JPH01152448A - 画像形成材料 - Google Patents
画像形成材料Info
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- JPH01152448A JPH01152448A JP31136287A JP31136287A JPH01152448A JP H01152448 A JPH01152448 A JP H01152448A JP 31136287 A JP31136287 A JP 31136287A JP 31136287 A JP31136287 A JP 31136287A JP H01152448 A JPH01152448 A JP H01152448A
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- Japan
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- photosensitive layer
- thin film
- film
- image
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野〕
この発明は基材上に金属または金属化合物の薄膜、感光
層およびポリエチレンテレフタレートフィルムからなる
支持体がこの順に積層されてなる、パターン状露光と剥
離操作とによって湿式現像やエツチング操作を要するこ
となく所望の画像を形成することができる画像形成材料
に関する。
層およびポリエチレンテレフタレートフィルムからなる
支持体がこの順に積層されてなる、パターン状露光と剥
離操作とによって湿式現像やエツチング操作を要するこ
となく所望の画像を形成することができる画像形成材料
に関する。
感光フィルムを用いて所望の画像を形成する技術は、古
くから知られている。この方法は、たとえば絶縁基板上
に銅箔などの導電層を設けてなる積層基板に感光フィル
ムを重ね合わせ、パターン状露光後湿式現像およびエツ
チング操作を経て絶縁基板上に所望パターンの導電層か
らなる画像を形成するものである。また、感光フィルム
として透明支持体上に光重合性組成物層からなる感光層
を設けてなる剥離現像タイプのものを用いたときは、パ
ターン状露光後透明支持体を剥離操作することにより、
導電層上に硬化したパターン化感光層を形成でき、この
場合は湿式現像が不要となってその後エツチング操作を
行うことによって上記同様の画像を形成できる。
くから知られている。この方法は、たとえば絶縁基板上
に銅箔などの導電層を設けてなる積層基板に感光フィル
ムを重ね合わせ、パターン状露光後湿式現像およびエツ
チング操作を経て絶縁基板上に所望パターンの導電層か
らなる画像を形成するものである。また、感光フィルム
として透明支持体上に光重合性組成物層からなる感光層
を設けてなる剥離現像タイプのものを用いたときは、パ
ターン状露光後透明支持体を剥離操作することにより、
導電層上に硬化したパターン化感光層を形成でき、この
場合は湿式現像が不要となってその後エツチング操作を
行うことによって上記同様の画像を形成できる。
しかるに、これらの画像形成技術では、パターン状露光
後エツチング操作を必ず行う必要があり、また剥離現像
タイプを除き湿式現像処理を行う必要もあるため、画像
形成のための工程が煩雑となるという不利があり、加え
てエツチング液や現像液の使用は公衆衛生上好ましくな
く、またコスト高となるなどの種々の不利があった。
後エツチング操作を必ず行う必要があり、また剥離現像
タイプを除き湿式現像処理を行う必要もあるため、画像
形成のための工程が煩雑となるという不利があり、加え
てエツチング液や現像液の使用は公衆衛生上好ましくな
く、またコスト高となるなどの種々の不利があった。
そこで、これらの不利を回避した画像形成材料として、
基材上に画像を構成させるための金属または金属化合物
の薄膜を設けるとともに、この上に直接感光層を形成し
たもの(特開昭54−79027号公報)や、上記感光
層上にさらに補強のための支持体フィルムを適宜の接着
剤層を介して積層したもの(特開昭53−3215号公
報)が提案されている。これらの画像形成材料は、感光
層側からのパターン状露光によって露光部における感光
層と上記薄膜との接着力を増大させ、この露光後感光層
またはこれと接着剤層を介した支持体フィルムとを剥離
操作することにより、上記接着力の増大した露光部の上
記薄膜を一緒に剥離除去し、基材上に非露光部の上記薄
膜をパターン化画像として残存させるものである。
基材上に画像を構成させるための金属または金属化合物
の薄膜を設けるとともに、この上に直接感光層を形成し
たもの(特開昭54−79027号公報)や、上記感光
層上にさらに補強のための支持体フィルムを適宜の接着
剤層を介して積層したもの(特開昭53−3215号公
報)が提案されている。これらの画像形成材料は、感光
層側からのパターン状露光によって露光部における感光
層と上記薄膜との接着力を増大させ、この露光後感光層
またはこれと接着剤層を介した支持体フィルムとを剥離
操作することにより、上記接着力の増大した露光部の上
記薄膜を一緒に剥離除去し、基材上に非露光部の上記薄
膜をパターン化画像として残存させるものである。
すなわち、これら提案に係る画像形成材料においては、
パターン状露光と剥離操作とを行うことにより、前記従
来の如きエツチング操作を要することなく、またエツチ
ング操作前の湿式現像処理を要することなく、基材上に
所望の画像を形成できるという特徴を有するため、画像
形成のための工程が簡素化され、またエツチング液や現
像液の使用に伴う公衆衛生上の問題やコスト高となると
いう問題などが解消される。
パターン状露光と剥離操作とを行うことにより、前記従
来の如きエツチング操作を要することなく、またエツチ
ング操作前の湿式現像処理を要することなく、基材上に
所望の画像を形成できるという特徴を有するため、画像
形成のための工程が簡素化され、またエツチング液や現
像液の使用に伴う公衆衛生上の問題やコスト高となると
いう問題などが解消される。
[発明が解決しようとする問題点〕
しかしながら、上記提案に係る画像形成材料は、上述の
如き利点を有するものの、以下の如き克服するべき問題
点があった。まず、基材に設けられた金属または金属化
合物の薄膜の上に感光層だけを形成した材料では、感光
層の剥離操作時にその強度を充分に保てず精密な剥離操
作を行いにくいという問題があった。また、上記感光層
とともに接着剤層を介して支持体フィルムを形成した材
料では、剥離操作時の強度は保てるものの、感光層また
は支持体フィルム上に接着剤を塗着しておく必要がある
ため、画像形成材料の製造工程上の不利をさけられず、
また接着剤の使用に伴うコスト高の問題もあり、そのう
え感光層と接着剤層を介した支持体フィルムとの一体的
な剥離操作が接着剤層の存在によって悪影響を受けやす
くなって、精密な剥離操作という面でやはり問題を有し
ていた。
如き利点を有するものの、以下の如き克服するべき問題
点があった。まず、基材に設けられた金属または金属化
合物の薄膜の上に感光層だけを形成した材料では、感光
層の剥離操作時にその強度を充分に保てず精密な剥離操
作を行いにくいという問題があった。また、上記感光層
とともに接着剤層を介して支持体フィルムを形成した材
料では、剥離操作時の強度は保てるものの、感光層また
は支持体フィルム上に接着剤を塗着しておく必要がある
ため、画像形成材料の製造工程上の不利をさけられず、
また接着剤の使用に伴うコスト高の問題もあり、そのう
え感光層と接着剤層を介した支持体フィルムとの一体的
な剥離操作が接着剤層の存在によって悪影響を受けやす
くなって、精密な剥離操作という面でやはり問題を有し
ていた。
したがって、この発明は、上記提案に係るものと同様の
パターン状露光と剥離操作とによって基材上に所望パタ
ーンの画像を形成できるとともに、剥離操作時の強度の
問題とさらに接着剤の使用に伴う既述の如き問題を本質
的に有しない工業的利用価値のより高い画像形成材料を
提供することを目的としている。
パターン状露光と剥離操作とによって基材上に所望パタ
ーンの画像を形成できるとともに、剥離操作時の強度の
問題とさらに接着剤の使用に伴う既述の如き問題を本質
的に有しない工業的利用価値のより高い画像形成材料を
提供することを目的としている。
この発明者らは、上記の目的を達成するために鋭意検討
した結果、基材上に設けられた金属または金属化合物の
薄膜の上に形成する感光層を特定の組成物で構成し、こ
の上に接着剤層を介することなく特定の支持体フィルム
を積層するようにしたときには、上記感光層と支持体フ
ィルムとの接着強度の大きい画像形成材料が得られ、こ
の材料によれば支持体フィルム側からのパターン状露光
後上記感光層および支持体フィルムを一体に剥離操作す
ることにより、前記提案に係るものと同様に湿式現像処
理やエツチング操作を要することなく、基材上に金属ま
たは金属化合物からなる所望パターンの画像を形成でき
、かつこの場合上記支持体フィルムによって剥離操作時
の強度を充分に保て、しかも接着剤の使用に起因した画
像形成材料の製造工程上およびコスト上の問題とさらに
剥離操作上の問題が一切回避されるものであることを知
り、この発明を完成するに至った。
した結果、基材上に設けられた金属または金属化合物の
薄膜の上に形成する感光層を特定の組成物で構成し、こ
の上に接着剤層を介することなく特定の支持体フィルム
を積層するようにしたときには、上記感光層と支持体フ
ィルムとの接着強度の大きい画像形成材料が得られ、こ
の材料によれば支持体フィルム側からのパターン状露光
後上記感光層および支持体フィルムを一体に剥離操作す
ることにより、前記提案に係るものと同様に湿式現像処
理やエツチング操作を要することなく、基材上に金属ま
たは金属化合物からなる所望パターンの画像を形成でき
、かつこの場合上記支持体フィルムによって剥離操作時
の強度を充分に保て、しかも接着剤の使用に起因した画
像形成材料の製造工程上およびコスト上の問題とさらに
剥離操作上の問題が一切回避されるものであることを知
り、この発明を完成するに至った。
すなわち、この発明は、基材上に金属または金属化合物
の薄膜、感光層およびポリエチレンテレフタレートフィ
ルムからなる支持体がこの順に積層されてなり、上記支
持体側からのパターン状露光によって露光部における感
光層と上記薄膜との接着力が増大し、この露光後上記支
持体および感光層を剥離操作したときに上記接着力の増
大した露光部の上記薄膜が一緒に剥離除去されて、基材
上に非露光部の上記薄膜が画像として残存する、剥離操
作による画像形成が可能な画像形成材料であって、かつ
上記感光層が溶剤可溶性線状飽和ポリエステル樹脂、光
重合性不飽和化合物、光重合開始剤およびポリイソシア
ネート化合物を必須成分として含むことを特徴とする画
像形成材料に係るものである。
の薄膜、感光層およびポリエチレンテレフタレートフィ
ルムからなる支持体がこの順に積層されてなり、上記支
持体側からのパターン状露光によって露光部における感
光層と上記薄膜との接着力が増大し、この露光後上記支
持体および感光層を剥離操作したときに上記接着力の増
大した露光部の上記薄膜が一緒に剥離除去されて、基材
上に非露光部の上記薄膜が画像として残存する、剥離操
作による画像形成が可能な画像形成材料であって、かつ
上記感光層が溶剤可溶性線状飽和ポリエステル樹脂、光
重合性不飽和化合物、光重合開始剤およびポリイソシア
ネート化合物を必須成分として含むことを特徴とする画
像形成材料に係るものである。
〔発明の構成・作用]
この発明における基材としては、表面平滑性を有してそ
の上に金属または金属化合物の薄膜を形成しうるもので
あれば特に限定されず、ガラス、プラスチックなどの種
々の素材からなるものが用いられる。形状も特に限定さ
れないが、一般にはシート状やフィルム状とされたもの
が好ましく使用される。上記のプラスチックの例として
は、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリオレ
フィン、ポリカーボネート、ポリスチレン、ビニル重合
型ポリマー、セルロース誘導体などが挙げられる。
の上に金属または金属化合物の薄膜を形成しうるもので
あれば特に限定されず、ガラス、プラスチックなどの種
々の素材からなるものが用いられる。形状も特に限定さ
れないが、一般にはシート状やフィルム状とされたもの
が好ましく使用される。上記のプラスチックの例として
は、ポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリオレ
フィン、ポリカーボネート、ポリスチレン、ビニル重合
型ポリマー、セルロース誘導体などが挙げられる。
この基材上に設けられ画像を構成させるための金属また
は金属化合物の薄膜としては、アルミニウム、銅、金、
銀、スズ、ニッケル、クロム、亜鉛、酸化スズ、酸化イ
ンジウム、酸化亜鉛、酸化けい素、臭化銀、硫化銀、硫
化亜鉛、弗化マグネシウムなどからなる厚みが20〜1
,000nmの薄膜が挙げられる。
は金属化合物の薄膜としては、アルミニウム、銅、金、
銀、スズ、ニッケル、クロム、亜鉛、酸化スズ、酸化イ
ンジウム、酸化亜鉛、酸化けい素、臭化銀、硫化銀、硫
化亜鉛、弗化マグネシウムなどからなる厚みが20〜1
,000nmの薄膜が挙げられる。
この発明における感光層は、溶剤可溶性線状飽和ポリエ
ステル樹脂、光重合性不飽和化合物、光”重合開始剤お
よびポリイソシアネート化合物を必須成分とし、これに
必要に応じて熱重合禁止剤、可塑剤、着色剤、光重合開
始促進剤、充てん剤、密着性付与剤などを含ませてなる
組成物からなり、その厚みは通常1〜30μの範囲にあ
るのが好ましい。
ステル樹脂、光重合性不飽和化合物、光”重合開始剤お
よびポリイソシアネート化合物を必須成分とし、これに
必要に応じて熱重合禁止剤、可塑剤、着色剤、光重合開
始促進剤、充てん剤、密着性付与剤などを含ませてなる
組成物からなり、その厚みは通常1〜30μの範囲にあ
るのが好ましい。
溶剤可溶性線状飽和ポリエステル樹脂は、テレフタル酸
とエチレングリコールとのほかに他の適宜の多塩基性酸
ないしポリオールを共縮合成分とすることによって結晶
性を低下させたポリマーであって、その平均分子量が通
常約3万以下の低縮合体とされかつ分子両末端にカルボ
キシル基ないし水酸基を有する多くの溶剤に対して可溶
性のポリマーである。市販品としては、東洋紡績社製の
商品名バイロン−200、同300、日立化成工業社製
の商品名ニスペルー1310、同1510゜日本合成化
学工業社製の商品名ポリエスタ−3P−170、同LP
−011などが挙げられる。
とエチレングリコールとのほかに他の適宜の多塩基性酸
ないしポリオールを共縮合成分とすることによって結晶
性を低下させたポリマーであって、その平均分子量が通
常約3万以下の低縮合体とされかつ分子両末端にカルボ
キシル基ないし水酸基を有する多くの溶剤に対して可溶
性のポリマーである。市販品としては、東洋紡績社製の
商品名バイロン−200、同300、日立化成工業社製
の商品名ニスペルー1310、同1510゜日本合成化
学工業社製の商品名ポリエスタ−3P−170、同LP
−011などが挙げられる。
このような溶剤可溶性線状飽和ポリエステル樹脂は、皮
膜形成能を有して感光層の他の成分である光重合性不飽
和化合物、光重合開始剤およびポリイソシアネート化合
物などのバインダとしての機能を果たすとともに、これ
ら成分を含む感光層上に接着剤層を介することなく積層
されるポリエチレンテレフタレートフィルムからなる支
持体と上記感光層との接着強度の向上に大きく寄与する
ものである。なお、パイイダポリマーとしては、上記の
ポリエステル樹脂のほかに、必要に応じて塩素化ポリエ
チレン、ポリメチルメタクリレートなどの各種のポリマ
ーを併用しても差し支えないが、この場合上記のポリエ
ステル樹脂が全ポリマー中受なくとも1重量%以上、好
適には10重量%以上となるようにするのがよい。上記
のポリエステル樹脂が少なくなりすぎると、支持体フィ
ルムとの接着強度の面で問題が生じやすい。
膜形成能を有して感光層の他の成分である光重合性不飽
和化合物、光重合開始剤およびポリイソシアネート化合
物などのバインダとしての機能を果たすとともに、これ
ら成分を含む感光層上に接着剤層を介することなく積層
されるポリエチレンテレフタレートフィルムからなる支
持体と上記感光層との接着強度の向上に大きく寄与する
ものである。なお、パイイダポリマーとしては、上記の
ポリエステル樹脂のほかに、必要に応じて塩素化ポリエ
チレン、ポリメチルメタクリレートなどの各種のポリマ
ーを併用しても差し支えないが、この場合上記のポリエ
ステル樹脂が全ポリマー中受なくとも1重量%以上、好
適には10重量%以上となるようにするのがよい。上記
のポリエステル樹脂が少なくなりすぎると、支持体フィ
ルムとの接着強度の面で問題が生じやすい。
光重合性不飽和化合物には、エチレン性不飽和結合を分
子内に1個有するモノエチレン性不飽和化合物と、上記
結合を分子内に2個またはそれ以上官するポリエチレン
性不飽和化合物とがあるが、後者のポリエチレン性不飽
和化合物を用いるのが特に好ましい。この光重合性不飽
和化合物は、−種に限らず、二種またはそれ以上を混合
して使用してもよい。
子内に1個有するモノエチレン性不飽和化合物と、上記
結合を分子内に2個またはそれ以上官するポリエチレン
性不飽和化合物とがあるが、後者のポリエチレン性不飽
和化合物を用いるのが特に好ましい。この光重合性不飽
和化合物は、−種に限らず、二種またはそれ以上を混合
して使用してもよい。
モノエチレン性不飽和化合物の例としては、アクリル酸
またはそのエステル類、メタクリル酸またはそのエステ
ル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、アリル
化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、N−ビ
ニル化合物、スチレン類、クロトン酸エステル類などが
ある。
またはそのエステル類、メタクリル酸またはそのエステ
ル類、アクリルアミド類、メタクリルアミド類、アリル
化合物、ビニルエーテル類、ビニルエステル類、N−ビ
ニル化合物、スチレン類、クロトン酸エステル類などが
ある。
その具体例としては、アクリル酸エステル類ではアクリ
ル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、
アクリル酸2−エチルヘキシル、アクリル酸オクチルな
どが、メタクリル酸エステル類ではメタクリル酸メチル
、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタク
リル酸イソプロピルなどが、アクリルアミド類ではアク
リルアミドや、N−アルキル基がメチル基、エチル基、
ブチル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、2−
エチルヘキシル基などからなるN−アルキルアクリルア
ミドなどが、メタクリルアミド類ではメタクリルアミド
や、N−アルキル基がメチル基、エチル基、イソプロピ
ル基、tert−ブチル基、2−エチルヘキシル基など
からなるN−アルキルメタクリルアミドなどがある。
ル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、
アクリル酸2−エチルヘキシル、アクリル酸オクチルな
どが、メタクリル酸エステル類ではメタクリル酸メチル
、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタク
リル酸イソプロピルなどが、アクリルアミド類ではアク
リルアミドや、N−アルキル基がメチル基、エチル基、
ブチル基、イソプロピル基、tert−ブチル基、2−
エチルヘキシル基などからなるN−アルキルアクリルア
ミドなどが、メタクリルアミド類ではメタクリルアミド
や、N−アルキル基がメチル基、エチル基、イソプロピ
ル基、tert−ブチル基、2−エチルヘキシル基など
からなるN−アルキルメタクリルアミドなどがある。
また、アリル化合物では酢酸アリル、カプロン酸アリル
、カプリル酸アリル、ラウリン酸アリル、パルミチン酸
アリルなどのアリルエステル類が、ビニルエーテル類で
はヘキシルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、
デシルビニルエーテル、2−エチルヘキシルビニルエー
テルなどのアルキルビニルエーテルが、ビニルエステル
類ではビニルブチレート、ビニルイソブチレート、ビニ
ルトリメチルアセテート、ビニルジエチルアセテート、
ビニルバレレート、ビニルカプロエートなどが、N−ビ
ニル化合物ではN−ビニルピロリドンなどが、スチレン
類ではスチレン、メチルスチレン、クロルメチルスチレ
ン、アルコキシスチレン、ハロゲン化スチレン、安息香
酸スチレンなどが、クロトン酸エステル類ではクロトン
酸メチル、クロトン酸エチル、クロトン酸ブチル、クロ
トン酸ヘキシル、クロトン酸イソプロピルなどがある。
、カプリル酸アリル、ラウリン酸アリル、パルミチン酸
アリルなどのアリルエステル類が、ビニルエーテル類で
はヘキシルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、
デシルビニルエーテル、2−エチルヘキシルビニルエー
テルなどのアルキルビニルエーテルが、ビニルエステル
類ではビニルブチレート、ビニルイソブチレート、ビニ
ルトリメチルアセテート、ビニルジエチルアセテート、
ビニルバレレート、ビニルカプロエートなどが、N−ビ
ニル化合物ではN−ビニルピロリドンなどが、スチレン
類ではスチレン、メチルスチレン、クロルメチルスチレ
ン、アルコキシスチレン、ハロゲン化スチレン、安息香
酸スチレンなどが、クロトン酸エステル類ではクロトン
酸メチル、クロトン酸エチル、クロトン酸ブチル、クロ
トン酸ヘキシル、クロトン酸イソプロピルなどがある。
つぎに、ポリエチレン性不飽和化合物の例としては、多
価アルコールのポリアクリレート類およびポリメタクリ
レート類が挙げられる。上記多価アルコールとしては、
ポリエチレングリコール、ポリプロピレンオキシド、ポ
リブチレンオキシド、(β−ヒドロキシエトキシ)ベン
ゼン、グリセリン、ジグリセリン、ネオペンチルグリコ
ール、トリメチロールプロパン、トリメチロールプロパ
ン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、
ソルビタン、ソルビトール、1・4−ブタンジオール、
1・2・4−ブタントリオール、2−ブテンート4−ジ
オール、2−ブチル−2−エチル−プロパンジオール、
2−ブテンート4−ジオール、1・3−プロパンジオー
ル、トリエタノールアミン、デカリンジオール、3−ク
ロルート2−プロパンジオールなどがある。
価アルコールのポリアクリレート類およびポリメタクリ
レート類が挙げられる。上記多価アルコールとしては、
ポリエチレングリコール、ポリプロピレンオキシド、ポ
リブチレンオキシド、(β−ヒドロキシエトキシ)ベン
ゼン、グリセリン、ジグリセリン、ネオペンチルグリコ
ール、トリメチロールプロパン、トリメチロールプロパ
ン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、
ソルビタン、ソルビトール、1・4−ブタンジオール、
1・2・4−ブタントリオール、2−ブテンート4−ジ
オール、2−ブチル−2−エチル−プロパンジオール、
2−ブテンート4−ジオール、1・3−プロパンジオー
ル、トリエタノールアミン、デカリンジオール、3−ク
ロルート2−プロパンジオールなどがある。
また、ポリエチレン性不飽和化合物の他の例としては、
オリゴエステルアクリレート、オリゴエステルメタクリ
レート、エポキシアクリレート、エポキシメタクリレー
ト、ウレタンアクリレート、ウレタンメタクリレートな
どの名称で市販されている分子内にアクリロイル基また
はメタクリロイル基を2個以上有するアクリレートオリ
ゴマーやメタクリレートオリゴマーなどがある。
オリゴエステルアクリレート、オリゴエステルメタクリ
レート、エポキシアクリレート、エポキシメタクリレー
ト、ウレタンアクリレート、ウレタンメタクリレートな
どの名称で市販されている分子内にアクリロイル基また
はメタクリロイル基を2個以上有するアクリレートオリ
ゴマーやメタクリレートオリゴマーなどがある。
このような光重合性不飽和化合物は、溶剤可溶性線状飽
和ポリエステル樹脂(他のバインダポリマーを併用する
ときはこれらを含めた合計量)100重量部に対して通
常5〜200重量部、特に好ましくは10〜100重量
部の範囲とするのがよい。過少となっても、また過多と
なっても、パターン状露光後の剥離操作により、精密な
画像形成を行いにくく、好ましくない。
和ポリエステル樹脂(他のバインダポリマーを併用する
ときはこれらを含めた合計量)100重量部に対して通
常5〜200重量部、特に好ましくは10〜100重量
部の範囲とするのがよい。過少となっても、また過多と
なっても、パターン状露光後の剥離操作により、精密な
画像形成を行いにくく、好ましくない。
光重合開始剤としては、カルボニル化合物、有機硫黄化
合物、過酸化物、レドックス系化合物、アゾならびにジ
アゾ化合物、光還元性色素などの前記の光重合性不飽和
化合物の重合開始剤として知られるものがいずれも使用
可能である。
合物、過酸化物、レドックス系化合物、アゾならびにジ
アゾ化合物、光還元性色素などの前記の光重合性不飽和
化合物の重合開始剤として知られるものがいずれも使用
可能である。
上記のカルボニル化合物としては、ベンゾイン、ベンゾ
フェノン、アントラキノン、2−メチルアントラキノン
、2−t e r t−ブチルアントラキノン、9・1
0−フェナントレンキノン、ジアセチル、ベンジル、ミ
ヒラーズケトン、4・4′−ビスジエチルアミノベンゾ
フェノンなどが、有機硫黄化合物としては、ジブチルジ
スルフィド、ジオクチルジスルフィド、ジベンジルジス
ルフィド、ジフェニルジスルフィド、ジベンゾイルジス
ルフィド、ジアセチルジスルフィドなどがある。
フェノン、アントラキノン、2−メチルアントラキノン
、2−t e r t−ブチルアントラキノン、9・1
0−フェナントレンキノン、ジアセチル、ベンジル、ミ
ヒラーズケトン、4・4′−ビスジエチルアミノベンゾ
フェノンなどが、有機硫黄化合物としては、ジブチルジ
スルフィド、ジオクチルジスルフィド、ジベンジルジス
ルフィド、ジフェニルジスルフィド、ジベンゾイルジス
ルフィド、ジアセチルジスルフィドなどがある。
また、過酸化物としては、過酸化水素、ジーtert−
ブチルペルオキシド、過酸化ベンゾイル、メチルエチル
ケトンペルオキシドなどが、レドックス系化合物として
は、過酸化物と還元剤の組み合わせからなるもの、たと
えば第一鉄イオンと過酸化水素、第一鉄イオンと過硫酸
イオン、第二鉄イオンと過酸化物などが、アゾおよびジ
アゾ化合物としては、α・α−アゾビスイソブチロニト
リル、2−アゾビス−2−メチルブチロニトリル、1−
アゾビス−シクロヘキサンカルボニトリル、p−アミノ
ジフェニルアミンのジアゾニウム塩などが、光還元性色
素としては、ローズベンガル、エリスロシン、エオシン
、アクリフラビン、リボフラビン、チオニンなどがある
。
ブチルペルオキシド、過酸化ベンゾイル、メチルエチル
ケトンペルオキシドなどが、レドックス系化合物として
は、過酸化物と還元剤の組み合わせからなるもの、たと
えば第一鉄イオンと過酸化水素、第一鉄イオンと過硫酸
イオン、第二鉄イオンと過酸化物などが、アゾおよびジ
アゾ化合物としては、α・α−アゾビスイソブチロニト
リル、2−アゾビス−2−メチルブチロニトリル、1−
アゾビス−シクロヘキサンカルボニトリル、p−アミノ
ジフェニルアミンのジアゾニウム塩などが、光還元性色
素としては、ローズベンガル、エリスロシン、エオシン
、アクリフラビン、リボフラビン、チオニンなどがある
。
これら光重合開始剤は1種であっても2種以上を組み合
わせて用いてもよい。その使用量は、前記の溶剤可溶性
線状飽和ポリエステル樹脂(他のバインダポリマーを併
用するときはこれらを含めた合計量)100重量部に対
して通常01〜20重量部の範囲とすればよい。
わせて用いてもよい。その使用量は、前記の溶剤可溶性
線状飽和ポリエステル樹脂(他のバインダポリマーを併
用するときはこれらを含めた合計量)100重量部に対
して通常01〜20重量部の範囲とすればよい。
ポリイソシアネート化合物としては、トリレンジイソシ
アネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、シクロヘ
キサンジイソシアネートなどの芳香族、脂肪族、脂環族
の各種単量体のほか、これらの二量体や三量体などの多
量体、あるいはこれらと多価アルコールとの付加反応物
などポリウレタン用のインシアネート成分として知られ
るものがいずれも使用できる。
アネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、シクロヘ
キサンジイソシアネートなどの芳香族、脂肪族、脂環族
の各種単量体のほか、これらの二量体や三量体などの多
量体、あるいはこれらと多価アルコールとの付加反応物
などポリウレタン用のインシアネート成分として知られ
るものがいずれも使用できる。
このようなポリイソシアネート化合物は、感光層の形成
時に溶剤可溶性線状飽和ポリエステル樹脂に含まれるカ
ルボキシル基や水酸基と反応して感光層を架橋構造化さ
せ、これによって感光層の凝集力を大きくして層強度を
高める役割を果たすとともに、ポリエチレンテレフタレ
ートフィルムからなる支持体の表面に存在する上記同様
の極性基との反応にも関与して感光層と上記支持体との
接着強度の向上に大きく寄与するものである。
時に溶剤可溶性線状飽和ポリエステル樹脂に含まれるカ
ルボキシル基や水酸基と反応して感光層を架橋構造化さ
せ、これによって感光層の凝集力を大きくして層強度を
高める役割を果たすとともに、ポリエチレンテレフタレ
ートフィルムからなる支持体の表面に存在する上記同様
の極性基との反応にも関与して感光層と上記支持体との
接着強度の向上に大きく寄与するものである。
このポリイソシアネート化合物は1種であっても2種ま
たはそれ以上を組み合わせて使用してもよい。また、そ
の使用量は、溶剤可溶性線状飽和ポリエステル樹脂(他
のバインダポリマーを併用するときはこれらを含めた合
計量)100重量部に対して通常01〜20重量部、特
に好ましくは1〜10重量部の範囲とするのがよい。
たはそれ以上を組み合わせて使用してもよい。また、そ
の使用量は、溶剤可溶性線状飽和ポリエステル樹脂(他
のバインダポリマーを併用するときはこれらを含めた合
計量)100重量部に対して通常01〜20重量部、特
に好ましくは1〜10重量部の範囲とするのがよい。
この発明における支持体は、ポリエチレンテレフタレー
トフィルム、つまりテレフタル酸とエチレングリコール
との高縮合体であって、結晶性の高い通常の溶剤に不溶
性のポリマーからなるフィルムであり、その厚みとして
は通常3〜50/”程度である。このようなポリエチレ
ンテレフタレートフィルムは、感光層の補強効果を発揮
させるのに好都合なすぐれた機械的強度を備えていると
ともに、このフィルム側からのパターン状露光を可能と
する良好な透明性を有し、しかもこのフィルム上に感光
層を形成する際に加わる熱に対して安定でかつ吸湿の影
響も受けにくいというすぐれた耐熱性および吸湿性を有
している。
トフィルム、つまりテレフタル酸とエチレングリコール
との高縮合体であって、結晶性の高い通常の溶剤に不溶
性のポリマーからなるフィルムであり、その厚みとして
は通常3〜50/”程度である。このようなポリエチレ
ンテレフタレートフィルムは、感光層の補強効果を発揮
させるのに好都合なすぐれた機械的強度を備えていると
ともに、このフィルム側からのパターン状露光を可能と
する良好な透明性を有し、しかもこのフィルム上に感光
層を形成する際に加わる熱に対して安定でかつ吸湿の影
響も受けにくいというすぐれた耐熱性および吸湿性を有
している。
この発明者らは、この発明の完成に先立ち、ポリエチレ
ンテレフタレートフィルムの上述の如き性質に着目し、
感光層の補強用支持体としては上記フィルムが最も適し
ているものと考え、この考えのもとに上記フィルムとの
接着強度を満足する、つまり接着剤層を介在させなくて
も大きな接着強度が得られる感光層の組成につき種々検
討を加えた結果、既述したような溶剤可溶性線状飽和ポ
リエステル樹脂、光重合性不飽和化合物、光重合開始剤
およびポリイソシアネート化合物を必須成分として含む
組成物にて感光層を構成させるようにしたときには、こ
の感光層と上記支持体フィルムとの接着強度を充分に満
足させることができ、その結果パターン状露光後の上記
支持体および感光層の剥離操作を非常に良好に行えるこ
とを見い出したものである。
ンテレフタレートフィルムの上述の如き性質に着目し、
感光層の補強用支持体としては上記フィルムが最も適し
ているものと考え、この考えのもとに上記フィルムとの
接着強度を満足する、つまり接着剤層を介在させなくて
も大きな接着強度が得られる感光層の組成につき種々検
討を加えた結果、既述したような溶剤可溶性線状飽和ポ
リエステル樹脂、光重合性不飽和化合物、光重合開始剤
およびポリイソシアネート化合物を必須成分として含む
組成物にて感光層を構成させるようにしたときには、こ
の感光層と上記支持体フィルムとの接着強度を充分に満
足させることができ、その結果パターン状露光後の上記
支持体および感光層の剥離操作を非常に良好に行えるこ
とを見い出したものである。
この発明の画像形成材料は、以上説明してきた基材、金
属または金属化合物の薄膜、感光層およびポリエチレン
テレフタレートフィルムからなる支持体をこの順に積層
してなるものであるが、上記積層の手段は任意である。
属または金属化合物の薄膜、感光層およびポリエチレン
テレフタレートフィルムからなる支持体をこの順に積層
してなるものであるが、上記積層の手段は任意である。
しかし、一般には、まず、基材上にスパッタリング法、
真空蒸着法、無電解メツキ法などの公知の薄膜形成技術
によって金属または金属化合物の薄膜を形成して積層基
板をつくり、つぎにこの基板の上記薄膜上に感光層およ
び上記支持体を積層する方法が好ましく採用される。
真空蒸着法、無電解メツキ法などの公知の薄膜形成技術
によって金属または金属化合物の薄膜を形成して積層基
板をつくり、つぎにこの基板の上記薄膜上に感光層およ
び上記支持体を積層する方法が好ましく採用される。
ここで、上記の積層基板への感光層および上記支持体の
積層は、積層基板の金属または金属化合物の薄膜の上に
感光層を形成したのちこれに支持体を加熱ラミネートす
る方法(以下、これを二段ラミネート法という)で行っ
てもよいし、支持体上に感光層を形成してなる感光フィ
ルムを予め作製しておき、これと積層基板とを感光層と
金属または金属化合物の薄膜とが接触するように加熱ラ
ミネートする方法(以下、これを−段ラミネート法とい
う)で行ってもよい。
積層は、積層基板の金属または金属化合物の薄膜の上に
感光層を形成したのちこれに支持体を加熱ラミネートす
る方法(以下、これを二段ラミネート法という)で行っ
てもよいし、支持体上に感光層を形成してなる感光フィ
ルムを予め作製しておき、これと積層基板とを感光層と
金属または金属化合物の薄膜とが接触するように加熱ラ
ミネートする方法(以下、これを−段ラミネート法とい
う)で行ってもよい。
感光層の形成は、前記した溶剤可溶性線状飽和ポリエス
テル樹脂、光重合性不飽和化合物、光重合開始剤および
ポリイソシアネート化合物を必須成分として含む組成物
を塗着する方法、つまり通常は上記組成物を適宜の溶剤
に均一に溶解混合してなる塗布液を調製し、これを塗布
、乾燥する方法にて行われる。上記の溶剤としては、ア
セトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン
などのケトン類、トルエン、ベンゼン、キシレンなどの
芳香族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミ
ルなどのエステル類、四塩化炭素、クロロホルム、トリ
クロロエチレン、塩化メチレンなトノハロゲン化炭化水
素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、エチレングリコールモノメチルエーテルなどのエ
ーテル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ドなどが用いられる。
テル樹脂、光重合性不飽和化合物、光重合開始剤および
ポリイソシアネート化合物を必須成分として含む組成物
を塗着する方法、つまり通常は上記組成物を適宜の溶剤
に均一に溶解混合してなる塗布液を調製し、これを塗布
、乾燥する方法にて行われる。上記の溶剤としては、ア
セトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン
などのケトン類、トルエン、ベンゼン、キシレンなどの
芳香族炭化水素類、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミ
ルなどのエステル類、四塩化炭素、クロロホルム、トリ
クロロエチレン、塩化メチレンなトノハロゲン化炭化水
素類、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、エチレングリコールモノメチルエーテルなどのエ
ーテル類、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシ
ドなどが用いられる。
前記−段ラミネート法では、上記の塗布、乾燥後、つま
りポリエチレンテレフタレートフィルムからなる支持体
上に上記の塗布液を塗布、乾燥したのち、組成物中のポ
リイソシアネート化合物が反応するに充分な後加熱処理
を施すのが好ましい。
りポリエチレンテレフタレートフィルムからなる支持体
上に上記の塗布液を塗布、乾燥したのち、組成物中のポ
リイソシアネート化合物が反応するに充分な後加熱処理
を施すのが好ましい。
この後加熱処理は、高温にするほど短時間ですむが、あ
まり高温にしすぎると光重合性不飽和化合物の熱反応を
引きおこすおそれがあるため、通常は30〜80℃で1
〜48時間の条件とするのがよい。
まり高温にしすぎると光重合性不飽和化合物の熱反応を
引きおこすおそれがあるため、通常は30〜80℃で1
〜48時間の条件とするのがよい。
上記の後加熱処理によってポリイソシアネート化合物を
反応させると、感光層の凝集力が大きくなって層強度を
高めうるとともに、支持体表面のカルボキシル基や水酸
基などの極性基との反応にも関与する結果、この支持体
と感光層との接着強度の向上に好結果を得ることができ
る。
反応させると、感光層の凝集力が大きくなって層強度を
高めうるとともに、支持体表面のカルボキシル基や水酸
基などの極性基との反応にも関与する結果、この支持体
と感光層との接着強度の向上に好結果を得ることができ
る。
一方、前記二段ラミネート法では、積層基板の金属また
は金属化合物の薄膜の上に前記の塗布液を塗布、乾燥し
て感光層を形成したのち、この上にポリエチレンテレフ
タレートフィルムからなる支持体を加熱ラミネートする
前に、上述と同様の後加熱処理を施すと、感光層の凝集
力の向上に役立っても上記支持体との接着強度の向上に
は寄与しない。この場合は、上記後加熱処理を施すこと
なく、直ちに上記支持体を加熱ラミネートするのが望ま
しく、この加熱ラミネート時に支持体表面の極性基とポ
リイソシアネート化合物との反応を期待でき、これによ
って上記接着強度の向上をある程度図ることができる。
は金属化合物の薄膜の上に前記の塗布液を塗布、乾燥し
て感光層を形成したのち、この上にポリエチレンテレフ
タレートフィルムからなる支持体を加熱ラミネートする
前に、上述と同様の後加熱処理を施すと、感光層の凝集
力の向上に役立っても上記支持体との接着強度の向上に
は寄与しない。この場合は、上記後加熱処理を施すこと
なく、直ちに上記支持体を加熱ラミネートするのが望ま
しく、この加熱ラミネート時に支持体表面の極性基とポ
リイソシアネート化合物との反応を期待でき、これによ
って上記接着強度の向上をある程度図ることができる。
しかし、−段ラミネート法における上記後加熱処理によ
る接着強度の向上に較べれば、かなり見劣りするのを免
れない。
る接着強度の向上に較べれば、かなり見劣りするのを免
れない。
したがって、この観点からいえば、−段ラミネート法が
最も好ましい方法として推奨できるものである。
最も好ましい方法として推奨できるものである。
このようにして得られるこの発明の画像形成材料を用い
て所望パターンの画像を形成するには、まず、ポリエチ
レンテレフタレートフィルムからなる支持体側にパター
ンを有するポジ原稿を密着させ、この上から露光する。
て所望パターンの画像を形成するには、まず、ポリエチ
レンテレフタレートフィルムからなる支持体側にパター
ンを有するポジ原稿を密着させ、この上から露光する。
この露光に用いる光源としては、300〜500nmの
範囲の波長からなる光を含む光源、たとえば高圧水銀灯
、超高圧水銀灯、キセノン灯、カーボンアーク灯、メタ
ルハライド灯などがある。このような露光により、露光
部の感光層は重合反応をおこし、下地となる金属または
金属化合物の薄膜との接着力が非露光部の感光層のそれ
に比し著しく増大する。
範囲の波長からなる光を含む光源、たとえば高圧水銀灯
、超高圧水銀灯、キセノン灯、カーボンアーク灯、メタ
ルハライド灯などがある。このような露光により、露光
部の感光層は重合反応をおこし、下地となる金属または
金属化合物の薄膜との接着力が非露光部の感光層のそれ
に比し著しく増大する。
このようにして感光層と金属または金属化合物の薄膜と
の接着力に露光部と非露光部との間で変化を生じさせた
のち、支持体および感光層を一体に引き剥がす剥離操作
を施すと、上記接着力の増大した露光部の上記薄膜が上
記支持体および感光層と一緒に剥離除去されて、基材上
に非露光部の上記薄膜が残存する。つまり、この残存薄
膜によって前記ポジ原稿どおりのパターンを有するポジ
画像が形成されることになる。
の接着力に露光部と非露光部との間で変化を生じさせた
のち、支持体および感光層を一体に引き剥がす剥離操作
を施すと、上記接着力の増大した露光部の上記薄膜が上
記支持体および感光層と一緒に剥離除去されて、基材上
に非露光部の上記薄膜が残存する。つまり、この残存薄
膜によって前記ポジ原稿どおりのパターンを有するポジ
画像が形成されることになる。
「発明の効果」
以上詳述したとおり、この発明の画像形成材料によれば
、パターン状露光と剥離操作とによって所望パターンの
画像を形成できるから、従来の如き湿式現像処理やエツ
チング操作が不要となるという利点が得られるうえに、
感光層上に積層された特定の支持体フィルムによって剥
離操作を良好に行うことができ、かつこの支持体フィル
ムと感光層とが接着剤層を介することなく接着強度良好
に積層されているため、接着剤の使用に起因した画像形
成材料の製造工程上、コスト上および剥離操作上の問題
を本質的に解消できるという効果が得られる。
、パターン状露光と剥離操作とによって所望パターンの
画像を形成できるから、従来の如き湿式現像処理やエツ
チング操作が不要となるという利点が得られるうえに、
感光層上に積層された特定の支持体フィルムによって剥
離操作を良好に行うことができ、かつこの支持体フィル
ムと感光層とが接着剤層を介することなく接着強度良好
に積層されているため、接着剤の使用に起因した画像形
成材料の製造工程上、コスト上および剥離操作上の問題
を本質的に解消できるという効果が得られる。
このため、この発明の画像形成材料は、第2原図、製版
用フィルム、プリント配線板、液晶などの透明電極パタ
ーン、平版印刷用板などの幅広い用途に対して非常に有
用である。
用フィルム、プリント配線板、液晶などの透明電極パタ
ーン、平版印刷用板などの幅広い用途に対して非常に有
用である。
以下に、この発明の実施例を記載してより具体的に説明
する。なお、以下において、部とあるは重量部を意味す
るものとする。
する。なお、以下において、部とあるは重量部を意味す
るものとする。
実施例1
溶剤可溶性線状飽和ポリエステル樹脂 100部(東
洋紡績社製商品名バイロン−200)トリメチロールプ
ロパントリアクリレート 50部ジメチルチオキサ
ントン 3部ジメチルアミノ安息香酸イソ
アミル 2部ハイドロキノン
01部酢酸エチル 250部 上記の組成物を混合し塗布液を調製した。この塗布液を
25p厚のポリエチレンテレフタレートフィルムからな
る支持体上に乾燥後の厚みが10Fとなるように塗布し
、80℃で10分間乾燥した。その後、50℃で48時
間放置して、感光フィルムを作製した。
洋紡績社製商品名バイロン−200)トリメチロールプ
ロパントリアクリレート 50部ジメチルチオキサ
ントン 3部ジメチルアミノ安息香酸イソ
アミル 2部ハイドロキノン
01部酢酸エチル 250部 上記の組成物を混合し塗布液を調製した。この塗布液を
25p厚のポリエチレンテレフタレートフィルムからな
る支持体上に乾燥後の厚みが10Fとなるように塗布し
、80℃で10分間乾燥した。その後、50℃で48時
間放置して、感光フィルムを作製した。
一方、100pn厚のポリエチレンテレフタレートフィ
ルムからなる基材上に真空蒸着法により約500nm厚
のアルミニウム薄膜を形成して積層基板とし、この基板
と前記の感光フィルムとを感光層とアルミニウム薄膜と
が接触するように100℃にセットしたロールラミネー
タで加熱ラミネートして、この発明の画像形成材料を作
製した。
ルムからなる基材上に真空蒸着法により約500nm厚
のアルミニウム薄膜を形成して積層基板とし、この基板
と前記の感光フィルムとを感光層とアルミニウム薄膜と
が接触するように100℃にセットしたロールラミネー
タで加熱ラミネートして、この発明の画像形成材料を作
製した。
この画像形成材料の支持体側に所定パターンを有するポ
ジ原稿を重ね、3KW超高圧水銀灯より100 mJ
/cmの露光量で露光したのち、支持体および感光層を
剥離操作したところ、基材上にアルミニウム薄膜からな
るポジ原稿どおりのパターンを有するポジ画像が得られ
た。
ジ原稿を重ね、3KW超高圧水銀灯より100 mJ
/cmの露光量で露光したのち、支持体および感光層を
剥離操作したところ、基材上にアルミニウム薄膜からな
るポジ原稿どおりのパターンを有するポジ画像が得られ
た。
実施例2
積層基板として100p厚のポリエチレンテレフタレー
トフィルムからなる基材上に真空蒸着法によって50
nm厚の酸化スズ薄膜を形成してなるものを使用した以
外は、実施例1と同様にして画像形成材料を作製した。
トフィルムからなる基材上に真空蒸着法によって50
nm厚の酸化スズ薄膜を形成してなるものを使用した以
外は、実施例1と同様にして画像形成材料を作製した。
この材料を用いて実施例1と同様にして画像形成を試み
たところ、基材上に酸化スズ薄膜からなるポジ原稿どお
りのパターンを有するポジ画像が得られた。
たところ、基材上に酸化スズ薄膜からなるポジ原稿どお
りのパターンを有するポジ画像が得られた。
実施例3
積層基板として25p厚のポリイミドフィルムからなる
基材上に真空蒸着法によって800nrn厚の銅薄膜を
形成してなるものを使用した以外は、実施例1と同様に
して画像形成材料を作製した。
基材上に真空蒸着法によって800nrn厚の銅薄膜を
形成してなるものを使用した以外は、実施例1と同様に
して画像形成材料を作製した。
この材料を用いて実施例1と同様にして画像形成を試み
たところ、基材上に銅薄膜からなるポジ原稿どおりのパ
ターンを有するポジ画像が得られた。
たところ、基材上に銅薄膜からなるポジ原稿どおりのパ
ターンを有するポジ画像が得られた。
実施例4
ジペンタエリスリトールへキサアクリレート 8
0部ベンゾフェノン 5部4・4
′−ビスジエチルアミノベンゾフェノン 0.5部
バラメトキシフェノール 0.1部酢
酸エチル 250部 上記の組成物を混合して調製した塗布液を用いて実施例
1と同様にして感光フィルムを作製した。
0部ベンゾフェノン 5部4・4
′−ビスジエチルアミノベンゾフェノン 0.5部
バラメトキシフェノール 0.1部酢
酸エチル 250部 上記の組成物を混合して調製した塗布液を用いて実施例
1と同様にして感光フィルムを作製した。
この感光フィルムと実施例1の積層基板とを用いて実施
例1と同様にして画像形成材料を作製した。
例1と同様にして画像形成材料を作製した。
この材料を用いて実施例1と同様にして画像形成を試み
たところ、基材上にアルミニウム薄膜からなるポジ原稿
どおりのパターンを有するポジ画像が得られた。
たところ、基材上にアルミニウム薄膜からなるポジ原稿
どおりのパターンを有するポジ画像が得られた。
実施例5
実施例4の感光フィルムと実施例2の積層基板とを用い
て実施例1と同様にして画像形成材料を作製した。この
材料を用いて実施例1と同様にして画像形成を試みたと
ころ、基材上に酸化スズ薄膜からなるポジ原稿どおりの
パターンを有するポジ画像が得られた。
て実施例1と同様にして画像形成材料を作製した。この
材料を用いて実施例1と同様にして画像形成を試みたと
ころ、基材上に酸化スズ薄膜からなるポジ原稿どおりの
パターンを有するポジ画像が得られた。
実施例6
実施例4の感光フィルムと実施例3の積層基板とを用い
て実施例1と同様にして画像形成材料を作製した。この
材料を用いて実施例1と同様にして画像形成を試みたと
ころ、基材上に銅薄膜からなるポジ原稿どおりのパター
ンを有するポジ画像が得られた。
て実施例1と同様にして画像形成材料を作製した。この
材料を用いて実施例1と同様にして画像形成を試みたと
ころ、基材上に銅薄膜からなるポジ原稿どおりのパター
ンを有するポジ画像が得られた。
実施例7
(二愛し−ヨン社表の両市るダイヤナコルBR−75)
ベンゾフェノン 5部4・4′−ビス
ジエチルアミノベンゾフェノン 0.5部バラメトキシ
フェノール 0.1部酢酸エチル
250部 上記の組成物を混合して調製した塗布液を用いて実施例
1と同様にして感光フィルムを作製した。
ベンゾフェノン 5部4・4′−ビス
ジエチルアミノベンゾフェノン 0.5部バラメトキシ
フェノール 0.1部酢酸エチル
250部 上記の組成物を混合して調製した塗布液を用いて実施例
1と同様にして感光フィルムを作製した。
この感光フィルムと実施例1の積層基板とを用いて実施
例1と同様にして画像形成材料を作製した。
例1と同様にして画像形成材料を作製した。
この材料を用いて実施例1と同様にして画像形成を試み
たところ、基材上にアルミニウム薄膜からなるポジ原稿
どおりのパターンを有するポジ画像が得られた。
たところ、基材上にアルミニウム薄膜からなるポジ原稿
どおりのパターンを有するポジ画像が得られた。
実施例8
実施例7の感光フィルムと実施例2の積層基板とを用い
て実施例1と同様にして画像形成材料を作製した。この
材料を用いて実施例1と同様にして画像形成を試みたと
ころ、基材上に酸化スズ薄膜からなるポジ原稿どおりの
パターンを有するポジ画像が得られた。
て実施例1と同様にして画像形成材料を作製した。この
材料を用いて実施例1と同様にして画像形成を試みたと
ころ、基材上に酸化スズ薄膜からなるポジ原稿どおりの
パターンを有するポジ画像が得られた。
実施例9
実施例7の感光フィルムと実施例3の積層基板とを用い
て実施例1と同様にして画像形成材料を作製した。この
材料を用いて実施例1と同様にして画像形成を試みたと
ころ、基材上に銅薄膜からなるポジ原稿どおりのパター
ンを有するポジ画像が得られた。
て実施例1と同様にして画像形成材料を作製した。この
材料を用いて実施例1と同様にして画像形成を試みたと
ころ、基材上に銅薄膜からなるポジ原稿どおりのパター
ンを有するポジ画像が得られた。
特許出願人 日東電気工業株式会社
Claims (2)
- (1)基材上に金属または金属化合物の薄膜、感光層お
よびポリエチレンテレフタレートフィルムからなる支持
体がこの順に積層されてなり、上記支持体側からのパタ
ーン状露光によつて露光部における感光層と上記薄膜と
の接着力が増大し、この露光後上記支持体および感光層
を剥離操作したときに上記接着力の増大した露光部の上
記薄膜が一緒に剥離除去されて、基材上に非露光部の上
記薄膜が画像として残存する、剥離操作による画像形成
が可能な画像形成材料であつて、かつ上記感光層が溶剤
可溶性線状飽和ポリエステル樹脂、光重合性不飽和化合
物、光重合開始剤およびポリイソシアネート化合物を必
須成分として含むことを特徴とする画像形成材料。 - (2)基材上に金属または金属化合物の薄膜を形成して
なる積層基板と、ポリエチレンテレフタレートフィルム
からなる支持体上に溶剤可溶性線状飽和ポリエステル樹
脂、光重合性不飽和化合物、光重合開始剤およびポリイ
ソシアネート化合物を必須成分として含む組成物を塗着
して感光層を形成してなる感光フィルムとが、上記薄膜
と感光層とが接触するように加熱ラミネートされてなり
、かつ感光層中のポリイソシアネート化合物が支持体表
面の極性基との反応に関与している特許請求の範囲第(
1)項記載の画像形成材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31136287A JPH01152448A (ja) | 1987-12-09 | 1987-12-09 | 画像形成材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP31136287A JPH01152448A (ja) | 1987-12-09 | 1987-12-09 | 画像形成材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01152448A true JPH01152448A (ja) | 1989-06-14 |
Family
ID=18016251
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP31136287A Pending JPH01152448A (ja) | 1987-12-09 | 1987-12-09 | 画像形成材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01152448A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7589145B2 (en) | 2004-04-15 | 2009-09-15 | Exxonmobil Chemical Patents Inc. | Syndiotactic rich polyolefins |
| US7645829B2 (en) | 2004-04-15 | 2010-01-12 | Exxonmobil Chemical Patents Inc. | Plasticized functionalized propylene copolymer adhesive composition |
| US7812085B2 (en) | 2005-06-24 | 2010-10-12 | Exxonmobil Chemical Patents Inc. | Functionalized propylene copolymer adhesive composition |
| JP2015219311A (ja) * | 2014-05-15 | 2015-12-07 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | パターン形成用積層体並びにパターン付き基材の製造方法及びパターン付き基材 |
-
1987
- 1987-12-09 JP JP31136287A patent/JPH01152448A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7589145B2 (en) | 2004-04-15 | 2009-09-15 | Exxonmobil Chemical Patents Inc. | Syndiotactic rich polyolefins |
| US7645829B2 (en) | 2004-04-15 | 2010-01-12 | Exxonmobil Chemical Patents Inc. | Plasticized functionalized propylene copolymer adhesive composition |
| US7812085B2 (en) | 2005-06-24 | 2010-10-12 | Exxonmobil Chemical Patents Inc. | Functionalized propylene copolymer adhesive composition |
| JP2015219311A (ja) * | 2014-05-15 | 2015-12-07 | 旭化成イーマテリアルズ株式会社 | パターン形成用積層体並びにパターン付き基材の製造方法及びパターン付き基材 |
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