JPS59159155A - 感光性樹脂組成物 - Google Patents
感光性樹脂組成物Info
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
- G03F7/032—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders
- G03F7/033—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds with binders the binders being polymers obtained by reactions only involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. vinyl polymers
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は感光性樹脂組成物に関し、さらに詳しくは、印
刷配線板の製造、金属精密加工等に用いられるエツチン
グレジスト、めっきレジスト等として用いられ、基材に
対する加工が終った後に基材より除去される感光性樹脂
組成物に関する。
刷配線板の製造、金属精密加工等に用いられるエツチン
グレジスト、めっきレジスト等として用いられ、基材に
対する加工が終った後に基材より除去される感光性樹脂
組成物に関する。
印刷配線板の製造、金属精密加工等の分野において、エ
ツチング、めっき等の基材の化学的。
ツチング、めっき等の基材の化学的。
電気的手法を用いての加工、変性の際に、レジスト材料
として感光性樹脂組成物およびこれを用いた感光性エレ
メントを使用することは公知である。
として感光性樹脂組成物およびこれを用いた感光性エレ
メントを使用することは公知である。
感光性エレメントは、透明々はく離性支持体上に、無溶
剤の感光性樹脂組成物層を形成したものである。この感
光性エレメントを使用する1にあたっては通常、′1ず
、レジスト画像を形成すべき基材上に感光性樹脂層を1
表面にはく離住支持体を積層した一i1積層し、ついで
ネガを通して露光し、最後にはく離性支持体を除去した
後現像し、レジスト画像を形成する。感光性エレメント
を用いたレジスト画像の形成法は。
剤の感光性樹脂組成物層を形成したものである。この感
光性エレメントを使用する1にあたっては通常、′1ず
、レジスト画像を形成すべき基材上に感光性樹脂層を1
表面にはく離住支持体を積層した一i1積層し、ついで
ネガを通して露光し、最後にはく離性支持体を除去した
後現像し、レジスト画像を形成する。感光性エレメント
を用いたレジスト画像の形成法は。
溶液状の感光性樹脂組成物を用いた場合に比較じて、塗
工、乾燥が不要であり、単に積層するたけて基材上に均
一な厚さの感光性樹脂層を形成できるなど、多くの利点
を有することが認められ、広く利用されている。
工、乾燥が不要であり、単に積層するたけて基材上に均
一な厚さの感光性樹脂層を形成できるなど、多くの利点
を有することが認められ、広く利用されている。
感光性エレメントは、上述の如く、透明なはく離性支持
体上に、無溶剤の感光性樹脂組成物層を形成°したもの
であるが、感光性樹脂組成物層は未硬化状フィルムのた
め、柔軟でしかも粘着性を有[〜でいる。このため、感
光性樹脂組成物層の上に保護フィルムを積層し、外部か
らの損傷、異物の付着等を防止している。
体上に、無溶剤の感光性樹脂組成物層を形成°したもの
であるが、感光性樹脂組成物層は未硬化状フィルムのた
め、柔軟でしかも粘着性を有[〜でいる。このため、感
光性樹脂組成物層の上に保護フィルムを積層し、外部か
らの損傷、異物の付着等を防止している。
感光性エレメントは、第1図に示す如く、3層から成っ
ており、これを所定幅に切断し、ロール状に巻いて製品
として供されている。第1図において1は保護フィルム
、2は感光性樹脂組成物層、3は透明なはく離性支持体
である。
ており、これを所定幅に切断し、ロール状に巻いて製品
として供されている。第1図において1は保護フィルム
、2は感光性樹脂組成物層、3は透明なはく離性支持体
である。
かかる感光性エレメントの感光性樹脂組成物層は、単に
基材と積層するたけて基材上に十分密着するような粘着
性を有していることが必要である。通常、感光性樹脂組
成物層と基材との密着性を助けるため、感光性樹脂組成
物層の積層前ないしけ積層時に基材を加熱している。し
かし、感光性樹脂組成物は、エチレン性不飽和化合物、
活性線により遊離基を発生する開始剤。
基材と積層するたけて基材上に十分密着するような粘着
性を有していることが必要である。通常、感光性樹脂組
成物層と基材との密着性を助けるため、感光性樹脂組成
物層の積層前ないしけ積層時に基材を加熱している。し
かし、感光性樹脂組成物は、エチレン性不飽和化合物、
活性線により遊離基を発生する開始剤。
及びフイルノ、性付与ポリマを含有しており、エチレン
性不飽和化合物、開始剤は非常に揮散しやすく、揮散に
より感光性樹脂組成物の感光特性の低下及び環境汚染を
招くことになる。この揮散を防止するには、積層前の感
光性樹脂組成物層の加熱は170℃以下に、基板の加熱
は40〜80℃にする必要がある。
性不飽和化合物、開始剤は非常に揮散しやすく、揮散に
より感光性樹脂組成物の感光特性の低下及び環境汚染を
招くことになる。この揮散を防止するには、積層前の感
光性樹脂組成物層の加熱は170℃以下に、基板の加熱
は40〜80℃にする必要がある。
このため感光性樹脂組成物に、ガラス転移点(Tg)が
、75℃未満のフィルム性付与ポリマを用いることによ
り、低温加熱するだけで樹脂が軟化l〜、流動性が得ら
れ、低温でも基材と十分密着できるようにしている。
、75℃未満のフィルム性付与ポリマを用いることによ
り、低温加熱するだけで樹脂が軟化l〜、流動性が得ら
れ、低温でも基材と十分密着できるようにしている。
これらの感光性樹脂組成物を用いた感光性エレメントは
、基材との密着性に優れているが。
、基材との密着性に優れているが。
反面、ロール状に巻いて保存しておくと、特に気温が2
5℃以上になるとロール端面からの樹脂が浸み出してく
る問題がある。ロール端面がら樹脂が浸み出しているも
のは、積層時にスムーズに巻戻しができず積層作業性を
著しく低下させ、更には、積層できても樹脂の浸み出し
部は樹脂層が厚くなり、現像残り不良を起こし。
5℃以上になるとロール端面からの樹脂が浸み出してく
る問題がある。ロール端面がら樹脂が浸み出しているも
のは、積層時にスムーズに巻戻しができず積層作業性を
著しく低下させ、更には、積層できても樹脂の浸み出し
部は樹脂層が厚くなり、現像残り不良を起こし。
使用できない。
本発明は、感光性樹脂組成物層の密着性を保持し、かつ
、ロール状に巻いた感光性エレメントの樹脂の浸み出し
のない感光性樹脂組成物を提供するものである。
、ロール状に巻いた感光性エレメントの樹脂の浸み出し
のない感光性樹脂組成物を提供するものである。
本発明は、エチレン性不飽和化合物、活性線により遊離
基を発生する開始剤及びフィルム性付与ポリマを含む感
光性樹脂組成物であり、エチレン性不飽和化合物として
エチレン性不飽和化合物の50重量%以上を重量平均分
子量500以上のエチレン性不飽和化合物としたエチレ
ン性不飽和化合物を用い、フィルム性付与ポリマとして
ガラス転移点(Tg)が75〜120’C。
基を発生する開始剤及びフィルム性付与ポリマを含む感
光性樹脂組成物であり、エチレン性不飽和化合物として
エチレン性不飽和化合物の50重量%以上を重量平均分
子量500以上のエチレン性不飽和化合物としたエチレ
ン性不飽和化合物を用い、フィルム性付与ポリマとして
ガラス転移点(Tg)が75〜120’C。
重量平均分子量が4〜20万のビニル系共重合化合物を
用いてなる感光性樹脂組成物に関する。
用いてなる感光性樹脂組成物に関する。
本発明になる感光性樹脂組成物を用いた感光性エレメン
トは、前述のロール端面がらの樹脂の浸み出しのない、
しかも、優れた密着性を有するものである。
トは、前述のロール端面がらの樹脂の浸み出しのない、
しかも、優れた密着性を有するものである。
本発明に用いられるフィルム性付力ボリマとしては9例
えばポリメチルメタクリレート。
えばポリメチルメタクリレート。
メチルメタクリレート−メチルアクリレート共重合体等
のメタクリル酸エステル類、又はアクリル酸エステル類
の重合体又は共重合体、ポリスチレン、スチレン−メタ
クリルe−r−スfル共重合体、酢酸ビニル、アクリロ
ニトリル、アクリルアミド等とメタクリル酸エステルと
の共重合体などのビニル系共重合化合物で重量平均分子
量4〜20万、ガラス転移点(Tg)が75〜120℃
のものが用いられる。これはポリマの分子量は小さい程
感光性樹脂組成物の密着性が向上するが1反面4万未満
であれば、成膜性が悪く使用できなくなり、まだ、ポリ
マの分子量が20万を越えると密着性が著しく低下する
ためである。更にポリマのガラス転移点(Tg)は。
のメタクリル酸エステル類、又はアクリル酸エステル類
の重合体又は共重合体、ポリスチレン、スチレン−メタ
クリルe−r−スfル共重合体、酢酸ビニル、アクリロ
ニトリル、アクリルアミド等とメタクリル酸エステルと
の共重合体などのビニル系共重合化合物で重量平均分子
量4〜20万、ガラス転移点(Tg)が75〜120℃
のものが用いられる。これはポリマの分子量は小さい程
感光性樹脂組成物の密着性が向上するが1反面4万未満
であれば、成膜性が悪く使用できなくなり、まだ、ポリ
マの分子量が20万を越えると密着性が著しく低下する
ためである。更にポリマのガラス転移点(Tg)は。
n[itのモノマのホモポリマのガラス転移点をそれぞ
れTg1、Tgz……Tgnとし、モノマ重量分率をM
1、M2……Mn重量%とすれは、近似的に(1)式で
計算できるが。
れTg1、Tgz……Tgnとし、モノマ重量分率をM
1、M2……Mn重量%とすれは、近似的に(1)式で
計算できるが。
Tgが75℃未満の場合は、感光性エレメントの樹脂の
浸み出しを止めることができず、Tgが120℃を越え
ると樹脂層の流動性が低下し。
浸み出しを止めることができず、Tgが120℃を越え
ると樹脂層の流動性が低下し。
密着性が低下するためである。
また9本発明に用いられるエチレン性不飽和化合物とし
ては9例えばトリメチロールプロパントリアクリレート
、ペンタエリスリトールトリアクリレート、1,6−ヘ
キサンジアクリレート、2.2−ビス(4−メタクリロ
キシエトキシフェニル)プロパン、2.2−ビス(4−
アクリロキシエトキシフェニル)プロパン、ジペンタエ
リスリトールペンタアクリレート、トリメチロールプロ
パントリメタクリレート、トリメチロールプロパントリ
グリシジルエーテルのアクリル酸又はメタクリル酸付加
物、ビスフェノールへ−エビクロルヒドリン系エボキン
樹脂のアクリル酸又はメタクリル酸付加物、無水フタル
酸−ネオベンチルグリコール−アクリル酸の1:1:2
付加物等の低分子不飽和ポリエステル。
ては9例えばトリメチロールプロパントリアクリレート
、ペンタエリスリトールトリアクリレート、1,6−ヘ
キサンジアクリレート、2.2−ビス(4−メタクリロ
キシエトキシフェニル)プロパン、2.2−ビス(4−
アクリロキシエトキシフェニル)プロパン、ジペンタエ
リスリトールペンタアクリレート、トリメチロールプロ
パントリメタクリレート、トリメチロールプロパントリ
グリシジルエーテルのアクリル酸又はメタクリル酸付加
物、ビスフェノールへ−エビクロルヒドリン系エボキン
樹脂のアクリル酸又はメタクリル酸付加物、無水フタル
酸−ネオベンチルグリコール−アクリル酸の1:1:2
付加物等の低分子不飽和ポリエステル。
ジエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレン
グリコールジアクリレート、ノナエチレングリコールジ
アクリレート、ポリエチレンf’Jコール(分子量約4
00〜600)のジアクリレート、テトラエチレングリ
コールジメタクリレート、ノナエチレンジメタクリレー
ト等が挙げられ、これらは1種又は2種以上混合I7て
用いることが出来る。この際に、エチレン性不飽和化合
物の50重量%以上は重量平均分子量が500以上の化
合物を使用する必要がある。
グリコールジアクリレート、ノナエチレングリコールジ
アクリレート、ポリエチレンf’Jコール(分子量約4
00〜600)のジアクリレート、テトラエチレングリ
コールジメタクリレート、ノナエチレンジメタクリレー
ト等が挙げられ、これらは1種又は2種以上混合I7て
用いることが出来る。この際に、エチレン性不飽和化合
物の50重量%以上は重量平均分子量が500以上の化
合物を使用する必要がある。
重量平均分子量が5oo以上のエチレン性不飽和化合物
は、上記の化合物等から重量平均分子量500以上のも
のが用いられる。これは、感光性樹脂組成物と基材との
密着性は、積層前の加熱温度が高い稚内上するが、16
0℃以上の高温で積層しても9重量平均分子量500以
上の化合物は揮散が非常に少ないためである。
は、上記の化合物等から重量平均分子量500以上のも
のが用いられる。これは、感光性樹脂組成物と基材との
密着性は、積層前の加熱温度が高い稚内上するが、16
0℃以上の高温で積層しても9重量平均分子量500以
上の化合物は揮散が非常に少ないためである。
本発明において、エチレン性不飽和化合物とビール系共
重合化合物は、エチレン性不飽和化合物対ビニル系共重
合化合物が20重量部対80重量部〜50重量部対50
重量部の範囲で用いることが好ましい。
重合化合物は、エチレン性不飽和化合物対ビニル系共重
合化合物が20重量部対80重量部〜50重量部対50
重量部の範囲で用いることが好ましい。
また、活性線により遊離基を発生ずる開始剤については
伺ら制限なく、従来知られている化合物を用いることが
できる。例えは、ベンゾフェノン、p、p−ジメチルア
ミノベンゾフェノン。
伺ら制限なく、従来知られている化合物を用いることが
できる。例えは、ベンゾフェノン、p、p−ジメチルア
ミノベンゾフェノン。
p、p−ジクロルベンゾフェノン等のベンゾフェノン類
、2−エチルアントラキノン、2−tブチルアントラキ
ノン等のアントラギノン類、2−クロロチオキサントン
、ベンゾイン、ベンゾインアルギルエーテル、ベンジル
、2,4.5−トリアリールイミダゾール2量体、これ
らの混合物等が挙げられる。
、2−エチルアントラキノン、2−tブチルアントラキ
ノン等のアントラギノン類、2−クロロチオキサントン
、ベンゾイン、ベンゾインアルギルエーテル、ベンジル
、2,4.5−トリアリールイミダゾール2量体、これ
らの混合物等が挙げられる。
なお1本発明の感光性樹脂組成物には必要に応じて、そ
の他の添加剤として、染料、町ノ剤。
の他の添加剤として、染料、町ノ剤。
顔料、難燃剤、安定剤9等を添加しても良い。
以下9本発明を実施例および比較例により説明する。部
とあるのは重量部である。
とあるのは重量部である。
実施例および比較例
+A)表1に示すモノマー組成によりP−1〜P−5の
ポリマを合成した。ラジカル重合触媒としてアゾビスイ
ソブチロニトリルを用い、最終の固形分が35重t%に
なるように、エチルセロソルブ中で85℃で11時間ラ
ジカル重合し最後にハイドロキノンで重合停止した。
ポリマを合成した。ラジカル重合触媒としてアゾビスイ
ソブチロニトリルを用い、最終の固形分が35重t%に
なるように、エチルセロソルブ中で85℃で11時間ラ
ジカル重合し最後にハイドロキノンで重合停止した。
次にこれらのポリマを用い表2に示す配合により、感光
性樹脂組成物V−1〜V−10を調整した。
性樹脂組成物V−1〜V−10を調整した。
(モノマー組成の数字は重量部を示す)*1ポリマ配合
量は固形分の配合量を示す(45重量係のトルエン溶液
とした) *2日本化薬製;ジペンタエリスリトールへギザアクリ
レート(分子量578) *3新中村化学工業製;テトラエチレングリコールジア
クリレート(分子量308) *4川用化学製;λ2′−メチレンビス(4−エチル−
6−t−ブチルフェノール) 以上のようKして得られた感光性樹脂組成物V−1〜V
−10をそれぞれ厚さ25μmのポリエチレンテレフタ
レートフィルム(東し製部品名ルミラー)上に乾燥後膜
厚が50μmとなるように均一に塗工し、80℃で5分
間乾燥して感光性エレメントF−1〜F−10を得た。
量は固形分の配合量を示す(45重量係のトルエン溶液
とした) *2日本化薬製;ジペンタエリスリトールへギザアクリ
レート(分子量578) *3新中村化学工業製;テトラエチレングリコールジア
クリレート(分子量308) *4川用化学製;λ2′−メチレンビス(4−エチル−
6−t−ブチルフェノール) 以上のようKして得られた感光性樹脂組成物V−1〜V
−10をそれぞれ厚さ25μmのポリエチレンテレフタ
レートフィルム(東し製部品名ルミラー)上に乾燥後膜
厚が50μmとなるように均一に塗工し、80℃で5分
間乾燥して感光性エレメントF−1〜F−10を得た。
いずれも250幅で120m巻きのロール状とした。(
表3)9表3のF−7とF’−9が実施例で他は比較例
である。
表3)9表3のF−7とF’−9が実施例で他は比較例
である。
感光性ニレメン1−F−1〜F−10について。
以下の手順に従って各感光性エレメントの積層後の密着
性及び40℃での保存性試験を評価した。
性及び40℃での保存性試験を評価した。
表3感光性エレメント
ナイロンブラシを用いて研磨清浄化した銅張積層板の銅
面に感光性ニレメン)F−1〜F−10を日立高温ラミ
ネータ(HLM−1000)を用いゴムロールの温度を
165℃として、3Kf/crn2で積層し、室温で3
0分間放置した。この時点で感光性エレメントを銅面か
ら、銅面に対し180°ビール剥離し、感光性樹脂組成
物との密着性を評価した。続いて250幅×120m巻
にしたロールを40℃乾燥器中で保存し。
面に感光性ニレメン)F−1〜F−10を日立高温ラミ
ネータ(HLM−1000)を用いゴムロールの温度を
165℃として、3Kf/crn2で積層し、室温で3
0分間放置した。この時点で感光性エレメントを銅面か
ら、銅面に対し180°ビール剥離し、感光性樹脂組成
物との密着性を評価した。続いて250幅×120m巻
にしたロールを40℃乾燥器中で保存し。
樹脂の浸み出し状態を評価した。
銅面との密着性とロール端面がらの樹脂の浸み出しの評
価結果を表4に示す。表4には165℃で加熱後積層し
た時の感光性エレメントの発煙の有無についても調べ併
記した。
価結果を表4に示す。表4には165℃で加熱後積層し
た時の感光性エレメントの発煙の有無についても調べ併
記した。
表4
*1密着性評価基準
0.180°ビール剥離でも銅面から剥離しない。
△、銅面端部からレジストが剥離する。
X:全面剥離する。
*2樹脂の浸み出し
○:浸み出しなし
△:浸み出し幾分有り
×:浸み出し著しい
*3発煙の有無
○:発煙はとんどなし
△;発煙少々有り
×:発煙著しい
以上の実験結果より1本発明になる感光性樹脂組成物を
用いたもの(Tel−7、pg)は、保存性にすぐれ、
積層時の発煙が少ないことが示される。
用いたもの(Tel−7、pg)は、保存性にすぐれ、
積層時の発煙が少ないことが示される。
第1図は、感光性エレメントの断面図でβる。
符号の説明
1…保護フィルム 2…感光性樹脂組成物層3…透明な
はく離性支持体
はく離性支持体
Claims (1)
- 1、エチレン性不飽和化合物、活性線により遊離基を発
生する開始剤及びフィルム性付与ポリマを含む感光性樹
脂組成物であり、エチレン性不飽和化合物としてエチレ
ン性不飽和化合物の50重量%以上を重量子均分子葉5
00以」−のエチレン性不飽和化合物としたエチレン性
不飽和化合物を用い、フィルム性付与ポリマとしてガラ
ス転移点(Tg)が75〜120℃9重量平均分子量が
4〜20万のビニル系共重合化合物を用いてなる感光性
樹脂組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3349283A JPS59159155A (ja) | 1983-03-01 | 1983-03-01 | 感光性樹脂組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3349283A JPS59159155A (ja) | 1983-03-01 | 1983-03-01 | 感光性樹脂組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59159155A true JPS59159155A (ja) | 1984-09-08 |
Family
ID=12388051
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3349283A Pending JPS59159155A (ja) | 1983-03-01 | 1983-03-01 | 感光性樹脂組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59159155A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0355550A (ja) * | 1989-07-25 | 1991-03-11 | Mitsubishi Kasei Corp | 着色画像形成材料の製造方法 |
| WO2005003860A1 (ja) * | 2003-07-03 | 2005-01-13 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | 感光性樹脂組成物、その積層体及びその製造方法 |
| JP2009049013A (ja) * | 2007-08-20 | 2009-03-05 | Ls Industrial Systems Co Ltd | 気中遮断器の投入スプリングチャージング装置に使用される駆動モーター |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5177324A (ja) * | 1974-12-27 | 1976-07-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | |
| JPS5758140A (en) * | 1980-09-25 | 1982-04-07 | Nitto Electric Ind Co Ltd | Image forming material |
| JPS5764734A (en) * | 1980-10-08 | 1982-04-20 | Hitachi Chem Co Ltd | Photosensitive resin composition and photosensitive element |
-
1983
- 1983-03-01 JP JP3349283A patent/JPS59159155A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5177324A (ja) * | 1974-12-27 | 1976-07-05 | Fuji Photo Film Co Ltd | |
| JPS5758140A (en) * | 1980-09-25 | 1982-04-07 | Nitto Electric Ind Co Ltd | Image forming material |
| JPS5764734A (en) * | 1980-10-08 | 1982-04-20 | Hitachi Chem Co Ltd | Photosensitive resin composition and photosensitive element |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0355550A (ja) * | 1989-07-25 | 1991-03-11 | Mitsubishi Kasei Corp | 着色画像形成材料の製造方法 |
| WO2005003860A1 (ja) * | 2003-07-03 | 2005-01-13 | Hitachi Chemical Co., Ltd. | 感光性樹脂組成物、その積層体及びその製造方法 |
| JP2009049013A (ja) * | 2007-08-20 | 2009-03-05 | Ls Industrial Systems Co Ltd | 気中遮断器の投入スプリングチャージング装置に使用される駆動モーター |
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