JPH01149208A - 磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents

磁気ヘッドの製造方法

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JPH01149208A
JPH01149208A JP30671187A JP30671187A JPH01149208A JP H01149208 A JPH01149208 A JP H01149208A JP 30671187 A JP30671187 A JP 30671187A JP 30671187 A JP30671187 A JP 30671187A JP H01149208 A JPH01149208 A JP H01149208A
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JP
Japan
Prior art keywords
magnetic
film
magnetic head
core
thin film
Prior art date
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Pending
Application number
JP30671187A
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English (en)
Inventor
Takahiro Sato
高広 佐藤
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Seiko Epson Corp
Original Assignee
Seiko Epson Corp
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Filing date
Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は磁気記録再生装置用の磁気ヘッドの製造方法に
関する。
〔従来の技術〕
従来の飽和磁束密度(以下Bsと呼ぶ)の高い金属磁性
薄膜を有する磁気ヘッドは、第3図に示す如く、例えば
平坦な第1のコア1の上にBsの高い金属磁性薄膜とし
てFe−Aβ−3i膜3及び、非磁性膜としてSiO*
4をスパッタ等によって成膜した後、巻線窓を存する第
2のコア5と融着ガラス6によって一体として磁気ヘッ
ドを得ている。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかし、前述の従来技術では第1のコア1と第2のコア
5を融着ガラス6によって一体とするので、融着ガラス
の種類にもよるが、概ね500’C以上の高温下におい
て行なわれる。従ってその過程において治具、磁性体ブ
ロック及びFe−Al2−3t膜等の熱膨張率の差によ
って現状では、Fe−Aρ−3i膜が加圧され固着され
るのでFe−Al2−3 ill内に残留応力が残って
おり、Fe−Al2−8i膜の磁気特性を劣下させるた
め、磁気ヘッドとしての電磁変換特性も劣化してしまう
、また、磁気ギャップ長も非磁性膜である5tO1膜の
厚みによって規定されるので融着時の押し付は力によっ
て膜厚が変化するのでギャップ長のばらつきが出てしま
い、高精度のギャップ長を得る事が困難となるという問
題点を存する。そこで本発明はこのような問題点を解決
するもので、その目的とする所は、飽和磁束密度の高い
金属磁性薄膜の磁気特性を劣下させる事なく、電磁変換
特性の優れた磁気ヘッドを得るとともに、高精度でギャ
ップ長を得る事が出来歩留りの高い磁気ヘッドの製造方
法を提供する所にある。
〔問題点を解決するための手段〕
本発明の磁気ヘッドの製造方法は、飽和磁束密度の高い
金am性Wl膜を有する磁気ヘッドにおいて、その金属
磁性薄膜を成膜させる面の磁気ギャップに当る周辺のみ
をあらかじめ凹部にして、この凹部のみに金属磁性薄膜
及び磁気ギャップ長を規定するための非磁性膜をスパッ
タ等によって成膜した後に融着ガラスによって2体の磁
性体ブロックを結合する事を特徴とする。
〔実施例〕
本発明による磁気ヘッドの一実施例を第1図の斜視図に
示す。また、その磁気ヘッドの製造工程を第2図(a)
〜(f)の斜視図に示す。m1図に示す如へフェライト
よりなるtJlのコア1のギヤツブ部周辺を凹部2にし
、その凹部2に例えば、Bsの高い金属磁性薄膜として
Fe−Aρ−3ia3をスパッタによって1.5〜3.
5μmの範囲で任意の厚みで成膜しその後、そのFe−
Al2−3i襲3の上に非磁性膜としてS i O*膜
4を所定のギャップ長の長さに相当する厚みだけスパッ
タによって被着させ、ギャップ長を規定している。この
様にする事によって第1のコア1と巻線窓を育する!2
のコア5を高温下において、ガラス融着を行っても、残
留応力が小さく、歪による磁気特性劣下のない金属磁性
WI膜が形成され、電磁変換特性の優れた磁気ヘッドが
得られる。まお凹部の段差は、Fe−Al2−81lI
Iの厚みとS i O*膜の厚みを足した量とする。こ
の様な磁気ヘッドの製造方法をWi2図(a)〜(f)
を用いて説明する。一実施例として、片面のみに金属磁
性膜がある場合を説明するが、両側に膜を成膜する場合
も同様である。第2図(a)に示すフェライトよりなる
第1のコア1のギヤツブ部周辺に凹部2をエツチング等
によって、Fe−Aβ−8i膜の厚みとして2.5um
又、siO*lKの厚みとして0.5μmとした場合に
は、3μmのへこみ量で形成する。その後、精密洗浄に
よって汚れを除去し、スパッタによって第2図(b)に
示す如く、Fe−Al2−8ill13を2.5μm5
sio*膜4を0.5μmの厚みで形成する。そして、
第2図(C)に示す、フェライトよりなる第2のコア5
と先の第1のコア1を500℃以上の高温化で、不活性
ガス(例えばA r s N、)中で融着ガラス6によ
って一体としてfi2図(d)に示すコアブロック7を
得る。この様にして得られたコアブロック7を第2図(
e)に示す様に、ヘッド上部を研削研摩によってFe−
、Afl−8t膜3及びS i O’、膜4によって規
定されたギャップが現われるまで加を施こす。具体的に
ギャップ深さをどれ位にするかは要求される電磁変換特
性にもよるが、このヘッドをHDD用として用いた場合
には、10μm以下にすると、非常に特性の優れたもの
となる。この後、ttt2図(「)に示す様に、所定の
トラック幅8になる様にダイシング加工によって溝入れ
を行ない、図中の破線に示す位置で完全切断する事によ
って第1図に示す、磁気ヘッドが得られる。
この様にすると、第2図(d)に示すガラス融着時にお
いては、第1のコア1と第2のコア5のフェライト部で
融着時の荷重を受けるので、ギャップ長もS i O*
膜の厚みで精度よく規定される。また、Fe−Al2−
3i膜も残留応力による磁気的歪も非常に小さく出来る
ので電磁変換特性の優れた磁気ヘッドが得られる。また
、第1のコアと第2のコアの磁気ギャップと反対側の接
合面9においては、sio*ra等の非磁性介在物がな
いので磁気効率の優れた磁気ヘッドとなる。
〔発明の効果〕
以上述べたように本発明によれば、Bsの高い金属磁性
薄膜及びギャップ長を規定する非磁性膜をあらかじめギ
ャップ周辺に設けた凹部にスパッタ等に成膜する事によ
って、高温下のガラス融着において、金属磁性薄膜の磁
気特性を劣下させる事がなく、非常に優れた電磁変換特
性を育する磁気ヘッドが得られる。また、ギャップ長の
精度においても、融着時の荷重の影響を受けに((、高
歩留りで高精度のギャップ長が得られる。さらに、磁気
ヘッドの後部接合面において、フェライト同士が直接接
合されるので、磁気効率の高い優れたヘッドが得られる
という効果が育する。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の磁気ヘッドの一実施例を示す斜視図。 第2図(a)〜<r>は第1図の磁気ヘッドの製造工程
を示す斜視図。 第3図は従来の磁気ヘッドを示す斜視図。 l・・・第1のコア 2・・・凹部 3 ・F e −Aρ−3ifi 4・・・SiO*v!。 5・・・$2のコア 6・・・融着ガラス 7・・・コアブロック 8・・・トラック幅 9・・・後部接合面 以  上 出願人 セイコーエプソン株式会社 代理人 弁理士 最 上  務 他1名3 Fe、−A
I−5t東 第 1 図 第2同(b) 富2団(c) 環21犯 (べ)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1.  飽和磁束密度の高い金属磁性薄膜を成膜した面を少な
    くとも一面具備した2体の磁性体ブロックを前記金属磁
    性薄膜を成膜した面を対向させて磁気ギャップを形成し
    つつ融着ガラスによって一体とする磁気ヘッドの製造方
    法において、前記金属磁性薄膜を成膜させる面の磁気ギ
    ャップに当る周辺のみをあらかじめ凹部にして、この凹
    部のみに前記金属磁性薄膜及び磁気ギャップ長を規定す
    るための非磁性膜をスパッタ等によって成膜した後、融
    着ガラスによって2体の磁性体ブロックを結合すること
    を特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
JP30671187A 1987-12-03 1987-12-03 磁気ヘッドの製造方法 Pending JPH01149208A (ja)

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