) | 2020-08-04 | 2022-02-09 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Negative photosensitive resin composition, patterning process, method for forming cured film, interlayer insulation film, surface protective film, and electronic component |
| EP3974904A1 (en) | 2020-09-24 | 2022-03-30 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Photosensitive resin composition, patterning process, method for forming cured film, interlayer insulation film, surface protective film, and electronic component |
| EP4063954A2 (en) | 2021-03-23 | 2022-09-28 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Positive photosensitive resin composition, positive photosensitive dry film, method for producing positive photosensitive dry film, patterning process, method for forming cured film, interlayer insulation film, surface protective film, and electronic component |
| EP4067999A1 (en) | 2021-03-23 | 2022-10-05 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Negative photosensitive resin composition, patterning process, method for forming cured film, interlayer insulation film, surface protective film, and electronic component |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5140703B2 (ja) * | 1971-10-26 | 1976-11-05 | ||
| JPS5147728A (ja) * | 1974-10-21 | 1976-04-23 | Nippon Denso Co |
-
1984
- 1984-04-23 JP JP59081331A patent/JPS59220086A/ja active Granted
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP3951498A1 (en) | 2020-08-04 | 2022-02-09 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Positive photosensitive resin composition, positive photosensitive dry film, method for producing positive photosensitive dry film, patterning process, method for forming cured film, interlayer insulation film, surface protective film, and electronic component |
| EP3951499A1 (en) | 2020-08-04 | 2022-02-09 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Negative photosensitive resin composition, patterning process, method for forming cured film, interlayer insulation film, surface protective film, and electronic component |
| EP3974904A1 (en) | 2020-09-24 | 2022-03-30 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Photosensitive resin composition, patterning process, method for forming cured film, interlayer insulation film, surface protective film, and electronic component |
| EP4063954A2 (en) | 2021-03-23 | 2022-09-28 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Positive photosensitive resin composition, positive photosensitive dry film, method for producing positive photosensitive dry film, patterning process, method for forming cured film, interlayer insulation film, surface protective film, and electronic component |
| EP4067999A1 (en) | 2021-03-23 | 2022-10-05 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Negative photosensitive resin composition, patterning process, method for forming cured film, interlayer insulation film, surface protective film, and electronic component |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59220086A (ja) | 1984-12-11 |
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