JPH01150222A - 薄膜磁気記録媒体 - Google Patents
薄膜磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPH01150222A JPH01150222A JP30899987A JP30899987A JPH01150222A JP H01150222 A JPH01150222 A JP H01150222A JP 30899987 A JP30899987 A JP 30899987A JP 30899987 A JP30899987 A JP 30899987A JP H01150222 A JPH01150222 A JP H01150222A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- circumferential side
- layer
- substrate
- recording medium
- magnetic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概要〕
薄膜型の磁気ディスク媒体の特性改善に関し、磁気ディ
スク媒体の内周側と外周側との間の再生出力が均一とな
り、ＡＧＣなどを使用する必要の無い安価な磁気ディス
ク装置を実現することを目的とし、 非磁性の基板に下地層および磁性層を積層してなる薄膜
磁気記録媒体において、 該下地層の膜厚を、該基板の内周側よりも外周側が薄（
なるように構成する。
スク媒体の内周側と外周側との間の再生出力が均一とな
り、ＡＧＣなどを使用する必要の無い安価な磁気ディス
ク装置を実現することを目的とし、 非磁性の基板に下地層および磁性層を積層してなる薄膜
磁気記録媒体において、 該下地層の膜厚を、該基板の内周側よりも外周側が薄（
なるように構成する。
磁気ディスク装置における記録媒体である磁気ディスク
媒体には、非磁性の円板に磁性塗料を塗布してなる塗膜
型とＧｏ−ＮｉやＧｏ−Ｐｔなどをスパンタして成る薄
膜型とがある。本発明は、後者の薄膜型の磁気ディスク
媒体の特性改善に関する。
媒体には、非磁性の円板に磁性塗料を塗布してなる塗膜
型とＧｏ−ＮｉやＧｏ−Ｐｔなどをスパンタして成る薄
膜型とがある。本発明は、後者の薄膜型の磁気ディスク
媒体の特性改善に関する。
第４図は従来の薄膜磁気記録媒体の断面構造を示す図で
ある。１は例えばアルミニ・ラムなどのような非磁性体
からなる基ｆｔ１ｉ（円′Ｆｉ）であり、その上に下地
層２、磁性層３、保護層４の順に積層されている。
ある。１は例えばアルミニ・ラムなどのような非磁性体
からなる基ｆｔ１ｉ（円′Ｆｉ）であり、その上に下地
層２、磁性層３、保護層４の順に積層されている。
磁性層３ば、Ｃｏ−ＮｆやＣｏ−Ｐｔなどをスパッタす
ることで形成される。下地層２は、磁性層３の材料によ
って異なるが、前記のようなＣｏ系の磁性層の場合は、
Ｃｒが適している。保護層４としては、ＳｉＯ□などが
適している。そしてこれらの各層は、真空を破壊するこ
となく連続的にスパッタリングすることで形成される。
ることで形成される。下地層２は、磁性層３の材料によ
って異なるが、前記のようなＣｏ系の磁性層の場合は、
Ｃｒが適している。保護層４としては、ＳｉＯ□などが
適している。そしてこれらの各層は、真空を破壊するこ
となく連続的にスパッタリングすることで形成される。
また図示例では、基板１の片面のみに、磁性層３が形成
されているが、通常は両面に下地層２、磁性層３、保Ｗ
ｉＮ４が形成される。
されているが、通常は両面に下地層２、磁性層３、保Ｗ
ｉＮ４が形成される。
第５図はこれらの各層をスパッタする装置の断面図であ
る。５はドーナツ状のターゲット、６はマスクであり、
ターゲット５と基板１との間にマスク６が配置され、タ
ーゲット５の中央の部分から蒸発したものだけが基板１
に到達するようになっている。
る。５はドーナツ状のターゲット、６はマスクであり、
ターゲット５と基板１との間にマスク６が配置され、タ
ーゲット５の中央の部分から蒸発したものだけが基板１
に到達するようになっている。
このようなマスク６を使用して、各層のスパッタリング
を行なうと、各層の膜厚は、第４図に示すように均一に
なる。
を行なうと、各層の膜厚は、第４図に示すように均一に
なる。
ところで、下地層２は、磁性層３を情報の記録媒体とし
て使用する際の磁気特性を改善する目的で形成されるが
、磁気ディスク媒体を高速回転させて情報の記録／再生
を行なう場合に、外周寄りほど周速が速いために、第４
図に示すような層構成では、外周寄りほど再生出力が大
きい。そのため、内周側と外周側とで再生出力に大きな
差が生じるので、ＡＧＣ（オート・ゲイン・コントロー
ラー）を設けて再生出力を一定にする必要があり、回路
構成が複雑になってしまう。その結果、コスト高となる
欠点がある。
て使用する際の磁気特性を改善する目的で形成されるが
、磁気ディスク媒体を高速回転させて情報の記録／再生
を行なう場合に、外周寄りほど周速が速いために、第４
図に示すような層構成では、外周寄りほど再生出力が大
きい。そのため、内周側と外周側とで再生出力に大きな
差が生じるので、ＡＧＣ（オート・ゲイン・コントロー
ラー）を設けて再生出力を一定にする必要があり、回路
構成が複雑になってしまう。その結果、コスト高となる
欠点がある。
本発明の技術的課題は、従来の薄膜磁気記録媒体におけ
るこのような問題を解消し、磁気ディスク媒体の内周側
と外周側との間の再生出力が均一となり、ＡＧＣなどを
使用する必要の無い安価な磁気ディスク装置を実現する
ことにある。
るこのような問題を解消し、磁気ディスク媒体の内周側
と外周側との間の再生出力が均一となり、ＡＧＣなどを
使用する必要の無い安価な磁気ディスク装置を実現する
ことにある。
第１図は本発明による薄膜磁気記録媒体の基本原理を説
明する断面図である。非磁性の基板１は従来と変わり無
いが、その上に積層される下地層は、２１で示されるよ
うに、内周側と外周側とで膜厚が異なっている。すなわ
ち、内周側の膜厚ｔｉよりも外周側の膜厚ｔｏが小さい
。そしてこのように外周側が次第に薄くなっている下地
層２１の上に、磁性層３１、保護層４１の順に積層され
ている。そのため、磁性層３１および保護層４１も傾斜
した構造となる。
明する断面図である。非磁性の基板１は従来と変わり無
いが、その上に積層される下地層は、２１で示されるよ
うに、内周側と外周側とで膜厚が異なっている。すなわ
ち、内周側の膜厚ｔｉよりも外周側の膜厚ｔｏが小さい
。そしてこのように外周側が次第に薄くなっている下地
層２１の上に、磁性層３１、保護層４１の順に積層され
ている。そのため、磁性層３１および保護層４１も傾斜
した構造となる。
下地層の膜厚が厚くなるほど再生出力が大きいことは実
験の結果からも確認されている。本発明は、この下地層
が、内周側よりも外周側が薄くなるように、膜厚を半径
方向に変化させている。そのため、内外の周速が一定で
あれば、内周側よりも外周側寄りほど再生出力が小さく
なるが、実際は外周側寄りほど周速が速いため、内周側
と外周側との再生出力が均一化される。その結果、ＡＧ
Ｃなどを使用しなくても、内外周間の再生出力が均一化
される。
験の結果からも確認されている。本発明は、この下地層
が、内周側よりも外周側が薄くなるように、膜厚を半径
方向に変化させている。そのため、内外の周速が一定で
あれば、内周側よりも外周側寄りほど再生出力が小さく
なるが、実際は外周側寄りほど周速が速いため、内周側
と外周側との再生出力が均一化される。その結果、ＡＧ
Ｃなどを使用しなくても、内外周間の再生出力が均一化
される。
次に本発明による薄膜磁気記録媒体が実際上どのように
具体化されるかを実施例で説明する。第１図に示す断面
構造に才ごいて、下地層２１の膜厚を外周側はど漸減さ
せるには、研磨などの加工によって膜厚を変えることも
考えられるが、研磨の際に表面の清浄度が低下するため
、各層２１．３１．４１は、真空を破ることなしに連続
的にスパッタリングされる。磁性層３１の材質としては
、第４図に示したように、Ｃｏ−ＮｉやＣｏ−Ｐｔなど
が適している。
具体化されるかを実施例で説明する。第１図に示す断面
構造に才ごいて、下地層２１の膜厚を外周側はど漸減さ
せるには、研磨などの加工によって膜厚を変えることも
考えられるが、研磨の際に表面の清浄度が低下するため
、各層２１．３１．４１は、真空を破ることなしに連続
的にスパッタリングされる。磁性層３１の材質としては
、第４図に示したように、Ｃｏ−ＮｉやＣｏ−Ｐｔなど
が適している。
また下地層２１としてはＣｒが、保護層４としてはＳｉ
Ｏ□などが適している。
Ｏ□などが適している。
第２図は本発明による薄膜磁気記録媒体の製造方法の第
１実施例を示す断面図である。第５図に示したように、
ドーナツ状のターゲット５と基板１との間にドーナツ状
のマスク６が配置されている。しかしながらこの実施例
では、第５図に示す装置よりも、マスク６の内縁が、内
側に突出している。すなわち、マスク６の内径が、第５
図に示す従来装置よりも小さくなっている。そのため、
ターゲット５から蒸発した材料は、外周側はどマスク６
の蔭になり、付着量が減少する。その結果、第１図に示
すように、磁気ディスク媒体の外周側はど下地層２１の
付着量が少なく、膜厚が減少するのに対し、内周側はど
マスク６の影響が少な（、付着量が多くなる。
１実施例を示す断面図である。第５図に示したように、
ドーナツ状のターゲット５と基板１との間にドーナツ状
のマスク６が配置されている。しかしながらこの実施例
では、第５図に示す装置よりも、マスク６の内縁が、内
側に突出している。すなわち、マスク６の内径が、第５
図に示す従来装置よりも小さくなっている。そのため、
ターゲット５から蒸発した材料は、外周側はどマスク６
の蔭になり、付着量が減少する。その結果、第１図に示
すように、磁気ディスク媒体の外周側はど下地層２１の
付着量が少なく、膜厚が減少するのに対し、内周側はど
マスク６の影響が少な（、付着量が多くなる。
第３図は本発明による薄膜磁気記録媒体の製造方法の第
２実施例を示す断面図であり、ターゲットの蒸発量を内
周側と外周側とで変える方法である。すなわちターゲッ
ト５の蒸発を促進させる励磁コイル７は、従来は破線で
示すように、比較的外周寄りに配置されていたのに対し
、本実施例では、実線で示すように、内周寄りに配置し
ている。
２実施例を示す断面図であり、ターゲットの蒸発量を内
周側と外周側とで変える方法である。すなわちターゲッ
ト５の蒸発を促進させる励磁コイル７は、従来は破線で
示すように、比較的外周寄りに配置されていたのに対し
、本実施例では、実線で示すように、内周寄りに配置し
ている。
そのため、ターゲット５の蒸発領域が、従来に比べて内
側に偏り、基板１に対してもその内周側に偏ってスパッ
タされる。その結果、基板１の内周。
側に偏り、基板１に対してもその内周側に偏ってスパッ
タされる。その結果、基板１の内周。
側よりも外周側が薄くスパッタされる。
第２図、第３図の装置によって基板１の内周側よりも外
周側を薄くスパッタリングすることで、下地１２１の膜
厚を周速の速い外周側を薄くした状態で、磁性層３１、
保護層４１を連続スパッタリングする。そのため、第１
図に示すように、磁気ディスク媒体の外周側はど下地層
２１の付着量が少なく、膜厚が減少するのに対し、内周
側はど付着量が多く、厚くなる。その結果、第１図に示
すように、外周側はど下地層２１の膜厚が薄くなり、磁
気ディスク装置に組み込んで情報を記録／再生する場合
に、再生出力が均一となる。
周側を薄くスパッタリングすることで、下地１２１の膜
厚を周速の速い外周側を薄くした状態で、磁性層３１、
保護層４１を連続スパッタリングする。そのため、第１
図に示すように、磁気ディスク媒体の外周側はど下地層
２１の付着量が少なく、膜厚が減少するのに対し、内周
側はど付着量が多く、厚くなる。その結果、第１図に示
すように、外周側はど下地層２１の膜厚が薄くなり、磁
気ディスク装置に組み込んで情報を記録／再生する場合
に、再生出力が均一となる。
以上のように本発明によれば、磁気ディスク媒体の周速
の速い外周側はど下地層の膜厚を薄く形成し、その上に
磁性層を形成するので、磁気ディスク媒体の全面につき
、再生出力が均一になる。
の速い外周側はど下地層の膜厚を薄く形成し、その上に
磁性層を形成するので、磁気ディスク媒体の全面につき
、再生出力が均一になる。
そのため、ＡＧＣなどが不必要となり、安価な磁気ディ
スク装置を実現できる。
スク装置を実現できる。
第１図は本発明による薄膜磁気記録媒体の基本原理を説
明する断面図、第２図、第３図は本発明による薄膜磁気
記録媒体の製造方法の実施例を示す断面図、第４図は従
来の薄膜磁気記録媒体の断面構造を示す図、第５図は従
来の薄膜磁気記録媒体の製造方法を示す断面図である。 図において、１は基板、２．２１は下地層、３．３１は
磁性層、４．４１は保護層、５はターゲット、６はマス
ク、７は励磁コイルをそれぞれ示す。 特許出願人 富士通株式会社 復代理人 弁理士 福 島 康 文 第１図 製法の８１実施例 第２図
明する断面図、第２図、第３図は本発明による薄膜磁気
記録媒体の製造方法の実施例を示す断面図、第４図は従
来の薄膜磁気記録媒体の断面構造を示す図、第５図は従
来の薄膜磁気記録媒体の製造方法を示す断面図である。 図において、１は基板、２．２１は下地層、３．３１は
磁性層、４．４１は保護層、５はターゲット、６はマス
ク、７は励磁コイルをそれぞれ示す。 特許出願人 富士通株式会社 復代理人 弁理士 福 島 康 文 第１図 製法の８１実施例 第２図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 非磁性の基板に下地層および磁性層を積層してなる薄膜
磁気記録媒体において、 該下地層２１の膜厚を、該基板１の内周側よりも外周側
を薄くしたことを特徴とする薄膜磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30899987A JPH01150222A (ja) | 1987-12-07 | 1987-12-07 | 薄膜磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP30899987A JPH01150222A (ja) | 1987-12-07 | 1987-12-07 | 薄膜磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01150222A true JPH01150222A (ja) | 1989-06-13 |
Family
ID=17987700
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP30899987A Pending JPH01150222A (ja) | 1987-12-07 | 1987-12-07 | 薄膜磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01150222A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1978123A1 (en) | 2002-07-23 | 2008-10-08 | Nippon Steel Corporation | Steels with few alumina clusters |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6254823A (ja) * | 1985-09-03 | 1987-03-10 | Victor Co Of Japan Ltd | 磁気デイスク |
-
1987
- 1987-12-07 JP JP30899987A patent/JPH01150222A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6254823A (ja) * | 1985-09-03 | 1987-03-10 | Victor Co Of Japan Ltd | 磁気デイスク |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1978123A1 (en) | 2002-07-23 | 2008-10-08 | Nippon Steel Corporation | Steels with few alumina clusters |
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