JPH01311407A - 磁気ヘッド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 （イ）産業上の利用分野 本発明は高周波信号を効率良く記録再生するのに好適な
Ｗ１気ヘッドに関ｆ！。

（ロ）従来の技術 従来、ＶＴＲ等の高周波信号を記録再生する装置におい
ては、ビデオヘッド用磁性材料として高岡ｉ１［失の少
ないフェライト材料が用いられている。しかし、近年に
なって高品位ＶＴＲやデジタルｖＴＲのように史に広帯
域の＋ｔ１号ｋｉｌＸり扱うシステムの開発が盛んにな
ってきており、記録媒体もこのような大鼠の情報を記録
する為の高ｆ度化の流れの中で酸化鉄系から合金粉末媒
体や金属蒸着媒体等の高抗磁力媒体へ移行しつつある。

これに対してフェライトヘッドではその最大磁束密度が
高々５０００ガクス捏度であり、又短波長信号１に効４
Ｌ良く再生する為には狭ギヤツプにする必要がめり、上
述のようなＨａが１００００ｅ以上の高抗磁力媒体では
ギャップ先端部のフェライトコアが飽和し、十分な記録
が出来ない。そこで最大磁束密度の縞いセンダストやア
モルファス颯性合金等の金属磁性材料を用いた磁性ヘッ
ドの開発が行なわれているが、バルク状の金属磁性材料
を用１工 いたのでρず電流による高周波損失が大さく上記システ
ムには適していない。

従来、このような欠点を解消するために、例えば特開昭
＋５２−１１９７０９号分銀（０１１Ｂ５／１２７）等
に開示されているような高周波用積層型（は気ヘッドが
提案されている。

第９図は従来の磁気ヘッドの外観を示す斜視図である。

図中、（１ａ）（Ｉｂ）は夫々結晶化ガラス、非磁性セ
ラミック等よりなる非磁性基＆　１２１　ｔａ＋　（２
１（３１間にセンダスト等の金ｙ４磁性薄膜と５ｉ０２
等の絶縁薄膜との積層体よりなる主コア半体ｔ６１＋６
１が挟持されている第１、第２コア半体であり、第２コ
アを体（１ｂ）には巻線１４＋７＋が形成されている。

ｌた、１ｔｆＪ記第１、第２コア半体（１ａ）の非磁性
基板＋２１４３１にはガラス充填溝＋８）＋８１が形成
されている。

前記！８１、ｆＪ２コアを体（Ｉａ）（１ｂ）はそのギ
ャップ形成（３）同士が衝き合わされた状禾で前記ガラ
ス充填溝１８１１８１及び巻線溝（７）の上端に充填さ
れた抵融点カラス１９１ｔ９１＋１υにより接合されて
おり、該接合面には８１０２等よりなる作動ギャップ１
１０）が形成されている。

しかし乍ら、上記従来の磁気ヘッドでは、作動ギャップ
Ｉｌｌの下端付近、特に主コア半体ｔ６１１６１対向都
での第１、第２コア半体（１ａ）（Ｉｔ））同士の償金
強度が弱く愼楓的強度が十分でなかった。

また、ガクス償金（ｉ”　＋ｌ！ｉ温で行うことにより
弔１、第２コア半体（１ａ　）　（１’ｌ）　）同士の
接合力ｋ［化することもｉｆ七であるが接合ガラス内に
気泡が兜生じ易いという欠点がある。

（ハ）発明が解決しようとする妹題 木始１は上記従来例の欠点にＩ４φなされたものであり
、接合ガラス内に気泡を光生ずることなしに第１、第２
コアｒ体同士を強固に接合することが出来る磁気ヘッド
を提供すること全目的とするものである。

轡　課題を解決するための手段 木見例の磁気ヘッドは、非磁性基板の土コア半体側の面
の作動ギャップ近傍部に上端が作動キャップよりも下方
に位置するガラス充填溝を形成し、該ガラス充填溝に充
填したガラスにより第１、第２コア半体を接合したこと
を特徴とする。

け９作　用 上記構成に依れは、作動ギャップ近傍部における第１、
第２コア半体同士の接合強度は、作動ギャップ近傍部に
形成したガラス充填溝に充填されているガラスにより強
化される。

（へ）実施例 以下、図ｍｔ参照しつつ零発明の磁気ヘッドの一夫施例
を詳細に説明する。

第１図は本′夫弛例の磁気ヘッドの外観を示す斜視図で
あり、第９図と同一部分には同一符号を付し、その説明
は割愛する。

本夫施例の磁気ヘッドは、第１、第２コア半体（１ａ）
（１ｂ）ｋｍ成する非磁性基板１２１　（２１の主コア
半体ｔｂ＋１６１との接合向上ＶＣキャンプ形成面と直
交する方向に延在する第１のガラス充填溝じＵシが互い
に一直猟上に並ぶように形成されている。前記％１のガ
ラス充填源Ｕシじはその上端が作動ギャップｕＧの下端
、即ち巻線溝（７）の上端に充填されている低融点ガラ
ス（１１１の上端に位置するように形成されて２す、そ
の内部には低融点ガラス（ｌ謙ｕ３が充填されている。

また、前記第１、第２コア半体（１＆）（１１））下端
のギャップ衝き台せ曲には犬々、非磁性基板（２）＋２
１、主コア半体＋６１＋６１、非磁性基＃Ｌ（３１（３
１ｔＪ［ａする方向に第２のガラス充填溝が形成されて
おり、該第２のガラス充填溝（１４１＋１４）の内部に
は低融点ガラスｕ５ｉｕシが充填されている。前記低融
点ガクス叩（１３１（至）は大々軟化点４００℃である
同一のカラスである。

次に１本Ｘ施例の磁気ヘッドの５！造方去について説明
する。

先ず、第２図に示すように結晶化ガラスよりなるビッカ
ース硬度７００、厚み１■の基＆鋸の上回に第１のガラ
ス充填溝（１２１を形成する。

次に、第６因に示すように前記第１のカラス光ｊＪＫ１
ｓ（］３の内部に軟化点が４００℃である低融点ガラス
Ｕを充填する。

次に、ｙｌＩＪ４図に示すように前記基板Ｕυの下面に
センダスト等よりなる６、９μｍ厚の強磁性金属薄膜と
８１０２等よりなる０、１μｍ厚の絶縁薄膜と金又互に
５層積層して２０μｍ厚の積層薄膜（１９を形成する。

次に、第４図に示す基板０ｅを復改個形成した後、第５
図に示すように前記各基板（ＩＦ５を積層した状態で１
ｉｒＩ記低融点ガクスｕ３を溶融固化することＫより積
層ブロックα８１を形成する。

次に、第５図に示す積層フロック（１８１を一点鎮線へ
−Ｋに沿って切断して積層基板α９ｔ−形成し、該積層
基板（ｌ湯の上山に第６図（＆）に示すように軟化点が
４００℃である低融点ガラス四が充填されている第２の
ガラス充填溝部を形成する。また、第６図（＆）に示す
積層基＆１１９のうち十欽の基板の上面に。

第６図（’ｂ）Ｋ示すように先端に低融点ガラス１υが
充填されている巻線溝（７）及び低融点ガラス（至）が
充填さｎている％２ガラス充填漬り４を形成する。

次をで、第６図（ａＪ（ｂ）に示す積層基板＋１１　（
１１の上面、即ちギャップ形成面に鏡面研磨を施した後
、少なくとも一方の基板の上面にギャップ長が０．２μ
ｍになるように５ｉ０２ｈ＃のギャップスペーサを被着
形成し、その後第７図に示すように前記両積層基板（ｌ
湯ＯＩのギャップ形成面同士を衝き合わせた状態で４０
０℃まで昇温し、低融点ガラスｔｉｌｌ　Ｄ（至）回ヲ
芯融固化してコアブロック＋２１を形成する。

次に、前記コアブロック■を一点鎖線Ｂ　−Ｂ’の位置
でジノ断して第８図に示すようにコア厚が１５０μｍで
あるヘッドチップ（社）を形成する。

そしてＮ＆に、前記へラドチップ（社）にＲ付加上等の
加工を施して第９凶例示す本実厖例の磁気ヘッドが完）
戊する。

上述のような磁気ヘッドでは、第１コア半体（１＆）と
＠２コア半体（１ｂ）が低融点ガｔス（ｉｌｌ（１３（
１５１Ｋよってｔａｔで接合固定されているので、該低
融点ガラスＵυ１１３１ＰＪ内の気泡の奴は少ない。し
かもこの磁気ヘッドでは作動ギャップ１１υの下端近傍
は巻線溝（７）内の低融点ガラスｑυだけでなく第１の
ガラス充填溝り内に充ＸＡされている低融点ガラス（１
３により補強接合されているので、低温でのガラス接合
によってもギャップ下端の開きは防止される。

（ト）　発明の幼果 本発明に依れば、気泡が発生しにくい低湿でのガラス接
合によっても作動ギャップの下端が開きにくい強固な磁
気ヘッドを提供し得る。

【図面の簡単な説明】

＠１図乃主５１Ｓ８凶は本発明に俤り、弗１図は磁気ヘ
ッドの外観を示す斜視図、第２図、第３図、第４図、第
５図、第６図、第７図及び第８図は大々＠気ヘッドの製
造方龜を示す図である。第９図は産米の磁気ヘッドの外
観を示す斜視図である。 （１ａ）・・・第１コア千体、（１ｂ）・・・第２コア
半体、＋２１　＋３１・・・非磁性基板、（６）・・・
主コア半体、ｑト・・作動ギャップ、＋１２１・・・第
１のガラス充填溝、Ｕ・・・低融点ガラス。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）一対の非磁性基板間に強磁性金属薄膜よりなる主
   コア半体が形成されている第１、第２コア半体のギャッ
   プ形成面同士をギャップスペーサを介して衝き合わせて
   なる磁気ヘッドにおいて、前記非磁性基板の主コア半体
   側の面の作動ギャップ近傍部に上端が作動ギャップより
   も下方に位置するガラス充填溝を形成し、該ガラス充填
   溝に充填したガラスにより前記第１、第２コア半体を接
   合したことを特徴とする磁気ヘッド。