JPH01151009A - 磁気ヘッド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、ハードディスクあるいはフロッピーディスク
等の高密度記録可能な磁気記録媒体に対して記録再生を
行うのに好適な磁気ヘッドの改良に関するものである。

〔発明の概要〕

本発明は、一対の磁気コア半体が突合わされてなり、そ
の対向面に金属磁性膜が挿入されたいわゆるメタル・イ
ン・ギャップ型の磁気ヘッドにおいて、磁気ギャップ近
傍のトラック幅方向両側面に臨む基板と金属磁性膜の界
面に沿って保護膜を形成することにより、上記基板の酸
化を防止して信頼性に優れ且つ良好な記録再生特性を有
する磁気ヘッドを提供することを可能とするものである
。

〔従来の技術〕

近年、磁気記録の分野においては、記録信号の高密度化
が進行しており、高い抗磁力と高い残留磁束密度を有す
る磁気記録媒体が使用されるようになっている。

これに対して、磁気ヘッドの分野においてもこれに対処
するべく研究が進められており、高抗磁力磁気記録媒体
用の磁気ヘッドとして磁気コアに金属磁性体を用いた磁
気ヘッドが種々開発されている。

その磁気ヘッドの一例として、例えば第１８図および第
１９図に示す如く構成されたものが知られている。なお
本例の磁気ヘッドは、ハードディスクあるいはフロッピ
ーディスク等の高密度記録可能な磁気記録媒体に対して
記録・再生を行う磁気ヘッドの一例である。

上記磁気ヘッドは、第１８図に示すようにフェライトか
らなる基板（２）を一方の磁気コア半体とするとともに
、対向面に金属磁性膜（３）が被着形成される基板（１
）を他方の磁気コア半体とし、これら磁気コア半体を突
合わせて上記金属磁性膜（３）と基板（２）との間に磁
気ギャップ（４）を形成してなり、磁気記録媒体摺動面
（５）におけるコア厚がトラック幅Ｔｗ′とされてなる
ものである。

そして特にハードディスク用の磁気ヘッドでは、狭トラ
ツク化およびオフトラック特性改善のために、第１９図
に示すように非磁性セラミックス等からなるスライダ一
部（７）に埋め込んだ、いわゆるコンポジットヘッド構
造とされるのが一般的である。

〔発明が解決しようとする問題点〕

ところで、ヘッドチップを非磁性セラミックスからなる
スライダ一部（７）に接合するには、−船釣にガラス（
６）が用いられる。このガラス（６）による融着は、上
記へ７ドチツプとスライダ一部（７）とを安定して固定
させるために施されるものである。

しかしながら、上記ガラス融着を施す際には所定の熱を
加えて融着するため、当該ガラス融着時の熱によりヘッ
ドチップに形成された磁気ギャップ（４）およびトラッ
ク幅Ｔｗ’がずれることがある。

このため、ヘッドチップとスライダ一部（７）とのガラ
ス融着時に注意すべきことは、少なくとも磁気ギャップ
（４）を形成する際のガラス融着温度よりも低い温度で
行うことである。

その際、ガラス（６）泡の発生であるとかガラス（６）
の充填具合や接合強度等は重要なポイントとなる。そこ
で、ガラス（６）の流れを改善して接合強度を向上させ
るために、ガラス融着の際の雰囲気中に酸素を導入する
ことで当該ガラス（６）の流れを安定させることが行わ
れる。

ところが、このガラス融着時に雰囲気中に酸素を導入す
ると、例えばフェライトからなる基板（１）、（２）が
酸化されヘマタイトが析出される虞れがある。この結果
、実効的なトラック幅Ｔｗ’が狭くなり所定のトラック
幅Ｔｗ′の精度を確保することができないこととなる。

また、基板（１）　、　（２）の酸化によりコアの磁気
特性が低下し、記録再生効率が低下する虞れもある。

さらには、上記基板（１）と金属磁性膜（３）との界面
端部（Ｉａ）　、　（Ｉｂ）　　（すなわちトラック幅
Ｔｗ’方向の端部）はガラス（６）と直接接触されてい
るため、当該界面において著しく透磁率の低下した領域
、すなわち反応層が形成される虞れがある。

この反応層は疑似ギャップとして作用し、本来の磁気ギ
ャップ（４）における磁束と干渉を起こして疑似信号を
生成し、再生信号の品質を低下させている。

そこで本発明は、反応層の形成や基板の酸化を防止する
ことにより、信顧性に優れ且つ良好な記録再生特性が得
られる磁気ヘッドを提供することを目的とする。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明は、上述の目的を達成するために、少なくとも一
方が基板と金属磁性膜とからなる一対の磁気コア半体を
突合わせてなる磁気ヘッドにおいて、少なくとも磁気ギ
ャップ近傍のトラック幅方向両側面に臨む上記基板と金
属磁性膜の界面に沿って保護膜が形成されたことを特徴
とするものである。

〔作用〕

本発明の磁気ヘッドは、保護膜が磁気ギャップ近傍のト
ラック幅方向両側面に臨む基板と金属磁性膜の界面に沿
って形成されているので、スライダ一部とのガラス融着
の際に導入される酸素は上記基板に直接触れることがな
く、当該基板は酸化される虞れはない。このため、ヘマ
タイトが析出することがないので精度の良いトラック幅
が確保される。

また、ガラス融着時の温度を上げることが可能となると
ともに酸素も同時に導入することが可能となるため、ガ
ラス流れが良好となり接合強度は一層増す、このとき、
トラック幅および磁気ギャップのずれも生ずることはな
い。

また、上記基板と金属磁性膜との間の界面は、上記保護
膜により覆われているため、この部分に酸素や融着ガラ
スが侵入せず反応層が形成されることもない、したがっ
て、この反応層が疑似ギャップとして作用する虞れもな
い。

〔実施例〕

以下、本発明を適用した実施例について凹面を参照しな
がら説明する。

本例の磁気ヘッドは、ハードディスクあるいはフロッピ
ーディスク等の高密度磁気記録媒体の記録再生に好適な
ものとしたものである。

この磁気ヘッドは、第１図に示すように、フロント磁気
ギャップｇを境にして左右側々に作成された一対の磁気
コア半体（Ｉ）、（ｎ）が接合一体化されてなるもので
ある。

上記磁気コア半体（１）、　　（Ｉｔ）は、それぞれフ
ェライト等の酸化物磁性材料あるいはセラミックス等の
非磁性材料からなる所定の形状の基板（８）。

（９）を主体とするもので、一方の磁気コア半体（１）
には、さらに基板（８）の対向面に金属磁性膜（１０）
が被着形成されている。

ここで、フロント磁気ギャップｇは上記金属磁性ｇ！（
１０）と基板（９）との間にギャップスペーサを挟み込
むことにより形成されている。そして、トラック幅規制
溝（１１）、（１２）により前記フロント磁気ギャップ
ｇのトラック幅Ｔｗが決められ、当該トラック幅Ｔｗは
記録媒体摺動面（１３）近傍部でヘッドチップ厚Ｃｗよ
り小となっている。これに対してバックギャップ側では
へラドチップ厚Ｃｗとなっている。

この結果、隣接するトラックからのクロストークを生ず
る虞れがない、さらには、バックギャップ形成部分の面
積が小さくなることもないので、コア断面積が確保され
磁気抵抗が低下する。

また、上記磁気コア半体（ＩＩ）を構成する一方の基板
（９）の突合わせ面中途部には、略コ字状の溝が巻線溝
（１４）として設けられている。この巻線溝（１４）は
、コイルを巻装するためのものであるとともに、前記フ
ロント磁気ギャップｇのデプス長さを規制するものであ
る。

これに対して他方の磁気コア半体（１）を構成する基板
（８）の突合わせ面、すなわち基板（８）のフロントギ
ャップ側（フロント磁気ギヤ７１ｇ側）から巻線溝（１
４）内を経てバックギャップ側に至るまで、前記基板（
８）の形状に沿って金属磁性膜（１０）が被着形成され
ている。この金属磁性膜（１０）の幅は、上記基板（８
）　、　（９）の突合わせ面の幅（すなわちコア厚と同
じ幅）とされている。

なお、上記金属磁性膜（１０）には、高い飽和磁束密度
を有し且つ軟磁気特性に優れた強磁性材料が使用される
が、かかる強磁性材料としては従来から公知のものがい
ずれも使用でき、結晶質、非結品質を問わない０例示す
るならば、Ｆｅ−Ａｊ！−Ｓｉ系合金、Ｆｅ−Ａｌ系合
金、Ｆｅ−５ｉ−Ｃ。

系合金、Ｆｅ−Ｎｉ系合金、Ｆｅ−Ａｌ−Ｇｅ系合金、
Ｆｅ−Ｇａ−Ｇｅ系合金、Ｆｅ−３ｉ−Ｇｅ系′合金、
Ｆｅ−Ｃｏ−５ｉ−Ａｊ！系合金、Ｆｅ−Ｇａ−Ｓｉ系
合金等が挙げられる。さらには、耐蝕性や耐摩耗性等の
一層の向上を図るために、Ｔｉ。

Ｃｒ、Ｍｎ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｕ。

Ｏｓ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｒｅ、Ｎｉ、Ｐｄ、ＰＬ、Ｈｆ。

■の少なくとも１種を添加したものであってもよい。ま
た、強磁性非晶質金属合金、いわゆるアモルファス合金
（例えば、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｃｏの１つ以上の元素とＰ、　
Ｃ，Ｂ、　Ｓｉの１つ以上の元素とからなる合金、また
はこれを主成分としＡｆｆｉ。

Ｇｅ、Ｂｅ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｍｏ、Ｗ、Ｔｉ、Ｍｎ。

Ｃｒ、Ｚｒ、Ｈｆ、’Ｎｂ等を含んだ合金等のメタル−
メタロイド系アモルファス合金、あるいはＣｏ。

Ｈｒ、Ｚｒ等の遷移元素や希土類元素等を主成分とする
メタル−メタル系アモルファス合金）等も使用される。

これら金属磁性膜（１０）の成膜方法としては、真空蒸
着法、スパッタリング法、イオンブレーティング法、ク
ラスター・イオンビーム法等に代表される真空薄膜形成
技術が採用される。

なお、上記金属磁性膜（ｌＯ）は前記強磁性合金材料の
単層膜であってもよいが、例えばＳ　ｉ　Ｏｘ、　Ｔ　
ａｚ０５．ＡＩ！、２０３．Ｚｒ０ｚ、５ｉｓＮ４等の
絶縁膜を介して多Ｎ膜としてもよい。

ここで、フロント磁気ギヤ７１ｇ近傍のトラック幅方向
両側面（ｌｌａ）　、　（１２ａ）には、ヘッドチップ
長さ全体に亘って基Ｍｉ、（８）　、　（９）の酸化を
防止する保護膜（１５）　、　（１，６）が被着形成さ
れている。その結果、基板（８）と金属磁性膜（１０）
との界面（エフ）の両端部（１７ａ）　、　（１７ｂ）
は前記保護膜（１５）　、　（１６）により覆われるこ
とになる。

またこの保護膜（１５）　、　（１６）は、上記トラッ
ク幅方向両側面（ｌｌａ）　、　（１２ａ）のみならず
、前記トラック幅規制ｉ’ｌ　（１１）　、　（１２）
により形成された記録媒体摺動面（１３）に平行な面（
ｌｌｂ）、　（１２ｂ）にも被着形成されている。その
ため、金属磁性膜（１０）はフロント側では〔記録媒体
摺動面（１３）上に露出する金属磁性膜（１０）は除く
。］完全に保護膜（１５）　、　（１６）により覆われ
ている。

なお、本実施例ではトラック幅方向両側面（ｌｌａ）、
　（１２ａ）全体に亘って保護膜（１５）　、　（１６
）が被着形成されているが、フロント（ｆｆ気ギャップ
ｇ近傍で基板（８）と金属磁性膜（１０）との界面（１
７）が少なくともこの保護膜（１５）　、　（１６）に
より覆われるよにしたものであってもよい。

上記保護膜（１５）　、　（１６）の材料としては、例
えばＳ　Ｉ　０２．Ｔａｚ０５．ＡｆｚＯｚ等の酸化膜
あるいはＣｒ等の密着性に優れた金属膜等が用いられる
。

その保護膜（１５）　、　（１６）の成膜方法としては
、真空薄膜形成技術を用いたスパッタリング法、真空１
着法、あるいはアルコレートガラス等の液体を使ったコ
ーティング技術を応用したものが使用される。なお、上
記保護膜（１５）　、　（１６）の膜厚としては２００
Å以上で１μｍ以下である二七が好ましい。

これは、この膜厚が２００人未満であると均一な成膜が
難しく保護材としての効果を充分に発揮することができ
ないためである。上限に関しては特に制限はないが、１
μｍ以下としたのは成膜時間等の観点からである。

なおこの磁気ヘッドは、記録媒体摺動面（１３）近傍の
コア厚が全体にわたってトラック幅Ｔｗと同し幅に形成
されているので、トラック幅Ｔｗを１５ａ程度とした狭
トラツクとすることが可能となる。このため、高密度記
録可能なハードディスクあるいはフロッピーディスク等
の磁気記録媒体に好適なものとなっている。

そして第１図に示す磁気ヘッドは、第２図および第３図
に示すような非磁性材料等のセラミックスからなるスラ
イダ一部（１８）に接合一体化されている。すなわち上
記磁気ヘッドは、スライダ一部（１８）に形成された装
着溝（１８ａ）に挿入され、ガラス（１９）により融着
されて当該スライダ一部（１８）と一体となっている。

その際上記ガラス（１９）は、記録媒体摺動面（１３）
の面までトラック幅規制溝（１１）。

（１２）と上記装着溝（１８ａ）との間に充填されてい
る。

ここで、フロント磁気ギヤ７１ｇ近傍のトラック幅方向
両側面（ｌｌａ）　、　（１２ａ）に保護膜（１５）　
、　（１６）が形成されているので、基板（８）と金属
磁性薄膜（１０）間の界面（１７）の両端部（１７ａ）
　、　（１７ｂ）は直接ガラス（１９）と接触すること
がない。さらには、ガラス（１９）融着の際に導入され
る酸素も上記界面（１７）に浸透する虞れはない。した
がって、上記界面（１７）に酸素や融着ガラス（１９）
が侵入することがないため、疑偵ギャップとして作用す
る反応層が形成されることはない。

さらに上記保護膜（１５）　、　（１６）は、トラック
幅方向両側面（ｌｌａ）　、　（１２ａ）全体に亘って
形成されているので、ガラス（１９）は基板（８）　、
　（９）に接することがない。このため、当該基板（８
）　、　（９）は酸素により酸化されることがなくヘマ
タイトも析出する虞れはない。したがって、基板（８）
　、　（９）の酸化によってトラック幅が小さ（される
こともなく精度の良いトラック幅が確保される。

また、高温でガラス融着することが可能となるとともに
酸素も同時に導入することが可ｆｍｈなるため、ガラス
（１９）流れが良好となり接合強度は−層増す。このと
き、磁気コア半体（Ｉ）、　　（ＩＩ）は前記保護膜（
１５）、　（１６）によって固定されることになり、ト
ラック幅Ｔｗおよびフロント磁気ギヤノブｇはずれるこ
とはない。

次に、本発明を適用した磁気ヘッドの製造方法について
その工程順に沿って図面を参照しながら説明する。

磁気ヘッドを作成するには、先ず第４図に示すように酸
化物磁性材料のフェライトあるいは非磁性材料からなる
ヘッドコアブロック（２０）の−表面を鏡面仕上げし、
その上に金属磁性膜（２１）を真空薄膜形成技術を用い
てスパッタリング法等により被着形成する。

次に、第５図に示すように、コイルを巻装するための巻
線溝（２２）が設けられたもう一方のヘッドコアブロッ
ク（２３）を前記へラドコアブロック（２０）の金属磁
性膜（２１）を当接面としてギャップスペーサを介して
フロント磁気ギャップｇ′を形成し、ガラス（２４）融
着して接合一体化する。

しかる後に、第６図に示すように、接合方向である記録
媒体摺動面（２５）にトラック幅規制溝（２６）を所定
深さに切削加工する。本例のトラック幅規制溝（２６）
は、上記記録媒体摺動面（２５）近傍部分のみに施され
ている。

続いて、第７図に示すように、上記トラック幅規制溝（
２６）が形成された記録媒体摺動面（２５）上にスパッ
タリング法やメツキ法あるいはアルコレートガラス等に
より保護膜（２７）を被着形成する。その際保護膜（２
７）は、前記トラック幅規制溝（２６）内を含め記録媒
体摺動面（２５）全体に亘って形成する。

なお保護膜（２７）の材料としては前記したものを使用
する。

その後、ａ−ａ線およびｂ−ｂ線で示す位置でスライシ
ング加工してヘッドチップを切り出す。

そして、得られたヘッドチップを第８図に示す非磁性材
料等のセラミックスからなるスライダー部（２８）に装
着させる。その際、上記へラドチップをスライダ一部（
２８）に形成された装着溝（２８ａ）　、　（２８ｂ）
に挿入させて前記記録媒体摺動面（２５）側の装着溝（
２８ａ）と当該へラドチップのトランク幅規制溝（２６
）との間にガラス（２９）を充填させる。

このとき、本例のへラドチップでは、ヘッドコアブロッ
ク（２０）　、　（２３）および金属磁性膜（２１）が
保護膜（２７）で完全に覆われているため、ガラス融着
の際に同時に導入される酸素による影響を考慮する必要
はない。そこで、このガラス融着に際しては、ガラス流
れや接合強度のみを考え、酸素雰囲気中での融着や高温
融着等最適な融着条件を選択することができる。したが
って、導入される酸素本来の機能が充分に発揮されてガ
ラス（２９）流れが安定し、接合強度が向上する。また
、このガラス融着時の熱によりフロント磁気ギャップｇ
′がずれる虞れはないため信顧性の良い磁気ヘッドが実
現される。

最後に、上記スライダ一部（２８）の上面（２８ｃ）を
平面研磨して前記ヘントチツブの記録媒体摺動面（２５
）が露出するように、当該記録媒体摺動面（２５）上に
被着された保護膜（２７）およびガラス（２９）を除去
する。そ（後、前述した第２図に示す如くレール加工お
よびテーパー加工を施してハードディスクあるいはフロ
ンピーディスク等の高密度磁気記録媒体に対して好適な
磁気ヘッドを完成する。

ここで本発明は、前述した磁気ヘッドに限定されること
なく第９図乃至第１２図に示すような磁気ヘッドにも適
用することができる。なお、上記第９図乃至第１２図は
記録媒体摺動面から見た要部拡大平面図であり、第２図
と同一部分には同一の符号を付しである。

すなわち、第９図に示す磁気ヘッドは、磁気コア半体を
構成する基板（８）　、　（９）のいずれの突合わせ面
にも金属磁性膜（１０）　、　（１０）が形成されたも
のである。なお、その他の構成は第２図に示すものと同
一である。

第１０図に示す磁気ヘッドは、基板（８）　、　（９’
）の突合わせ面が磁気ギャップｇと平行な面（８ａ）　
、　（９ａ）とトラック幅規制溝’（３０）　、　（３
１）により切削される傾斜面（８ｂ）、（９ｂ）とから
なり、前記平行な面（ｆｌａ）。

（９ａ）によりトラック幅Ｔｗが決定されてなる基板（
８）、（９）同士が突き合わされてなるもので、−方の
基板（９）の突合わせ面〔平行な面（９ａ）および傾斜
面（９ｂ）、（９ｂ）　）に金属磁性膜（１０）が成膜
されてなるものである。そして、上記トラック幅規制溝
（３０）　、　（３１）内にギャップ融着時のガラス（
３２）が充填され、基板（８）　、　（９）の両側面（
８ｃ）　、　（９ｃ）　　（すなわちコア厚の両側面〕
に亘って保護膜（１５）　、　（１６）が形成されてい
る。この結果、上記へラドチップは、やはり記録媒体摺
動面において基板（９）や基板（９）と金属磁性膜（１
０）との界面がスライダ一部装着の際にガラス（１９）
に接触することがないようになっている。

次に、第１１図に示す磁気ヘッドは、上記第１０図に示
す磁気ヘッドの磁気コア半体を構成する基板（８）　、
　（９）のいずれの突合わせ面〔平行な面（８ａ）　。

（９ａ）および傾斜面（８ｂ）、（８ｂ）、（９ｂ）、
（９ｂ）　）にも金属磁性膜（１０）　、　（１０）が
形成されたものであり、その他の構成は第１０図に示す
ものと同じである。

続いて第１２図に示す磁気ヘッドは、基板（８）。

（９）の突合わせ面が磁気ギャップｇと平行に形成され
、その突合わせ面の両側が略円弧状とされたトラック幅
規制溝（３０）　、　（３１）によりトラック幅Ｔｗが
決定されてなる基板（８）　、　（９）同士が突き合わ
されてなり、その一方の基板（９）の突合わせ面のみに
金属磁性膜（ｌＯ）が成膜されてなるものである。

そして、上記一方の基板（９）のトラック幅規制溝（３
１）の形状に沿って保護膜（１５）　、　（１６）が形
成されている。なおこの保護膜（１５）　、　（１６）
は、前記金属磁性膜（１０）のコア厚方向の両端部（１
０ａ）　、　（１０ｂ）を覆うように形成されている。

このため、上記金属磁性膜（１０）と基板（９）との間
の界面（ｋ）は前記保護膜（１５）　、　（１６）に覆
われる。また、上記トラック幅規制溝（３０）　、　（
３１）内には、ギャップ融着時のガラス（３２）が充填
されている。なお、上記保護膜（１５）。

（１６）は両基板（８）　、　（９）のトラック幅規制
溝（３０）　。

（３１）に形成することがより好ましい。

以上、第９図および第１２図に示す磁気ヘッドは、前述
した磁気ヘッドと同様の効果が得られることは言うまで
もない。

ここで、上記第１２図に示す磁気ヘッドの構成をより明
確なものとするため、その製造方法につ　　　　　　／
いて説明する。

先ず、第１３図に示すように、前述した製造方法と同様
にフェライト等の酸化物磁性材料あるいはセラミックス
等の非磁性材料からなるヘッドコアブロック（３３）を
用意し、このヘッドコアブロック（３３）の−表面を鏡
面仕上げしてその上に金属磁性膜（３４）を被着形成す
る。

続いて、第１４図に示すように、上記金属磁性膜（３４
）が形成された面に対して断面略円弧状のトラック幅規
制溝（３５）を切削加工する。その結果、上記トラック
幅規制溝（３５）　、　（３５）間には、フロント側か
らバック側に亘って同一トラック幅とされた金属磁性膜
（３４）が形成される。

しかる後に、第１５図に示すように、上記金属磁性膜（
３４）とトラック幅規制溝（３５）全面に保護膜（３６
）をスパッタリング法やメツキ法あるいはアルコレート
ガラス等により被着形成する。

そして、第１６図に示すように、上記保護膜（３６）の
表面を前記基板（３３）に成膜された金属磁性膜（３４
）が露出するまで研磨加工を施す。その結果、上記金属
磁性膜（３４）のトラック幅方向両端部（３４ａ）　、
　（３４ｂ）は前記保護１１　（３６）により覆われ、
突合わせ面のみが露出することになる。

最後に、第１７図に示すように、上記ヘッドコアブロッ
ク（３３）のトラック幅規制溝（３５）と対向する位置
に上記トラック幅規制溝（３５）と同形状の断面略円弧
状のトラック幅規制溝（３７）および巻線溝（３９）が
形成されたヘッドコアブロック（３８）を用意する。そ
して、上記へラドコアブロック（３３）　、　（３８）
同士を金属磁性膜（３４）を当接面としてギャップスペ
ーサを挟み込んでガラス融着により接合一体化する。そ
して、図中Ｃ−Ｃ線およびｄ−ｄ線で示す位置でスライ
シング加工してへラドチップを切り出す。その後、得ら
れたヘッドチップを非磁性材料等のセラミックスからな
るスライダ一部にガラス融着により接合一体化して磁気
ヘッドを完成させる。

以上、本発明の実施例について説明したが、本発明がこ
れら実施例に限定されるものでないことはいうまでもな
い。

〔発明の効果〕

以上の説明からも明らかなように、本発明に係る磁気ヘ
ッドにおいては、保護膜が磁気ギャップ近傍のトラック
幅方向両側面に臨む基板と金属磁性膜の界面に沿って形
成されているため、スライダ一部とのガラス融着の際に
導入される酸素による基板の酸化は防止される。

その結果、基板が酸化されてヘマタイトが析出すること
もなくトラック幅が小さくされることもない。よって、
精度の良いトラック幅を確保することができ且つ磁気特
性も向上する。

また、高温でガラス融着することができるとともに酸素
も同時に導入することができるため、ガラス流れが良好
となり接合強度は一層増す、よって、信頼性に優れた磁
気ヘッドが得られる。

また、基板と金属磁性膜の界面は上記保護膜により覆わ
れているため、酸素や融着ガラス等の侵入を防止するこ
とができる。このため、反応層が形成される虞れはなく
当該反応層は疑偵ギャップとして作用することもない。

したがって、信頬性に優れ且つ記録再生特性の良好な磁
気ヘッドを提供することができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明を適用した磁気ヘッドの一例を示す外観
斜視図であり、第２図はその磁気ヘッドをスライダ一部
に装着した状態を示す概略斜視図、第３図は装着状態を
記録媒体摺動面から見た要部拡大平面図である。 第４図乃至第８図は第１図に示す磁気へノドの製造工程
を示し、第４図は金属磁性膜被着工程を示す概略斜視図
、第５図はヘッドコアブロック突合わせ工程を示す概略
斜視図、第６図はトラック幅規制溝加工工程を示す概略
斜視図、第７図は保護膜被着形成工程を示す概略斜視図
、第８図はへラドチップをスライダ一部に装着する工程
を示す概略斜視図である。 第９図は本発明の他の例を示す要部拡大平面図、第１０
図は本発明のさらに他の例を示す要部拡大平面図、第１
１図は本発明のさらに他の例を示す要部拡大平面図、第
１２図は本発明のさらに他の例を示す要部拡大平面図で
ある。 第１３図乃至第１７図は第１２図に示す磁気ヘッドの製
造工程をそれぞれ示すもので、第１３図は金属磁性膜被
着工程を示す概略斜視図、第１４図はトラック幅規制溝
加工工程を示す概略斜視図、第１５図は保護膜被着形成
工程を示す概略斜視図、第１６図は金属磁性膜を露出さ
せる平面研磨加工工程を示す概略斜視図、第１７図はヘ
ッドコアブロック突合わせ工程を示す概略斜視図である
。 第１８図は従来の磁気ヘッドの一例を示す外観斜視図で
あり、第１９図はその磁気ヘッドをスライダ一部に装着
した状態を示す要部概略斜視図である。 ８．９　　・・・基板 １０　　　・・・金属磁性膜 １５．１６・・・保護膜 １日　　　・・・スライダ一部 必 回　　　　　　　　　　　区 ■　　　　　　　　　　　　− ｍ　　　　　　　　　　　派 区　　　　　　　　　　　区 派　　　　　　　　　　妹

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 少なくとも一方が基板と金属磁性膜とからなる一対の磁
   気コア半体を突合わせてなる磁気ヘッドにおいて、 少なくとも磁気ギャップ近傍のトラック幅方向両側面に
   臨む上記基板と金属磁性膜の界面に沿って保護膜が形成
   されたことを特徴とする磁気ヘッド。