JPH01157925A - 新規ハロベンゼン誘導体 - Google Patents
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- JPH01157925A JPH01157925A JP63274624A JP27462488A JPH01157925A JP H01157925 A JPH01157925 A JP H01157925A JP 63274624 A JP63274624 A JP 63274624A JP 27462488 A JP27462488 A JP 27462488A JP H01157925 A JPH01157925 A JP H01157925A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
本発明は新規なハロベンゼン誘導体、これらの化合物を
含有する液晶混合物並びに電子−光学目的に対するその
用途に関する。 液晶は主に表示装置における電媒体として用いられ、そ
の理由はかかる物質の光学特性が印加電圧によって影響
を受は得るためである。液晶に基ずく電子−光学装置は
当該分野に精通せる者にとってはよく知られており、種
々な効果に基ずくことができる。かかる装置の例は動的
散乱(dynamicscattering)を有する
セル、DAPセル(整列した相の変形)、ゲスト/ホス
ト(guest/host)セル、ねじれたネマテイク
構造(twisted nematicstructu
re)を有するTNセル、STNセル[「超−ねじれた
ネマテイク」 (“super−twisted ne
matic”)]、SBEセル「「超−複屈折効果」(
“super−birefringence effe
ct″)]及びOMIセル「「光学モード干渉」 (“
optical modeinterference”
)1であや。最も普通の表示装置はシャット−へルフリ
ツヒ(S chadt−Helfrich)効果に基ず
き、ねじれたネマテイク構造を有する。 液晶物質は良好な化学的及び熱的安定性並びに電場及び
電磁照射に対して良好な安定性を有していなければなら
ない。更に液晶物質は低粘度を有するべきであり、セル
において短い応答呼量、低閾値電位(low thre
shold potential)及び高度のコントラ
ストを示すべきである。更に、約−30℃乃至+80℃
、特に約−20°C乃至+60℃の通常の操作温度で、
液晶は適当な中間相(mesophase) 、例えば
上記のセルに対してネマテイクまたはコレステリック(
cholesteric)中間相を有するべきである。 更に特性、例えば導電率、誘電異方性(dielect
ric anisotropy)及び光学異方性が、セ
ルのタイプ及び適用分野に応じて、異なる要求をみたさ
なければならない。例えばねじれたネマテイク構造を有
するセルに対する物質は正の誘電異方性及び可能な限り
低い導電率を有するべきである。高い光学異方性を有す
る化合物における一般的な興味に加えて、最近、低い光
学異方性を有する物質に対して、特に活性的にアドレッ
シングされた(actively addressed
)液晶表示器、例えばテレビジョン・セットにおけるT
PT (薄いフィルム・トランジスター)用途に対して
興味が増加しているが、しかしながら、これによって、
かかる物質に度々認められる効果、例えば高度にオーダ
ーされたスメクテイク(highly ordered
smet ic)相の発生または閾値電位及び応答時間
の増加を可能な限り避けるべきである。 液晶は一般に数成分の混合物として用いられるために、
成分が相互に良好な混和性を有することが重要である。 本発明は一般式 式中、Xlはフッ素または塩素を表わし、そしてX2は
水素、フッ素または塩素を表わし、R1は3E−アルケ
ニル、4−アルケニル、2E−アルケニルオキシまたは
3−アルケニルオキシを表わし;nは数0または1を表
わし;基Y1及びY2の一つは単一共有結合、−COO
−1−OOC−1□−CH2CH,−1−cH,O−ま
たは一〇CH,−を表わし、そして基YI及びY2の他
は単一共有結合を表わし;環AI及びA2は各々独立し
て、随時2個の非隣接CH2基が酸素に代わっていても
よい置換されたまたは未置換のトランス−1,4−シク
ロヘキシレン、或いは随時1個のCH基まt;は2個の
CH基が窒素に代わっていてもよい置換されたまたは未
置換の1.4−フェニレンを表わし;条件として、同時
にXlがフッ素を表わし、そしてR1が3E−アルケニ
ルを表わす場合、X2はフッ素または塩素を表わし、モ
して/或いはYlまたはY2は−CH20−または−〇
CH2−を表わすものとする、 のハロベンゼン誘導体を提供する。 本発明における化合物は一般に正の誘電異方性を有して
いる。シアノ化合物と比較して、本化合物は比較的に極
性が小さいが、本化合物はシアノ化合物よりも驚くほど
低い閾値電位を与える。更に、本化合物はシアン化合物
よりも高い安定性及び低導電率を有している。 驚くべきことに、本発明における化合物は、低い閾値電
位に加えて、同様な短い応答時間を示す。 高度にオーダーされたスメクテイク相が完全にまたは少
なくとも大きく抑制され、そして融点が度々降下する。 従って、本発明における化合物はネマテイク及びコレス
テリック混合物の成分として特に適当である。式Iの二
環式化合物は、特に低い閾値電位、応答時間及び融点に
するためのドーピング剤として主に適している。一般に
、式■の三環式化合物は広いネマテイクまたはコレステ
リック中間相範囲を宵し、混合物において広い中間相範
囲をもたらすために適しており、これによって、同時に
閾値電位及び応答時間が驚くほど低く保持される。 式Tの化合物の相互及び公知の液晶における良好な溶解
性によって、一般に比較的高濃度を用いることができ、
同時に、液晶混合物における成分数を減じることができ
る。これはまた特に式1の三環式化合物に対してあては
まる。 式Iの化合物の光学異方性を環A1及びA2の選択に応
じて広い範囲に変えることができ、飽和環は光学異方性
の低い値をもたらし、芳香族環は光学異方性の高い値を
もたらす。上記の利点は全体の範囲に適用され、また特
に低い光学異方性を有する化合物に見い出される。 式■におけるr3E−アルケニル」、「4−アルケニル
J、r2E−アルケニルオキシ」及び「3−アルケニル
オキシJなる用語には直鎖状及び分枝鎖状残基が含まれ
る。一般に直鎖状残基、例えば3−ブテニル、3E−ペ
ンテニル、3E−へキセニル、3E−へブテニル、3E
−オクテニル、3E−ノネニル、3E−デセニル、4−
ペンテニル、4−へキセニル、4−へブテニル、4−オ
クテニル、4−ノネニル、4−デセニル、アリルオキン
、2E−ブテニルオキシ、2E−ペンテニルオキシ、2
E−へキセニルオキシ、2E−へブテニルオキシ、2E
−オタテニルオキシ、2E−ノネニルオキシ、3−ブテ
ニルオキシ、3−ペンテニルオキシ、3−へキセニルオ
キシ、3−へブテニルオキシ、3−オクテニルオキシ、
3−ノネニルオキシ等が好ましい。分枝鎖状光学的活性
残基R′、例えば5−メチル−3E−へブテニル及び6
−メチル−4−オクテニルを有する化合物は主にキラル
(chiral)ドーピング剤及び/またはコレステリ
ック液晶として興味ある。E−または2−型において存
在し得る4−アルケニル及び3−アルケニルオキシ残基
R1の場合、一般に2−型が好ましい。有利には、3E
−アルケニル残基は炭素原子約4〜15個を有し、4−
アルケニル残基は炭素原子約5〜15個を有し、2E−
アルケニルオキシ残基は炭素原子約3〜14個を有し、
そして3−アルケニルオキシ残基は炭素原子約4〜14
個を有する。炭素原子10個までを有するアルケニル残
基及び炭素原子9個までを有するアルケニルオキシ残基
が一般に好ましい。特に好ましい残基R1は3−ブテニ
ノ呟 3E−ペンテニル、4−ペンテニJ呟 アリルオ
キシ及び3−ブテニルオキシである。 「随時2個の非隣接CH,基が酸素に代わっていてもよ
い置換されたまたは未置換のトランス−1,4−シクロ
ヘキシレン」なる用語(また本発明の範囲内で「飽和環
」として表わす)には特にトランス−1,4−シクロヘ
キシレン及びトランス−m−ジオキサン−2,5−ジイ
ル並びに、液晶における通常の置換基、例えばシアノ、
メチル、フッ素または塩素で置換される環、例えばl−
シアノ−トランス−1,4−シクロヘキシレンまたは2
−メチル−トランス−1,4−シクロヘキシレンが含ま
れる。 「随時1個のCH基または2個のCH基が窒素に代わっ
ていてもよい置換されたまたは未置換の1.4−フェニ
レン」なる用語(また本発明の範囲内で「芳香族環」と
して表わす)には、特にl。 4−フェニレン、ピリジン−2,5−ジイル、ピラジン
−2,5−ジイル及びピリミジン−2,5−ジイル並び
に、液晶においては普通の置換基例えばシアノ、メチル
、フッ素または塩素で置換される環、例えば2−シアノ
−1,4−フェニレン、2−フルオロ−1,4−フェニ
レン、2−10ロー1,4−フェニレンまたは2−メチ
ル−1,4−フェニレンが含マレル。 一般に、未置換の環AI及びA2を有する式lの化合物
が好ましい。しかしながら、必要に応じて置換された環
を用いて、誘電異方性、中間相範囲、溶解度等を改変す
ることができる。 式■には次の一般式の化合物が包含される:、z2 式中、R1、x l、 x 2並びに環A1及びA2は
各々の場合に上記の意味を有する。 上記式I、I−7及びI−8〜I−17において、環A
2は好ましくは置換されたまたは未置換のトランス−1
,4−シクロヘキシレン、置換されたまたは未置換の1
.4−フェニレンを表わすか、或いは環A1が置換され
たまたは未置換のトランス−1,4−シクロヘキシレン
または置換されたまたは未置換の1.4−フェニレンを
表わす場合、またピリミジン−2,5−ジイルまたはト
ランス−m−ジオキサン−2,5−ジイルを表わす。一
般に、環A2がトランス−1,4−シクロヘキシレンを
表わす化合物が特に好ましい。環A2として随時存在し
ていてもよいトランス−m−ジオキサン−2,5−ジイ
ル基は好ましくは5−位置においてR1と結合する:こ
の場合、環A1は好ましくはトランス−1,4−シクロ
ヘキシレンを表わす。 更に、上記式■及びl−1−I−17において、環A1
は各々の場合に、好ましくは置換されたまたは未置換の
トランス−1,4−シクロヘキシレン、置換されたまた
は未置換の1.4−フェニレン、或いはピリジン−2,
5−ジイル、ピリミジン−2,5−ジイルまたはピラジ
ン−2,5−ジイルを表わす。式I、I−7及びI−8
〜l−17の化合物の中で、一般に環A′が上記の好ま
しい意味の一つを有し、特に未置換の基を表わし、そし
て環A2が同時にトランス−1,4−シクロヘキシレン
を表わす化合物が特に好ましい。 式Iの化合物の好ましい群の例は次の一般式の化合物で
ある: 、X2 式中、R1,XI、Xl、Yl及びY!は上記の意味を
有する。 上記式!、l−1−I−32、■−33及びニー34の
化合物の中で、各々の場合にXIがフッ素を表わし、モ
してXlが水素を表わすか、Xl及びX2がフッ素を表
わすか、或いはXIが塩素を表わし、モしてX2が水素
を表わす化合物が一般に好ましい。更に、式l−18、
■−23〜l−31、■−33及び■−34の化合物の
中で、各々の場合にYlが単一共有結合または−coo
−を表わす化合物が一般に好ましい。上記式!及びl−
1−1−34における好ましい残基R1は3−ブテニル
、3E−ペンテニル及び4−ペンテニルである。 式Iの化合物はそれ自体公知の方法において、例えばヨ
ーロッパ特許出願第122389号、同第167912
号及び同第188683号に記載された方法に従って製
造することができる。 R′が2E−アルケニルオキシまたは3−アルケニルオ
キシを表わす式Iの化合物は、一般に、対応するヒドロ
キシ化合物を2E−アルケニルハライドまたは3−アル
ケニルハライド、好ましくはそれぞれ2E−アルケニル
ブロマイドもしくは2E−アルケニルアイオダイド、3
−アルケニルブロマイドもしくは3−アルケニルアイオ
ダイドでエーテル化することによって最も容易に得られ
る。必要なヒドロキシ化合物は公知であるか、或いは公
知の化合物の同族体である。 R’が3E−アルケニル を表わす式■の化合物は、一般に、対応するプロピオン
アルデヒドまたはブチルアルデヒドを強塩基の存在下に
おいてアルキル−ドリアリールホスホニウムハライド、
好ましくはアルキル−トリフェニルホスホニウムクロラ
イドまたはアルキル−トリフェニルホスホニウムブロマ
イドと反応させることによって得られる。この反応はビ
ツテイヒ(Wittig)反応に対して普通の条件下で
行うことができる。必要なプロピオンアルデヒド及びブ
チルアルデヒドは、ホルミル−置換された環を有する対
応する化合物(シクロヘキサンカルボキシアルデヒド、
ベンズアルデヒド等の誘導体)または対応する環式ケト
ンから、アセトアルデヒドを介して、順次、鎖伸長化に
よって得ることができる。この鎖伸長化は、例えば各々
の場合に、メトキシメチル−トリアリールホスホニウム
ハライド、好ましくはメトキシメチル−トリフェニルホ
スホニウムクロライドによるビツテイヒ反応、次に加水
分解(例えば酢酸による)によって行うことができる。 更に、また炭素原子3個による鎖伸長は例えば2−(1
.3−ジオキソラン−2−イル)エチル−トリアリール
ホスホニウムハライド、好ましくけ2−(1,3−ジオ
キソラン−2−イル)エチル−トリフェニルホスホニウ
ムブロマイドによるビツテイヒ反応、次にC−C二重結
合の触媒的水素添加及びジオキソラン環の例えば酢酸に
よる加水分解によって行うこともできる。更に、後者の
方法は、オキシラン環の加水分解前に、必要に応じて、
他の官能基を分子に容易に導入し得るか、または転化し
得る利点を有している。 式■の中心部分が最終結合によって容易に生成し得る基
、例えばYlまたはY2に対するエステル基またはメチ
レンオキシ基或いは環A1及びA2に対するジオキサン
環をもつ場合、上記方法と同様にして、アルケニル基ま
たはアルケニルオキシ基を含む対応する遊離体(例えば
カルボン酸、ヒドロキシ化合物、ハロ化合物、1、3−
ジオール、アルデヒド)を製造することが有利である。 次いで、例えば得られたカルボン酸を適当なヒドロキシ
化合物でエステル化するか(Y lまたはY2が−00
0−を表わす式■の化合物を生成させるため)、得られ
たヒドロキシ化合物を適当なカルボン酸または適当なカ
ルボン酸クロライドでエステル化するか(y lまたは
Y2が一0oC−を表わす式1の化合物を生成させるた
め)、得られたヒドロキシ化合物を適当なハロ化合物(
特にブロモまたはヨード化合物)でエーテル化するか(
ylまたはY2が−OCH,−を表わす式Iの化合物を
生成させるため)、得られたハロ化合物(特にブロモま
たはヨード化合物)を適当なヒドロキシ化合物でエーテ
ル化するか(y lまたはyzが−CH,O−を表わす
式■の化合物を生成させるため)、得られた1、3−ジ
オールを適当なアルデヒドと反応させるか、或いは得ら
れたアルデヒドを適当なl。 3−ジオールと反応させることができる(環A1または
A2がトランス−m−ジオキサン−2,5−ジイルを表
わす式Iの化合物を生成させるため)。 上記の反応は各々の場合にそれ自体公知の方法において
行うことができる。必要な出発物質は公知のものである
か、或いはそれ自体公知の方法において製造することが
できる。上記の異なる合成法及び反応条件は合成実施例
において更に説明する。 式■の化合物を相互の混合物及び/または他の液晶成分
、例えばシッフ塩基、アゾベンゼン、アゾキシベンゼン
、フェニルベンゾエート、シクロヘキサンカルボン酸フ
ェニルエステル キサンカルボン酸シクロへキシルエステル、ビフェニル
、フェニルシクロヘキサン、シクロへキシルシクロヘキ
サン、フェニルピリミジン、シクロへキシルピリミジン
、フエニルジオキサン、2−シクロへキシル−1−フェ
ニルエタン、ターフェニル、シクロへキシルビフェニル
、シクロへキシルフェニルピリミジン等の群からの物質
との混合物の形態で用いることができる。かかる物質は
当該分野に精通せる者にとっては公知であり、更に、こ
れらの多くのものは市販品である。 本発明における液晶混合物は少なくとも二成分を含有し
、その少なくとも一成分は式1の化合物である。第二成
分及び場合によってはそれ以上の成分は更に式Iの化合
物または他の液晶成分であることができる。式Iの化合
物がネマテイク混合物に対して、または混合物の少なく
とも一成分が光学的活性である限り、またコレステリッ
ク混合物に対して特に適当である。 nが数0を表わし、モしてR1が4−アルケニルを表わ
す式Iの化合物が一般に他のネマティクまたはコレステ
リック物質と共に、例えば式■の三環式化合物と共に有
利に用いられる。従って、本発明における混合物は好ま
しくは1種またはそれ以上の式Iの化合物及びネマテイ
クまたはコレステリック担体物質を含有する。 式Iの化合物の良好な溶解性及びその相互の良好な混和
性を考慮して、本発明における混合物中のその量は比較
的に多いことができる。しかしながら、式■の化合物1
〜50重量%、特に約5〜30重量%が一般に好ましい
。 本発明における混合物は好ましくは1種またはそれ以上
の式Iの化合物に加えて、次の一般式の化合物の群から
の1種またはそれ以上の化合物を含有する: 式中、R寞及びR7はアルキル、lE−アルケニル1.
3E−アルケニルまたは4−アルケニルを表わし、R3
はシアノ、−NCS。 アルキル、lE−アルケニル、3E−アルケニル、4−
アルケニル、アルコキシ、2E−アルケニルオキシまた
は3−アルケニルオキシを表わし、R1はシアノ、−N
C51アルキル、3E−アルケニル、4−アルケニル、
アルコキシ、2E−アルケニルオキシまたは3−アルケ
ニルオキシを表わし;R6はシアノ、アルキル、3E−
アルケニル、4−アルケニル、アルコキシ、2E−アル
ケニルオキシまたは3−アルケニルオキシを表わし;Z
は単一共有結合または−CH!−CH,−を表わし;R
1はシアノ、アルコキシ、2E−アルケニルオキシ、3
−アルケニルオキシ、アルキル、lE−アルケニル、3
E−アルケニルまたは4−アルケニルを表わし:R1は
アルキル、lE−アルケニルまたは、基Yl及びylの
一つが単一共有結合、−COO−1−OOC−または−
CH,−CHよ−を表わし、そして基Yl及びY!の他
が単一共有結合を表わす場合、また3E−アルケニルを
表わし;そして°n、Y’、Y”並びに環A鳳及びA!
は上記の意味を有する。 式■〜XIVにおけるアルキル、アルケニル、アルコキ
シ及びアルケニルオキシ残基R1〜R−は好ましくは直
鎖状残基である。これらの基は好ましくは炭素原子12
個まで、殊に7個までを有する。 R”6(IE−アルケニル、3E−アルケニルまたは4
−アルケニルを表わす式XIの化合物は新規なものであ
る。これらの化合物は合成実施例に述べた方法に従って
製造することができる。 また本発明における混合物には光学的活性化合物(例え
ば光学的活性4′−アルキル−または4′−アルコキシ
−4−ビフェニルカルボニトリル)及び/または二色性
着色物質(例えばアゾ、アゾキシまたはアントラキノン
着色物質)を含ませることができる。かかる化合物の量
は溶解度、所望の色調(pitch) 、色、吸光等に
よって決定される。光学的活性化合物及び二色性着色物
質の量は一般に各々の場合に、全混合物中に最大約10
重量%である。 本発明における混合物の製造及び電子−光学装置の製造
はそれ自体公知の方法において行うことができる。 式Iの化合物及び式XIの新規化合物並びに該化合物を
含む液晶混合物の製造を以下の実施例によって更に説明
する。Cは結晶相を表わしS、はスメチテイクB相を表
わし、Nはネマテイク相を表わし、モして■はイントロ
ビック相を表わす。 V+O及びVS2はそれぞれ10%及び50%透過に対
する電圧を表わし、p=(Vs。−Vl。)/V1゜は
透過曲線の急こう配の大きさを表わし、tan及び虹、
1.はそれぞれスウイチーオン時間及びスウイチーオフ
時間を表わし、モして△nは光学異方性を表わす。 実施例1 a) ジエチレングリコール30mrl中のトランス−
4−[トランス−4−(4−ペンテニル)シクロヘキシ
ル] シクロヘキサンカルボニトリル(実施例2に従っ
て製造したもの)1.71gの溶液を水酸化カリウム3
.11gで処理し、130°Cで3時間撹拌した。次に
混合物を氷水に注ぎ、25%塩酸で酸性にし、ジエチル
エーテルで3回抽出した。有機相を合液し、水で3回洗
浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、そして蒸発させた
。 褐色の結晶性残渣(1,74g)をヘキサン30mQか
ら再結晶させ、帯黄色結晶として、トランス−4−[ト
ランス−4−(4−ペンテニル)シクロヘキシル]シク
ロヘキサンカルボン酸996mgを得た□ b) 塩化メチレン80mQ中のトランス−4−[トラ
ンス−4−(4−ペンテニル)シクロヘキシル]シクロ
ヘキサンカルボン酸996mgの溶液をp−フルオロフ
ェノール752mg、4−(ジメチルアミノ)ピリジン
61mg及びジシクロへキシルカルボジイミド1.03
gで処理し、室温で15時間撹拌した。次に反応混合
物を濾過した。濾液を蒸発させ、得られた残渣をシリカ
ゲル上で、酢酸エチル/石油エーテル(3:97容量比
)を用いてクロマトグラフィーによって精製した。得ら
れた生成物(1,24g)をヘキサン40mQから結晶
させ、融点(C−N)70.3°C及び透明点(N−■
)158.7°Cを有する純粋なトランス−4−[トラ
ンス−4−(4−ペンテニル)シクロへキシルコシクロ
ヘキサンカルボン酸4−フルオロフェニルエステル75
7mgt=得Iこ 。 同様の方法において、次の化合物を製造することができ
たニ ドランス−4−(4−ペンテニル)シクロヘキサンカル
ボン酸 4−フルオロフェニル エステル、融点31.
3℃; トランス−4−(4−ペンテニル)シクロヘキサンカル
ボン13.4−ジフルオロフェニル エステル、融点1
2.4°C; トランス−4−(4−ペンテニル)シクロヘキサンカル
ボン酸 4−クロロフェニル エステル; 4−(4−ペンテニル)安息香酸 4−フルオロフェニ
ル エステル; 4−(4−ペンテニル)安息香酸 3.4−ジフルオロ
フェニル エステル; 4−(3−ブテニルオキシ)安息香酸 4−フルオロフ
ェニル エステル; 融点65℃; 4−(3−ブテニルオキシ)安息香酸 3゜4−ジフル
オロフェニル エステル: 融点47.5℃; 4−(3−ブテニルオキシ)安息香酸 4−クロロフェ
ニル エステル; トランス−4−[トランス−4−(4−ペンテニル)シ
クロヘキシルコシクロヘキサン カルボン酸 3.4−
ジフルオロフェニル エステル; トランス−4−[トランス−4−(4−ペンテニル)シ
クロヘキシルコシクロヘキサン カルボン酸 4−クロ
ロフェニル エステル;トランス−4−[トランス−4
−(4−ペンテニル)シクロへキシル]?クロヘキサン
カルホン酸 3−クロロ−4−フルオロフェニルエス
テル; トランス−4−[トランス−4−(4−ペブテニル)シ
クロヘキシルコシクロヘキサン カルボン酸 3−フル
オロ−4−クロロフェニルエステル; 4−トランス−4−[トランス−4−(4−ペンテニル
)シクロヘキシル]安息香酸 4−フルオロフェニル
エステル; 4−[トランス−4−(4−ペンテニル)シクロヘキシ
ル]安息香酸 3,4−ジフルオロフェニル エステル
; 5−[トランス−4−(4−ペンテニル)シクロヘキシ
ル]−2−ピリミジン カルボン酸4−フルオロフェニ
ル エステル; 2−[トランス−4−(4−ペンテニル)シクロヘキシ
ル]−5−ピリミジン カルボン酸4−フルオロフェニ
ル エステル; 4、− [5−(4−ペンテニル)−2−ピリミジニル
]安息香酸 4−フルオロフェニル エステル; 4− [2−(4−ペンテニル)−5−ピリミジニル]
安息香酸 4−フルオロフェニル エステル: トランス−4−(42−へキセニル)シクロヘキサンカ
ルボン酸 4−フルオロフェニルエステル:ト ランス− ロヘキサンカルボン酸 3.4−’;フルオロフェニル
エステル; 4−(3Z−ペンテニル)安息香酸 4−フルオロフェ
ニル エステル; トランス−4−[トランス−4−(4Z−へキセニル)
シクロへキシルコシクロヘキサンカルボン酸 4−フル
オロフェニル エステル;4−[トランス−4−(4Z
−へキセニル)シクロへキシル]安息香酸 4−フルオ
ロフェニル エステル; トランス−4−(3−ブテニル)シクロヘキサン カル
ボン酸 3.4−ジフルオロフェニル エステル、融点
42.0℃; トランス−4−(3−ブテニル)シクロヘキサン カル
ボン酸 4−クロロフェニル エステル; 4−アリルオキシ安息香酸 4−フルオロフェニル エ
ステル; 4−アリルオキシ安息香酸 3,4−ジフルオロフェニ
ル エステル: 4−アリルオキシ安息香酸 4−クロロフェニル エス
テル; トランス−4−[トランス−4−(2−ブテニル)シク
ロヘキシルコシクロヘキサン カルボン酸 3.4−ジ
フルオロ−フェニル エステル: 融点(C−N)55.1’c、透明点(N−1)153
、6℃; トランス−4−[トランス−4−(3−プ。 テニル)シクロヘキシルコシクロヘキサン カルボン酸
4−クロロフェニル エステル:融点(C−N)78
.3℃、透明点(N−1)213、5℃; トランス−4−[トランス−4−(3−ブテニル)シク
ロヘキシルコシクロヘキサン カルボン酸 3−クロロ
−4−フルオロフェニル エステル; トランス−4−[トランス−4−(3−ブテニル)シク
ロへキシルコシクロヘキサン カルボン酸 3−フルオ
ロ−4−クロロフェニル エステル; 4−[トランス−4−(3−ブテニル)シクロヘキシル
]安息香酸 3.4−ジフルオロフェニル エステル: トランス−4−(3E−ペンテニル)シクロヘキサン
カルボン酸3.4−ジフルオロフェニル エステル; 4−(2E−ブテニルオキシ)安息香酸4−フルオロフ
ェニル エステル。 実施例2 a)2−(1.3−ジオキソラン−2−イル)エチルー
トリフェニルホスホニウムダロマイド140、9gを窒
素通気しながら、テトラヒドロフラン4.5aに懸濁さ
せ、懸濁液を0℃にてカリウムtert.ーブチレート
36.8gで5分以内に処理した。橙色の懸濁液を室温
で更に1時間撹拌し、4−(4−オキソシクロヘキシル
)ベンズアミド46.1 gで5分以内に処理した。反
応混合物を室温で更に4.5時間撹拌し、次に真空下で
濃縮した。得られた帯黄色の結晶(212,5g)をジ
エチルエーテル1.2aで処理した。混合物を室温で3
0分間撹拌し、次に吸引濾過した。残渣をジエチルエー
テルで洗浄し、次に水700mQに懸濁させた。混合物
を15分間撹拌し、次に吸引濾過した。残渣を水で洗浄
し、加熱しながらジオキサン600mQに溶解した。溶
液を放置して室温に冷却した。分離した結晶を吸引濾別
し、少量のジオキサン及びヘキサンで洗浄し、真空下に
て60°Cで乾燥し、かくして、融点209〜212°
Cを有する結晶性の4− [4−[2−(1,3−ジオ
キソラン−2−イル)エチリデン]シクロヘキシル]ベ
ンズアミド39.2gが得られた。 母液(72,6g)を処理し、更に生成物7.7g及び
第二の母液64.2gを得た。 b)4−[4−[2−(1,3−ジオキソラン−2−イ
ル)エチリデン] シクロヘキシル1ベンズアミド50
0mg及びジオキサン/トリエチルアミン(9:1容量
比)20mQの混合物を10%白金−木炭500mgに
よって2時間水素添加した。次に反応混合物を濾過し、
濾液を蒸発させた。蒸発残渣をジオキサン4QmQから
再結晶させ、無色の結晶として、4−[トランス−4−
[2−(1,3−ジオキソラン−2−イル)エチルコシ
クロヘキシル1ベンズアミド230mgを得た。 c)4−[トランス−4−[2−(1,3−ジオキソラ
ン−2−イル)エチルコシクロへキシルコペンズアミド
27gをジオキサン中にて、5%ルテニウム−木炭5g
を用いて、120°C及び水素圧40バールで8時間水
素添加した。濾過し、テトラヒドロ7ランで洗浄した後
の粗製の生成物(25g)は4−[トランス−4−[2
−(1゜3−ジオキソラン−2−イル)エチルコシクロ
へキシルコシクロヘキサンカルボキシアミドのシス異性
体69%及びトランス異性体25%を含有していた。 d) 粗製の4−[トランス−4−[2−(1゜2−ジ
オキソラン−2−イル)エチル1シクロヘキシル]シク
ロヘキサンカルボキシアミド42gをアルゴン通気しな
がらエチレングリコール500mQに懸濁させ、次に固
体の水酸化カリウム19gで処理した。混合物を撹拌し
ながら180°C(浴温)に5時間加熱した。冷却後、
反応混合物を水500mff中に注ぎ、10%塩酸でp
H約3の酸性にし、塩化メチレン各300mQで3回抽
出した。合液した有機相を1%塩酸50(112で1回
、水苔500m12で2回洗浄し、硫酸マグネシウム上
で乾燥し、濾過し、そして蒸発させた。 暗褐色の粗製の生成物(41g)をシリカゲル上で、酢
酸エチルを用いてクロマトグラフィーによって精製した
。得られた生成物(36g)をアセトンから結晶させ、
純粋なトランス−4−[トランス−4−[2−(1,3
−ジオキソラン−2−イル)エチルコシクロヘキシル1
シクロヘキサンカルボン酸13.8gを得た。母液を処
理し、更に純粋な生成物2.5gを得た。 e) トランス−4−[トランス−4−[2−(1
,3−ジオキソラン−2−イル)エチル]シクロヘキシ
ル]シクロヘキサンカルボン酸18 gをアルゴン通気
しながらクロロホルム600m12に溶解し、この溶液
を0℃で撹拌しながら、クロロホルム40mQ中のクロ
ロギ酸エチル7.2mQの溶液で滴下処理した。反応溶
液を更に30分間撹拌した。次にアンモニアガスを溶液
中に10分間導入した。混合物をO′Cで更に30分間
撹拌し、次に水苔300mQで2回抽出した。水相をク
ロロホルム各100mQで逆抽出した。合液した有機相
を硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、そして蒸発さ
せた。得られt;褐色結晶性の粗製の生成物(19g)
を塩化メチレン800++12から再結晶させ、淡褐色
結晶として、トランス−4−[トランス−4−[2−(
1,3−ジオキソラン−2−イル)エチル1シクロヘキ
シル]シクロヘキサンカルボキシアミド13gを得た。 f) I−ランス−4−[トランス−4−[2−(1
,3−ジオキソラン−2−イル)エチル]シクロヘキシ
ル]シクロヘキサンカルボキシアミド2.1 gをアル
ゴン通気しながらジメチルホルムアミド60mQに懸濁
させた。懸濁液をピリジン1.32mI2及びメタンス
ルホクロライド0.898mQで処理し、60℃(浴温
)で1.5時間撹拌した。次に反応溶液を塩化メチレン
及びlO%塩酸塩酸分配した。水相を塩化メチレン各1
00m2で2回抽出した。有機相を水苔100m2で2
回洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、そし
て濃縮した。かくして、純度96%の黄色結晶としてト
ランス−4−[トランス−4−[2−(l、3−ジオキ
ソラン−2−イル)エチルコシクロへキシルコシクロヘ
キサンカルボニトリル2゜5gが得られた。 g) 粗製のトランス−4−[トランス−4−[2−(
1,3−ジオキソラン−2−イル)エチルコシクロへキ
シル】シクロヘキサンカルボニトリル3.0gをアルゴ
ン通気しながら、水5Qm(2゜氷酢酸25iff及び
ジオキサンLO+Qに懸濁させ、100℃で1時間撹拌
した。その後、反応溶液を水1001で処理した。水相
を分離し、ジエチルエーテル各100m<2で3回抽出
した。有機相を希釈炭酸水素ナトリウム溶液100mQ
及び水100mffで洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾
燥し、濾過し、そして濃縮した。得られた黄色結晶(2
,25g)をヘキサン60mffから再結晶させ、無色
の結晶として、3−[)ランス−4−[トランス−4−
シアノシクロヘキシル]シクロヘキシル]プロピオンア
ルデヒド1.98 gを得た。 h) メトキシメチル−トリフェニルホスホニウムクロ
ライド4−11gをアルゴン通気しながらtert、−
ブチルメチルエーテル60mαに懸濁させ、室温にて2
分以内にカリウムtert、−ブチレー)1.26gで
処理した。懸濁液を室温で更に1時間撹拌し、次に0℃
に冷却し、tert、−ブチルメチルエーテル25ma
中の3−[トランス−4−[トランス−4−シアノシク
ロヘキシル]シクロヘキシル]プロピオンアルデヒド1
.98 gの溶液で5分以内に滴下処理した。反応混合
物を0℃で更に45分間撹拌し、次に水100mgで希
釈し、ジエチルエーテル各100maで3回抽出した。 有機相を水苔100mj2で2回洗浄し、硫酸マグネシ
ウム上で乾燥し、濾過し、そして濃縮した。粗製の生成
物をシリカゲル上にて0.5バールで、酢酸エチル/石
油エーテル(5:95容量比)を用いてクロマトグラフ
的に精製し、無色のミルク状の油として、トランス−4
−[)ランス−4−(4−メトキシ−3−ブテニル)シ
クロヘキシルコシクロヘキサンカルボニトリル2.0g
を得た。 i) )ランス−4−[トランス−4−(4−メトキ
シ−3−ブテニル)シクロヘキシルコシクロヘキサンカ
ルボニトリル−1,65gをアルゴン通気しながら、水
50mff、氷酢酸25mM及びジオキサン12+*Q
に懸濁させた。懸濁液を80℃(浴温)で2時間撹拌し
、次に水50+1112で希釈した。水相を分離し、ジ
エチルエーテル各100mQで3回抽出した。有機相を
水苔toomaで2回、次に飽和炭酸水素ナトリウム溶
液100mQ。 そして再び水100+mffで洗浄し、硫酸マグネシウ
ム上で乾燥し、濾過し、そして濃縮した。かくして、無
色の結晶として、4− [1−ランス−4−[トランス
−4−シアノシクロヘキシル)シクロヘキシル1ブチル
アルデヒド1.5gが得られた。 j) メチルトリフェニルホスホニウムブロマイド3
.28gをアルゴン通気しながら、tert、−ブチル
メチルエーテル40rRQに懸濁させた。懸濁液を室温
にて1分以内に、カリウムt ert、−プチレー1−
962mgで処理し、1時間撹拌した。 次に混合物を0℃に冷却し、tart、−ブチルメチル
エーテル20raQ中の4−[トランス−4−(トラン
ス−4−シアノシクロヘキシル)シクロヘキシル1ブチ
ルアルデヒド1.5gの溶液で3分以内に滴下処理し、
0℃で更に45分間撹拌した。 その後、反応混合物を水80maで希釈し、石油エーテ
ル各loomαで3回抽出した。有機相を水苔100m
12で2回洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過
し、そして濃縮した。粗製の生成物(2,1g)をシリ
カゲル上にて0.5バールで、酢酸エチル/石油エーテ
ル(2:98容量比)を用いてクロマトグラフ的に精製
し、メタノールから再結晶させ、融点(C−、S、)2
0.1°C05、−N36.9°C0透明点(N−I)
54.8℃を有する無色結晶として、トランス−4−[
トランス−4−(4−ペンテニル)シクロヘキシル]シ
クロヘキサンカルボニトリル1.26gを得た。 同様の方法において、次の化合物を製造することができ
たニ ドランス−4−[トランス−4−(4Z−へキセニル)
シクロヘキシルコシクロヘキサン−カルボニトリル; トランス−4−[トランス−4−(4Z−へブテニル)
シクロヘキシルコシクロヘキサン−カルボニトリル; トランス−4−[トランス−4−(4Z−オクテニル)
シクロへキシルコシクロヘキサン−カルボニトリル; トランス−4−[トランス−4−(4Z−ノネニル)シ
クロヘキシルコシクロヘキサン−カルボニトリル; トランス−4−[トランス−4−(4Z−デセニル)シ
クロヘキシル1シクロヘキサン−カルボニトリル。 工程g)で得られた3−[トランス−4−(トランス−
4−シアノシクロヘキシル)シクロヘキシル]プロピオ
ンアルデヒドを工程j)と同様の方法で反応させ、必要
に応じて、実施例3k)と同様の方法でE/Z異性化し
て、次の化合物を製造することができたニ ドランス−4−[トランス−4−(3−ブテニル)シク
ロへキシルコシクロヘキサン−カルボニトリル; 融点
(C−N) 50.7°C1透明点(N−1)
82.7℃ニ ドランス−4−[トランス−4−(3E−ペンテニル)
シクロヘキシルコシクロヘキサン−カルボニトリル:
融点 (C−N) 79.4°C1透明点 (N−1
) 99.5℃; トランス−4−[トランス−4−(3E−へキセニル)
シクロヘキシルコシクロヘキサン−カルボニトリル; トランス−4−[トランス−4−(3E−へブテニル)
シクロヘキシル1シクロヘキサン−カルボニトリル; トランス−4−[トランス−4−(3E−オクテニル)
シクロヘキシル]シクロヘキサンーカルボニトリル: トランス−4−[トランス−4−(3E−ノネニル)シ
クロヘキシルコシクロヘキサン−カルボニトリル; トランス−4−[トランス−4−(3E−デセニル)シ
クロヘキシルコシクロヘキサン−カルボニトリル。 工程h)及びi)と同様の方法で4−(4−オキソシク
ロヘキシル)ベンズアミドを反応させ、結晶化によって
得られた4−(トランス−4−ホルミルシクロヘキシル
)ベンズアミドをp−トルエンスルホン酸の存在下にお
いてアセタール化し、更に、工程C)〜g)と同様の方
法でジオキソランの反応、工程j)と同様の方法でビツ
テイヒ反応に付し、そして必要に応じて、実施例3k)
と同様の方法でE/Z異性化して、次の化合物を製造す
ることができたニ ドランス−4−[トランス−4−ビニルシクロヘキシル
)シクロヘキサン−カルボニトリル;トランス−4−[
トランス−4−(IE−プロペニル)シクロヘキシルコ
シクロヘキサン−カルボニトリル; トランス−4−[トランス−4−(IE−ブテニル)シ
クロヘキシルコシクロヘキサン−カルボニトリル: トランス−4−[トランス−4−(IE−ペンテニル)
シクロへキシルコシクロヘキサン−カルボニトリル; トランス−4−[トランス−4−(I E−へキセニル
)シクロへキシルコシクロヘキサン−カルボニトリル; トランス−4−[トランス−4−(I E−へブテニル
)シクロヘキシル1シクロヘキサン−カルボニトリル; トランス−4−[トランス−4−(IE−オクチニル)
シクロへキシルコシクロヘキサン−カルボニトリル; トランス−4−[トランス−4−(l E−ノネニル)
シクロヘキシル]シクロヘキサンーカルボニトリル; トランス−4−[トランス−4−(IE−デセニル)シ
クロヘキシル]シクロヘキサン−カルボニトリル。 上記方法と同様にして、4− [2−(4−オキソシク
ロヘキシル)エチル]ベンズイミド[モレキュラ・グリ
スタル・アンド・リキッド・クリスタル(Mo1.Cr
yst、Liq、Cryst、 131 、 327
(1985))に記載されたニトリルから製造し得る】
から出発して、また次の化合物を製造することができた
ニ ドランス−4−[2−()ランス−4−(4−ペンテニ
ル)シクロヘキシル)エチルコシクロヘキサンカルボニ
トリル; トランス−4−[2−()ランス−4−(4Z−へキセ
ニル)シクロヘキシル)エチル1シクロヘキサンカルボ
ニトリル; トランス−4−[2−(トランス−4−(42−へブテ
ニル)シクロヘキシル)エチルコシクロヘキサンカルボ
ニトリル; トランス−4−[2−()ランス−4−(4Z−オクテ
ニル)シクロヘキシル)エチルコシクロヘキサンカルボ
ニトリル; トランス−4−[2−(トランス−4−(4Z−ノネニ
ル)シクロヘキシル)エチルコシクロヘキサンカルボニ
トリル; トランス−4−(2−0ランス−4−(4−デセニル)
シクロヘキシル)エチルコシクロヘキサンカルボニトリ
ル; トランス−4−(2−()ランス−4−(3−7’テニ
ル)シクロヘキシル)エチルコシクロヘキサンカルボニ
トリル; トランス−4−[2−(1−ランス−4−(3E−ペン
テニル)シクロヘキシル)エチルコシクロヘキサンカル
ボニトリル トランス−4−[2−(1−ランス−4−(3E−へキ
セニル)シクロヘキシル)エチルコシクロヘキサンカル
ボニトリル; トランス−4−[2−(トランス−4−(3E−へブテ
ニル)シクロヘキシル)エチルコシクロヘキサンカルボ
ニトリル トランス−4−[2−()ランス−4−(3E−オクテ
ニル)シクロヘキシル)エチルコシクロヘキサンカルボ
ニトリル; トランス−4−[2−()ランス−4−(3E−ノネニ
ル)シクロヘキシル)エチルコシクロヘキサンカルボニ
トリル トランス−4−[2−(トランス−4−(3E−デセニ
ル)シクロヘキシル)エチル1シクロヘキサンカルボニ
トリル; トランス−4−[2−(トランス−4−ビニルシクロヘ
キシル)エチルコシクロヘキサンカルボニトリル; トランス−4−[2−(1−ランス−4−(lE−プロ
ペニル)シクロヘキシル)エチル1シクロヘキサンカル
ボニトリル; トランス−4−[2−(トランス−4−(IE−7’テ
ニル)シクロヘキシル)エチルコシクロヘキサンカルボ
ニトリル; トランス−4 − [2−()ランス−4−(lE−ペ
ンテニル)シクロヘキシル)エチルコシクロヘキサンカ
ルボニトリル; トランス−4−[2−()ランス−4−(lE−へキセ
ニル)シクロヘキシル)エチルコシクロヘキサンカルボ
ニトリル; トランス−4−[2−(トランス−4−(lE−へブテ
ニル)シクロヘキシル)エチルコシクロヘキサンカルボ
ニトリル; トランス−4−[Z−()ランス−4−(lE−オクテ
ニル)シクロヘキシル)エチルコシクロヘキサンカルボ
ニトリル; トランス−4−[2−(トランス−4−(lE−ノネニ
ル)シクロヘキシル)エチルコシクロヘキサンカルボニ
トリル; トランス−4−[2−(1−ランス−4−(lE−デセ
ニル)シクロヘキシル)エチル]シクロヘキサンカルボ
ニトリル。 実施例3 a) ジオキサンIQ中の4−(4−ニトロフェニル)
シクロヘキサノン(4−フェニルシクロヘキサノンをニ
トロ化して製造し得る)109゜6gの懸濁液をトリエ
チルアミン50rR1α及び5%パラジウム−木炭2g
で処理し、十分に撹拌しながら室温及び水素圧0.3バ
ールで水素添加した。2時間後、混合物を濾過した。濾
液を水流ポンプによる真空下にて浴温30°Cで蒸発さ
せ、蒸発残液を水流ポンプによる真空下で、乾燥炉中に
て40°Cで一夜乾燥した。かくして、融点127〜1
28℃を有する白色結晶として、4−(4−アミノフェ
ニル)シクロへキサノン94.5gが得られた。 b) 4N硫酸200mffをスルホン化用フラスコ
中で80°Cに加熱し、次に4N硫酸20〇−中の4−
(4−アミノフェニル)シクロへキサノン37.9gの
溶液の約5%で処理した。次いで、この反応混合物に8
0°Cで1.5時間以内に、残りの4−(4−アミノフ
ェニル)シクロヘキサノン溶液並びに水45m4中の亜
硝酸ナトリウム15.2gの溶液を同時に滴下した。そ
の後、混合物を80°Cで30分以内に、水2VmQ中
の亜硝酸ナトリウム9gの溶液で滴下処理し、80°C
で更に1時間撹拌した。反応混合物を0℃に冷却した後
、分離した結晶を吸引濾別し、冷水200++12で洗
浄し、水流ポンプによる真空下で乾燥炉中にて60°C
で一定重量になるまで乾燥した。結晶性の粗製の精製物
(34,6g)を酢酸エチル520mQに懸濁させた。 この懸濁液を還流下で1時間加熱し、次に活性炭1.7
gで処理し、還流下で更に1時間加熱した。次に混合物
を吸引濾過しく温酢酸エチル40mQですすぎ)、濾液
を水流ポンプによる真空下にて浴温40°Cで蒸発させ
た。 蒸発残渣を水流ポンプによる真空下で、乾燥炉中にて6
0°Cで、一定重量になるまで乾燥し、融点165〜1
66°Cを有する黄−褐色の結晶として、4−(4−ヒ
ドロキシフェニル)シクロへキサノン32.2gを得た
。 () tert、−ブチルメチルエーテル60mQ中
+7)4−(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサ/
73.8gの懸濁液をスルホン化用フラスコ中にて窒素
の弱い気流下で、2− (1,3−ジオキソラン−2−
イル)エチル−トリフェニルホスホニウムブロマイドi
o、6g及びカリウムtert、−ブチレート2.2g
で処理した。混合物をまず30分間撹拌し、次に25℃
で2.25時間以内に、カリウムterL、−ブチレー
ト更に2.7gで一部づつ処理し、室温で更に1時間撹
拌した。その後、反応混合物を更に2− (1,3−ジ
オキソラン−2−イル)エチル−トリフェニルホスホニ
ウムブロマイド1.8g及びカリウムtert、−ブチ
レート0.45gで処理し、更に1時間撹拌した。次に
反応混合物を水80mQ中に注ぎ、2N硫酸11mQで
酸性にした。水相を分離し、tart、−ブチルメチル
エーテル各80mQで2回抽出した。有機相を水容50
mffで洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして吸
引濾過した。濾液を水流ポンプによる真空下にて浴温4
0°Cで、一定重量になるまで蒸発させた。得られた帯
赤色の油(10,9g)をシリカゲル上で、トルエン及
びトルエン/1art、−ブチルメチルエーテル(20
:1容量比)を用いてクロマトグラフィーによって分離
した。 生成物のフラクションを水流ポンプによる真空下で蒸発
させ、最後に、水流ポンプによる真空下で乾燥炉中にて
60°Cで、一定重量になるまで残渣を乾燥し、融点1
25.5〜126.5℃を有する帯黄色結晶として、4
− [4−[2−(1,3−ジオキソラン−2−イル)
エチリデン]シクロヘキシル]フェノール4.5gを得
た。 d) l−ルエン500mQ及びトリエチルアミン
50mQ中の4−14− [2−(1,3−ジオキソラ
ン−2−イル)エチリデン]シクロヘキシル]フェノー
ル36.5gの溶液を、5%白金−木炭3.2gと共に
オートクレーブ中にて90°C及び水素圧10バールで
1時間水素添加した。次に混合物を吸引濾過し、残渣を
温トルエン30m(1で洗浄した。濾液を水流ポンプに
よる真空下にて浴温40°Cで、一定重量になるまで蒸
発させた。 得られた白色結晶(37g)を加熱しながらメタノール
180mgに溶解した。溶液を放置して室温に冷却し、
次いで冷蔵庫中に5時間入れた。次に結晶を吸引濾別し
、冷メタノール50m<2で洗浄し、水流ポンプによる
真空下で乾燥炉中にて60℃で乾燥した。かくして、融
点153.5〜154.5℃を有する白色結晶として、
4− [4−[2−(1,3−ジオキソラン−2−イル
)エチル1シクロヘキシル]フエノール27.6gが得
られた。 e)4−[トランス−4−[2−(1,3−ジオキソラ
ン−2−イル)エチル]シクロヘキシル】フェノール1
00g、5%ロジウム/酸化アルミニウム10g及び酢
酸エチルIff’の混合物をスチール製撹拌オートクレ
ーブ中にて水素圧50バール及び80℃で90分間水素
添加した。次に触媒を吸引濾別し、酢酸エチル100I
IIQで洗浄した。濾液を蒸発させ、残渣を25℃70
.4ミリバールで乾燥した。シス異性体59%及びトラ
ンス異性体36%を含有する4−[トランス−4−[2
−(1,3−ジオキソラン−2−イル)エチル1シクロ
ヘキシル]シクロヘキサノール101.75gが得られ
た。 f) 塩化メチレン80講a中のクロロクロム酸ピリジ
ニウム12.9gの溶液を窒素通気しながら室温で5分
以内に、塩化メチレン40mff中の4−[トランス−
4−[2−(1,3−ジオキソラン−2−イル)エチル
1シクロヘキシル]シクロヘキサノール13.0gの溶
液で滴下処理した。混合物を更に1時間撹拌し、次にジ
エチルエーテルloom<2で希釈し、濾過し、濾液を
蒸発させた。蒸発残渣をジエチルエーテル200m12
に採り入れ、混合物を濾過し、濾液を蒸発させ、次にこ
の方法をくり返し2回行った。その後、得られた帯褐色
固体の塊(12,1g)をシリカゲル上で、酢酸エチル
/石油エーテル(l:4容量比)を用いてクロマトグラ
フィーによって分離した。最後に、酢酸エチル60mf
f及び石油エーテル200ilIQからの無色のケトン
の7ラクシヨンを結晶させ、純粋な4−[トランス−4
−[2−(1,3−ジオキソラン−2−イル)エチル】
シクロヘキシル]シクロへキサノン7.0gを得た。 g) インプロパツール300+aff中の水素化ホウ
素ナトリウム2.97gの懸濁液を一70℃で窒素通気
しながら、インプロパツール200+mg中の4−[ト
ランス−4−[2−(1,3−ジオキソラン−2−イル
)エチル]シクロヘキシル]シクロへキサノンl1gの
溶液で滴下処理した。 約1時間後、反応混合物を放置して室温に加温し、0、
IN塩酸500m12で希釈し、塩化メチレン各300
mQで3回抽出した。有機相を水で洗浄し、硫酸マグネ
シウム上で乾燥し、濾過し、そして蒸発させた。残渣(
l1g)を酢酸エチル/石油エーテル(3:5容量比)
500mffから結晶させ、融点129.5℃を有する
純粋なトランス−4−[トランス−4−[2−(1,3
−ジオキソラン−2−イル)エチル]シクロへキシル1
シクロヘキサノール6.6gを得た。 h) 約50%油性懸濁液としての水素化ナトリウム2
.04gを窒素通気しなから丸底プラスコに入れ、ペン
タンで2回洗浄した。次にこの水素化ナトリウムに乾燥
テトラヒドロフラン40mQ及びテトラヒドロフラン3
0tsQ中のトランス−4−[トランス−4−[2−(
1,3−ジオキソラン−2−イル)エチル1シクロヘキ
シル]シクロヘキサノール6.0gの溶液を加えた。混
合物を室温で30分間撹拌し、次にヨウ化メチル4゜0
raQで処理し、還流下で2時間加熱した。次に反応混
合物を冷却し、ジエチルエーテル200+Qに採り入れ
、水苔200mgで3回洗浄した。有機相を硫酸マグネ
シウム上で乾燥し、濾過し、そして蒸発させ、かくして
、融点74℃を有する2−[2−[トランス−4−(ト
ランス−4−メトキシシクロヘキシル)シクロヘキシル
]エチル]−1,3−ジオキソラン6.3gが得られた
。 1)2−[2−[トランス−4−(トランス−4−メト
キシシクロヘキシル)シクロヘキシル]エチル]−1,
3−ジオキソラン6.2gを窒素通気しながら、水10
0mg、氷酢酸5QtQ及びジオキサン20mQで処理
した。混合物を100’O(浴温)で1.5時間撹拌し
、次に希釈炭酸水素ナトリウム溶液で中和し、ジエチル
エーテルで3回抽出した。合液したエーテル相を水で1
回、希釈炭酸水素ナトリウム溶液で2回洗浄し、硫酸マ
グネシウム上で乾燥し、濾過し、そして蒸発させた。得
られた粗製のアルデヒド(4,34g)を−20’0で
石油エーテル150mnから再結晶させ、純度96%の
3−[トランス−4−(トランス−4−メトキシシクロ
ヘキシル)シクロへキシル]プロピオンアルデヒド2,
8gを得た。 j) エチルトリフェニルホスホニウムブロマイド2J
5gをアルゴン通気しなからtart、−ブチルメチル
エーテル40mQに懸濁させた。懸濁液を室温にてカリ
ウムtert、−ブチレート797mgで処理し、1時
間撹拌した。次に混合物を0°Cに冷却し、tert、
−ブチルメチルエーテル15m(2中の3−[トランス
−4−(トランス−4−メトキシシクロヘキシル)シク
ロヘキシル1プロピオンアルデヒド1.1gの溶液で3
分以内に滴下処理し、撹拌しながら放置して徐々に室温
に加温した。 2時間後、淡黄色の懸濁液をジエチルエーテル/水で分
配した。水相を分離し、ジエチルエーテルで洗浄した。 有機相を水で2回洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し
、濾過し、そして蒸発させた。 黄色固体の粗製の生成物をシリカゲル上で酢酸エチル/
石油エーテル(3:97容量比)を用いてクロマトグラ
フ的に精製し、86:11のZ/E比を有するトランス
−4−(3−ペンテニル)−1−()ランス−4−メト
キシシクロヘキシル)シクロヘキサン0.91gを得た
。 k) トランス−4−(3−ペンテニル)−1=(トラ
ンス−4−メトキシシクロヘキシル)シクロヘキサン(
Z/E =86 : l l) 0.91 gを窒素通
気しながら、トルエン6mO,、ベンゼンスルフィン酸
ナトリウム0.11g及びIN塩酸1mQで処理した。 混合物を50°Cで15時間撹拌し、次に希釈炭酸水素
ナトリウム溶液100+Jに注ぎ、ジエチルエーテル各
50m+2で3@抽出した。合液した有機相を希釈炭酸
ナトリウム溶液100mQ及び水100m12で洗浄し
、硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、そして蒸発さ
せた。 得られた帯黄色の油(0,9g)を硝酸銀含浸したシリ
カゲル上で、ジエチルエーテル/ヘキサン(1:9容量
比)を用いて、クロマトグラフィーによって精製した。 得られた生成物(486mg)を−20°Cでメタノー
ル10mQから再結晶させ、融点(C−N’)16.6
°C及び透明点(N−I)43.7℃を有する純粋なト
ランス−4−(3E−ペンテニル)−1−0ランス−4
−メトキシシクロヘキシル)シクロヘキサンを得た。 同様の方法において、次の化合物を製造することができ
たニ ドランス−4−(3−ブテニル)−i(トランス−4−
メトキシシクロヘキシル)シクロヘキサン、 融点 (C−N)−13,6℃、透明点、(N−I)1
8.6℃; トランス−4−(3−ブテニル)−1−(トランス−4
−エトキシシクロヘキシル)シクロヘキサン、 融点 (C−N)13.1’o、透明点、(N−1)4
5、3°C; トランス−4−(3−ブテニル)−1−(トランス−4
−プロピルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサン; トランス−4−(3−ブテニル)−1−(トランス−4
−ブチルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサン; トランス−4−(3−ブテニル)−1−(トランス−4
−ペンチルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサン; トランス−4−(3−ブテニル)−1−(トランス−4
−ヘキシルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサン; トランス−4〜(3E−ペンテニル)−1−(トランス
−4−エトキシシクロヘキシル)シクロヘキサン、 融点 (C−N) 44.5°C1透明点、(N−
1)76.5°C; トランス−4−(3E−ペンテニル)−1−(トランス
−4−プロピルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサン
; トランス−4−(3E−ペンテニル)−1−(トランス
−4−ブチルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサン; トランス−4−(3E−ペンテニル)−1−(トランス
−4−ペンチルオキシシクロヘキシルシクロヘキサン; トランス−4−(3E−ペンテニル)−l−(トランス
−4−へキシルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサン
; トランス−4−(3E−へキセニル)−1−(トランス
−4−メトキシシクロヘキシル)シクロヘキサン; トランス−4 −(3 E−へキセニル)−l−(トラ
ンス−4−エトキシシクロヘキシル)シクロヘキサン; トランス−4 −(3 E−へキセニル)−l−(トラ
ンス−4−プロピルオキシシクロヘキシル)シクロヘキ
サン: トランス−4−(3E−へキセニル)−l−(トランス
−4−ブチルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサン; トランス−4 −(3 E−へキセニル)−l−(トラ
ンス−4−ペンチルオキシシクロヘキシル)シクロヘキ
サン: トランス−4 −(3 E−へキセニル)−1−(トラ
ンス−4−へキシルオキシシクロヘキシル)シクロヘキ
サン。 工程a)〜i)と同様の方法において、そして更に、得
られたプロピオンアルデヒドを実施例2、工程h)、i
)及びj)と同様の方法で反応させ、次の化合物を製造
することができたニ ドランス−4−(4−ペンテニル)−1−(トランス−
4−メトキシシクロヘキシル)シクロヘキサン、融点
(C−SB) ’t.’t℃、 透明点、(Ss−
■)14.06℃; トランス−4−(4−ペンテニル)−1−(1−ランス
−4−エトキシシクロヘキシル)シクロヘキサン、融点
(c−sl) 10.5℃、 透明点、(sll−
r )4 3 、 1 ’O;トランスー4−(4−
ペンテニル)−1−(トランス−4−プロピルオキシシ
クロヘキシル)シクロヘキサン: トランス−4−(4−ペンテニル)−1−(トランス−
4−ブチルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサン; トランス−4−(4−ペンテニル)− 1 −(トラン
ス−4−ペンチルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサ
ン; トランス−4−(4−ペンテニル)−1−(トランス−
4−へキシルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサン; トランス−4 −(4 Z−へキセニル)−1−(トラ
ンス−4−メトキシシクロヘキシル)シクロヘキサン; トランス−4 −(4 Z−へキセニル)−1−(トラ
ンス−4−エトキシシクロヘキシル)シクロヘキサン; トランス−4 −(4 Z−へキセニル)−l−(トラ
ンス−4−プロピルオキシシクロヘキシル)シクロヘキ
サン: トランス−4 −(4 Z−へキセニル)−1−(トラ
ンス−4−ブチルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサ
ン、 トランス−4−(4Z−へキセニル)−l−(トランス
−4−ペンチルオキシシクロヘキシルシクロヘキサン; トランス−4 −(4 Z−へキセニル)−l−(トラ
ンス−4−ヘキシルオキシシクロヘキシル)シクロヘキ
サン。 4−(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサノン(工
程b)を実施例2、工程h)及びi)と同様の方法で反
応させ、得られた4−(トランス−4−ホルミルシクロ
ヘキシル)フェノールをp−トルエンスルホン酸の存在
下においてエチレングリコールでアセタール化し、そし
て更にジオキソランを上記工程e)〜k)と同様の方法
で反応させ、次の化合物を製造することができたニドラ
ンス−4−ビニル−l−(トランスー4−メトキシシク
ロヘキシル)シクロヘキサン;トランス−4−ビニル−
1−(トランス−4−エトキシシクロヘキシル)シクロ
ヘキサン:トランス−4−ビニル−1−(トランス−4
−プロピルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサン; トランス−4−ビニル−1−(トランス−4−ブチルオ
キシシクロヘキシル)シクロヘキサン; トランス−4−ビニル−1−(トランス−4−ペンチル
オキシシクロヘキシル)シクロヘキサン; トランス−4−ビニル−1−(トランス−4−へキシル
オキシシクロヘキシル)シクロヘキサン: トランス−4−(l E−プロペニル)−1−(トラン
ス−4−メトキシシクロヘキシル)シクロヘキサン: トランス−4−(I E−プロペニル)−1−(トラン
ス−4−エトキシシクロヘキシル)シクロヘキサン; トランス−4−(I E−プロペニル)−1−(トラン
ス−4−プロピルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサ
ン; トランス−4−(l E−プロペニル)−1−(トラン
ス−4−ブチルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサン
; トランス−4−(IE−プロペニル)−1−(トランス
−4−ペンチルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサン
; トランス−4−(IE−プロペニル)−1−(トランス
−4−ヘキシルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサン
; トランス−4−(l E−ブテニル)−1−(トランス
−4−メトキシシクロヘキシル)シクロヘキサン; トランス−4−(I E−ブテニル)−1−(トランス
−4−エトキシシクロヘキシル)シクロヘキサン; トランス−4−(l E−ブテニル)−1−(トランス
−4−プロピルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサン
; トランス−4−(IE−ブテニル)−1−(トランス−
4−ブチルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサン: トランス−4−(IE−ブテニル)−1−(1−ランス
−4−ペンチルオキシシクロヘキシルクロヘキサン; トランス−4−(IE−ペンテニル)−1−(トランス
−4−メトキシシクロヘキシル)シクaヘキサン; トランス−4 −(I E−ペンテニル)−1=(トラ
ンス−4−エトキシシクロヘキシル)シクロヘキサン; トランス−4 −(l E−ペンテニル)−1−(トラ
ンス−4−プロピルオキシシクロヘキシル)シクロヘキ
サン; トランス−4 −(l E−ペンテニル)−l−(トラ
ンス−4−ブチルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサ
ン。 4−(2−フェニルエチル)シクロヘキサノン[Mo1
.Cryst.L iq.Cryst. 1 3 1
、 3 2 7 ( 1985)に記載されたニトリ
ルと同様の方法で製造し得る]から出発して上記方法に
従って、また次の化合物を製造することができた: 4−[2−[トランス−4 −(2 −(1 、3 −
ジオキソラン−2−イル)エチル)シクロヘキシル]エ
チル]シクロヘキサノン; トランス−4−(3−ブテニル)− 1 − [2−(
トランス−4−メトキシシクロヘキシル〕エチル]シク
ロヘキサン; トランス−4−(3−ブテニル)− 1 − [2−(
トランス−4−エトキシシクロヘキシル)エチル]シク
ロヘキサン; トランス−4−(3−ブテニル)− 1 − [2−(
トランス−4−プロピルオキシシクロヘキシル)エチル
]シクロヘキサン; トランス−4−(3−ブテニル)− 1 − [2−(
トランス−4−ブチルオキシシクロヘキシル)エチル]
シクロヘキサン; トランス−4−(3−ブテニル)−1−[2−(トラン
ス−4−ペンチルオキシシクロヘキシル)エチルコシク
ロヘキサン; トランス−4−(3−ブテニル)−1−[2−(トラン
ス−4−へキシルオキシシクロヘキシル)エチルコシク
ロヘキサン; トランス−4−(3E−ペンテニル)−1−[2−()
ランス−4−メトキシシクロヘキシル)エチルコシクロ
ヘキサン; トランス−4−(3E−ペンテニル)−1−[2−(1
−ランス−4−エトキシシクロヘキシル)エチルコシク
ロヘキサン; トランス−4−(3E−ペンテニル)−1−[2−0ラ
ンス−4−プロピルオキシシクロヘキシル)エチルコシ
クロヘキサン: トランス−4−(3E−ペンテニル)−1−[2−0ラ
ンス−4−ブチルオキシシクロヘキシル)エチルコシク
ロヘキサン: トランス−4−(3E−ペンテニル)−1−[2−(ト
ランス−4−ペンチルオキシシクロヘキシル)エチルコ
シクロヘキサン; トランス−4−(3E−ペンテニル)=1−[2−()
ランス−4−ヘキシルオキシシクロヘキシル)エチルJ
シクロヘキサン; トランス−4−(3E−へキセニル)−1−[2−(ト
ランス−4−メトキシシクロヘキシル)エチルコシクロ
ヘキサン; トランス−4−(3E−へキセニル)−1−[2−()
ランス−4−エトキシシクロヘキシル)エチル]シクロ
ヘキサン; トランス−4−(3E−へキセニル)−1−[2−(ト
ランス−4−プロピルオキシシクロヘキシル)エチルコ
シクロヘキサン: トランス−4−(3E−へキセニル)−1−[2−(ト
ランス−4−ブチルオキシシクロヘキシル)エチルコシ
クロヘキサン; トランス−4−(3E−へキセニル)−1−[2−0ラ
ンス−4−ペンチルオキシシクロヘキシル)エチルコシ
クロヘキサン; トランス−4−(3E−へキセニル)−1−[2−0ラ
ンス−4−ヘキシルオキシシクロヘキシル)エチルコシ
クロヘキサン: トランス−4−(4−ペンテニル)−1−[2−(トラ
ンス−4−メトキシシクロヘキシル)エチルコシクロヘ
キサン; トランス−4−(4−ペンテニル)−1−[2−(トラ
ンス−4−エトキシシクロヘキシル)エチルコシクロヘ
キサン; トランス−4−(4−ペンテニル)−1−[2−(トラ
ンス−4−プロピルオキシシクロヘキシル)エチルコシ
クロヘキサン; トランス−4−(4−ペンテニル’)−1−[2−(ト
ランス−4−ブチルオキシシクロヘキシル)エチルコシ
クロヘキサン; トランス−4−(4−ペンテニル’)−1−[2−(ト
ランス−4−ペンチルオキシシクロヘキシル)エチルコ
シクロヘキサン: トランス−4−(4−ペンテニル)−1−[2−(トラ
ンス−4−へキシルオキシシクロヘキシル)エチルコシ
クロヘキサン; トランス−4−(4Z−へキセニル)−1−[2−(ト
ランス−4−メトキシシクロヘキシル)エチルコシクロ
ヘキサン; トランス−4−(4Z−へキセニル)−1−[2−(ト
ランス−4−エトキシシクロヘキシル)エチル]シクロ
ヘキサン: トランス−4−(4Z−へキセニル)−1−[2−〇ラ
ンスー4−プロピルオキシシクロヘキシル)エチルコシ
クロヘキサン; トランス−4−(4Z−へキセニル)−1−[2−0ラ
ンス−4−ブチルオキシシクロヘキシル)エチルコシク
ロヘキサン; トランス−4−ビニル−1−[2−(1−ランス−4−
メトキシシクロヘキシル)エチルコシクロヘキサン: トランス−4−ビニル−1−[2−(トランス−4−エ
トキシシクロヘキシル)エチルコシクロヘキサン: トランス−4−ビニル−1−[2−(トランス−4−プ
ロピルオキシシクロヘキシル)エチル]シクロヘキサン
; トランス−4−ビニル−1−[2−(トランス−4−ブ
チルオキシシクロヘキシル)エチルコシクロヘキサン; トランス−4−ビニル−1−[2−0ランス−4−ペン
チルオキシシクロヘキシル)エチルコシクロヘキサン; トランス−4−ビニル−1−[2−(1−ランス−4−
ヘキシルオキシシクロヘキシル)エチルコシクロヘキサ
ン; トランス−4−(I E−プロペニル)−1−[2−(
)ランス−4−メトキシシクロヘキシル)エチルコシク
ロヘキサン: トランス−4−(I E−プロペニル)−1〜[2−(
トランス−4−エトキシシクロヘキシル)エチルコシク
ロヘキサン: トランス−4−(IE−プロペニル)−1−[2−()
ランス−4−プロピルオキシシクロヘキシル)エチルコ
シクロヘキサン; トランス−4−(IE−プロペニル)−l−[2−(ト
ランス−4−ブチルオキシシクロヘキシル)エチルコシ
クロヘキサン; トランス−4−(IE−プロペニル)−1−[2−(ト
ランス−4−ペンチルオキシシクロヘキシル)エチルコ
シクロヘキサン; トランス−4−(l E−プロペニル)−1−[2−0
ランス−4−へキシルオキシシクロヘキシル)エチルコ
シクロヘキサン: トランス−4−(IE−ブテニル)−1−[2−(トラ
ンス−4−メトキシシクロヘキシル)エチル1シクロヘ
キサン; トランス−4−(I E−ブテニル)−1−[2−(ト
ランス−4−エトキシシクロヘキシル)エチル1シクロ
ヘキサン; トランス−4−(IE−ブテニル)−1−[2−(トラ
ンス−4−プロピルオキシシクロヘキシル)エチルコシ
クロヘキサン; トランス−4−(l E−ブテニル)−1−[2−(ト
ランス−4−ブチルオキシシクロヘキシル)エチルコシ
クロヘキサン: トランス−4−(l E−ブテニル)−1−[2−(ト
ランス−4−ペンチルオキシシクロヘキシル)エチルコ
シクロヘキサン; トランス−4−(IE−ペンテニル)−1−[2−()
ランス−4−メトキシシクロヘキシル)エチルコシクロ
ヘキサン; トランス−4−(IE−ペンテニル)−1−[2−(1
−ランス−4−エトキシシクロヘキシル)エチルコシク
ロヘキサン; トランス−4−(l E−ペンテニル)−1−[2−(
トランス−4−プロピルオキシシクロヘキシル)エチル
コシクロヘキサン; トランス−4−(l E−ペンテニル)−1−[2−(
1−ランス−4−ブチルオキシシクロヘキシル)エチル
コシクロヘキサン。 実施例4 a) テトラヒドロフラン7OmQ中のマグネシウム3
.59g及びl−7’ロモー4−フルオロベンゼン16
.75++12によるグリニアール溶液を0°Cで30
分以内に、テトラヒドロフラン9OmQ中の4−[トラ
ンス−4−[2−(1,3−ジオキソラン−2−イル)
エチル]シクロへキシルコシクロヘキサノン(実施例3
に従って製造したもの)33.1gの溶液で滴下処理し
た。反応混合物を室温で更に4時間撹拌し、次に1.5
時間加熱沸騰させた。反応混合物を放冷し、ジエチルエ
ーテルloOmffで希釈し、半飽和塩化アンモニウム
溶液80mQで洗浄した。水相をジエチルエーテルlo
omQで逆抽出した。合液した有機相を飽和塩化ナトリ
ウム溶波谷60mQで3回洗浄し、硫酸ナトリウム上で
乾燥し、濾過し、そして蒸発させた。かくして、粗製の
1− [4−[トランス−4−[2−(1,3−ジオキ
ソラン−2−イル)エチル]シクロへキシル]−1−ヒ
ドロキシシクロヘキシル]−4−フルオロベンゼン41
゜0gが得られた。 b) m−キジ1フ225 −[トランス−4− [2− (1.3−ジオキソラン
−2−イル)エチル1 シクロヘキシル]−1−ヒドロ
キシシクロヘキシル]−4−フルオロベンセン41.0
gの溶液を硫酸水素カリウム15gで処理し、混合物を
11時間加熱沸騰させた。冷却後、塩を濾別した。濾液
をジエチルエーテル250mQで希釈し、飽和炭酸水素
ナトリウム溶液250m12.次に水苔1501111
2で2回洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして濃
縮した。かくして、粗製の1− [4−[)ランス−4
−[2−(1,3−ジオキソラン−2−イル)エチル】
シクロヘキシル] −1−シクロへキセニル] −4−
フルオロベンゼン30.3gが得られた。 c) トルエンN2中の粗製の1− [4−[トラン
ス−4−[2−(1,3−ジオキソラン−2−イル)エ
チル]シクロヘキシル]−1−シクロへキセニル] −
4−フルオロベンゼン31.5g及びトリエチルアミン
0.5+iffの溶液を5%パラジウム−木炭4.5g
と共に室温及び常圧で、水素の吸収が停止するまで水素
添加した。触媒を濾別し、濾液を蒸発させた。異性化す
るために、生じたl−[4−トランス−4−[2−(1
,3−ジオキソラン−2−イル)エチル]シクロヘキシ
ル]シクロヘキシル]−4−フルオロベンゼン(31゜
1g;シス/トランス比約1 : l)をN、N−ジメ
チルホルムアミド31OI1112中のカリウムtar
t。 −ブチレートlo、ogの溶液で処理し、105°Cに
23時間加熱した。次に反応混合物を氷400g及び飽
和炭酸水素ナトリウム溶液10011112に注いだ。 混合物をジエチルエーテル500+++Qで1回、そし
てジエチルエーテル250m2で2回抽出した。有機相
を水苔200m12で3回洗浄し、硫酸ナトリウム上で
乾燥し、濾過し、そして蒸発させた。主に固体の1−[
トランス−4−[トランス−4−(2−(1,3−ジオ
キソラン−2−イル)エチル)シクロヘキシルコシクロ
ヘキシル]−4−フルオロベンゼン30.5gが得られ
、このものを更に精製せずに処理した。 同様の方法において、次の化合物を製造することができ
た: 1−[トランス−4−[トランス−4−(2−(1,3
−ジオキソラン−2−イル)エチル)シクロヘキシルコ
シクロヘキシル]−3,4−ジフルオロベンゼン; 1−[トランス−4−[トランス−4−(2−(1,3
−ジオキシラン−2−イル)エチル)シクロヘキシルコ
シクロヘキシル]−3−クロロ−4−フルオロベンゼン
; 1−[トランス−4−[トランス−4−(2−(1,3
−ジオキシラン−2−イル)エチル)シクロヘキシル1
シクロヘキシル]−3−フルオロ−4−クロロベンゼン
; ■−[トランス−4−[トランス−4−(2−(1,3
−ジオキシラン−2−イル)エチル)シクロへキシル]
シクロヘキシル]−4−クロロベンゼン; l−[トランス−4−[2−[トランス−4−(2−(
1,3−ジオキシラン−2−イル)エチル)シクロヘキ
シル1エチル]シクロヘキシル]−4−フルオロベンゼ
ン; ■−[トランス−4−[2−[トランス−4−(2−(
1,3−ジオキシラン−2−イル)エチル)シクロヘキ
シル]エチル]シクロヘキシル]−3。 4−ジフルオロベンゼン; 1−[トランス−4−[2−[)ランス−4−(2−(
1,3−ジオキシラン−2−イル)エチル)シクロへキ
シル]エチル]シクロヘキ゛シル]−3−クロロ−4−
フルオロベンセン: l−[トランス−4−[2−[トランス−4−(2−(
1,3−ジオキシラン−2−イル)エチル)−シクロヘ
キシル]エチル]シクロヘキシル]−4−クロロベンゼ
ン; l−[トランス−4−[2−[トランス−4−(2−(
1,3−ジオキシラン−2−イル)エチル)シクロへキ
シル]エチルJシクロヘキシル]−3−フルオロ−4−
クロロベンゼン。 実施例5 a) 乾燥ジエチルエーテル50rRQ中のトランス−
4−[トランス−4−[2−(1,3−ジオキソラン−
2−イル)エチノト] シクロヘキシルコシクロヘキサ
ンカルボン酸(実施例2に従って製造したもの)3.1
gの溶液をθ′0にて水素化リチウムアルミニウム38
0’m gで処理し、次に還流下で4時間加熱した。そ
の後、反応混合物を冷却し、氷水及び塩化アンモニウム
溶液で処理し、ジエチルエーテルで抽出した。有機相を
水で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、そ
して蒸発させた。[トランス−4−[トランス−4−[
2−(1,3−ジオキソラン−2−イル)エチル]シク
ロヘキシル]シクロヘキシル]メタノールの生じた粗製
の生成物を更に精製せずに用いIこ 。 b) 乾燥ピリジン20mQ中の粗製の[トランス−4
−〔トランス−4−[2−(1,3−ジオキソラン−2
−イル〕エチル]シクロヘキシル]シクロヘキシル]メ
タノール2.96gの溶液を0°Cにてp−1−ルエン
スルホニルクロライド2゜1gで処理した。混合物を室
温で15時間撹拌し、次に塩化メチレン200+RQで
希釈し、水で数回洗浄した。有機相を硫酸マグネシウム
上で乾燥し、濾過し、そして蒸発させた。生じた粗製の
生成物をシリカゲル上で、酢酸エチル/石油エーテル(
l:9容量比)を用いて、クロマトグラフ的に精製し、
[トランス−4−[トランス−4−(2−(1,3−ジ
オキソラン−2−イル)エチル)シクロヘキシル]シク
ロヘキシル]メチルp−トルエンスルホネートを得た。 c) 95%エタノール7mQ中の水酸化カリウム0.
33gの溶液をp−フルオロフェノール1゜12gで処
理した。その後、混合物をエタノール23mQ中の[ト
ランス−4−[トランス−4−(2−(1,3−ジオキ
ソラン−2−イル)エチル)シクロへキシル]シクロヘ
キシル]メチルp−トルエンスルホネート2.26gの
溶液で処理し、80°C(浴温)で24時間撹拌した。 次に反応混合物をIN塩酸及び塩化メチレン間に分配し
た。有機相を水で数回洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾
燥し、濾過し、そして蒸発させた。生じた粗製の生成物
をシリカゲル上で、酢酸エチル/石油エーテルを用いて
クロマトグラフ的に精製し、1−[[トランス−4−(
トランス−4−(2−(l、3−ジオキソラン−2−イ
ル)エチル)シクロヘキシル)シクロヘキシル]メトキ
シ]−4−フルオロベンゼンヲ得た。 同様の方法において、次の化合物を製造することができ
た: 1−[[トランス−4−(トランス−4−(2−(1,
3−ジオキソラン−2−イル)エチル)シクロヘキシル
)シクロヘキシル]メトキシ]−3,4−ジフルオロベ
ンゼン; 1−[[)ランス−4−(トランス−4−(2−(1,
3−ジオキシラン−2−イル)エチル)シクロヘキシル
)シクロヘキシル]メトキシ]−3−クロロ−4−フル
オロベンゼン; 1−[[トランス−4−(トランス−4−(2−(1,
3−ジオキシラン−2−イル)エチル)シクロヘキシル
)シクロへキシル]メトキシ]−4−クロロベンゼン; 1−[[1−ランス−4−(トランス−4−(2−(1
,3−ジオキシラン−2−イル)エチル)シクロヘキシ
ル)シクロへキシル]メトキシ1−3−フルオロ−4−
クロロベンゼン。 実施例6 a) 塩化メチレン20mQ中のクロロクロム酸ピリジ
ニウム3.1gの溶液を室温にて塩化メチレン10mQ
中の[トランス−4−[トランス−4−[2−(1,3
−ジオキソラン−2−イル)エチル)シクロヘキシル]
シクロヘキシル]メタノール(実施例5に従って製造し
得る)3gの溶液で滴下処理した。混合物を更に1時間
撹拌し、次にジエチルエーテル50mQで希釈し、そし
て濾過した。濾液を蒸発させ、蒸発残渣をジエチルエー
テル50mΩに採り入れ、得られた溶液を再濾過した。 最後に、シリカゲル上で、酢酸エチル/ヘキサンを用い
て、クロマトグラフ的に精製し、トランス−4−[トラ
ンス−4−[2−(1,3−ジオキソラン−2−イル)
エチル]シクロヘキシル]シクロヘキサンカルボキシア
ルデヒドを得た。 b) p−フルオロベンジル−トリフェニルホスホニウ
ムブロマイド(p−フルオロベンジルブロマイド及びト
リフェニルホスフィンから製造゛し得る)3gをter
t、−ブチルメチルエーテル50mf2に懸濁させた。 この懸濁液を室温にてカリウムtert、−ブチレート
0゜75gで処理し、1.5時間撹拌した。次に混合物
を0℃で5分以内に、tert、−ブチルメチルエーテ
ル25mQ中のトランス−4−[トランス−4−[2−
(1,3−ジオキソラン−2−イル)エチル]シクロヘ
キシル]シクロヘキサンカルボキシアルデヒド1.40
gの溶液で滴下処理し、室温で更に24時間撹拌した。 その後、反応混合物をジエチルエーテルに採り入れ、水
で数回洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、
そして濃縮した。生じた粗製の生成物をシリカゲル上で
、酢酸エチル/石油エーテル(3:97容量比)を用い
て、クロマトグラフ的に精製し、β−[トランス−4−
〔トランス−4−[2−(1,3−ジオキソラン−2−
イル)エチル)シクロヘキシル] シクロヘキシル]
−4−フルオロスチレンを得た。 c) トルエン10mQ及びエタノール5+++ff
中のβ−[トランス−4−[トランス−4−[2−(1
,3−ジオキソラン−2−イル)エチル)シクロヘキシ
ル]シクロヘキシル] −4−フルオロスチレンIgの
溶液を5%パラジウム−木炭500mgと共に室温及び
常圧で、水素の吸収が停止するまで水素添加した。次に
黒色懸濁液を濾過した。 濾液蒸発させ、l−[2−[)ランス−4−[トランス
−4−(2−(1,3−ジオキソラン−2−イル)エチ
ル)シクロヘキシル]シクロヘキシル1エチル1−4−
フルオロベンゼンを得た。 同様の方法において、次の化合物を製造することができ
た: 1−[2−[1−ランス−4−[トランス−4−(2−
(1,3−ジオキシラン−2−イル)エチル)シクロヘ
キーシル]シクロヘキシル]エチル]−3,4−ジフル
オロベンゼン: 1−[2−[トランス−4−[トランス−4−(2−(
1,3−ジオキソラン−2−イル)エチル)シクロヘキ
シル]シクロヘキシル]エチル]−3−クロロ−4−フ
ルオロベンゼン; 1−[2−[トランス−4−[トランス−4−(2−(
1,3−ジオキシラン−2−イル)エチル)シクロヘキ
シル]シクロヘキシル]エチル]−4−クロロベンゼン
; 1−[2−[トランス−4−[トランス−4−(2−(
1,3−ジオキシラン−2−イル)エチル)シクロヘキ
シル]シクロヘキシル]エチル]−3−フルオロ−4−
クロロベンゼン。 実施例7 ピリジン5−中の4−フルオロベンゾイルクロライド1
.7gの溶液をトランス−4−[トランス−4−[2−
(1,3−ジオキソラン−2−イル)エチル]シクロヘ
キシル]シクロヘキサノール(実施例3に従って製造し
たもの)2.8gで処理し、室温で12時間撹拌した。 その後、反応混合物を氷水に注ぎ、ジエチルエーテルで
3回抽出した。有機相を順次、飽和炭酸水素ナトリウム
溶液、10%塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム溶液及び水
で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、そし
て濃縮した。生じた粗製の生成物をシリカゲル上で、酢
酸エチル/石油エーテル(3:97容量比)を用いて、
クロマトグラフ的に精製し、4−フルオロ安息香酸トラ
ンス−4−[トランス−4−[2−(1,3−ジオキソ
ラン−2−イル)エチル1シクロヘキシル]シクロヘキ
シルエステルを得た。 同様の方法において、次の化合物を製造することができ
た: 3.4−シフロオロ安息香酸 トランス−4−[トラン
ス−4−[2−(1,3−ジオキシラン−2−イル)エ
チル]シクロヘキシル]シクロヘキシル エステル: 3−クロロ−4−フルオロ安息香酸 トランス−4−[
トランス−4−[2−(1,3−ジオキソラン−2−イ
ル)エチル]シクロヘキシル]シクロヘキシル エステ
ル; 4−クロロ安息香酸 トランス−4−[トランス−4−
[2−(1,3−ジオキシラン−2−イル)エチル1シ
クロヘキシル]シクロヘキシルエステル; 3−フルオロ−4−クロロ安息香酸トランス−4−[ト
ランス−4−[2−(1,3−ジオキソラン−2−イル
)エチルコシクロへキシルコシクロヘキシル エステル
。 実施例8 約50%油性懸濁液としての水素化ナトリウム2.04
gを窒素通気下でフラスコに入れ、ペンタンで2回洗浄
した。次にこの水素化ナトリウムに乾燥テトラヒドロフ
ラン40mQ及びテトラヒドロフラン3OmQ中のトラ
ンス−4−[1−ランス−4−[2−(1,3−ジオキ
ソラン−2−イル)エチル]シクロヘキシル]シクロヘ
キサノール(実施例2に従って製造したもの)6.0g
の溶液を加えた。混合物を室温で30分間撹拌し、次に
4−フルオロベンジルブロマイド6.03gで処理し、
還流下で2時間加熱した。反応混合物を冷却し、ジエチ
ルエーテル200mffに採り入れ、水苔200m(2
で3回洗浄した。有機相を硫酸マグネシウム上で乾燥し
、濾過し、そして蒸発させ、かくして、トランス−4−
[トランス−4−[2−(1,3−ジオキソラン−2−
イル)エチルコシクロへキシルコシクロヘキシル4−フ
ルオロベンジルエーテルヲ得り。 同様の方法において、次の化合物を製造することができ
たニ ドランス−4−[トランス−4−[2−(1。 3−ジオキシラン−2−イル)エチルコシクロへキシル
コシクロヘキシル 3.4−ジフルオロベンジル エー
テル; トランス−4−[トランス−4−[2−(1゜3−ジオ
キソラン−2−イル)エチル]シクロヘキシル]シクロ
ヘキシル 3−クロロ−4−フルオロベンジル エーテ
ル; トランス−4−[トランス−4−[2−(1゜3−ジオ
キシラン−2−イル)エチルコシクロヘキシル1シクロ
ヘキシル 4−クロロベンジル エーテル; トランス−4−[トランス−4−[2−(1゜3−ジオ
キソラン−2−イル)エチルコシクロへキシルコシクロ
ヘキシル 3−フルオロ−4−クロロベンジル エーテ
ル。 実施例9 a) 粗製の1−[トランス−4−[トランス−4−(
2−(1,3−ジオキソラン−2−イル)エチル)シク
ロヘキシル1シクロヘキシル]−4−フルオロベンゼン
29.1gs ジオキサン200mQ、氷酢酸200m
a及び水400mQの混合物を撹拌し且つ窒素通気しな
がら、やや沸騰温度に5時間加熱した(浴温115°C
)。次に反応混合物を氷500g上に注いだ。水相を分
離し、ジエチルエーテル各400mQで3回抽出した。 合液した有機相を飽和炭酸水素ナトリウム溶液500m
Q及び水500mQで洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥
し、濾過し、そして蒸発させた。かくして、粗製の固体
の3−[トランス−4−[トランス−4−(4−フルオ
ロフェニル)シクロヘキシル]シクロへキシル]プロピ
オンアルデヒド25゜2gが得られた。 b) ジエチルエーテル50mQ中のメトキシメチル−
トリフェニルホスホニウムクロライド9゜1gの懸濁液
を窒素通気しながらカリウムtert、−ブチレート2
.85gで処理した。この赤色懸濁液を室温で更に30
分間撹拌し、次に乾燥ジエチルエーテル30rtrQ中
の粗製の3− [トランス−4−[トランス−4−(4
−フルオロフェニル)シクロへキシル]シクロヘキシル
]プロピオンアルデヒド5.43gの溶液にてo′cで
滴下処理した。反応混合物を室温で更に90分間撹拌し
、次にヘキサン300m12中に注ぎ、そして濾過した
。 濃縮した濾液をシリカゲル上で、ヘキサンを用いてクロ
マトグラフ的に精製し、固体の1−[トランス−4−[
トランス−4−(4−メトキシ−3−ブテニル)シクロ
ヘキシル]シクロヘキシル]−4−フルオロベンゼン4
.9gをlだ。 c)1−[)ランス−4−[トランス−4−(4−メト
キシ−3−ブテニル)シクロヘキシル]シクロヘキシル
]−4−フルオロベンゼン2.48g、ジオキサン30
m(t、氷酢酸20mα及び水40mQの混合物を撹拌
し且つ窒素通気しながら、やや沸騰温度に加熱した(浴
温115°C)。冷却後、懸濁液を水70mQで希釈し
た。水相を分離し、ジエチルエーテル各80mQで3回
抽出した。 合液した有機相を水苔1000++IQで2回洗浄し、
硫酸ナトリウム上で乾燥し、濾過し、そして蒸発させた
。かくして、固体の4−[トランス−4−[トランス−
4−(4−フルオロフェニル)シクロヘキシル]シクロ
ヘキシル]ブチルアルデヒド2.3gが得られた。 d) ジエチルエーテル80+xff中のメチル−トリ
フェニルホスホニウムブロマイド5.19gの懸濁液を
窒素通気しながらカリウムtert、−ブチレート−1
,55gで処理した。黄色懸濁液を室温で更に45分間
撹拌し、次にOoCにて4−[トランス−4−[トラン
ス−4−(4−フルオロフェニル)シクロヘキシル]シ
クロヘキシル]ブチルアルデヒド2.3gの溶液で滴下
処理した。反応混合物を0℃で更に2時間撹拌し、次に
水60ra(1で希釈した。水相を分離し、ヘキサン各
60raQで2回抽出した。合液した有機相を水で洗浄
して中性にし、硫酸ナトリウム上で乾燥し、濾過し、そ
して濃縮した。残渣をシリカゲル上で、ヘキサンを用い
てクロマトグラフ的に精製し、粗製の生成物1.89
gを得た。アセトンから一20℃で2回再結晶させた後
、融点(C−N)65.7℃及び透明点(N−I)12
9.7℃を有するl−[トランス−4−[トランス−4
−(4−ペンテニル)シクロヘキシルコシクロヘキシル
] −4−フルオロベンゼン1.22gが得られた。 同様の方法において、実施例1に示した4−アルケニル
化合物並びに次の化合物を製造することができた: l−[トランス−4−[トランス−4−(4−ペンテニ
ル)シクロヘキシルコシクロへキシル−3,4−ジフル
オロベンゼン: l−[トランス−4−[トランス−4−(4−ペンテニ
ル)シクロヘキシルコシクロヘキシル−310ロー4−
フルオロベンゼン: l−[トランス−4−[トランス−4−(4−ペンテニ
ル)シクロヘキシルコシクロへキシル−4−クロロベン
ゼン; l−[トランス−4−[トランス−4−(4−ペンテニ
ル)シクロヘキシルコシクロへキシル−3−フルオロ−
4−クロロベンゼン: l−[トランス−4−[2−(トランス−4−(4−ペ
ンテニル)シクロヘキシル)エチル]シクロヘキシル]
−4−フルオロベンゼン;l−[トランス−4−[2−
(トランス−4−(4−ペンテニル)シクロヘキシル)
エチルコシクロヘキシル]−3,4−ジフルオロベンゼ
ン:l−[トランス−4−[2−()ランス−4−(4
−ペンテニル)シクロヘキシル)エチル]シクロヘキシ
ル]−3−クロロ−4−7ルオロベンゼン; l−[トランス−4−[2−(トランス−4−(4−ペ
ンテニル)シクロヘキシル)エチル]シクロヘキシル]
−4−クロロベンゼン: l−[トランス−4−[2−(トランス−4−(4−ペ
ンテニル)シクロヘキシル)エチル]シクロヘキシル]
−3−フルオロ−4−クロロベンゼン; 1−[[)ランス−4−(トランス−4−(4−ペンテ
ニル)シクロヘキシル)シクロヘキシル]メトキシ]−
4−フルオロベンゼン; 1−[[)ランス−4−(トランス−4−(4−ペンテ
ニル)シクロヘキシル)シクロヘキシル]メトキシ]−
3,4−ジフルオロベンゼン;1−[[トランス−4−
(トランス−4−(4−ペンテニル)シクロヘキシル)
シクロヘキシル】メトキシ]−3−クロロー4−フルオ
ロベンゼン:1−[[トランス−4−(トランス−4−
(4−ペンテニル)シクロヘキシル)シクロヘキシル]
メトキシ]−4−クロロベンゼン; 1−[[)ランス−4−(トランス−4−(4−ペンテ
ニル)シクロヘキシル)シクロヘキシル]メトキシ]−
3−フルオロ−4−クロロベンセン;1−[2−[トラ
ンス−4−(トランス−4−(4−ペンテニル)シクロ
ヘキシル)シクロヘキシル]エチル]−4−フルオロベ
ンゼン;融点(c−sm)7.1”c、 相転位点(S
s N)93℃、 透明点(N−1)116.6℃;
1−[2−[トランス−4−(トランス−4−(4−ペ
ンテニル)シクロヘキシル)シクロヘキシル]エチル]
−3,4−ジフルオロベンゼン:1−[2−[トランス
−4−(トランス−4−(4−ペンテニル)シクロヘキ
シル)シクロヘキシル]エチル]−3−クロロ−4−フ
ルオロベンゼン; 1−[2−[トランス−4−(トランス−4=(4−ペ
ンテニル)シクロヘキシル)シクロヘキシル]エチル]
−4−クロロベンゼン;1−[2−[1−ランス−4−
(トランス−4−(4−ペンテニル)シクロヘキシル)
シクロへキシル]エチル]−3−フルオロ−4−クロロ
ベンゼン; 4−フルto安息香fi トランス−4−[トランス
−4−(4−ペンテニル)シクロヘキシル)シクロヘキ
シル1 エステル; 3.4−ジフルオロ安息香酸 トランス−4−[トラン
ス−4−(4−ペンテニル)シクロヘキシル)シクロへ
キシルコ エステル;3−クロロ−4−フルオロ安息香
酸トランス−4−[トランス−4−(4−ペンテニル)
シクロヘキシル)シクロへキシル] エステル:4−ク
ロa安息香酸 トランス−4−[トランス−4−(4−
ペンテニル)シクロヘキシル)シクロヘキシル エステ
ル: 3−フルオロ−4−クロロ安息香酸 トランス−4−[
トランス−4−(4−ペンテニル)シクロヘキシルコシ
クロヘキシル エステル;トランス−4−[トランス−
4−(4−ペンテニル)シクロへキシルコシクロへキシ
ル−4−フルオロベンジル エステル; トランス−4−[トランス−4−(4−ペンテニル)シ
クロヘキシルコシクロヘキシル3.4−シフ)レオロペ
ンジル エーテル; トランス−4−[トランス−4−(4−ペンテニル)シ
クロへキシルコシクロヘキシル3−クロロ−4−フルオ
ロベンジル エーテル;トランス−4−[トランス−4
−(4−ペンテニル)シクロヘキシル1シクロヘキシル
4−クロロベンジル エーテル: トランス−4−[トランス−4−(4−ペンテニル)シ
クロヘキシルコシクロヘキシル3−フルオロ−4−クロ
ロベンジル エーテル:l−[トランス−4−[トラン
ス−4−(4Z−へキセニル)シクロヘキシルコシクロ
ヘキシル1−4−フルオロベンゼン; 1−[トランス−4−[トランス−4−(4Z−へキセ
ニル)シクロヘキシルコシクロヘキシル]−3,4−ジ
フルオロベンゼン; l−[トランス−4−[2−(トランス−4−(4Z−
へキセニル)シクロヘキシル)エチル1シクロヘキシル
]−4−フルオロベンゼン;■−[トランス−4−[2
−(1−ランス−4−(4Z−へキセニル)シクロヘキ
シル)エチルコシクロヘキシル]−3,4−ジフルオロ
ベンゼン:1−[トランス−4−[2−(1−ランス−
4−(4Z−へキセニル)シクロヘキシル)シクロヘキ
シル]メトキシ]−4−フルオロベンゼン:1−[[1
−ランス−4−(トランス−4−(42−へキセニル)
シクロヘキシル)シクロへキシル]メトキシ]−3,4
−ジフルオロベンゼン;1−[2−[トランス−4−(
トランス−4−(4Z−へキセニル)シクロヘキシル)
シクロヘキシル]エチル] −4−フルオロベンゼン;
1−[2−[トランス−4−(トランス−4−(42−
へキセニル)シクロヘキシル)シクロヘキシル]エチル
]−3,4−ジフルオロベンゼン;4−フルオロ安息香
酸トランス−4−[トランス−4−(4Z−へキセニル
)シクロへキシルコシクロヘキシル エステル; 3.4−ジフルオロ安息香酸 トランス−4−[トラン
ス−4−(4Z−へキセニル)シクロヘキシルコシクロ
ヘキシル エステル;トランス−4−[トランス−4−
(4Z−へキセニル)シクロヘキシル]シクロへキシル
〕4−フルオロベンジル エーテル; トランス−4−[トランス−4−(4Z−へキセニル)
シクロヘキシルコシクロヘキシル3.4−ジフルオロベ
ンジル エーテル: 工程b)及びC)を省略して、同様の方法において、ま
た実施例1に示した3E−アルケニル化金物並びに次の
化合物を製造することができた:l−[トランス−4−
[トランス−4−(3−ブテニル)シクロヘキシルコシ
クロへキシル−3゜4−ジフルオロベンゼン; l−[トランス−4−[トランス−4−(3−ブテニル
)シクロヘキシルコシクロヘキシル−3−クロロ−4−
フルオロベンゼン; l−[トランス−4−[トランス−4−(3−ブテニル
)シクロヘキシルコシクロへキシル−4−クロロベンゼ
ン; l−[トランス−4−[トランス−4−(3−ブテニル
)シクロヘキシルコシクロヘキシル−3−フルオロ−4
−クロロベンゼン; l−[トランス−4−[2−(トランス−4−(3−ブ
テニル)シクロヘキシル)エチルコシクロヘキシル]−
3,4−ジフルオロベンゼン;l−[トランス−4−[
2−(トランス−4−(3−’テニル)シクロヘキシル
)エチル]シクロヘキシル]−3−クロロ−4−フルオ
ロベンゼン;l−[トランス−4−[2−(トランス−
4=(3−ブテニル)シクロヘキシル)エチル]シクロ
ヘキシル]−4−クロロベンゼン; l−[トランス−4−[2−(トランス−4−(3−7
’テニル)シクロヘキシル)エチル]シクロヘキシル]
−3−フルオロ−4−クロロベンゼン;1−[[トラン
ス−4−(トランス−4−(3−ブテニル)シクロヘキ
シル)シクロへキシル]メトキシ]−4−フルオロベン
ゼン; 融点(C−N)82.2℃、 透明点(N−1)131
.7℃; 1−[[1−ランス−4−(トランス−4−(3−ブテ
ニル)シクロヘキシル)シクロヘキシル]メートキシ]
−3,4−ジフルオロベンゼン;l−[[トランス−4
−(トランス−4−(3−ブテニル)シクロヘキシル)
シクロヘキシル]メトキシ〕−3−クロロ−4−フルオ
ロベンゼン:1−[[)ランス−4−(トランス−4−
(3−ブテニル)シクロヘキシル)シクロヘキシル]メ
トキシ]−4−クロロベンゼン; 1−[[トランス−4−(トランス−4−(3−ブテニ
ル)シクロヘキシル)シクロヘキシル]メトキシ]−3
−フルオロ−4−クロロベンゼン;1− [2−[)ラ
ンス−4−(トランス−4−(3−ブテニル)シクロヘ
キシル)シクロヘキシル]エチル]−3,4−ジフルオ
ロベンゼン;1−[2−[トランス−4−(トランス−
4−(3−ブテニル)シクロヘキシル)シクロヘキシル
]エチル]−3−クロロ−4−フルオロベンゼン; 1−[2−[)ランス−4−(トランス−4−(3−ブ
テニル)シクロヘキシル)シクロヘキシル]エチル]−
4−クロロベンゼン; 1−[2−[)ランス−4−(トランス−4−(3−ブ
テニル)シクロヘキシル)シクロへキシル]エチル]−
3−フルオロ−4−クロロベンゼン; 3.4−ジフルオロ安息香酸 トランス−4−[トラン
ス−4−(3−7’テニル)シクロヘキシルコシクロヘ
キシル エステル; 3−クロロ−4−フルオロ9.1B、香酸)ランス−4
−[トランス−4−(3−ブテニル)シクロへキシルコ
シクロヘキシル エステル;4−クロロ安息香酸 トラ
ンス−4−[トランス−4−(3−ブテニル)シクロヘ
キシルコシクロヘキシル エステル: 3−フルオロ−4−クロロ安息香酸 トランス−4−[
トランス−4−(3−ブテニル)シクロヘキシルコシク
ロヘキシル エステル;トランス−4−[トランス−4
−(3−ブテニル)シクロヘキシルコシクロヘキシル4
−フルオロベンジル エーテル; 融点(C−N) 37.7°0、 透明点(N−I)
92.8℃; トランス−4−[トランス−4−(3−ブテニル)シク
ロヘキシルコシクロヘキシル3.4−ジフルオロベンジ
ル エーテル; トランス−4−[トランス−4−(3−ブテニル)シク
ロヘキシルコシクロヘキシル3−クロロ−4−フルオロ
ベンジル エーテル; トランス−4−[トランス−4−(3−ブテニル)シク
ロヘキシルコシクロヘキシル4−クロロベンジル エー
テル; トランス−4−[トランス−4−(3−ブテニル)シク
ロヘキシル1シクロヘキシル3−フルオロ−4−クロロ
ベンジル エーテル; l−[トランス−4−[トランス−4−(3E−ペンテ
ニル)シクロヘキシルコシクロヘキシル]−3,4−ジ
フルオロベンゼン; 1−[[1−ランス−4−[2−(トランス−4−(3
E−ペンテニル)シクロヘキシル)エチル]シクロヘキ
シル]−3,4−ジフルオロベンゼン;1− [[)ラ
ンス−4−(トランス−4−(3E−ペンテニル)シク
ロヘキシル)エチル]シクロヘキシル1メトキシ]−4
−フルオロベンゼン;1−[[)ランス−4−(トラン
ス−4−(3E−ペンテニル)シクロヘキシル)シクロ
ヘキシル]メトキシ]−3,4−ジフルオロベンゼン;
1−[2−[トランス−4−(トランス−4−(3E−
ペンテニル)シクロヘキシル)シクロヘキシル]エチル
]−3,4−ジフルオロベンゼン:トランス−4−[ト
ランス−4−(3E−ペンテニル)シクロへキシルコシ
クロヘキシル4−フルオロベンジル エーテル; トランス−4−[トランス−4−(3E−ペンテニル)
シクロヘキシルコシクロヘキシル3.4=ジフルオロベ
ンジル エーテル; 3.4−ジフルオロ安息香酸 トランス−4−[トラン
ス−4−(3E−ペンテニル)シクロヘキシルコシクロ
ヘキシル エステル;トランス−4−[トランス−4−
(3E−ペンテニル)シクロヘキシルコシクロヘキシル
3.4−ジフルオロベンジル エーテル。 実施例10 a) ジエチルエーテル50鱈中の水素化リチウムアル
ミニウム1.20gの懸濁液をジエチルエーテル200
m12及びテトラヒドロフ9冫4ル)シクロヘキサンカ
ルボン酸6.67gの溶液で15分以内に滴下処理した
。反応混合物を室温で2時間撹拌し、次にアセトン4m
Q及び水14、aで滴下処理し、3N塩酸で酸性にした
(pH約1)。水相を分離した。有機相を水、半飽和炭
酸ナトリウム溶波谷20mQで2回、そして水各3Qm
Qで3回洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして蒸
発させた。かくして、融点65〜70°0を有する粗製
の[トランス−4−(4−フルオロフェニル)シクロヘ
キシル]メタノール6。 08gが得られた。 b) ジクロロメタン80mQ中のクロロクロム酸ピリ
ジニウム11.35gの懸濁液をジエチルエーテル18
mQ中の[トランス−4−(4−フルオロフェニル)シ
クロへキシル]メタノール6、06gの溶液で滴下処理
した。反応混合物を4時間撹拌し、次にジエチルエーテ
ル50IIIQで希釈し、暗色の残渣からデカンテーシ
ョンし、そして濾過した。濾液を濃縮し、帯黄色油とし
て、トランス−4−(4−フルオロフェニル)シクロヘ
キサンカルボキシアルデヒド4.86gが得られ、この
ものは室温で固化した;融点く30°C0実施例11 トルエン40mQ中の2−(4−ペンテニル)−1,3
−プロパンジオール0.98g及びトランス−4−(4
−フルオロフェニル)シクロヘキサンカルボキシアルデ
ヒド1.34gの溶液を、下降冷却器を備えたスルホン
化用フラスコ中にて10%硫酸4滴で処理した。混合物
を1時間沸騰させ、留出した湿った溶媒を新しいトルエ
ンの滴下によって交換した。次に反応混合物をトリエチ
ルアミン(約8滴)で中和し、水各15rAI2で2回
洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、濾過し、そして濃
縮した。残渣(2.22g)をシリカゲル上で、ヘキサ
ン/酢酸エチル(39:1容量比)を用いてクロマトグ
ラフ的に精製し、最後に、エタノールからくり返し再結
晶させ、純粋なトランス−2−[トランス−4−(4−
フルオロフェニル)シクロヘキシル] −5− (4−
ペンテニル)−m−ジオキサン0.44gを得た:融点
(C−3.)68.5℃、相転位点(SaN)77°C
1透明点(N−1)96.5℃。 同様の方法において、次の化合物を製造することができ
たニ ドランス−2−[トランス−4−(3,4−ジフルオロ
フェニル)シクロヘキシル3−5−(4−ペンテニル)
−■−ジオキサン: トランスー2−[トランス−4−(4−クロロフェニル
)シクロヘキシル]−5−(4−ペンテニル)−m−ジ
オキサン: トランス−2−[トランス−4−(3,4−ジフルオロ
フェニル)シクロヘキシル]−5−(3−ブテニル)−
一−ジオキサン; トランス−2−[トランス−4−(4−クロロフェニル
)シクロヘキシル]−5−(3−フチニル)−m−ジオ
キサン: トランス−2−[トランス−4−[2−(4−フルオロ
フェニル)エチルコシクロヘキシル】−5−(4−ペン
テニル)−m−ジオキサン;トランス−2−[トランス
−4−[2−(3。 4−ジフルオロフェニル)エチルコシクロヘキシル]−
5−(4−ペンテニル)−m−ジオキサン;トランス−
2−[トランス−4−[2−(4−クロロフェニル)エ
チルコシクロヘキシル]−5−(4−ペンテニル)−m
−ジオキサン;トランス−2−[トランス−4−[2−
(3゜4−ジフルオロフェニル)エチルコシクロヘキシ
ル]−5−(3−ブテニル)−m−ジオキサン;トラン
ス−2−
含有する液晶混合物並びに電子−光学目的に対するその
用途に関する。 液晶は主に表示装置における電媒体として用いられ、そ
の理由はかかる物質の光学特性が印加電圧によって影響
を受は得るためである。液晶に基ずく電子−光学装置は
当該分野に精通せる者にとってはよく知られており、種
々な効果に基ずくことができる。かかる装置の例は動的
散乱(dynamicscattering)を有する
セル、DAPセル(整列した相の変形)、ゲスト/ホス
ト(guest/host)セル、ねじれたネマテイク
構造(twisted nematicstructu
re)を有するTNセル、STNセル[「超−ねじれた
ネマテイク」 (“super−twisted ne
matic”)]、SBEセル「「超−複屈折効果」(
“super−birefringence effe
ct″)]及びOMIセル「「光学モード干渉」 (“
optical modeinterference”
)1であや。最も普通の表示装置はシャット−へルフリ
ツヒ(S chadt−Helfrich)効果に基ず
き、ねじれたネマテイク構造を有する。 液晶物質は良好な化学的及び熱的安定性並びに電場及び
電磁照射に対して良好な安定性を有していなければなら
ない。更に液晶物質は低粘度を有するべきであり、セル
において短い応答呼量、低閾値電位(low thre
shold potential)及び高度のコントラ
ストを示すべきである。更に、約−30℃乃至+80℃
、特に約−20°C乃至+60℃の通常の操作温度で、
液晶は適当な中間相(mesophase) 、例えば
上記のセルに対してネマテイクまたはコレステリック(
cholesteric)中間相を有するべきである。 更に特性、例えば導電率、誘電異方性(dielect
ric anisotropy)及び光学異方性が、セ
ルのタイプ及び適用分野に応じて、異なる要求をみたさ
なければならない。例えばねじれたネマテイク構造を有
するセルに対する物質は正の誘電異方性及び可能な限り
低い導電率を有するべきである。高い光学異方性を有す
る化合物における一般的な興味に加えて、最近、低い光
学異方性を有する物質に対して、特に活性的にアドレッ
シングされた(actively addressed
)液晶表示器、例えばテレビジョン・セットにおけるT
PT (薄いフィルム・トランジスター)用途に対して
興味が増加しているが、しかしながら、これによって、
かかる物質に度々認められる効果、例えば高度にオーダ
ーされたスメクテイク(highly ordered
smet ic)相の発生または閾値電位及び応答時間
の増加を可能な限り避けるべきである。 液晶は一般に数成分の混合物として用いられるために、
成分が相互に良好な混和性を有することが重要である。 本発明は一般式 式中、Xlはフッ素または塩素を表わし、そしてX2は
水素、フッ素または塩素を表わし、R1は3E−アルケ
ニル、4−アルケニル、2E−アルケニルオキシまたは
3−アルケニルオキシを表わし;nは数0または1を表
わし;基Y1及びY2の一つは単一共有結合、−COO
−1−OOC−1□−CH2CH,−1−cH,O−ま
たは一〇CH,−を表わし、そして基YI及びY2の他
は単一共有結合を表わし;環AI及びA2は各々独立し
て、随時2個の非隣接CH2基が酸素に代わっていても
よい置換されたまたは未置換のトランス−1,4−シク
ロヘキシレン、或いは随時1個のCH基まt;は2個の
CH基が窒素に代わっていてもよい置換されたまたは未
置換の1.4−フェニレンを表わし;条件として、同時
にXlがフッ素を表わし、そしてR1が3E−アルケニ
ルを表わす場合、X2はフッ素または塩素を表わし、モ
して/或いはYlまたはY2は−CH20−または−〇
CH2−を表わすものとする、 のハロベンゼン誘導体を提供する。 本発明における化合物は一般に正の誘電異方性を有して
いる。シアノ化合物と比較して、本化合物は比較的に極
性が小さいが、本化合物はシアノ化合物よりも驚くほど
低い閾値電位を与える。更に、本化合物はシアン化合物
よりも高い安定性及び低導電率を有している。 驚くべきことに、本発明における化合物は、低い閾値電
位に加えて、同様な短い応答時間を示す。 高度にオーダーされたスメクテイク相が完全にまたは少
なくとも大きく抑制され、そして融点が度々降下する。 従って、本発明における化合物はネマテイク及びコレス
テリック混合物の成分として特に適当である。式Iの二
環式化合物は、特に低い閾値電位、応答時間及び融点に
するためのドーピング剤として主に適している。一般に
、式■の三環式化合物は広いネマテイクまたはコレステ
リック中間相範囲を宵し、混合物において広い中間相範
囲をもたらすために適しており、これによって、同時に
閾値電位及び応答時間が驚くほど低く保持される。 式Tの化合物の相互及び公知の液晶における良好な溶解
性によって、一般に比較的高濃度を用いることができ、
同時に、液晶混合物における成分数を減じることができ
る。これはまた特に式1の三環式化合物に対してあては
まる。 式Iの化合物の光学異方性を環A1及びA2の選択に応
じて広い範囲に変えることができ、飽和環は光学異方性
の低い値をもたらし、芳香族環は光学異方性の高い値を
もたらす。上記の利点は全体の範囲に適用され、また特
に低い光学異方性を有する化合物に見い出される。 式■におけるr3E−アルケニル」、「4−アルケニル
J、r2E−アルケニルオキシ」及び「3−アルケニル
オキシJなる用語には直鎖状及び分枝鎖状残基が含まれ
る。一般に直鎖状残基、例えば3−ブテニル、3E−ペ
ンテニル、3E−へキセニル、3E−へブテニル、3E
−オクテニル、3E−ノネニル、3E−デセニル、4−
ペンテニル、4−へキセニル、4−へブテニル、4−オ
クテニル、4−ノネニル、4−デセニル、アリルオキン
、2E−ブテニルオキシ、2E−ペンテニルオキシ、2
E−へキセニルオキシ、2E−へブテニルオキシ、2E
−オタテニルオキシ、2E−ノネニルオキシ、3−ブテ
ニルオキシ、3−ペンテニルオキシ、3−へキセニルオ
キシ、3−へブテニルオキシ、3−オクテニルオキシ、
3−ノネニルオキシ等が好ましい。分枝鎖状光学的活性
残基R′、例えば5−メチル−3E−へブテニル及び6
−メチル−4−オクテニルを有する化合物は主にキラル
(chiral)ドーピング剤及び/またはコレステリ
ック液晶として興味ある。E−または2−型において存
在し得る4−アルケニル及び3−アルケニルオキシ残基
R1の場合、一般に2−型が好ましい。有利には、3E
−アルケニル残基は炭素原子約4〜15個を有し、4−
アルケニル残基は炭素原子約5〜15個を有し、2E−
アルケニルオキシ残基は炭素原子約3〜14個を有し、
そして3−アルケニルオキシ残基は炭素原子約4〜14
個を有する。炭素原子10個までを有するアルケニル残
基及び炭素原子9個までを有するアルケニルオキシ残基
が一般に好ましい。特に好ましい残基R1は3−ブテニ
ノ呟 3E−ペンテニル、4−ペンテニJ呟 アリルオ
キシ及び3−ブテニルオキシである。 「随時2個の非隣接CH,基が酸素に代わっていてもよ
い置換されたまたは未置換のトランス−1,4−シクロ
ヘキシレン」なる用語(また本発明の範囲内で「飽和環
」として表わす)には特にトランス−1,4−シクロヘ
キシレン及びトランス−m−ジオキサン−2,5−ジイ
ル並びに、液晶における通常の置換基、例えばシアノ、
メチル、フッ素または塩素で置換される環、例えばl−
シアノ−トランス−1,4−シクロヘキシレンまたは2
−メチル−トランス−1,4−シクロヘキシレンが含ま
れる。 「随時1個のCH基または2個のCH基が窒素に代わっ
ていてもよい置換されたまたは未置換の1.4−フェニ
レン」なる用語(また本発明の範囲内で「芳香族環」と
して表わす)には、特にl。 4−フェニレン、ピリジン−2,5−ジイル、ピラジン
−2,5−ジイル及びピリミジン−2,5−ジイル並び
に、液晶においては普通の置換基例えばシアノ、メチル
、フッ素または塩素で置換される環、例えば2−シアノ
−1,4−フェニレン、2−フルオロ−1,4−フェニ
レン、2−10ロー1,4−フェニレンまたは2−メチ
ル−1,4−フェニレンが含マレル。 一般に、未置換の環AI及びA2を有する式lの化合物
が好ましい。しかしながら、必要に応じて置換された環
を用いて、誘電異方性、中間相範囲、溶解度等を改変す
ることができる。 式■には次の一般式の化合物が包含される:、z2 式中、R1、x l、 x 2並びに環A1及びA2は
各々の場合に上記の意味を有する。 上記式I、I−7及びI−8〜I−17において、環A
2は好ましくは置換されたまたは未置換のトランス−1
,4−シクロヘキシレン、置換されたまたは未置換の1
.4−フェニレンを表わすか、或いは環A1が置換され
たまたは未置換のトランス−1,4−シクロヘキシレン
または置換されたまたは未置換の1.4−フェニレンを
表わす場合、またピリミジン−2,5−ジイルまたはト
ランス−m−ジオキサン−2,5−ジイルを表わす。一
般に、環A2がトランス−1,4−シクロヘキシレンを
表わす化合物が特に好ましい。環A2として随時存在し
ていてもよいトランス−m−ジオキサン−2,5−ジイ
ル基は好ましくは5−位置においてR1と結合する:こ
の場合、環A1は好ましくはトランス−1,4−シクロ
ヘキシレンを表わす。 更に、上記式■及びl−1−I−17において、環A1
は各々の場合に、好ましくは置換されたまたは未置換の
トランス−1,4−シクロヘキシレン、置換されたまた
は未置換の1.4−フェニレン、或いはピリジン−2,
5−ジイル、ピリミジン−2,5−ジイルまたはピラジ
ン−2,5−ジイルを表わす。式I、I−7及びI−8
〜l−17の化合物の中で、一般に環A′が上記の好ま
しい意味の一つを有し、特に未置換の基を表わし、そし
て環A2が同時にトランス−1,4−シクロヘキシレン
を表わす化合物が特に好ましい。 式Iの化合物の好ましい群の例は次の一般式の化合物で
ある: 、X2 式中、R1,XI、Xl、Yl及びY!は上記の意味を
有する。 上記式!、l−1−I−32、■−33及びニー34の
化合物の中で、各々の場合にXIがフッ素を表わし、モ
してXlが水素を表わすか、Xl及びX2がフッ素を表
わすか、或いはXIが塩素を表わし、モしてX2が水素
を表わす化合物が一般に好ましい。更に、式l−18、
■−23〜l−31、■−33及び■−34の化合物の
中で、各々の場合にYlが単一共有結合または−coo
−を表わす化合物が一般に好ましい。上記式!及びl−
1−1−34における好ましい残基R1は3−ブテニル
、3E−ペンテニル及び4−ペンテニルである。 式Iの化合物はそれ自体公知の方法において、例えばヨ
ーロッパ特許出願第122389号、同第167912
号及び同第188683号に記載された方法に従って製
造することができる。 R′が2E−アルケニルオキシまたは3−アルケニルオ
キシを表わす式Iの化合物は、一般に、対応するヒドロ
キシ化合物を2E−アルケニルハライドまたは3−アル
ケニルハライド、好ましくはそれぞれ2E−アルケニル
ブロマイドもしくは2E−アルケニルアイオダイド、3
−アルケニルブロマイドもしくは3−アルケニルアイオ
ダイドでエーテル化することによって最も容易に得られ
る。必要なヒドロキシ化合物は公知であるか、或いは公
知の化合物の同族体である。 R’が3E−アルケニル を表わす式■の化合物は、一般に、対応するプロピオン
アルデヒドまたはブチルアルデヒドを強塩基の存在下に
おいてアルキル−ドリアリールホスホニウムハライド、
好ましくはアルキル−トリフェニルホスホニウムクロラ
イドまたはアルキル−トリフェニルホスホニウムブロマ
イドと反応させることによって得られる。この反応はビ
ツテイヒ(Wittig)反応に対して普通の条件下で
行うことができる。必要なプロピオンアルデヒド及びブ
チルアルデヒドは、ホルミル−置換された環を有する対
応する化合物(シクロヘキサンカルボキシアルデヒド、
ベンズアルデヒド等の誘導体)または対応する環式ケト
ンから、アセトアルデヒドを介して、順次、鎖伸長化に
よって得ることができる。この鎖伸長化は、例えば各々
の場合に、メトキシメチル−トリアリールホスホニウム
ハライド、好ましくはメトキシメチル−トリフェニルホ
スホニウムクロライドによるビツテイヒ反応、次に加水
分解(例えば酢酸による)によって行うことができる。 更に、また炭素原子3個による鎖伸長は例えば2−(1
.3−ジオキソラン−2−イル)エチル−トリアリール
ホスホニウムハライド、好ましくけ2−(1,3−ジオ
キソラン−2−イル)エチル−トリフェニルホスホニウ
ムブロマイドによるビツテイヒ反応、次にC−C二重結
合の触媒的水素添加及びジオキソラン環の例えば酢酸に
よる加水分解によって行うこともできる。更に、後者の
方法は、オキシラン環の加水分解前に、必要に応じて、
他の官能基を分子に容易に導入し得るか、または転化し
得る利点を有している。 式■の中心部分が最終結合によって容易に生成し得る基
、例えばYlまたはY2に対するエステル基またはメチ
レンオキシ基或いは環A1及びA2に対するジオキサン
環をもつ場合、上記方法と同様にして、アルケニル基ま
たはアルケニルオキシ基を含む対応する遊離体(例えば
カルボン酸、ヒドロキシ化合物、ハロ化合物、1、3−
ジオール、アルデヒド)を製造することが有利である。 次いで、例えば得られたカルボン酸を適当なヒドロキシ
化合物でエステル化するか(Y lまたはY2が−00
0−を表わす式■の化合物を生成させるため)、得られ
たヒドロキシ化合物を適当なカルボン酸または適当なカ
ルボン酸クロライドでエステル化するか(y lまたは
Y2が一0oC−を表わす式1の化合物を生成させるた
め)、得られたヒドロキシ化合物を適当なハロ化合物(
特にブロモまたはヨード化合物)でエーテル化するか(
ylまたはY2が−OCH,−を表わす式Iの化合物を
生成させるため)、得られたハロ化合物(特にブロモま
たはヨード化合物)を適当なヒドロキシ化合物でエーテ
ル化するか(y lまたはyzが−CH,O−を表わす
式■の化合物を生成させるため)、得られた1、3−ジ
オールを適当なアルデヒドと反応させるか、或いは得ら
れたアルデヒドを適当なl。 3−ジオールと反応させることができる(環A1または
A2がトランス−m−ジオキサン−2,5−ジイルを表
わす式Iの化合物を生成させるため)。 上記の反応は各々の場合にそれ自体公知の方法において
行うことができる。必要な出発物質は公知のものである
か、或いはそれ自体公知の方法において製造することが
できる。上記の異なる合成法及び反応条件は合成実施例
において更に説明する。 式■の化合物を相互の混合物及び/または他の液晶成分
、例えばシッフ塩基、アゾベンゼン、アゾキシベンゼン
、フェニルベンゾエート、シクロヘキサンカルボン酸フ
ェニルエステル キサンカルボン酸シクロへキシルエステル、ビフェニル
、フェニルシクロヘキサン、シクロへキシルシクロヘキ
サン、フェニルピリミジン、シクロへキシルピリミジン
、フエニルジオキサン、2−シクロへキシル−1−フェ
ニルエタン、ターフェニル、シクロへキシルビフェニル
、シクロへキシルフェニルピリミジン等の群からの物質
との混合物の形態で用いることができる。かかる物質は
当該分野に精通せる者にとっては公知であり、更に、こ
れらの多くのものは市販品である。 本発明における液晶混合物は少なくとも二成分を含有し
、その少なくとも一成分は式1の化合物である。第二成
分及び場合によってはそれ以上の成分は更に式Iの化合
物または他の液晶成分であることができる。式Iの化合
物がネマテイク混合物に対して、または混合物の少なく
とも一成分が光学的活性である限り、またコレステリッ
ク混合物に対して特に適当である。 nが数0を表わし、モしてR1が4−アルケニルを表わ
す式Iの化合物が一般に他のネマティクまたはコレステ
リック物質と共に、例えば式■の三環式化合物と共に有
利に用いられる。従って、本発明における混合物は好ま
しくは1種またはそれ以上の式Iの化合物及びネマテイ
クまたはコレステリック担体物質を含有する。 式Iの化合物の良好な溶解性及びその相互の良好な混和
性を考慮して、本発明における混合物中のその量は比較
的に多いことができる。しかしながら、式■の化合物1
〜50重量%、特に約5〜30重量%が一般に好ましい
。 本発明における混合物は好ましくは1種またはそれ以上
の式Iの化合物に加えて、次の一般式の化合物の群から
の1種またはそれ以上の化合物を含有する: 式中、R寞及びR7はアルキル、lE−アルケニル1.
3E−アルケニルまたは4−アルケニルを表わし、R3
はシアノ、−NCS。 アルキル、lE−アルケニル、3E−アルケニル、4−
アルケニル、アルコキシ、2E−アルケニルオキシまた
は3−アルケニルオキシを表わし、R1はシアノ、−N
C51アルキル、3E−アルケニル、4−アルケニル、
アルコキシ、2E−アルケニルオキシまたは3−アルケ
ニルオキシを表わし;R6はシアノ、アルキル、3E−
アルケニル、4−アルケニル、アルコキシ、2E−アル
ケニルオキシまたは3−アルケニルオキシを表わし;Z
は単一共有結合または−CH!−CH,−を表わし;R
1はシアノ、アルコキシ、2E−アルケニルオキシ、3
−アルケニルオキシ、アルキル、lE−アルケニル、3
E−アルケニルまたは4−アルケニルを表わし:R1は
アルキル、lE−アルケニルまたは、基Yl及びylの
一つが単一共有結合、−COO−1−OOC−または−
CH,−CHよ−を表わし、そして基Yl及びY!の他
が単一共有結合を表わす場合、また3E−アルケニルを
表わし;そして°n、Y’、Y”並びに環A鳳及びA!
は上記の意味を有する。 式■〜XIVにおけるアルキル、アルケニル、アルコキ
シ及びアルケニルオキシ残基R1〜R−は好ましくは直
鎖状残基である。これらの基は好ましくは炭素原子12
個まで、殊に7個までを有する。 R”6(IE−アルケニル、3E−アルケニルまたは4
−アルケニルを表わす式XIの化合物は新規なものであ
る。これらの化合物は合成実施例に述べた方法に従って
製造することができる。 また本発明における混合物には光学的活性化合物(例え
ば光学的活性4′−アルキル−または4′−アルコキシ
−4−ビフェニルカルボニトリル)及び/または二色性
着色物質(例えばアゾ、アゾキシまたはアントラキノン
着色物質)を含ませることができる。かかる化合物の量
は溶解度、所望の色調(pitch) 、色、吸光等に
よって決定される。光学的活性化合物及び二色性着色物
質の量は一般に各々の場合に、全混合物中に最大約10
重量%である。 本発明における混合物の製造及び電子−光学装置の製造
はそれ自体公知の方法において行うことができる。 式Iの化合物及び式XIの新規化合物並びに該化合物を
含む液晶混合物の製造を以下の実施例によって更に説明
する。Cは結晶相を表わしS、はスメチテイクB相を表
わし、Nはネマテイク相を表わし、モして■はイントロ
ビック相を表わす。 V+O及びVS2はそれぞれ10%及び50%透過に対
する電圧を表わし、p=(Vs。−Vl。)/V1゜は
透過曲線の急こう配の大きさを表わし、tan及び虹、
1.はそれぞれスウイチーオン時間及びスウイチーオフ
時間を表わし、モして△nは光学異方性を表わす。 実施例1 a) ジエチレングリコール30mrl中のトランス−
4−[トランス−4−(4−ペンテニル)シクロヘキシ
ル] シクロヘキサンカルボニトリル(実施例2に従っ
て製造したもの)1.71gの溶液を水酸化カリウム3
.11gで処理し、130°Cで3時間撹拌した。次に
混合物を氷水に注ぎ、25%塩酸で酸性にし、ジエチル
エーテルで3回抽出した。有機相を合液し、水で3回洗
浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、そして蒸発させた
。 褐色の結晶性残渣(1,74g)をヘキサン30mQか
ら再結晶させ、帯黄色結晶として、トランス−4−[ト
ランス−4−(4−ペンテニル)シクロヘキシル]シク
ロヘキサンカルボン酸996mgを得た□ b) 塩化メチレン80mQ中のトランス−4−[トラ
ンス−4−(4−ペンテニル)シクロヘキシル]シクロ
ヘキサンカルボン酸996mgの溶液をp−フルオロフ
ェノール752mg、4−(ジメチルアミノ)ピリジン
61mg及びジシクロへキシルカルボジイミド1.03
gで処理し、室温で15時間撹拌した。次に反応混合
物を濾過した。濾液を蒸発させ、得られた残渣をシリカ
ゲル上で、酢酸エチル/石油エーテル(3:97容量比
)を用いてクロマトグラフィーによって精製した。得ら
れた生成物(1,24g)をヘキサン40mQから結晶
させ、融点(C−N)70.3°C及び透明点(N−■
)158.7°Cを有する純粋なトランス−4−[トラ
ンス−4−(4−ペンテニル)シクロへキシルコシクロ
ヘキサンカルボン酸4−フルオロフェニルエステル75
7mgt=得Iこ 。 同様の方法において、次の化合物を製造することができ
たニ ドランス−4−(4−ペンテニル)シクロヘキサンカル
ボン酸 4−フルオロフェニル エステル、融点31.
3℃; トランス−4−(4−ペンテニル)シクロヘキサンカル
ボン13.4−ジフルオロフェニル エステル、融点1
2.4°C; トランス−4−(4−ペンテニル)シクロヘキサンカル
ボン酸 4−クロロフェニル エステル; 4−(4−ペンテニル)安息香酸 4−フルオロフェニ
ル エステル; 4−(4−ペンテニル)安息香酸 3.4−ジフルオロ
フェニル エステル; 4−(3−ブテニルオキシ)安息香酸 4−フルオロフ
ェニル エステル; 融点65℃; 4−(3−ブテニルオキシ)安息香酸 3゜4−ジフル
オロフェニル エステル: 融点47.5℃; 4−(3−ブテニルオキシ)安息香酸 4−クロロフェ
ニル エステル; トランス−4−[トランス−4−(4−ペンテニル)シ
クロヘキシルコシクロヘキサン カルボン酸 3.4−
ジフルオロフェニル エステル; トランス−4−[トランス−4−(4−ペンテニル)シ
クロヘキシルコシクロヘキサン カルボン酸 4−クロ
ロフェニル エステル;トランス−4−[トランス−4
−(4−ペンテニル)シクロへキシル]?クロヘキサン
カルホン酸 3−クロロ−4−フルオロフェニルエス
テル; トランス−4−[トランス−4−(4−ペブテニル)シ
クロヘキシルコシクロヘキサン カルボン酸 3−フル
オロ−4−クロロフェニルエステル; 4−トランス−4−[トランス−4−(4−ペンテニル
)シクロヘキシル]安息香酸 4−フルオロフェニル
エステル; 4−[トランス−4−(4−ペンテニル)シクロヘキシ
ル]安息香酸 3,4−ジフルオロフェニル エステル
; 5−[トランス−4−(4−ペンテニル)シクロヘキシ
ル]−2−ピリミジン カルボン酸4−フルオロフェニ
ル エステル; 2−[トランス−4−(4−ペンテニル)シクロヘキシ
ル]−5−ピリミジン カルボン酸4−フルオロフェニ
ル エステル; 4、− [5−(4−ペンテニル)−2−ピリミジニル
]安息香酸 4−フルオロフェニル エステル; 4− [2−(4−ペンテニル)−5−ピリミジニル]
安息香酸 4−フルオロフェニル エステル: トランス−4−(42−へキセニル)シクロヘキサンカ
ルボン酸 4−フルオロフェニルエステル:ト ランス− ロヘキサンカルボン酸 3.4−’;フルオロフェニル
エステル; 4−(3Z−ペンテニル)安息香酸 4−フルオロフェ
ニル エステル; トランス−4−[トランス−4−(4Z−へキセニル)
シクロへキシルコシクロヘキサンカルボン酸 4−フル
オロフェニル エステル;4−[トランス−4−(4Z
−へキセニル)シクロへキシル]安息香酸 4−フルオ
ロフェニル エステル; トランス−4−(3−ブテニル)シクロヘキサン カル
ボン酸 3.4−ジフルオロフェニル エステル、融点
42.0℃; トランス−4−(3−ブテニル)シクロヘキサン カル
ボン酸 4−クロロフェニル エステル; 4−アリルオキシ安息香酸 4−フルオロフェニル エ
ステル; 4−アリルオキシ安息香酸 3,4−ジフルオロフェニ
ル エステル: 4−アリルオキシ安息香酸 4−クロロフェニル エス
テル; トランス−4−[トランス−4−(2−ブテニル)シク
ロヘキシルコシクロヘキサン カルボン酸 3.4−ジ
フルオロ−フェニル エステル: 融点(C−N)55.1’c、透明点(N−1)153
、6℃; トランス−4−[トランス−4−(3−プ。 テニル)シクロヘキシルコシクロヘキサン カルボン酸
4−クロロフェニル エステル:融点(C−N)78
.3℃、透明点(N−1)213、5℃; トランス−4−[トランス−4−(3−ブテニル)シク
ロヘキシルコシクロヘキサン カルボン酸 3−クロロ
−4−フルオロフェニル エステル; トランス−4−[トランス−4−(3−ブテニル)シク
ロへキシルコシクロヘキサン カルボン酸 3−フルオ
ロ−4−クロロフェニル エステル; 4−[トランス−4−(3−ブテニル)シクロヘキシル
]安息香酸 3.4−ジフルオロフェニル エステル: トランス−4−(3E−ペンテニル)シクロヘキサン
カルボン酸3.4−ジフルオロフェニル エステル; 4−(2E−ブテニルオキシ)安息香酸4−フルオロフ
ェニル エステル。 実施例2 a)2−(1.3−ジオキソラン−2−イル)エチルー
トリフェニルホスホニウムダロマイド140、9gを窒
素通気しながら、テトラヒドロフラン4.5aに懸濁さ
せ、懸濁液を0℃にてカリウムtert.ーブチレート
36.8gで5分以内に処理した。橙色の懸濁液を室温
で更に1時間撹拌し、4−(4−オキソシクロヘキシル
)ベンズアミド46.1 gで5分以内に処理した。反
応混合物を室温で更に4.5時間撹拌し、次に真空下で
濃縮した。得られた帯黄色の結晶(212,5g)をジ
エチルエーテル1.2aで処理した。混合物を室温で3
0分間撹拌し、次に吸引濾過した。残渣をジエチルエー
テルで洗浄し、次に水700mQに懸濁させた。混合物
を15分間撹拌し、次に吸引濾過した。残渣を水で洗浄
し、加熱しながらジオキサン600mQに溶解した。溶
液を放置して室温に冷却した。分離した結晶を吸引濾別
し、少量のジオキサン及びヘキサンで洗浄し、真空下に
て60°Cで乾燥し、かくして、融点209〜212°
Cを有する結晶性の4− [4−[2−(1,3−ジオ
キソラン−2−イル)エチリデン]シクロヘキシル]ベ
ンズアミド39.2gが得られた。 母液(72,6g)を処理し、更に生成物7.7g及び
第二の母液64.2gを得た。 b)4−[4−[2−(1,3−ジオキソラン−2−イ
ル)エチリデン] シクロヘキシル1ベンズアミド50
0mg及びジオキサン/トリエチルアミン(9:1容量
比)20mQの混合物を10%白金−木炭500mgに
よって2時間水素添加した。次に反応混合物を濾過し、
濾液を蒸発させた。蒸発残渣をジオキサン4QmQから
再結晶させ、無色の結晶として、4−[トランス−4−
[2−(1,3−ジオキソラン−2−イル)エチルコシ
クロヘキシル1ベンズアミド230mgを得た。 c)4−[トランス−4−[2−(1,3−ジオキソラ
ン−2−イル)エチルコシクロへキシルコペンズアミド
27gをジオキサン中にて、5%ルテニウム−木炭5g
を用いて、120°C及び水素圧40バールで8時間水
素添加した。濾過し、テトラヒドロ7ランで洗浄した後
の粗製の生成物(25g)は4−[トランス−4−[2
−(1゜3−ジオキソラン−2−イル)エチルコシクロ
へキシルコシクロヘキサンカルボキシアミドのシス異性
体69%及びトランス異性体25%を含有していた。 d) 粗製の4−[トランス−4−[2−(1゜2−ジ
オキソラン−2−イル)エチル1シクロヘキシル]シク
ロヘキサンカルボキシアミド42gをアルゴン通気しな
がらエチレングリコール500mQに懸濁させ、次に固
体の水酸化カリウム19gで処理した。混合物を撹拌し
ながら180°C(浴温)に5時間加熱した。冷却後、
反応混合物を水500mff中に注ぎ、10%塩酸でp
H約3の酸性にし、塩化メチレン各300mQで3回抽
出した。合液した有機相を1%塩酸50(112で1回
、水苔500m12で2回洗浄し、硫酸マグネシウム上
で乾燥し、濾過し、そして蒸発させた。 暗褐色の粗製の生成物(41g)をシリカゲル上で、酢
酸エチルを用いてクロマトグラフィーによって精製した
。得られた生成物(36g)をアセトンから結晶させ、
純粋なトランス−4−[トランス−4−[2−(1,3
−ジオキソラン−2−イル)エチルコシクロヘキシル1
シクロヘキサンカルボン酸13.8gを得た。母液を処
理し、更に純粋な生成物2.5gを得た。 e) トランス−4−[トランス−4−[2−(1
,3−ジオキソラン−2−イル)エチル]シクロヘキシ
ル]シクロヘキサンカルボン酸18 gをアルゴン通気
しながらクロロホルム600m12に溶解し、この溶液
を0℃で撹拌しながら、クロロホルム40mQ中のクロ
ロギ酸エチル7.2mQの溶液で滴下処理した。反応溶
液を更に30分間撹拌した。次にアンモニアガスを溶液
中に10分間導入した。混合物をO′Cで更に30分間
撹拌し、次に水苔300mQで2回抽出した。水相をク
ロロホルム各100mQで逆抽出した。合液した有機相
を硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、そして蒸発さ
せた。得られt;褐色結晶性の粗製の生成物(19g)
を塩化メチレン800++12から再結晶させ、淡褐色
結晶として、トランス−4−[トランス−4−[2−(
1,3−ジオキソラン−2−イル)エチル1シクロヘキ
シル]シクロヘキサンカルボキシアミド13gを得た。 f) I−ランス−4−[トランス−4−[2−(1
,3−ジオキソラン−2−イル)エチル]シクロヘキシ
ル]シクロヘキサンカルボキシアミド2.1 gをアル
ゴン通気しながらジメチルホルムアミド60mQに懸濁
させた。懸濁液をピリジン1.32mI2及びメタンス
ルホクロライド0.898mQで処理し、60℃(浴温
)で1.5時間撹拌した。次に反応溶液を塩化メチレン
及びlO%塩酸塩酸分配した。水相を塩化メチレン各1
00m2で2回抽出した。有機相を水苔100m2で2
回洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、そし
て濃縮した。かくして、純度96%の黄色結晶としてト
ランス−4−[トランス−4−[2−(l、3−ジオキ
ソラン−2−イル)エチルコシクロへキシルコシクロヘ
キサンカルボニトリル2゜5gが得られた。 g) 粗製のトランス−4−[トランス−4−[2−(
1,3−ジオキソラン−2−イル)エチルコシクロへキ
シル】シクロヘキサンカルボニトリル3.0gをアルゴ
ン通気しながら、水5Qm(2゜氷酢酸25iff及び
ジオキサンLO+Qに懸濁させ、100℃で1時間撹拌
した。その後、反応溶液を水1001で処理した。水相
を分離し、ジエチルエーテル各100m<2で3回抽出
した。有機相を希釈炭酸水素ナトリウム溶液100mQ
及び水100mffで洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾
燥し、濾過し、そして濃縮した。得られた黄色結晶(2
,25g)をヘキサン60mffから再結晶させ、無色
の結晶として、3−[)ランス−4−[トランス−4−
シアノシクロヘキシル]シクロヘキシル]プロピオンア
ルデヒド1.98 gを得た。 h) メトキシメチル−トリフェニルホスホニウムクロ
ライド4−11gをアルゴン通気しながらtert、−
ブチルメチルエーテル60mαに懸濁させ、室温にて2
分以内にカリウムtert、−ブチレー)1.26gで
処理した。懸濁液を室温で更に1時間撹拌し、次に0℃
に冷却し、tert、−ブチルメチルエーテル25ma
中の3−[トランス−4−[トランス−4−シアノシク
ロヘキシル]シクロヘキシル]プロピオンアルデヒド1
.98 gの溶液で5分以内に滴下処理した。反応混合
物を0℃で更に45分間撹拌し、次に水100mgで希
釈し、ジエチルエーテル各100maで3回抽出した。 有機相を水苔100mj2で2回洗浄し、硫酸マグネシ
ウム上で乾燥し、濾過し、そして濃縮した。粗製の生成
物をシリカゲル上にて0.5バールで、酢酸エチル/石
油エーテル(5:95容量比)を用いてクロマトグラフ
的に精製し、無色のミルク状の油として、トランス−4
−[)ランス−4−(4−メトキシ−3−ブテニル)シ
クロヘキシルコシクロヘキサンカルボニトリル2.0g
を得た。 i) )ランス−4−[トランス−4−(4−メトキ
シ−3−ブテニル)シクロヘキシルコシクロヘキサンカ
ルボニトリル−1,65gをアルゴン通気しながら、水
50mff、氷酢酸25mM及びジオキサン12+*Q
に懸濁させた。懸濁液を80℃(浴温)で2時間撹拌し
、次に水50+1112で希釈した。水相を分離し、ジ
エチルエーテル各100mQで3回抽出した。有機相を
水苔toomaで2回、次に飽和炭酸水素ナトリウム溶
液100mQ。 そして再び水100+mffで洗浄し、硫酸マグネシウ
ム上で乾燥し、濾過し、そして濃縮した。かくして、無
色の結晶として、4− [1−ランス−4−[トランス
−4−シアノシクロヘキシル)シクロヘキシル1ブチル
アルデヒド1.5gが得られた。 j) メチルトリフェニルホスホニウムブロマイド3
.28gをアルゴン通気しながら、tert、−ブチル
メチルエーテル40rRQに懸濁させた。懸濁液を室温
にて1分以内に、カリウムt ert、−プチレー1−
962mgで処理し、1時間撹拌した。 次に混合物を0℃に冷却し、tart、−ブチルメチル
エーテル20raQ中の4−[トランス−4−(トラン
ス−4−シアノシクロヘキシル)シクロヘキシル1ブチ
ルアルデヒド1.5gの溶液で3分以内に滴下処理し、
0℃で更に45分間撹拌した。 その後、反応混合物を水80maで希釈し、石油エーテ
ル各loomαで3回抽出した。有機相を水苔100m
12で2回洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過
し、そして濃縮した。粗製の生成物(2,1g)をシリ
カゲル上にて0.5バールで、酢酸エチル/石油エーテ
ル(2:98容量比)を用いてクロマトグラフ的に精製
し、メタノールから再結晶させ、融点(C−、S、)2
0.1°C05、−N36.9°C0透明点(N−I)
54.8℃を有する無色結晶として、トランス−4−[
トランス−4−(4−ペンテニル)シクロヘキシル]シ
クロヘキサンカルボニトリル1.26gを得た。 同様の方法において、次の化合物を製造することができ
たニ ドランス−4−[トランス−4−(4Z−へキセニル)
シクロヘキシルコシクロヘキサン−カルボニトリル; トランス−4−[トランス−4−(4Z−へブテニル)
シクロヘキシルコシクロヘキサン−カルボニトリル; トランス−4−[トランス−4−(4Z−オクテニル)
シクロへキシルコシクロヘキサン−カルボニトリル; トランス−4−[トランス−4−(4Z−ノネニル)シ
クロヘキシルコシクロヘキサン−カルボニトリル; トランス−4−[トランス−4−(4Z−デセニル)シ
クロヘキシル1シクロヘキサン−カルボニトリル。 工程g)で得られた3−[トランス−4−(トランス−
4−シアノシクロヘキシル)シクロヘキシル]プロピオ
ンアルデヒドを工程j)と同様の方法で反応させ、必要
に応じて、実施例3k)と同様の方法でE/Z異性化し
て、次の化合物を製造することができたニ ドランス−4−[トランス−4−(3−ブテニル)シク
ロへキシルコシクロヘキサン−カルボニトリル; 融点
(C−N) 50.7°C1透明点(N−1)
82.7℃ニ ドランス−4−[トランス−4−(3E−ペンテニル)
シクロヘキシルコシクロヘキサン−カルボニトリル:
融点 (C−N) 79.4°C1透明点 (N−1
) 99.5℃; トランス−4−[トランス−4−(3E−へキセニル)
シクロヘキシルコシクロヘキサン−カルボニトリル; トランス−4−[トランス−4−(3E−へブテニル)
シクロヘキシル1シクロヘキサン−カルボニトリル; トランス−4−[トランス−4−(3E−オクテニル)
シクロヘキシル]シクロヘキサンーカルボニトリル: トランス−4−[トランス−4−(3E−ノネニル)シ
クロヘキシルコシクロヘキサン−カルボニトリル; トランス−4−[トランス−4−(3E−デセニル)シ
クロヘキシルコシクロヘキサン−カルボニトリル。 工程h)及びi)と同様の方法で4−(4−オキソシク
ロヘキシル)ベンズアミドを反応させ、結晶化によって
得られた4−(トランス−4−ホルミルシクロヘキシル
)ベンズアミドをp−トルエンスルホン酸の存在下にお
いてアセタール化し、更に、工程C)〜g)と同様の方
法でジオキソランの反応、工程j)と同様の方法でビツ
テイヒ反応に付し、そして必要に応じて、実施例3k)
と同様の方法でE/Z異性化して、次の化合物を製造す
ることができたニ ドランス−4−[トランス−4−ビニルシクロヘキシル
)シクロヘキサン−カルボニトリル;トランス−4−[
トランス−4−(IE−プロペニル)シクロヘキシルコ
シクロヘキサン−カルボニトリル; トランス−4−[トランス−4−(IE−ブテニル)シ
クロヘキシルコシクロヘキサン−カルボニトリル: トランス−4−[トランス−4−(IE−ペンテニル)
シクロへキシルコシクロヘキサン−カルボニトリル; トランス−4−[トランス−4−(I E−へキセニル
)シクロへキシルコシクロヘキサン−カルボニトリル; トランス−4−[トランス−4−(I E−へブテニル
)シクロヘキシル1シクロヘキサン−カルボニトリル; トランス−4−[トランス−4−(IE−オクチニル)
シクロへキシルコシクロヘキサン−カルボニトリル; トランス−4−[トランス−4−(l E−ノネニル)
シクロヘキシル]シクロヘキサンーカルボニトリル; トランス−4−[トランス−4−(IE−デセニル)シ
クロヘキシル]シクロヘキサン−カルボニトリル。 上記方法と同様にして、4− [2−(4−オキソシク
ロヘキシル)エチル]ベンズイミド[モレキュラ・グリ
スタル・アンド・リキッド・クリスタル(Mo1.Cr
yst、Liq、Cryst、 131 、 327
(1985))に記載されたニトリルから製造し得る】
から出発して、また次の化合物を製造することができた
ニ ドランス−4−[2−()ランス−4−(4−ペンテニ
ル)シクロヘキシル)エチルコシクロヘキサンカルボニ
トリル; トランス−4−[2−()ランス−4−(4Z−へキセ
ニル)シクロヘキシル)エチル1シクロヘキサンカルボ
ニトリル; トランス−4−[2−(トランス−4−(42−へブテ
ニル)シクロヘキシル)エチルコシクロヘキサンカルボ
ニトリル; トランス−4−[2−()ランス−4−(4Z−オクテ
ニル)シクロヘキシル)エチルコシクロヘキサンカルボ
ニトリル; トランス−4−[2−(トランス−4−(4Z−ノネニ
ル)シクロヘキシル)エチルコシクロヘキサンカルボニ
トリル; トランス−4−(2−0ランス−4−(4−デセニル)
シクロヘキシル)エチルコシクロヘキサンカルボニトリ
ル; トランス−4−(2−()ランス−4−(3−7’テニ
ル)シクロヘキシル)エチルコシクロヘキサンカルボニ
トリル; トランス−4−[2−(1−ランス−4−(3E−ペン
テニル)シクロヘキシル)エチルコシクロヘキサンカル
ボニトリル トランス−4−[2−(1−ランス−4−(3E−へキ
セニル)シクロヘキシル)エチルコシクロヘキサンカル
ボニトリル; トランス−4−[2−(トランス−4−(3E−へブテ
ニル)シクロヘキシル)エチルコシクロヘキサンカルボ
ニトリル トランス−4−[2−()ランス−4−(3E−オクテ
ニル)シクロヘキシル)エチルコシクロヘキサンカルボ
ニトリル; トランス−4−[2−()ランス−4−(3E−ノネニ
ル)シクロヘキシル)エチルコシクロヘキサンカルボニ
トリル トランス−4−[2−(トランス−4−(3E−デセニ
ル)シクロヘキシル)エチル1シクロヘキサンカルボニ
トリル; トランス−4−[2−(トランス−4−ビニルシクロヘ
キシル)エチルコシクロヘキサンカルボニトリル; トランス−4−[2−(1−ランス−4−(lE−プロ
ペニル)シクロヘキシル)エチル1シクロヘキサンカル
ボニトリル; トランス−4−[2−(トランス−4−(IE−7’テ
ニル)シクロヘキシル)エチルコシクロヘキサンカルボ
ニトリル; トランス−4 − [2−()ランス−4−(lE−ペ
ンテニル)シクロヘキシル)エチルコシクロヘキサンカ
ルボニトリル; トランス−4−[2−()ランス−4−(lE−へキセ
ニル)シクロヘキシル)エチルコシクロヘキサンカルボ
ニトリル; トランス−4−[2−(トランス−4−(lE−へブテ
ニル)シクロヘキシル)エチルコシクロヘキサンカルボ
ニトリル; トランス−4−[Z−()ランス−4−(lE−オクテ
ニル)シクロヘキシル)エチルコシクロヘキサンカルボ
ニトリル; トランス−4−[2−(トランス−4−(lE−ノネニ
ル)シクロヘキシル)エチルコシクロヘキサンカルボニ
トリル; トランス−4−[2−(1−ランス−4−(lE−デセ
ニル)シクロヘキシル)エチル]シクロヘキサンカルボ
ニトリル。 実施例3 a) ジオキサンIQ中の4−(4−ニトロフェニル)
シクロヘキサノン(4−フェニルシクロヘキサノンをニ
トロ化して製造し得る)109゜6gの懸濁液をトリエ
チルアミン50rR1α及び5%パラジウム−木炭2g
で処理し、十分に撹拌しながら室温及び水素圧0.3バ
ールで水素添加した。2時間後、混合物を濾過した。濾
液を水流ポンプによる真空下にて浴温30°Cで蒸発さ
せ、蒸発残液を水流ポンプによる真空下で、乾燥炉中に
て40°Cで一夜乾燥した。かくして、融点127〜1
28℃を有する白色結晶として、4−(4−アミノフェ
ニル)シクロへキサノン94.5gが得られた。 b) 4N硫酸200mffをスルホン化用フラスコ
中で80°Cに加熱し、次に4N硫酸20〇−中の4−
(4−アミノフェニル)シクロへキサノン37.9gの
溶液の約5%で処理した。次いで、この反応混合物に8
0°Cで1.5時間以内に、残りの4−(4−アミノフ
ェニル)シクロヘキサノン溶液並びに水45m4中の亜
硝酸ナトリウム15.2gの溶液を同時に滴下した。そ
の後、混合物を80°Cで30分以内に、水2VmQ中
の亜硝酸ナトリウム9gの溶液で滴下処理し、80°C
で更に1時間撹拌した。反応混合物を0℃に冷却した後
、分離した結晶を吸引濾別し、冷水200++12で洗
浄し、水流ポンプによる真空下で乾燥炉中にて60°C
で一定重量になるまで乾燥した。結晶性の粗製の精製物
(34,6g)を酢酸エチル520mQに懸濁させた。 この懸濁液を還流下で1時間加熱し、次に活性炭1.7
gで処理し、還流下で更に1時間加熱した。次に混合物
を吸引濾過しく温酢酸エチル40mQですすぎ)、濾液
を水流ポンプによる真空下にて浴温40°Cで蒸発させ
た。 蒸発残渣を水流ポンプによる真空下で、乾燥炉中にて6
0°Cで、一定重量になるまで乾燥し、融点165〜1
66°Cを有する黄−褐色の結晶として、4−(4−ヒ
ドロキシフェニル)シクロへキサノン32.2gを得た
。 () tert、−ブチルメチルエーテル60mQ中
+7)4−(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサ/
73.8gの懸濁液をスルホン化用フラスコ中にて窒素
の弱い気流下で、2− (1,3−ジオキソラン−2−
イル)エチル−トリフェニルホスホニウムブロマイドi
o、6g及びカリウムtert、−ブチレート2.2g
で処理した。混合物をまず30分間撹拌し、次に25℃
で2.25時間以内に、カリウムterL、−ブチレー
ト更に2.7gで一部づつ処理し、室温で更に1時間撹
拌した。その後、反応混合物を更に2− (1,3−ジ
オキソラン−2−イル)エチル−トリフェニルホスホニ
ウムブロマイド1.8g及びカリウムtert、−ブチ
レート0.45gで処理し、更に1時間撹拌した。次に
反応混合物を水80mQ中に注ぎ、2N硫酸11mQで
酸性にした。水相を分離し、tart、−ブチルメチル
エーテル各80mQで2回抽出した。有機相を水容50
mffで洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして吸
引濾過した。濾液を水流ポンプによる真空下にて浴温4
0°Cで、一定重量になるまで蒸発させた。得られた帯
赤色の油(10,9g)をシリカゲル上で、トルエン及
びトルエン/1art、−ブチルメチルエーテル(20
:1容量比)を用いてクロマトグラフィーによって分離
した。 生成物のフラクションを水流ポンプによる真空下で蒸発
させ、最後に、水流ポンプによる真空下で乾燥炉中にて
60°Cで、一定重量になるまで残渣を乾燥し、融点1
25.5〜126.5℃を有する帯黄色結晶として、4
− [4−[2−(1,3−ジオキソラン−2−イル)
エチリデン]シクロヘキシル]フェノール4.5gを得
た。 d) l−ルエン500mQ及びトリエチルアミン
50mQ中の4−14− [2−(1,3−ジオキソラ
ン−2−イル)エチリデン]シクロヘキシル]フェノー
ル36.5gの溶液を、5%白金−木炭3.2gと共に
オートクレーブ中にて90°C及び水素圧10バールで
1時間水素添加した。次に混合物を吸引濾過し、残渣を
温トルエン30m(1で洗浄した。濾液を水流ポンプに
よる真空下にて浴温40°Cで、一定重量になるまで蒸
発させた。 得られた白色結晶(37g)を加熱しながらメタノール
180mgに溶解した。溶液を放置して室温に冷却し、
次いで冷蔵庫中に5時間入れた。次に結晶を吸引濾別し
、冷メタノール50m<2で洗浄し、水流ポンプによる
真空下で乾燥炉中にて60℃で乾燥した。かくして、融
点153.5〜154.5℃を有する白色結晶として、
4− [4−[2−(1,3−ジオキソラン−2−イル
)エチル1シクロヘキシル]フエノール27.6gが得
られた。 e)4−[トランス−4−[2−(1,3−ジオキソラ
ン−2−イル)エチル]シクロヘキシル】フェノール1
00g、5%ロジウム/酸化アルミニウム10g及び酢
酸エチルIff’の混合物をスチール製撹拌オートクレ
ーブ中にて水素圧50バール及び80℃で90分間水素
添加した。次に触媒を吸引濾別し、酢酸エチル100I
IIQで洗浄した。濾液を蒸発させ、残渣を25℃70
.4ミリバールで乾燥した。シス異性体59%及びトラ
ンス異性体36%を含有する4−[トランス−4−[2
−(1,3−ジオキソラン−2−イル)エチル1シクロ
ヘキシル]シクロヘキサノール101.75gが得られ
た。 f) 塩化メチレン80講a中のクロロクロム酸ピリジ
ニウム12.9gの溶液を窒素通気しながら室温で5分
以内に、塩化メチレン40mff中の4−[トランス−
4−[2−(1,3−ジオキソラン−2−イル)エチル
1シクロヘキシル]シクロヘキサノール13.0gの溶
液で滴下処理した。混合物を更に1時間撹拌し、次にジ
エチルエーテルloom<2で希釈し、濾過し、濾液を
蒸発させた。蒸発残渣をジエチルエーテル200m12
に採り入れ、混合物を濾過し、濾液を蒸発させ、次にこ
の方法をくり返し2回行った。その後、得られた帯褐色
固体の塊(12,1g)をシリカゲル上で、酢酸エチル
/石油エーテル(l:4容量比)を用いてクロマトグラ
フィーによって分離した。最後に、酢酸エチル60mf
f及び石油エーテル200ilIQからの無色のケトン
の7ラクシヨンを結晶させ、純粋な4−[トランス−4
−[2−(1,3−ジオキソラン−2−イル)エチル】
シクロヘキシル]シクロへキサノン7.0gを得た。 g) インプロパツール300+aff中の水素化ホウ
素ナトリウム2.97gの懸濁液を一70℃で窒素通気
しながら、インプロパツール200+mg中の4−[ト
ランス−4−[2−(1,3−ジオキソラン−2−イル
)エチル]シクロヘキシル]シクロへキサノンl1gの
溶液で滴下処理した。 約1時間後、反応混合物を放置して室温に加温し、0、
IN塩酸500m12で希釈し、塩化メチレン各300
mQで3回抽出した。有機相を水で洗浄し、硫酸マグネ
シウム上で乾燥し、濾過し、そして蒸発させた。残渣(
l1g)を酢酸エチル/石油エーテル(3:5容量比)
500mffから結晶させ、融点129.5℃を有する
純粋なトランス−4−[トランス−4−[2−(1,3
−ジオキソラン−2−イル)エチル]シクロへキシル1
シクロヘキサノール6.6gを得た。 h) 約50%油性懸濁液としての水素化ナトリウム2
.04gを窒素通気しなから丸底プラスコに入れ、ペン
タンで2回洗浄した。次にこの水素化ナトリウムに乾燥
テトラヒドロフラン40mQ及びテトラヒドロフラン3
0tsQ中のトランス−4−[トランス−4−[2−(
1,3−ジオキソラン−2−イル)エチル1シクロヘキ
シル]シクロヘキサノール6.0gの溶液を加えた。混
合物を室温で30分間撹拌し、次にヨウ化メチル4゜0
raQで処理し、還流下で2時間加熱した。次に反応混
合物を冷却し、ジエチルエーテル200+Qに採り入れ
、水苔200mgで3回洗浄した。有機相を硫酸マグネ
シウム上で乾燥し、濾過し、そして蒸発させ、かくして
、融点74℃を有する2−[2−[トランス−4−(ト
ランス−4−メトキシシクロヘキシル)シクロヘキシル
]エチル]−1,3−ジオキソラン6.3gが得られた
。 1)2−[2−[トランス−4−(トランス−4−メト
キシシクロヘキシル)シクロヘキシル]エチル]−1,
3−ジオキソラン6.2gを窒素通気しながら、水10
0mg、氷酢酸5QtQ及びジオキサン20mQで処理
した。混合物を100’O(浴温)で1.5時間撹拌し
、次に希釈炭酸水素ナトリウム溶液で中和し、ジエチル
エーテルで3回抽出した。合液したエーテル相を水で1
回、希釈炭酸水素ナトリウム溶液で2回洗浄し、硫酸マ
グネシウム上で乾燥し、濾過し、そして蒸発させた。得
られた粗製のアルデヒド(4,34g)を−20’0で
石油エーテル150mnから再結晶させ、純度96%の
3−[トランス−4−(トランス−4−メトキシシクロ
ヘキシル)シクロへキシル]プロピオンアルデヒド2,
8gを得た。 j) エチルトリフェニルホスホニウムブロマイド2J
5gをアルゴン通気しなからtart、−ブチルメチル
エーテル40mQに懸濁させた。懸濁液を室温にてカリ
ウムtert、−ブチレート797mgで処理し、1時
間撹拌した。次に混合物を0°Cに冷却し、tert、
−ブチルメチルエーテル15m(2中の3−[トランス
−4−(トランス−4−メトキシシクロヘキシル)シク
ロヘキシル1プロピオンアルデヒド1.1gの溶液で3
分以内に滴下処理し、撹拌しながら放置して徐々に室温
に加温した。 2時間後、淡黄色の懸濁液をジエチルエーテル/水で分
配した。水相を分離し、ジエチルエーテルで洗浄した。 有機相を水で2回洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し
、濾過し、そして蒸発させた。 黄色固体の粗製の生成物をシリカゲル上で酢酸エチル/
石油エーテル(3:97容量比)を用いてクロマトグラ
フ的に精製し、86:11のZ/E比を有するトランス
−4−(3−ペンテニル)−1−()ランス−4−メト
キシシクロヘキシル)シクロヘキサン0.91gを得た
。 k) トランス−4−(3−ペンテニル)−1=(トラ
ンス−4−メトキシシクロヘキシル)シクロヘキサン(
Z/E =86 : l l) 0.91 gを窒素通
気しながら、トルエン6mO,、ベンゼンスルフィン酸
ナトリウム0.11g及びIN塩酸1mQで処理した。 混合物を50°Cで15時間撹拌し、次に希釈炭酸水素
ナトリウム溶液100+Jに注ぎ、ジエチルエーテル各
50m+2で3@抽出した。合液した有機相を希釈炭酸
ナトリウム溶液100mQ及び水100m12で洗浄し
、硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、そして蒸発さ
せた。 得られた帯黄色の油(0,9g)を硝酸銀含浸したシリ
カゲル上で、ジエチルエーテル/ヘキサン(1:9容量
比)を用いて、クロマトグラフィーによって精製した。 得られた生成物(486mg)を−20°Cでメタノー
ル10mQから再結晶させ、融点(C−N’)16.6
°C及び透明点(N−I)43.7℃を有する純粋なト
ランス−4−(3E−ペンテニル)−1−0ランス−4
−メトキシシクロヘキシル)シクロヘキサンを得た。 同様の方法において、次の化合物を製造することができ
たニ ドランス−4−(3−ブテニル)−i(トランス−4−
メトキシシクロヘキシル)シクロヘキサン、 融点 (C−N)−13,6℃、透明点、(N−I)1
8.6℃; トランス−4−(3−ブテニル)−1−(トランス−4
−エトキシシクロヘキシル)シクロヘキサン、 融点 (C−N)13.1’o、透明点、(N−1)4
5、3°C; トランス−4−(3−ブテニル)−1−(トランス−4
−プロピルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサン; トランス−4−(3−ブテニル)−1−(トランス−4
−ブチルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサン; トランス−4−(3−ブテニル)−1−(トランス−4
−ペンチルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサン; トランス−4−(3−ブテニル)−1−(トランス−4
−ヘキシルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサン; トランス−4〜(3E−ペンテニル)−1−(トランス
−4−エトキシシクロヘキシル)シクロヘキサン、 融点 (C−N) 44.5°C1透明点、(N−
1)76.5°C; トランス−4−(3E−ペンテニル)−1−(トランス
−4−プロピルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサン
; トランス−4−(3E−ペンテニル)−1−(トランス
−4−ブチルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサン; トランス−4−(3E−ペンテニル)−1−(トランス
−4−ペンチルオキシシクロヘキシルシクロヘキサン; トランス−4−(3E−ペンテニル)−l−(トランス
−4−へキシルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサン
; トランス−4−(3E−へキセニル)−1−(トランス
−4−メトキシシクロヘキシル)シクロヘキサン; トランス−4 −(3 E−へキセニル)−l−(トラ
ンス−4−エトキシシクロヘキシル)シクロヘキサン; トランス−4 −(3 E−へキセニル)−l−(トラ
ンス−4−プロピルオキシシクロヘキシル)シクロヘキ
サン: トランス−4−(3E−へキセニル)−l−(トランス
−4−ブチルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサン; トランス−4 −(3 E−へキセニル)−l−(トラ
ンス−4−ペンチルオキシシクロヘキシル)シクロヘキ
サン: トランス−4 −(3 E−へキセニル)−1−(トラ
ンス−4−へキシルオキシシクロヘキシル)シクロヘキ
サン。 工程a)〜i)と同様の方法において、そして更に、得
られたプロピオンアルデヒドを実施例2、工程h)、i
)及びj)と同様の方法で反応させ、次の化合物を製造
することができたニ ドランス−4−(4−ペンテニル)−1−(トランス−
4−メトキシシクロヘキシル)シクロヘキサン、融点
(C−SB) ’t.’t℃、 透明点、(Ss−
■)14.06℃; トランス−4−(4−ペンテニル)−1−(1−ランス
−4−エトキシシクロヘキシル)シクロヘキサン、融点
(c−sl) 10.5℃、 透明点、(sll−
r )4 3 、 1 ’O;トランスー4−(4−
ペンテニル)−1−(トランス−4−プロピルオキシシ
クロヘキシル)シクロヘキサン: トランス−4−(4−ペンテニル)−1−(トランス−
4−ブチルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサン; トランス−4−(4−ペンテニル)− 1 −(トラン
ス−4−ペンチルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサ
ン; トランス−4−(4−ペンテニル)−1−(トランス−
4−へキシルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサン; トランス−4 −(4 Z−へキセニル)−1−(トラ
ンス−4−メトキシシクロヘキシル)シクロヘキサン; トランス−4 −(4 Z−へキセニル)−1−(トラ
ンス−4−エトキシシクロヘキシル)シクロヘキサン; トランス−4 −(4 Z−へキセニル)−l−(トラ
ンス−4−プロピルオキシシクロヘキシル)シクロヘキ
サン: トランス−4 −(4 Z−へキセニル)−1−(トラ
ンス−4−ブチルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサ
ン、 トランス−4−(4Z−へキセニル)−l−(トランス
−4−ペンチルオキシシクロヘキシルシクロヘキサン; トランス−4 −(4 Z−へキセニル)−l−(トラ
ンス−4−ヘキシルオキシシクロヘキシル)シクロヘキ
サン。 4−(4−ヒドロキシフェニル)シクロヘキサノン(工
程b)を実施例2、工程h)及びi)と同様の方法で反
応させ、得られた4−(トランス−4−ホルミルシクロ
ヘキシル)フェノールをp−トルエンスルホン酸の存在
下においてエチレングリコールでアセタール化し、そし
て更にジオキソランを上記工程e)〜k)と同様の方法
で反応させ、次の化合物を製造することができたニドラ
ンス−4−ビニル−l−(トランスー4−メトキシシク
ロヘキシル)シクロヘキサン;トランス−4−ビニル−
1−(トランス−4−エトキシシクロヘキシル)シクロ
ヘキサン:トランス−4−ビニル−1−(トランス−4
−プロピルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサン; トランス−4−ビニル−1−(トランス−4−ブチルオ
キシシクロヘキシル)シクロヘキサン; トランス−4−ビニル−1−(トランス−4−ペンチル
オキシシクロヘキシル)シクロヘキサン; トランス−4−ビニル−1−(トランス−4−へキシル
オキシシクロヘキシル)シクロヘキサン: トランス−4−(l E−プロペニル)−1−(トラン
ス−4−メトキシシクロヘキシル)シクロヘキサン: トランス−4−(I E−プロペニル)−1−(トラン
ス−4−エトキシシクロヘキシル)シクロヘキサン; トランス−4−(I E−プロペニル)−1−(トラン
ス−4−プロピルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサ
ン; トランス−4−(l E−プロペニル)−1−(トラン
ス−4−ブチルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサン
; トランス−4−(IE−プロペニル)−1−(トランス
−4−ペンチルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサン
; トランス−4−(IE−プロペニル)−1−(トランス
−4−ヘキシルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサン
; トランス−4−(l E−ブテニル)−1−(トランス
−4−メトキシシクロヘキシル)シクロヘキサン; トランス−4−(I E−ブテニル)−1−(トランス
−4−エトキシシクロヘキシル)シクロヘキサン; トランス−4−(l E−ブテニル)−1−(トランス
−4−プロピルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサン
; トランス−4−(IE−ブテニル)−1−(トランス−
4−ブチルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサン: トランス−4−(IE−ブテニル)−1−(1−ランス
−4−ペンチルオキシシクロヘキシルクロヘキサン; トランス−4−(IE−ペンテニル)−1−(トランス
−4−メトキシシクロヘキシル)シクaヘキサン; トランス−4 −(I E−ペンテニル)−1=(トラ
ンス−4−エトキシシクロヘキシル)シクロヘキサン; トランス−4 −(l E−ペンテニル)−1−(トラ
ンス−4−プロピルオキシシクロヘキシル)シクロヘキ
サン; トランス−4 −(l E−ペンテニル)−l−(トラ
ンス−4−ブチルオキシシクロヘキシル)シクロヘキサ
ン。 4−(2−フェニルエチル)シクロヘキサノン[Mo1
.Cryst.L iq.Cryst. 1 3 1
、 3 2 7 ( 1985)に記載されたニトリ
ルと同様の方法で製造し得る]から出発して上記方法に
従って、また次の化合物を製造することができた: 4−[2−[トランス−4 −(2 −(1 、3 −
ジオキソラン−2−イル)エチル)シクロヘキシル]エ
チル]シクロヘキサノン; トランス−4−(3−ブテニル)− 1 − [2−(
トランス−4−メトキシシクロヘキシル〕エチル]シク
ロヘキサン; トランス−4−(3−ブテニル)− 1 − [2−(
トランス−4−エトキシシクロヘキシル)エチル]シク
ロヘキサン; トランス−4−(3−ブテニル)− 1 − [2−(
トランス−4−プロピルオキシシクロヘキシル)エチル
]シクロヘキサン; トランス−4−(3−ブテニル)− 1 − [2−(
トランス−4−ブチルオキシシクロヘキシル)エチル]
シクロヘキサン; トランス−4−(3−ブテニル)−1−[2−(トラン
ス−4−ペンチルオキシシクロヘキシル)エチルコシク
ロヘキサン; トランス−4−(3−ブテニル)−1−[2−(トラン
ス−4−へキシルオキシシクロヘキシル)エチルコシク
ロヘキサン; トランス−4−(3E−ペンテニル)−1−[2−()
ランス−4−メトキシシクロヘキシル)エチルコシクロ
ヘキサン; トランス−4−(3E−ペンテニル)−1−[2−(1
−ランス−4−エトキシシクロヘキシル)エチルコシク
ロヘキサン; トランス−4−(3E−ペンテニル)−1−[2−0ラ
ンス−4−プロピルオキシシクロヘキシル)エチルコシ
クロヘキサン: トランス−4−(3E−ペンテニル)−1−[2−0ラ
ンス−4−ブチルオキシシクロヘキシル)エチルコシク
ロヘキサン: トランス−4−(3E−ペンテニル)−1−[2−(ト
ランス−4−ペンチルオキシシクロヘキシル)エチルコ
シクロヘキサン; トランス−4−(3E−ペンテニル)=1−[2−()
ランス−4−ヘキシルオキシシクロヘキシル)エチルJ
シクロヘキサン; トランス−4−(3E−へキセニル)−1−[2−(ト
ランス−4−メトキシシクロヘキシル)エチルコシクロ
ヘキサン; トランス−4−(3E−へキセニル)−1−[2−()
ランス−4−エトキシシクロヘキシル)エチル]シクロ
ヘキサン; トランス−4−(3E−へキセニル)−1−[2−(ト
ランス−4−プロピルオキシシクロヘキシル)エチルコ
シクロヘキサン: トランス−4−(3E−へキセニル)−1−[2−(ト
ランス−4−ブチルオキシシクロヘキシル)エチルコシ
クロヘキサン; トランス−4−(3E−へキセニル)−1−[2−0ラ
ンス−4−ペンチルオキシシクロヘキシル)エチルコシ
クロヘキサン; トランス−4−(3E−へキセニル)−1−[2−0ラ
ンス−4−ヘキシルオキシシクロヘキシル)エチルコシ
クロヘキサン: トランス−4−(4−ペンテニル)−1−[2−(トラ
ンス−4−メトキシシクロヘキシル)エチルコシクロヘ
キサン; トランス−4−(4−ペンテニル)−1−[2−(トラ
ンス−4−エトキシシクロヘキシル)エチルコシクロヘ
キサン; トランス−4−(4−ペンテニル)−1−[2−(トラ
ンス−4−プロピルオキシシクロヘキシル)エチルコシ
クロヘキサン; トランス−4−(4−ペンテニル’)−1−[2−(ト
ランス−4−ブチルオキシシクロヘキシル)エチルコシ
クロヘキサン; トランス−4−(4−ペンテニル’)−1−[2−(ト
ランス−4−ペンチルオキシシクロヘキシル)エチルコ
シクロヘキサン: トランス−4−(4−ペンテニル)−1−[2−(トラ
ンス−4−へキシルオキシシクロヘキシル)エチルコシ
クロヘキサン; トランス−4−(4Z−へキセニル)−1−[2−(ト
ランス−4−メトキシシクロヘキシル)エチルコシクロ
ヘキサン; トランス−4−(4Z−へキセニル)−1−[2−(ト
ランス−4−エトキシシクロヘキシル)エチル]シクロ
ヘキサン: トランス−4−(4Z−へキセニル)−1−[2−〇ラ
ンスー4−プロピルオキシシクロヘキシル)エチルコシ
クロヘキサン; トランス−4−(4Z−へキセニル)−1−[2−0ラ
ンス−4−ブチルオキシシクロヘキシル)エチルコシク
ロヘキサン; トランス−4−ビニル−1−[2−(1−ランス−4−
メトキシシクロヘキシル)エチルコシクロヘキサン: トランス−4−ビニル−1−[2−(トランス−4−エ
トキシシクロヘキシル)エチルコシクロヘキサン: トランス−4−ビニル−1−[2−(トランス−4−プ
ロピルオキシシクロヘキシル)エチル]シクロヘキサン
; トランス−4−ビニル−1−[2−(トランス−4−ブ
チルオキシシクロヘキシル)エチルコシクロヘキサン; トランス−4−ビニル−1−[2−0ランス−4−ペン
チルオキシシクロヘキシル)エチルコシクロヘキサン; トランス−4−ビニル−1−[2−(1−ランス−4−
ヘキシルオキシシクロヘキシル)エチルコシクロヘキサ
ン; トランス−4−(I E−プロペニル)−1−[2−(
)ランス−4−メトキシシクロヘキシル)エチルコシク
ロヘキサン: トランス−4−(I E−プロペニル)−1〜[2−(
トランス−4−エトキシシクロヘキシル)エチルコシク
ロヘキサン: トランス−4−(IE−プロペニル)−1−[2−()
ランス−4−プロピルオキシシクロヘキシル)エチルコ
シクロヘキサン; トランス−4−(IE−プロペニル)−l−[2−(ト
ランス−4−ブチルオキシシクロヘキシル)エチルコシ
クロヘキサン; トランス−4−(IE−プロペニル)−1−[2−(ト
ランス−4−ペンチルオキシシクロヘキシル)エチルコ
シクロヘキサン; トランス−4−(l E−プロペニル)−1−[2−0
ランス−4−へキシルオキシシクロヘキシル)エチルコ
シクロヘキサン: トランス−4−(IE−ブテニル)−1−[2−(トラ
ンス−4−メトキシシクロヘキシル)エチル1シクロヘ
キサン; トランス−4−(I E−ブテニル)−1−[2−(ト
ランス−4−エトキシシクロヘキシル)エチル1シクロ
ヘキサン; トランス−4−(IE−ブテニル)−1−[2−(トラ
ンス−4−プロピルオキシシクロヘキシル)エチルコシ
クロヘキサン; トランス−4−(l E−ブテニル)−1−[2−(ト
ランス−4−ブチルオキシシクロヘキシル)エチルコシ
クロヘキサン: トランス−4−(l E−ブテニル)−1−[2−(ト
ランス−4−ペンチルオキシシクロヘキシル)エチルコ
シクロヘキサン; トランス−4−(IE−ペンテニル)−1−[2−()
ランス−4−メトキシシクロヘキシル)エチルコシクロ
ヘキサン; トランス−4−(IE−ペンテニル)−1−[2−(1
−ランス−4−エトキシシクロヘキシル)エチルコシク
ロヘキサン; トランス−4−(l E−ペンテニル)−1−[2−(
トランス−4−プロピルオキシシクロヘキシル)エチル
コシクロヘキサン; トランス−4−(l E−ペンテニル)−1−[2−(
1−ランス−4−ブチルオキシシクロヘキシル)エチル
コシクロヘキサン。 実施例4 a) テトラヒドロフラン7OmQ中のマグネシウム3
.59g及びl−7’ロモー4−フルオロベンゼン16
.75++12によるグリニアール溶液を0°Cで30
分以内に、テトラヒドロフラン9OmQ中の4−[トラ
ンス−4−[2−(1,3−ジオキソラン−2−イル)
エチル]シクロへキシルコシクロヘキサノン(実施例3
に従って製造したもの)33.1gの溶液で滴下処理し
た。反応混合物を室温で更に4時間撹拌し、次に1.5
時間加熱沸騰させた。反応混合物を放冷し、ジエチルエ
ーテルloOmffで希釈し、半飽和塩化アンモニウム
溶液80mQで洗浄した。水相をジエチルエーテルlo
omQで逆抽出した。合液した有機相を飽和塩化ナトリ
ウム溶波谷60mQで3回洗浄し、硫酸ナトリウム上で
乾燥し、濾過し、そして蒸発させた。かくして、粗製の
1− [4−[トランス−4−[2−(1,3−ジオキ
ソラン−2−イル)エチル]シクロへキシル]−1−ヒ
ドロキシシクロヘキシル]−4−フルオロベンゼン41
゜0gが得られた。 b) m−キジ1フ225 −[トランス−4− [2− (1.3−ジオキソラン
−2−イル)エチル1 シクロヘキシル]−1−ヒドロ
キシシクロヘキシル]−4−フルオロベンセン41.0
gの溶液を硫酸水素カリウム15gで処理し、混合物を
11時間加熱沸騰させた。冷却後、塩を濾別した。濾液
をジエチルエーテル250mQで希釈し、飽和炭酸水素
ナトリウム溶液250m12.次に水苔1501111
2で2回洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして濃
縮した。かくして、粗製の1− [4−[)ランス−4
−[2−(1,3−ジオキソラン−2−イル)エチル】
シクロヘキシル] −1−シクロへキセニル] −4−
フルオロベンゼン30.3gが得られた。 c) トルエンN2中の粗製の1− [4−[トラン
ス−4−[2−(1,3−ジオキソラン−2−イル)エ
チル]シクロヘキシル]−1−シクロへキセニル] −
4−フルオロベンゼン31.5g及びトリエチルアミン
0.5+iffの溶液を5%パラジウム−木炭4.5g
と共に室温及び常圧で、水素の吸収が停止するまで水素
添加した。触媒を濾別し、濾液を蒸発させた。異性化す
るために、生じたl−[4−トランス−4−[2−(1
,3−ジオキソラン−2−イル)エチル]シクロヘキシ
ル]シクロヘキシル]−4−フルオロベンゼン(31゜
1g;シス/トランス比約1 : l)をN、N−ジメ
チルホルムアミド31OI1112中のカリウムtar
t。 −ブチレートlo、ogの溶液で処理し、105°Cに
23時間加熱した。次に反応混合物を氷400g及び飽
和炭酸水素ナトリウム溶液10011112に注いだ。 混合物をジエチルエーテル500+++Qで1回、そし
てジエチルエーテル250m2で2回抽出した。有機相
を水苔200m12で3回洗浄し、硫酸ナトリウム上で
乾燥し、濾過し、そして蒸発させた。主に固体の1−[
トランス−4−[トランス−4−(2−(1,3−ジオ
キソラン−2−イル)エチル)シクロヘキシルコシクロ
ヘキシル]−4−フルオロベンゼン30.5gが得られ
、このものを更に精製せずに処理した。 同様の方法において、次の化合物を製造することができ
た: 1−[トランス−4−[トランス−4−(2−(1,3
−ジオキソラン−2−イル)エチル)シクロヘキシルコ
シクロヘキシル]−3,4−ジフルオロベンゼン; 1−[トランス−4−[トランス−4−(2−(1,3
−ジオキシラン−2−イル)エチル)シクロヘキシルコ
シクロヘキシル]−3−クロロ−4−フルオロベンゼン
; 1−[トランス−4−[トランス−4−(2−(1,3
−ジオキシラン−2−イル)エチル)シクロヘキシル1
シクロヘキシル]−3−フルオロ−4−クロロベンゼン
; ■−[トランス−4−[トランス−4−(2−(1,3
−ジオキシラン−2−イル)エチル)シクロへキシル]
シクロヘキシル]−4−クロロベンゼン; l−[トランス−4−[2−[トランス−4−(2−(
1,3−ジオキシラン−2−イル)エチル)シクロヘキ
シル1エチル]シクロヘキシル]−4−フルオロベンゼ
ン; ■−[トランス−4−[2−[トランス−4−(2−(
1,3−ジオキシラン−2−イル)エチル)シクロヘキ
シル]エチル]シクロヘキシル]−3。 4−ジフルオロベンゼン; 1−[トランス−4−[2−[)ランス−4−(2−(
1,3−ジオキシラン−2−イル)エチル)シクロへキ
シル]エチル]シクロヘキ゛シル]−3−クロロ−4−
フルオロベンセン: l−[トランス−4−[2−[トランス−4−(2−(
1,3−ジオキシラン−2−イル)エチル)−シクロヘ
キシル]エチル]シクロヘキシル]−4−クロロベンゼ
ン; l−[トランス−4−[2−[トランス−4−(2−(
1,3−ジオキシラン−2−イル)エチル)シクロへキ
シル]エチルJシクロヘキシル]−3−フルオロ−4−
クロロベンゼン。 実施例5 a) 乾燥ジエチルエーテル50rRQ中のトランス−
4−[トランス−4−[2−(1,3−ジオキソラン−
2−イル)エチノト] シクロヘキシルコシクロヘキサ
ンカルボン酸(実施例2に従って製造したもの)3.1
gの溶液をθ′0にて水素化リチウムアルミニウム38
0’m gで処理し、次に還流下で4時間加熱した。そ
の後、反応混合物を冷却し、氷水及び塩化アンモニウム
溶液で処理し、ジエチルエーテルで抽出した。有機相を
水で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、そ
して蒸発させた。[トランス−4−[トランス−4−[
2−(1,3−ジオキソラン−2−イル)エチル]シク
ロヘキシル]シクロヘキシル]メタノールの生じた粗製
の生成物を更に精製せずに用いIこ 。 b) 乾燥ピリジン20mQ中の粗製の[トランス−4
−〔トランス−4−[2−(1,3−ジオキソラン−2
−イル〕エチル]シクロヘキシル]シクロヘキシル]メ
タノール2.96gの溶液を0°Cにてp−1−ルエン
スルホニルクロライド2゜1gで処理した。混合物を室
温で15時間撹拌し、次に塩化メチレン200+RQで
希釈し、水で数回洗浄した。有機相を硫酸マグネシウム
上で乾燥し、濾過し、そして蒸発させた。生じた粗製の
生成物をシリカゲル上で、酢酸エチル/石油エーテル(
l:9容量比)を用いて、クロマトグラフ的に精製し、
[トランス−4−[トランス−4−(2−(1,3−ジ
オキソラン−2−イル)エチル)シクロヘキシル]シク
ロヘキシル]メチルp−トルエンスルホネートを得た。 c) 95%エタノール7mQ中の水酸化カリウム0.
33gの溶液をp−フルオロフェノール1゜12gで処
理した。その後、混合物をエタノール23mQ中の[ト
ランス−4−[トランス−4−(2−(1,3−ジオキ
ソラン−2−イル)エチル)シクロへキシル]シクロヘ
キシル]メチルp−トルエンスルホネート2.26gの
溶液で処理し、80°C(浴温)で24時間撹拌した。 次に反応混合物をIN塩酸及び塩化メチレン間に分配し
た。有機相を水で数回洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾
燥し、濾過し、そして蒸発させた。生じた粗製の生成物
をシリカゲル上で、酢酸エチル/石油エーテルを用いて
クロマトグラフ的に精製し、1−[[トランス−4−(
トランス−4−(2−(l、3−ジオキソラン−2−イ
ル)エチル)シクロヘキシル)シクロヘキシル]メトキ
シ]−4−フルオロベンゼンヲ得た。 同様の方法において、次の化合物を製造することができ
た: 1−[[トランス−4−(トランス−4−(2−(1,
3−ジオキソラン−2−イル)エチル)シクロヘキシル
)シクロヘキシル]メトキシ]−3,4−ジフルオロベ
ンゼン; 1−[[)ランス−4−(トランス−4−(2−(1,
3−ジオキシラン−2−イル)エチル)シクロヘキシル
)シクロヘキシル]メトキシ]−3−クロロ−4−フル
オロベンゼン; 1−[[トランス−4−(トランス−4−(2−(1,
3−ジオキシラン−2−イル)エチル)シクロヘキシル
)シクロへキシル]メトキシ]−4−クロロベンゼン; 1−[[1−ランス−4−(トランス−4−(2−(1
,3−ジオキシラン−2−イル)エチル)シクロヘキシ
ル)シクロへキシル]メトキシ1−3−フルオロ−4−
クロロベンゼン。 実施例6 a) 塩化メチレン20mQ中のクロロクロム酸ピリジ
ニウム3.1gの溶液を室温にて塩化メチレン10mQ
中の[トランス−4−[トランス−4−[2−(1,3
−ジオキソラン−2−イル)エチル)シクロヘキシル]
シクロヘキシル]メタノール(実施例5に従って製造し
得る)3gの溶液で滴下処理した。混合物を更に1時間
撹拌し、次にジエチルエーテル50mQで希釈し、そし
て濾過した。濾液を蒸発させ、蒸発残渣をジエチルエー
テル50mΩに採り入れ、得られた溶液を再濾過した。 最後に、シリカゲル上で、酢酸エチル/ヘキサンを用い
て、クロマトグラフ的に精製し、トランス−4−[トラ
ンス−4−[2−(1,3−ジオキソラン−2−イル)
エチル]シクロヘキシル]シクロヘキサンカルボキシア
ルデヒドを得た。 b) p−フルオロベンジル−トリフェニルホスホニウ
ムブロマイド(p−フルオロベンジルブロマイド及びト
リフェニルホスフィンから製造゛し得る)3gをter
t、−ブチルメチルエーテル50mf2に懸濁させた。 この懸濁液を室温にてカリウムtert、−ブチレート
0゜75gで処理し、1.5時間撹拌した。次に混合物
を0℃で5分以内に、tert、−ブチルメチルエーテ
ル25mQ中のトランス−4−[トランス−4−[2−
(1,3−ジオキソラン−2−イル)エチル]シクロヘ
キシル]シクロヘキサンカルボキシアルデヒド1.40
gの溶液で滴下処理し、室温で更に24時間撹拌した。 その後、反応混合物をジエチルエーテルに採り入れ、水
で数回洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、
そして濃縮した。生じた粗製の生成物をシリカゲル上で
、酢酸エチル/石油エーテル(3:97容量比)を用い
て、クロマトグラフ的に精製し、β−[トランス−4−
〔トランス−4−[2−(1,3−ジオキソラン−2−
イル)エチル)シクロヘキシル] シクロヘキシル]
−4−フルオロスチレンを得た。 c) トルエン10mQ及びエタノール5+++ff
中のβ−[トランス−4−[トランス−4−[2−(1
,3−ジオキソラン−2−イル)エチル)シクロヘキシ
ル]シクロヘキシル] −4−フルオロスチレンIgの
溶液を5%パラジウム−木炭500mgと共に室温及び
常圧で、水素の吸収が停止するまで水素添加した。次に
黒色懸濁液を濾過した。 濾液蒸発させ、l−[2−[)ランス−4−[トランス
−4−(2−(1,3−ジオキソラン−2−イル)エチ
ル)シクロヘキシル]シクロヘキシル1エチル1−4−
フルオロベンゼンを得た。 同様の方法において、次の化合物を製造することができ
た: 1−[2−[1−ランス−4−[トランス−4−(2−
(1,3−ジオキシラン−2−イル)エチル)シクロヘ
キーシル]シクロヘキシル]エチル]−3,4−ジフル
オロベンゼン: 1−[2−[トランス−4−[トランス−4−(2−(
1,3−ジオキソラン−2−イル)エチル)シクロヘキ
シル]シクロヘキシル]エチル]−3−クロロ−4−フ
ルオロベンゼン; 1−[2−[トランス−4−[トランス−4−(2−(
1,3−ジオキシラン−2−イル)エチル)シクロヘキ
シル]シクロヘキシル]エチル]−4−クロロベンゼン
; 1−[2−[トランス−4−[トランス−4−(2−(
1,3−ジオキシラン−2−イル)エチル)シクロヘキ
シル]シクロヘキシル]エチル]−3−フルオロ−4−
クロロベンゼン。 実施例7 ピリジン5−中の4−フルオロベンゾイルクロライド1
.7gの溶液をトランス−4−[トランス−4−[2−
(1,3−ジオキソラン−2−イル)エチル]シクロヘ
キシル]シクロヘキサノール(実施例3に従って製造し
たもの)2.8gで処理し、室温で12時間撹拌した。 その後、反応混合物を氷水に注ぎ、ジエチルエーテルで
3回抽出した。有機相を順次、飽和炭酸水素ナトリウム
溶液、10%塩酸、飽和炭酸水素ナトリウム溶液及び水
で洗浄し、硫酸マグネシウム上で乾燥し、濾過し、そし
て濃縮した。生じた粗製の生成物をシリカゲル上で、酢
酸エチル/石油エーテル(3:97容量比)を用いて、
クロマトグラフ的に精製し、4−フルオロ安息香酸トラ
ンス−4−[トランス−4−[2−(1,3−ジオキソ
ラン−2−イル)エチル1シクロヘキシル]シクロヘキ
シルエステルを得た。 同様の方法において、次の化合物を製造することができ
た: 3.4−シフロオロ安息香酸 トランス−4−[トラン
ス−4−[2−(1,3−ジオキシラン−2−イル)エ
チル]シクロヘキシル]シクロヘキシル エステル: 3−クロロ−4−フルオロ安息香酸 トランス−4−[
トランス−4−[2−(1,3−ジオキソラン−2−イ
ル)エチル]シクロヘキシル]シクロヘキシル エステ
ル; 4−クロロ安息香酸 トランス−4−[トランス−4−
[2−(1,3−ジオキシラン−2−イル)エチル1シ
クロヘキシル]シクロヘキシルエステル; 3−フルオロ−4−クロロ安息香酸トランス−4−[ト
ランス−4−[2−(1,3−ジオキソラン−2−イル
)エチルコシクロへキシルコシクロヘキシル エステル
。 実施例8 約50%油性懸濁液としての水素化ナトリウム2.04
gを窒素通気下でフラスコに入れ、ペンタンで2回洗浄
した。次にこの水素化ナトリウムに乾燥テトラヒドロフ
ラン40mQ及びテトラヒドロフラン3OmQ中のトラ
ンス−4−[1−ランス−4−[2−(1,3−ジオキ
ソラン−2−イル)エチル]シクロヘキシル]シクロヘ
キサノール(実施例2に従って製造したもの)6.0g
の溶液を加えた。混合物を室温で30分間撹拌し、次に
4−フルオロベンジルブロマイド6.03gで処理し、
還流下で2時間加熱した。反応混合物を冷却し、ジエチ
ルエーテル200mffに採り入れ、水苔200m(2
で3回洗浄した。有機相を硫酸マグネシウム上で乾燥し
、濾過し、そして蒸発させ、かくして、トランス−4−
[トランス−4−[2−(1,3−ジオキソラン−2−
イル)エチルコシクロへキシルコシクロヘキシル4−フ
ルオロベンジルエーテルヲ得り。 同様の方法において、次の化合物を製造することができ
たニ ドランス−4−[トランス−4−[2−(1。 3−ジオキシラン−2−イル)エチルコシクロへキシル
コシクロヘキシル 3.4−ジフルオロベンジル エー
テル; トランス−4−[トランス−4−[2−(1゜3−ジオ
キソラン−2−イル)エチル]シクロヘキシル]シクロ
ヘキシル 3−クロロ−4−フルオロベンジル エーテ
ル; トランス−4−[トランス−4−[2−(1゜3−ジオ
キシラン−2−イル)エチルコシクロヘキシル1シクロ
ヘキシル 4−クロロベンジル エーテル; トランス−4−[トランス−4−[2−(1゜3−ジオ
キソラン−2−イル)エチルコシクロへキシルコシクロ
ヘキシル 3−フルオロ−4−クロロベンジル エーテ
ル。 実施例9 a) 粗製の1−[トランス−4−[トランス−4−(
2−(1,3−ジオキソラン−2−イル)エチル)シク
ロヘキシル1シクロヘキシル]−4−フルオロベンゼン
29.1gs ジオキサン200mQ、氷酢酸200m
a及び水400mQの混合物を撹拌し且つ窒素通気しな
がら、やや沸騰温度に5時間加熱した(浴温115°C
)。次に反応混合物を氷500g上に注いだ。水相を分
離し、ジエチルエーテル各400mQで3回抽出した。 合液した有機相を飽和炭酸水素ナトリウム溶液500m
Q及び水500mQで洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥
し、濾過し、そして蒸発させた。かくして、粗製の固体
の3−[トランス−4−[トランス−4−(4−フルオ
ロフェニル)シクロヘキシル]シクロへキシル]プロピ
オンアルデヒド25゜2gが得られた。 b) ジエチルエーテル50mQ中のメトキシメチル−
トリフェニルホスホニウムクロライド9゜1gの懸濁液
を窒素通気しながらカリウムtert、−ブチレート2
.85gで処理した。この赤色懸濁液を室温で更に30
分間撹拌し、次に乾燥ジエチルエーテル30rtrQ中
の粗製の3− [トランス−4−[トランス−4−(4
−フルオロフェニル)シクロへキシル]シクロヘキシル
]プロピオンアルデヒド5.43gの溶液にてo′cで
滴下処理した。反応混合物を室温で更に90分間撹拌し
、次にヘキサン300m12中に注ぎ、そして濾過した
。 濃縮した濾液をシリカゲル上で、ヘキサンを用いてクロ
マトグラフ的に精製し、固体の1−[トランス−4−[
トランス−4−(4−メトキシ−3−ブテニル)シクロ
ヘキシル]シクロヘキシル]−4−フルオロベンゼン4
.9gをlだ。 c)1−[)ランス−4−[トランス−4−(4−メト
キシ−3−ブテニル)シクロヘキシル]シクロヘキシル
]−4−フルオロベンゼン2.48g、ジオキサン30
m(t、氷酢酸20mα及び水40mQの混合物を撹拌
し且つ窒素通気しながら、やや沸騰温度に加熱した(浴
温115°C)。冷却後、懸濁液を水70mQで希釈し
た。水相を分離し、ジエチルエーテル各80mQで3回
抽出した。 合液した有機相を水苔1000++IQで2回洗浄し、
硫酸ナトリウム上で乾燥し、濾過し、そして蒸発させた
。かくして、固体の4−[トランス−4−[トランス−
4−(4−フルオロフェニル)シクロヘキシル]シクロ
ヘキシル]ブチルアルデヒド2.3gが得られた。 d) ジエチルエーテル80+xff中のメチル−トリ
フェニルホスホニウムブロマイド5.19gの懸濁液を
窒素通気しながらカリウムtert、−ブチレート−1
,55gで処理した。黄色懸濁液を室温で更に45分間
撹拌し、次にOoCにて4−[トランス−4−[トラン
ス−4−(4−フルオロフェニル)シクロヘキシル]シ
クロヘキシル]ブチルアルデヒド2.3gの溶液で滴下
処理した。反応混合物を0℃で更に2時間撹拌し、次に
水60ra(1で希釈した。水相を分離し、ヘキサン各
60raQで2回抽出した。合液した有機相を水で洗浄
して中性にし、硫酸ナトリウム上で乾燥し、濾過し、そ
して濃縮した。残渣をシリカゲル上で、ヘキサンを用い
てクロマトグラフ的に精製し、粗製の生成物1.89
gを得た。アセトンから一20℃で2回再結晶させた後
、融点(C−N)65.7℃及び透明点(N−I)12
9.7℃を有するl−[トランス−4−[トランス−4
−(4−ペンテニル)シクロヘキシルコシクロヘキシル
] −4−フルオロベンゼン1.22gが得られた。 同様の方法において、実施例1に示した4−アルケニル
化合物並びに次の化合物を製造することができた: l−[トランス−4−[トランス−4−(4−ペンテニ
ル)シクロヘキシルコシクロへキシル−3,4−ジフル
オロベンゼン: l−[トランス−4−[トランス−4−(4−ペンテニ
ル)シクロヘキシルコシクロヘキシル−310ロー4−
フルオロベンゼン: l−[トランス−4−[トランス−4−(4−ペンテニ
ル)シクロヘキシルコシクロへキシル−4−クロロベン
ゼン; l−[トランス−4−[トランス−4−(4−ペンテニ
ル)シクロヘキシルコシクロへキシル−3−フルオロ−
4−クロロベンゼン: l−[トランス−4−[2−(トランス−4−(4−ペ
ンテニル)シクロヘキシル)エチル]シクロヘキシル]
−4−フルオロベンゼン;l−[トランス−4−[2−
(トランス−4−(4−ペンテニル)シクロヘキシル)
エチルコシクロヘキシル]−3,4−ジフルオロベンゼ
ン:l−[トランス−4−[2−()ランス−4−(4
−ペンテニル)シクロヘキシル)エチル]シクロヘキシ
ル]−3−クロロ−4−7ルオロベンゼン; l−[トランス−4−[2−(トランス−4−(4−ペ
ンテニル)シクロヘキシル)エチル]シクロヘキシル]
−4−クロロベンゼン: l−[トランス−4−[2−(トランス−4−(4−ペ
ンテニル)シクロヘキシル)エチル]シクロヘキシル]
−3−フルオロ−4−クロロベンゼン; 1−[[)ランス−4−(トランス−4−(4−ペンテ
ニル)シクロヘキシル)シクロヘキシル]メトキシ]−
4−フルオロベンゼン; 1−[[)ランス−4−(トランス−4−(4−ペンテ
ニル)シクロヘキシル)シクロヘキシル]メトキシ]−
3,4−ジフルオロベンゼン;1−[[トランス−4−
(トランス−4−(4−ペンテニル)シクロヘキシル)
シクロヘキシル】メトキシ]−3−クロロー4−フルオ
ロベンゼン:1−[[トランス−4−(トランス−4−
(4−ペンテニル)シクロヘキシル)シクロヘキシル]
メトキシ]−4−クロロベンゼン; 1−[[)ランス−4−(トランス−4−(4−ペンテ
ニル)シクロヘキシル)シクロヘキシル]メトキシ]−
3−フルオロ−4−クロロベンセン;1−[2−[トラ
ンス−4−(トランス−4−(4−ペンテニル)シクロ
ヘキシル)シクロヘキシル]エチル]−4−フルオロベ
ンゼン;融点(c−sm)7.1”c、 相転位点(S
s N)93℃、 透明点(N−1)116.6℃;
1−[2−[トランス−4−(トランス−4−(4−ペ
ンテニル)シクロヘキシル)シクロヘキシル]エチル]
−3,4−ジフルオロベンゼン:1−[2−[トランス
−4−(トランス−4−(4−ペンテニル)シクロヘキ
シル)シクロヘキシル]エチル]−3−クロロ−4−フ
ルオロベンゼン; 1−[2−[トランス−4−(トランス−4=(4−ペ
ンテニル)シクロヘキシル)シクロヘキシル]エチル]
−4−クロロベンゼン;1−[2−[1−ランス−4−
(トランス−4−(4−ペンテニル)シクロヘキシル)
シクロへキシル]エチル]−3−フルオロ−4−クロロ
ベンゼン; 4−フルto安息香fi トランス−4−[トランス
−4−(4−ペンテニル)シクロヘキシル)シクロヘキ
シル1 エステル; 3.4−ジフルオロ安息香酸 トランス−4−[トラン
ス−4−(4−ペンテニル)シクロヘキシル)シクロへ
キシルコ エステル;3−クロロ−4−フルオロ安息香
酸トランス−4−[トランス−4−(4−ペンテニル)
シクロヘキシル)シクロへキシル] エステル:4−ク
ロa安息香酸 トランス−4−[トランス−4−(4−
ペンテニル)シクロヘキシル)シクロヘキシル エステ
ル: 3−フルオロ−4−クロロ安息香酸 トランス−4−[
トランス−4−(4−ペンテニル)シクロヘキシルコシ
クロヘキシル エステル;トランス−4−[トランス−
4−(4−ペンテニル)シクロへキシルコシクロへキシ
ル−4−フルオロベンジル エステル; トランス−4−[トランス−4−(4−ペンテニル)シ
クロヘキシルコシクロヘキシル3.4−シフ)レオロペ
ンジル エーテル; トランス−4−[トランス−4−(4−ペンテニル)シ
クロへキシルコシクロヘキシル3−クロロ−4−フルオ
ロベンジル エーテル;トランス−4−[トランス−4
−(4−ペンテニル)シクロヘキシル1シクロヘキシル
4−クロロベンジル エーテル: トランス−4−[トランス−4−(4−ペンテニル)シ
クロヘキシルコシクロヘキシル3−フルオロ−4−クロ
ロベンジル エーテル:l−[トランス−4−[トラン
ス−4−(4Z−へキセニル)シクロヘキシルコシクロ
ヘキシル1−4−フルオロベンゼン; 1−[トランス−4−[トランス−4−(4Z−へキセ
ニル)シクロヘキシルコシクロヘキシル]−3,4−ジ
フルオロベンゼン; l−[トランス−4−[2−(トランス−4−(4Z−
へキセニル)シクロヘキシル)エチル1シクロヘキシル
]−4−フルオロベンゼン;■−[トランス−4−[2
−(1−ランス−4−(4Z−へキセニル)シクロヘキ
シル)エチルコシクロヘキシル]−3,4−ジフルオロ
ベンゼン:1−[トランス−4−[2−(1−ランス−
4−(4Z−へキセニル)シクロヘキシル)シクロヘキ
シル]メトキシ]−4−フルオロベンゼン:1−[[1
−ランス−4−(トランス−4−(42−へキセニル)
シクロヘキシル)シクロへキシル]メトキシ]−3,4
−ジフルオロベンゼン;1−[2−[トランス−4−(
トランス−4−(4Z−へキセニル)シクロヘキシル)
シクロヘキシル]エチル] −4−フルオロベンゼン;
1−[2−[トランス−4−(トランス−4−(42−
へキセニル)シクロヘキシル)シクロヘキシル]エチル
]−3,4−ジフルオロベンゼン;4−フルオロ安息香
酸トランス−4−[トランス−4−(4Z−へキセニル
)シクロへキシルコシクロヘキシル エステル; 3.4−ジフルオロ安息香酸 トランス−4−[トラン
ス−4−(4Z−へキセニル)シクロヘキシルコシクロ
ヘキシル エステル;トランス−4−[トランス−4−
(4Z−へキセニル)シクロヘキシル]シクロへキシル
〕4−フルオロベンジル エーテル; トランス−4−[トランス−4−(4Z−へキセニル)
シクロヘキシルコシクロヘキシル3.4−ジフルオロベ
ンジル エーテル: 工程b)及びC)を省略して、同様の方法において、ま
た実施例1に示した3E−アルケニル化金物並びに次の
化合物を製造することができた:l−[トランス−4−
[トランス−4−(3−ブテニル)シクロヘキシルコシ
クロへキシル−3゜4−ジフルオロベンゼン; l−[トランス−4−[トランス−4−(3−ブテニル
)シクロヘキシルコシクロヘキシル−3−クロロ−4−
フルオロベンゼン; l−[トランス−4−[トランス−4−(3−ブテニル
)シクロヘキシルコシクロへキシル−4−クロロベンゼ
ン; l−[トランス−4−[トランス−4−(3−ブテニル
)シクロヘキシルコシクロヘキシル−3−フルオロ−4
−クロロベンゼン; l−[トランス−4−[2−(トランス−4−(3−ブ
テニル)シクロヘキシル)エチルコシクロヘキシル]−
3,4−ジフルオロベンゼン;l−[トランス−4−[
2−(トランス−4−(3−’テニル)シクロヘキシル
)エチル]シクロヘキシル]−3−クロロ−4−フルオ
ロベンゼン;l−[トランス−4−[2−(トランス−
4=(3−ブテニル)シクロヘキシル)エチル]シクロ
ヘキシル]−4−クロロベンゼン; l−[トランス−4−[2−(トランス−4−(3−7
’テニル)シクロヘキシル)エチル]シクロヘキシル]
−3−フルオロ−4−クロロベンゼン;1−[[トラン
ス−4−(トランス−4−(3−ブテニル)シクロヘキ
シル)シクロへキシル]メトキシ]−4−フルオロベン
ゼン; 融点(C−N)82.2℃、 透明点(N−1)131
.7℃; 1−[[1−ランス−4−(トランス−4−(3−ブテ
ニル)シクロヘキシル)シクロヘキシル]メートキシ]
−3,4−ジフルオロベンゼン;l−[[トランス−4
−(トランス−4−(3−ブテニル)シクロヘキシル)
シクロヘキシル]メトキシ〕−3−クロロ−4−フルオ
ロベンゼン:1−[[)ランス−4−(トランス−4−
(3−ブテニル)シクロヘキシル)シクロヘキシル]メ
トキシ]−4−クロロベンゼン; 1−[[トランス−4−(トランス−4−(3−ブテニ
ル)シクロヘキシル)シクロヘキシル]メトキシ]−3
−フルオロ−4−クロロベンゼン;1− [2−[)ラ
ンス−4−(トランス−4−(3−ブテニル)シクロヘ
キシル)シクロヘキシル]エチル]−3,4−ジフルオ
ロベンゼン;1−[2−[トランス−4−(トランス−
4−(3−ブテニル)シクロヘキシル)シクロヘキシル
]エチル]−3−クロロ−4−フルオロベンゼン; 1−[2−[)ランス−4−(トランス−4−(3−ブ
テニル)シクロヘキシル)シクロヘキシル]エチル]−
4−クロロベンゼン; 1−[2−[)ランス−4−(トランス−4−(3−ブ
テニル)シクロヘキシル)シクロへキシル]エチル]−
3−フルオロ−4−クロロベンゼン; 3.4−ジフルオロ安息香酸 トランス−4−[トラン
ス−4−(3−7’テニル)シクロヘキシルコシクロヘ
キシル エステル; 3−クロロ−4−フルオロ9.1B、香酸)ランス−4
−[トランス−4−(3−ブテニル)シクロへキシルコ
シクロヘキシル エステル;4−クロロ安息香酸 トラ
ンス−4−[トランス−4−(3−ブテニル)シクロヘ
キシルコシクロヘキシル エステル: 3−フルオロ−4−クロロ安息香酸 トランス−4−[
トランス−4−(3−ブテニル)シクロヘキシルコシク
ロヘキシル エステル;トランス−4−[トランス−4
−(3−ブテニル)シクロヘキシルコシクロヘキシル4
−フルオロベンジル エーテル; 融点(C−N) 37.7°0、 透明点(N−I)
92.8℃; トランス−4−[トランス−4−(3−ブテニル)シク
ロヘキシルコシクロヘキシル3.4−ジフルオロベンジ
ル エーテル; トランス−4−[トランス−4−(3−ブテニル)シク
ロヘキシルコシクロヘキシル3−クロロ−4−フルオロ
ベンジル エーテル; トランス−4−[トランス−4−(3−ブテニル)シク
ロヘキシルコシクロヘキシル4−クロロベンジル エー
テル; トランス−4−[トランス−4−(3−ブテニル)シク
ロヘキシル1シクロヘキシル3−フルオロ−4−クロロ
ベンジル エーテル; l−[トランス−4−[トランス−4−(3E−ペンテ
ニル)シクロヘキシルコシクロヘキシル]−3,4−ジ
フルオロベンゼン; 1−[[1−ランス−4−[2−(トランス−4−(3
E−ペンテニル)シクロヘキシル)エチル]シクロヘキ
シル]−3,4−ジフルオロベンゼン;1− [[)ラ
ンス−4−(トランス−4−(3E−ペンテニル)シク
ロヘキシル)エチル]シクロヘキシル1メトキシ]−4
−フルオロベンゼン;1−[[)ランス−4−(トラン
ス−4−(3E−ペンテニル)シクロヘキシル)シクロ
ヘキシル]メトキシ]−3,4−ジフルオロベンゼン;
1−[2−[トランス−4−(トランス−4−(3E−
ペンテニル)シクロヘキシル)シクロヘキシル]エチル
]−3,4−ジフルオロベンゼン:トランス−4−[ト
ランス−4−(3E−ペンテニル)シクロへキシルコシ
クロヘキシル4−フルオロベンジル エーテル; トランス−4−[トランス−4−(3E−ペンテニル)
シクロヘキシルコシクロヘキシル3.4=ジフルオロベ
ンジル エーテル; 3.4−ジフルオロ安息香酸 トランス−4−[トラン
ス−4−(3E−ペンテニル)シクロヘキシルコシクロ
ヘキシル エステル;トランス−4−[トランス−4−
(3E−ペンテニル)シクロヘキシルコシクロヘキシル
3.4−ジフルオロベンジル エーテル。 実施例10 a) ジエチルエーテル50鱈中の水素化リチウムアル
ミニウム1.20gの懸濁液をジエチルエーテル200
m12及びテトラヒドロフ9冫4ル)シクロヘキサンカ
ルボン酸6.67gの溶液で15分以内に滴下処理した
。反応混合物を室温で2時間撹拌し、次にアセトン4m
Q及び水14、aで滴下処理し、3N塩酸で酸性にした
(pH約1)。水相を分離した。有機相を水、半飽和炭
酸ナトリウム溶波谷20mQで2回、そして水各3Qm
Qで3回洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして蒸
発させた。かくして、融点65〜70°0を有する粗製
の[トランス−4−(4−フルオロフェニル)シクロヘ
キシル]メタノール6。 08gが得られた。 b) ジクロロメタン80mQ中のクロロクロム酸ピリ
ジニウム11.35gの懸濁液をジエチルエーテル18
mQ中の[トランス−4−(4−フルオロフェニル)シ
クロへキシル]メタノール6、06gの溶液で滴下処理
した。反応混合物を4時間撹拌し、次にジエチルエーテ
ル50IIIQで希釈し、暗色の残渣からデカンテーシ
ョンし、そして濾過した。濾液を濃縮し、帯黄色油とし
て、トランス−4−(4−フルオロフェニル)シクロヘ
キサンカルボキシアルデヒド4.86gが得られ、この
ものは室温で固化した;融点く30°C0実施例11 トルエン40mQ中の2−(4−ペンテニル)−1,3
−プロパンジオール0.98g及びトランス−4−(4
−フルオロフェニル)シクロヘキサンカルボキシアルデ
ヒド1.34gの溶液を、下降冷却器を備えたスルホン
化用フラスコ中にて10%硫酸4滴で処理した。混合物
を1時間沸騰させ、留出した湿った溶媒を新しいトルエ
ンの滴下によって交換した。次に反応混合物をトリエチ
ルアミン(約8滴)で中和し、水各15rAI2で2回
洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、濾過し、そして濃
縮した。残渣(2.22g)をシリカゲル上で、ヘキサ
ン/酢酸エチル(39:1容量比)を用いてクロマトグ
ラフ的に精製し、最後に、エタノールからくり返し再結
晶させ、純粋なトランス−2−[トランス−4−(4−
フルオロフェニル)シクロヘキシル] −5− (4−
ペンテニル)−m−ジオキサン0.44gを得た:融点
(C−3.)68.5℃、相転位点(SaN)77°C
1透明点(N−1)96.5℃。 同様の方法において、次の化合物を製造することができ
たニ ドランス−2−[トランス−4−(3,4−ジフルオロ
フェニル)シクロヘキシル3−5−(4−ペンテニル)
−■−ジオキサン: トランスー2−[トランス−4−(4−クロロフェニル
)シクロヘキシル]−5−(4−ペンテニル)−m−ジ
オキサン: トランス−2−[トランス−4−(3,4−ジフルオロ
フェニル)シクロヘキシル]−5−(3−ブテニル)−
一−ジオキサン; トランス−2−[トランス−4−(4−クロロフェニル
)シクロヘキシル]−5−(3−フチニル)−m−ジオ
キサン: トランス−2−[トランス−4−[2−(4−フルオロ
フェニル)エチルコシクロヘキシル】−5−(4−ペン
テニル)−m−ジオキサン;トランス−2−[トランス
−4−[2−(3。 4−ジフルオロフェニル)エチルコシクロヘキシル]−
5−(4−ペンテニル)−m−ジオキサン;トランス−
2−[トランス−4−[2−(4−クロロフェニル)エ
チルコシクロヘキシル]−5−(4−ペンテニル)−m
−ジオキサン;トランス−2−[トランス−4−[2−
(3゜4−ジフルオロフェニル)エチルコシクロヘキシ
ル]−5−(3−ブテニル)−m−ジオキサン;トラン
ス−2−
【トランス−4−[2−(4−クロロフェニル
)エチルコシクロヘキシル]−5−(3−ブテニル)−
+++−ジオキサン;トランスー2−(4−フルオロフ
ェニル)−5−(4−ペンテニル)−m−ジオキサン。 融点 (C−1) 18.7℃;。 トランス−2−(3,4−ジフルオロフェニル)−5−
(4−ペンテニル)−m−ジオλキサン;トランス−2
−(4−クロロフェニル)−5−(4−ペンテニル)−
m−ジオキサン;トランス−2−(3,4−ジフルオロ
フェニル”)−5−(3−ブテニル)−m−ジオキサン
;トランス−2−(4−クロロフェニル)−5−(3−
ブテニル)−m−ジオキサン:トランス−2−[2−(
4−フルオロフェニル)エチル]−5−(4−ペンテニ
ル)−m−ジオキサン: トランス−2−[2−(3,4−ジフルオロフェニル)
エチル]−5−(4−ペンテニル)−m−ジオキサン; トランス−2−[2−(4−クロロフェニル)エチル]
−5−(4−ペンテニル)−m−ジオキサン; トランス−2−[2−(3,4−ジフルオロフェニル)
エチル]−5−(3−ブテニル)−m−ジオキサン: トランス−2−[2−(4−クロロフェニル)エチル]
−5−(3−ブテニル)−m−ジオキサン:実施例12 7−シメトキシー6−(ジメトキシメチル)−1−’ヘ
プテン3.6g、p−トルエンスルホン酸−水和物75
mg及び水Q、35m<2の混合物を撹拌し且つ窒素雰
囲気下で、110℃の油浴中にてやや沸騰温度に2時間
加熱した。その後、混合物を炭酸水素ナトリウム0.5
gで処理し、油浴を用いずに10分間撹拌し、次に濾過
した(少量のメタノールですすいだ)。濾液をメタノー
ル60鱈中の4−フルオロベンズアミジン塩酸塩2.9
gの溶液に加えた。次に反応混合物をナトリウムメチレ
ート溶液(ナトリウム0.6g及びメタノール15m6
から製造したもの)で滴下処理し、室温で一夜撹拌し、
次に濃塩酸でpH5に調節し、そして蒸発させた。残渣
を水で処理し、ジエチルエーテルで抽出した。有機相を
水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、濾過し、そし
て蒸発させた。粗製の生成物をシリカゲル上で、ヘキサ
ン/酢酸エチル(19:1容量比)を用いてクロマトグ
ラフ的に精製し、ヘキサンから再結晶させ、融点21.
8℃を有する純粋な2−(4−フルオロフェニル) −
5−(4−ペンテニル)ピリミジン1.0gを得た。 同様の方法において、次の化合物を製造することができ
た: 2−(3,4−ジフルオロフェニル)−5−(4−ペン
テニル)ピリミジン: 2−(4−クロロフェニル)−5−(4−ペンテニル)
ピリミジン; 2−(3,4−ジフルオロフェニル)−5−(3−ブテ
ニル)ピリミジン; 2−(4−クロロフェニル)−5−(3−ブテニル)ピ
リミジン; 2−(4−フルオロフェニル)−5−[トランス−4−
(4−ペンテニル)シクロヘキシル1ビリ ミ ジン; 2−(3,4−ジフルオロフェニル)−5−[トランス
−4−(4−ペンテニル)シクロヘキシル1ビリミジン
; 2−(4−クロロフェニル)−5−[1−ランス−4−
(4−ペンテニル)シクロへキシル]ピリミジン: 2−(3,4−ジフルオロフェニル)−5−[トランス
−4−(3−ブテニル)シクロヘキシル1ビリ ミ ジ
ン; 2−(4−クロロフェニル)−5−[トランス−4−(
3−ブテニル)シクロヘキシル1ピリミジン; 2−(4’−フルオロ−4−ビフェニル)−5−(4−
ペンテニル)ピリミジン; 2−(3″、4′−ジフルオロ−4−ビフェニル)−5
−(4−ペンテニル)ピリミジン;2−(4’−クロロ
−4−ビフェニル)−5−(4−ペンテニル)ピリミジ
ン; 2−(3’、4°−ジフルオロ−4−ビフェニル)−5
−(3−ブテニル)ピリミジン;2−(3’−クロロ−
4−ビフェニル)−5−(3−ブテニル)ピリミジン。 実施例13 以下の二成分混合物を4−(トランス−4−ペンチルシ
クロヘキシル)ベンゾニトリル及ヒ弐工の化合物から製
造した。電子−光学的データは8μmのプレート間隔を
有するTNセル中にて22°Cで測定した。4−(トラ
ンス−4−ペンチルシクロヘキシル)ベンゾニトリルに
対する対応する値は次の通りである:VIG−1.62
V、t、。 = 30 m s 、Δn=0−120 ;透明点(N
−1)54.6°0゜ 混合物 1 4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)ベンゾ
ニトリル 90重量%、 4−(3−ブテニルオキシ)安息香酸 4−フルオロフ
ェニル エステル 10重1%: V+a= 1.29V% t m、=31ms、△n
−0,117゜ 混合物 2 4−0ランス−4−ペンチルシクロヘキシル)ベンゾニ
トリル 90重量%、 トランス−4−(4−ペンテニル)シクロヘキサンカル
ボン酸 4−フルオロフェニル エステル10重量%; v+o=1−1 ’7v、tow−22ms1△n−0
.108゜ 混合物 3 4−(1−ランス−4−ペンチルシクロヘキシル)ベン
ゾニトリル 70重量%、 トランス−4−[トランス−4−(4−ペンテニル)シ
クロヘキシル]シクロヘキサンカルボン酸4−フルオロ
フェニル エステル 30重量%;vIo−1−55V
s t a @−44m S s△n−0,110
;透明点(N−I)75.3℃。 混合物 4 4−(1−ランス−4−ペンチルシクロヘキシル)ベン
ゾニトリル 90重量%、 4−(4−ペンテニル)安息香酸 4−フルオロフェニ
ル エステル 10重量%; V+o=1.42V、t、、=26ms、△n=0.1
17、透明点(N−1)50.3°C0混合物 5 4−(1−ランス−4−ペンチルシクロヘキシル)ベン
ゾニトリル 90重量%、 4−(3−ブテニルオキシ)安息香酸 3,4−ジフル
オロフェニル エステル 10重量%:”1o−1,2
3V%t am−36m Ss△n−0,116、透明
点(N−1)44.5°C1混合物 6 4−Dランス−4−ペンチルシクロヘキシル)べンゾニ
トリル 90重量%、 l−[トランス−4−[トランス−4−(4−ペンテニ
ル)シクロヘキシル]シクロヘキシル]4−フルオロベ
ンゼン 10重量%; V、a−1,47V%、 t、−25m5sΔn−0゜
112、透明点(N−I)59.1”o。 混合物 7 4−()ランス−4−ペンチルシクロヘキシルンゾニト
リル 90重量%、 トランス−2−[トランス−4−(4−フルオロフェニ
ル)シクロヘキシル]−5−(4−ペンテニル)−m−
ジオキサン、 10重量%; Vla− 1 、3 4V% t 、、111113
1 m5%Δn−0。 116、透明点(N−1)54.0℃。 実施例14 次の混合物を製造した。特記せぬ限り、電子−光学的デ
ータは8μmのプレート間隔を有するTNセル中にて2
2℃で測定した。 混合物 A トランス−4−[トランス−4−(3−ブテニル)シク
ロヘキシルコシクロヘキサンカルボニトリル15重量%
、 トランス−4−[トランス−4−(3E−ペンテニル)
シクロヘキシルコシクロヘキサンカルボニトリル 12
重量%、 トランス−4−[トランス−4−(4−ペンテニル)シ
クロヘキシルコシクロヘキサンカルボニトリル10重量
%、 4−[トランス−4 −(l E−プロペニル)シクロ
へキシル]ベンゾニトリル 10重量%、トランス−4
−アリルオキシ−1−()ランス−4−プロピルシクロ
ヘキシル 20重量%、 4−エトキシ−l−[トランス−4−(3E−ペンテニ
ル)シクロヘキシル]ベンゼン 15重量%、 トランス−4−[トランス−4−(3−ブテニル)シク
ロヘキシルコシクロヘキサンカルボン酸4−フルオロフ
ェニル エステル 10重量%、トランス−4−[トラ
ンス−4−(4−ペンテニル)シクロヘキシルコシクロ
ヘキサンカルボン酸4−フルオロフェニル エステル
8重量%:融点く一30℃、透明点(N−1)71”O
:Vl。 −2.10V,p−0.204、tea−19ms。 ts++=31ms.Δn−0.084。 混合物 B トランス−4−[トランス−4−(3−ブテニル)シク
ロヘキシルコシクロヘキサンカルボニトリル15重量%
、 トラ゛ンスー4−[トランス−4 −(3 E−ペンテ
ニル)シクロヘキシルコシクロヘキサンカルボニトリル
12重量%、 トランス−47[トランス−4−(4−ペンテニル)シ
クロヘキシルコシクロヘキサンカルボニトリル10重量
%、 トランス−4−アリルオキシ−1−()ランス−4−プ
ロピルシクロヘキシル)シクロヘキサン33重量%、 トランス−4−[トランス−4−(3−ブテニル)シク
ロヘキシル1シクロヘキサンカルボン酸4−フルオロフ
ェニル エステル 20重量%、トランス−4−[トラ
ンス−4−(4−ペンテニル)シクロヘキシル1シクロ
ヘキサンカルボン酸 4−フルオロフェニル エステル
lO]1[量%;融点く一20℃、透明点(N−I)
81’c;v.。 =2.4 1V,p=0.2 1 1,t.、−24m
s。 t* j K ”” 3 7 m S %Δn=0.0
67。 混合物 C 4−[トランス−4 −(l E−プロペニル)シクロ
ヘキシル]ベンゾニトリル 10重量%、4−エトキシ
−l−[トランス−4 −(3 E−ペンテニル)シク
ロヘキシル]ベンゼン 15重量%、トランス−4−[
トランス−4−(3−ブテニル)シクロヘキシル1シク
ロヘキサン力ルボニトリル12重量%、 トランス−4−[トランス−4−(3E−ペンテニル)
シクロヘキシルコシクロヘキサンカルボニトリル 10
重量%、 トランス−4−[トランス−4−(4−ペンテニル)シ
クロヘキシル]シクロヘキサン力ルポニトリル8重量%
、 トランス−4−(3−ブテニル)−1−()ランス−4
−エトキシシクロヘキシル)シクロヘキサン15重量%
、 1−[2−()ランス−4−ブチルシクロヘキシル)エ
チル]−4−(1−ランス−4−ペンチルシクロヘキシ
ル)ベンゼン 8重量%、 トランス−4−[トランス−4−(3−ブテニル)シク
ロヘキシル]シクロヘキサンカルボン酸4−フルオロフ
ェニル エステル 81i量%、トランス−4−[トラ
ンス−4−(3E−ペンテニル)シクロへキシルコシク
ロヘキサンカルボン酸4−フルオロフェニル エステル
8を量%、トランス−4−[トランス−4−(4−ペ
ンテニル)シクロヘキシル]シクロヘキサンカルボン酸
4−フルオロフェニル エステル 8を量%;融点く
一30℃、透明点84°C1ネマテイク;Vro= 2
−35 V ; t −−(22℃)=15ms1t、
、(−20℃) ”309ms、 t 、11 (2
2°C)=27ms% t、++(20℃)−420m
s ;△n=0. 088゜ 混合物 D 4−[トランス−4−(I E−プロペニル)シクロヘ
キシル1ベンゾニトリル 10重量%、4−[トランス
−4−(3E−プロペニル)シクロヘキシル]ベンゾニ
トリル 6重量%、4−エトキシ−1−[トランス−4
−(3E−ペンテニル)シクロヘキシル]ベンゼン 1
2重量%、トランス−4−[トランス−4−(3−ブテ
ニル)シクロヘキシルコシクロヘキサンカルボニトリル
5重量%、 トランス−4−[トランス−4−(3E−ペンテニル)
シクロヘキシルコシクロヘキサンカルボニトリル 7重
量%、 トランス−4−アリルオキシ−1−(トランス−4−プ
ロピルシクロヘキシル)シクロヘキサン12重量%、 トランス−4−(3E−ペンテニル)−1−(トランス
−4−エトキシシクロヘキシル)シクロヘキサン 10
重量%、 4−[トランス−4−(3E−ペンテニル)シクロヘキ
シル]−4’−プロピルビフェニル 6重量%、トラン
ス−4−プロピルシクロヘキサンカルボン酸 4−[ト
ランス−4−(3E−ペンテニル)シクロヘキシルJフ
ェニル エステル 6重量%;1−12−()ランス−
4−ブチルシクロヘキシル)エチル]−4−()ランス
−4−ペンチルシクロヘキシル)ベンゼン lO量%、 4−[2−()ランス−4−ブチルシクロヘキシル)エ
チル]−4’−[トランス−4−(3E−ペンテニル)
シクロへキシル]ビフェニル 4重量%、トランス−4
−[トランス−4−(3−ブテニル)シクロヘキシル】
シクロヘキサンカルボン酸 4−フルオロフェニル エ
ステル 8重量%、トランス−4−[トランス−4−(
3E−ペンテニル)シクロヘキシルコシクロヘキサンカ
ルボン酸4−フルオロフェニル エステル 4重量%;
融点く一30℃、透明点100°C1ネマテイク:V+
o−2,82V; t、、(22°O)=12ms。 t−*(20℃)−220msS t、++(22℃)
−21rns、 t−++(20°O)−330ms
;Δn=0. 105゜ 混合物 E 4−[トランス−4−(IE−プロペニル)シクロヘキ
シル]ベンゾニトリル 9.40重量%、4−[トラン
ス−4−(3E−ペンテニル)シクロヘキシル]ベンゾ
ニトリル 5.64重量%、4−エトキシ−1−[トラ
ンス−4−(3E−ペンテニル)シクロヘキシル]ベン
ゼン 11.28重量%、 トランス−4−[トランス−4−(3−ブテニル)シク
ロヘキシルコシクロヘキサンカルボニトリル4.70重
量%、 トランス−4−[トランス−4−(3E−ペンテニル)
シクロへキシルコシクロヘキサンカルボニトリル 6.
58重量%、 トランス−4−アリルオキシ−1−(トランス−4−プ
ロピルシクロヘキシル)シクロヘキサン11.28重量
%、 トランス−4−(3E−ペンテニル)−1−(トラシス
−4−エトキシシクロヘキシル)シクロヘキサン 9.
40重量%、 2−シアノ−5−(トランス−4−ブチルシクロヘキシ
ル)ピリミジン 6.00重量%、トランス−4−プロ
ピルシクロヘキサンカルボン酸 4−[トランス−4
−(3 E−ペンテニル)シクロヘキシル】フェニル
エステル 5.641量%、 4−[)ランス−4−(3−ペンテニル)シクロヘキシ
ル]−4’−グロピルビフェニル 5.641量%; 1−[2−()ランス−4−ブチルシクロヘキシル)エ
チル]−4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル
)ベンゼン 9.40量%、 4−(2−(トランス−4−ブチルシクロヘキシル)エ
チル】−4″−[トランス−4 −(3 E−ペンテニ
ル)シクロへキシル】ビフェニル 3.76を量%、ト
ランス−4−[トランス−4−(3−ブテニル)シクロ
ヘキシルコシクロヘキサンカルボン酸 4−フルオロフ
ェニル エステル 7.5211量%、トランス−4−
[トランス−4−(3E−ペンテニル)シクロヘキシル
コシクロヘキサンカルボン酸4−フルオロフェニル エ
ステル 3.76重量%; 融点く一30℃、透明点95℃、ネマテイク;V+a−
2.35V; t.、(22℃)−16ms。 t.m(−20℃) −3 0 0 ms s t
* 、+ ( 2 2℃)= 2 4 rn slt
*** ( 2 0℃)−350ms;△n=0.1
04。 混合物 F 4−[トランス−4−(IE−プロペニル)シクロヘキ
シル]ベンゾニトリル lol量%、4−(2E−ブテ
ニルオキシ)−1−()ランス−4−プロピルシクロヘ
キシル)ベンゼン 12重量%、 トランス−4−[トランス−4−(3−ブテニル)シク
ロへキシルコシクロヘキサンカルボニトリル5重量%、 トランス−4−[トランス−4−(3E−ペンテニル)
シクロヘキシル1シクロヘキサンカルボニトリル 7重
量%、 トランス−4−[トランス−4−(4−ペンテニル)シ
クロヘキシルコシクロヘキサンカルボニトリル6重量%
、 トランス−4−アリルオキシ−1−(トランス−4−プ
ロピルシクロヘキシル)シクロヘキサン12重量%、 トランス−4 −(3 E−ペンテニル)−l−(トラ
ンス−4−エトキシシクロヘキシル)シクロヘキサン
10重量%、 トランス−4−プロピルシクロヘキサンカルボン酸 4
−[トランス−4−(3E−ペンテニル)シクロヘキシ
ル]フェニル エステル 8重量%、1−[2−()ラ
ンス−4−ブチルシクロヘキシル)エチル]−4−(1
−ランス−4−ペンチルシクロヘキシル)ベンゼン 1
0量%、 4−[2−(トランス−4−ブチルシクロへキシル)エ
チル]−4−()ランス−4−ペンチルシクロヘキシル
)ビフェニル 5重量%、 5−0ランス−4−ペンチルシクロヘキシル2−[4−
()ランス−4−プロピルシクロヘキシル)フェニル]
ピリミジン 3重量%、トランス−4−〔トランス−4
−(3 E−ブテニル)シクロヘキシルコシクロヘキ
サンカルボン酸 4−フルオロフェニル エステル 4
1量%;トランスー4−[トランス−4 −(3 E−
ペンテニル)シクロへキシル1シクロヘキサンカルボン
酸4−フルオロフェニル エステル 8重量%;融点く
一30℃、透明点109℃、ネマテイク;V+a−2.
8 4V.; t 、、(2 2℃)−16ms。 t.、(−20℃)−33量mS% t.t*(22
℃)=26ms,t−sl( 20℃)−370ms
HΔn=0.096。 混合物 G 4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)ベンゾ
ニトリル 10重量%、 4−[トランス−4 −(l E−プロペニル)シクロ
ヘキシル]ベンゾニトリル 8重量%、トランス−4−
()ランス−4−ビニルシクロヘキシル)シクロヘキサ
ンカルボニトリル 10重量%、 トランス−4−[トランス−4−(3E−ペンテニル)
シクロヘキシルコシクロヘキサンカルボニトリル 8重
量%、 トランス−4−エトキシ−1−[トランス−4−(3E
−ペンテニル)シクロへキシル]シクロヘキサンlO重
量%、 トランス−4−二トキシ−1−[トランス−4−(4−
ペンテニル)シクロへキシルコシクロヘキサン8!i量
%、 2−シアノ−5−(1−ランス−4−ブチルシクロヘキ
シル)ピリミジン 8重量%、 2−シアノ−5−(1−ランス−4−ペンチルシクロヘ
キシル)ピリミジン 3重量%、 4−(2E−ブテニルオキシ)−1−[トランス−4−
プロピルシクロヘキシル)シクロヘキシル]ベンゼン
7重量%、 トランス−4−[5−(1−ランス−4−ブチルシクロ
ヘキシル)−2−ピリミジニル]シクロヘキサンカルボ
ニトリル 5重量%、 トランス−4−プロピルシクロヘキサンカルボン酸 4
−[トランス−4−(3E−ペンテニル)シクロへキシ
ル]フェニル エステル 8重量%、1−[トランス−
4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)シクロ
ヘキシル] −4−フルオロベンゼン78重量%、 トランス−4−[トランス−4−(3−ブテニル)シク
ロヘキシル]シクロヘキサンカルボンM4−フルオロフ
ェニル エステル 5重量%、トランス−4−[トラン
ス−4−(4−ペンテニル)シクロヘキシルコシクロヘ
キサンカルボン酸4−フルオロフェニル エステル 7
重量%;融点く一30°C1透明点92℃、ネマテイク
;VIO−1,71V、t、、(22℃)−19ms。 t、、(−20°O)−530mss t−++(2
2℃)=34ms% t、++(−20°C)−772
ms;へn=0.094゜ 混合物 H 4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)ベンゾ
ニトリル 7量%、 4−[トランス−4−(I E−プロペニル)シクロへ
キシル]ベンゾニトリル 8重量%、トランス−4−(
トランス−4−ビニルシクロヘキシル)シクロヘキサン
カルボニトリル 10重量%、 トランス−4−メトキシ−1−[トランス−4−(3E
−ペンテニル)シクロヘキシル]シクロヘキサン10重
量%、 トランス−4−二トキシ−1−[トランス−4−(3フ
チニル)シクロヘキシル]シクロヘキサン 10重量%
、 トランス−4−二トキシ−1−[トランス−4−(3フ
チニル)シクロヘキシル]シクロヘキサンlO重量%、 トランス−4−二トキシ−1−[トランス−4−(3E
−ヘンテニル)シクロヘキシル]シクロヘキサン12重
量%、 1−[2−(トランス−4−ブチルシクロヘキシル)エ
チル]−4−(トランス−4−(ペンチルシクロヘキシ
ル)ベンゼン 8重量%、 トランス−4−プロピルシクロヘキサンカルボン酸 4
−[トランス−4−(3E−ペンテニル)シクロヘキシ
ル]フェニル エステル 61量%、l−[トランス−
4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)シクロ
ヘキシル] 4−フルオロベンゼン 8重量%、 1−[)ランス−4−(ビニルシクロヘキシル)シクロ
ヘキシル] 4−フルオロベンゼン 6重量%、 4−[2−()ランス−4−ブチルシクロヘキシル)エ
チル]−4″−[トランス−4−(3E−ペンテニル)
シクロヘキシル]ビフェニル 41量%、5−Cトラン
ス−4−ペンチルシクロヘキシル)−2−[4−(トラ
ンス−4−プロピルシクロヘキシル)フェニル]ピリミ
ジン 31[[量%、トランス−4−(4−ペンテニル
)シクロヘキサンカルボン酸 4−フルオロフェニル 8重量%; 融点く一30°C1透明点88℃、ネマテイク;VIo
−2.2 9v ; t 、、 (2 2°O)−12
ms。 t、、(−20℃)”221m51 t−++(22℃
)=23ms% t−++(−20℃)−296ms
;Δn=0.080゜ 混合物 l 4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)ベンゾ
ニトリル 7量%、 4−(トランス−4−(l E−プロペニル)シクロヘ
キシル)ベンゾニトリル 8重量%、トランス−4−D
ランス−4−ビニルシクロヘキシル)シクロヘキサンカ
ルボニトリル 10重量%、 トランス−4−メトキシ−1−[トランス−4−(3E
−ペンテニル)シクロヘキシル】シクロヘキサン10重
量%、 トランス−4−エトキシ−1−【トランス−4−(3ブ
テニル)シクロヘキシル1シクロヘキサン 10重量%
、 トランス−4−エトキシ−1−[トランス−4−(3E
−ペンテニル)シクロヘキシル]シクロヘキサン12重
量%、 1−[2−()ランス−4−ブチルシクロヘキシル)エ
チル]−4−(トランス−4−(ペンチルシクロヘキシ
ル)ベンゼン 8重量%、 トランス−4−プロピルシクロヘキサンカルボン酸 4
−[トランス−4 −(3 E−ペンテニル)シクロヘ
キシル1フエニル エステル 6重量%、l−[トラン
ス−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)シ
クロヘキシル1 4−フルオロベンゼン 8重量%、 l−〔トランス−4−(トランス−4−ビニルシクロヘ
キシル)シクロヘキシル] 4−フルオロベンゼン
6重量%、 4−[2−(トランス−4−ブチルシクロヘキシル)エ
チル]−4’−[トランス−4 −(3 E−ペンテニ
ル)シクロヘキシル1フエニル 4重量%、5−()ラ
ンス−4−ペンチルシクロヘキシル2−[4−()ラン
ス−4−プロピルシクロヘキシル)フェニル]ピリミジ
ン 3重量%、トランス−2−(4−フルオロフェニル
)− 5 −(4−ペンテニル)−m−ジオキサン 8
重量%:融点く一30℃、透明点81℃、ネマテイク;
vto−2−15v; t.、(22℃)−14ms。 t.、(−20℃)=249ms,tー*+(22℃)
= 2 6 rn s s t −tt (− 2 0
℃)−342ms ;Δn−0.087− 混合物 J 4−()ランス−4−プロピルシクロヘキシル)ベンゾ
ニトリル lO量%、 4−(トランス−4−ビニルシクロヘキシル)ベンゾニ
トリル 7重量%、 4−[トランス−4 −(l E−プロペニル)シクロ
ヘキシル]ベンゾニトリル 8重量%、4−エトキシ−
1−()ランス−4−プロピルシクロヘキシル)ベンゼ
ン 6重量%、 トランス−4−メトキシ−l−[トランス−4−(3E
−ペンテニル)シクロヘキシルコシクロヘキサン 10
重量%、 トランス−4−エトキシ−l−[トランス−4−(3−
ブテニル)シクロヘキシル]シクロヘキサンlO重量%
、 トランス−4−二トキシ−l−[トランス−4−(3E
−ペンテニル)シクロヘキシルコシクロヘキサ212重
量%、 トランス−4−二トキシ−l−[トランス−4−(3E
−ペンテニル)シクロヘキシルJシクロヘキサン12重
量%、 4−(2E−ブテニルオキシ’)− 1 − [)ラン
ス−4−プロピルシクロヘキシル)シクロヘキシル]ベ
ンゼン 8重量%、 1−[2−(トランス−4−ブチルシクロヘキシル)エ
チル]−4−()ランス−4−ペンチルシクロヘキシル
)ベンゼン 8重量%、 トランス−4−プロピルシクロヘキサンカルボン酸 4
−[トランス−4−(3E−ペンテニル)シクロヘキシ
ル1フエニル エステル 6重量%、4、4′−ビス−
(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)ビフェニル
41量%、 5−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−2−
[4−Dランス−4−プロピルシクロヘキシル)フェニ
ル]ピリミジン 3重量%、トランス−4−[トランス
−4−(4−ペンテニル)シクロへキシルコシクロヘキ
サンカルボン酸 4−フルオロフェニル エステル 8
重量%;融点く一30°C1透明点95°C1ネマティ
ク;V+o−2,41V; t−−(22℃)−12m
s。 t、、(−20°Cり−195m5.t、++(22℃
)=21m5S t、++(−20°O)=276ms
;△n=0.101゜
)エチルコシクロヘキシル]−5−(3−ブテニル)−
+++−ジオキサン;トランスー2−(4−フルオロフ
ェニル)−5−(4−ペンテニル)−m−ジオキサン。 融点 (C−1) 18.7℃;。 トランス−2−(3,4−ジフルオロフェニル)−5−
(4−ペンテニル)−m−ジオλキサン;トランス−2
−(4−クロロフェニル)−5−(4−ペンテニル)−
m−ジオキサン;トランス−2−(3,4−ジフルオロ
フェニル”)−5−(3−ブテニル)−m−ジオキサン
;トランス−2−(4−クロロフェニル)−5−(3−
ブテニル)−m−ジオキサン:トランス−2−[2−(
4−フルオロフェニル)エチル]−5−(4−ペンテニ
ル)−m−ジオキサン: トランス−2−[2−(3,4−ジフルオロフェニル)
エチル]−5−(4−ペンテニル)−m−ジオキサン; トランス−2−[2−(4−クロロフェニル)エチル]
−5−(4−ペンテニル)−m−ジオキサン; トランス−2−[2−(3,4−ジフルオロフェニル)
エチル]−5−(3−ブテニル)−m−ジオキサン: トランス−2−[2−(4−クロロフェニル)エチル]
−5−(3−ブテニル)−m−ジオキサン:実施例12 7−シメトキシー6−(ジメトキシメチル)−1−’ヘ
プテン3.6g、p−トルエンスルホン酸−水和物75
mg及び水Q、35m<2の混合物を撹拌し且つ窒素雰
囲気下で、110℃の油浴中にてやや沸騰温度に2時間
加熱した。その後、混合物を炭酸水素ナトリウム0.5
gで処理し、油浴を用いずに10分間撹拌し、次に濾過
した(少量のメタノールですすいだ)。濾液をメタノー
ル60鱈中の4−フルオロベンズアミジン塩酸塩2.9
gの溶液に加えた。次に反応混合物をナトリウムメチレ
ート溶液(ナトリウム0.6g及びメタノール15m6
から製造したもの)で滴下処理し、室温で一夜撹拌し、
次に濃塩酸でpH5に調節し、そして蒸発させた。残渣
を水で処理し、ジエチルエーテルで抽出した。有機相を
水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、濾過し、そし
て蒸発させた。粗製の生成物をシリカゲル上で、ヘキサ
ン/酢酸エチル(19:1容量比)を用いてクロマトグ
ラフ的に精製し、ヘキサンから再結晶させ、融点21.
8℃を有する純粋な2−(4−フルオロフェニル) −
5−(4−ペンテニル)ピリミジン1.0gを得た。 同様の方法において、次の化合物を製造することができ
た: 2−(3,4−ジフルオロフェニル)−5−(4−ペン
テニル)ピリミジン: 2−(4−クロロフェニル)−5−(4−ペンテニル)
ピリミジン; 2−(3,4−ジフルオロフェニル)−5−(3−ブテ
ニル)ピリミジン; 2−(4−クロロフェニル)−5−(3−ブテニル)ピ
リミジン; 2−(4−フルオロフェニル)−5−[トランス−4−
(4−ペンテニル)シクロヘキシル1ビリ ミ ジン; 2−(3,4−ジフルオロフェニル)−5−[トランス
−4−(4−ペンテニル)シクロヘキシル1ビリミジン
; 2−(4−クロロフェニル)−5−[1−ランス−4−
(4−ペンテニル)シクロへキシル]ピリミジン: 2−(3,4−ジフルオロフェニル)−5−[トランス
−4−(3−ブテニル)シクロヘキシル1ビリ ミ ジ
ン; 2−(4−クロロフェニル)−5−[トランス−4−(
3−ブテニル)シクロヘキシル1ピリミジン; 2−(4’−フルオロ−4−ビフェニル)−5−(4−
ペンテニル)ピリミジン; 2−(3″、4′−ジフルオロ−4−ビフェニル)−5
−(4−ペンテニル)ピリミジン;2−(4’−クロロ
−4−ビフェニル)−5−(4−ペンテニル)ピリミジ
ン; 2−(3’、4°−ジフルオロ−4−ビフェニル)−5
−(3−ブテニル)ピリミジン;2−(3’−クロロ−
4−ビフェニル)−5−(3−ブテニル)ピリミジン。 実施例13 以下の二成分混合物を4−(トランス−4−ペンチルシ
クロヘキシル)ベンゾニトリル及ヒ弐工の化合物から製
造した。電子−光学的データは8μmのプレート間隔を
有するTNセル中にて22°Cで測定した。4−(トラ
ンス−4−ペンチルシクロヘキシル)ベンゾニトリルに
対する対応する値は次の通りである:VIG−1.62
V、t、。 = 30 m s 、Δn=0−120 ;透明点(N
−1)54.6°0゜ 混合物 1 4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)ベンゾ
ニトリル 90重量%、 4−(3−ブテニルオキシ)安息香酸 4−フルオロフ
ェニル エステル 10重1%: V+a= 1.29V% t m、=31ms、△n
−0,117゜ 混合物 2 4−0ランス−4−ペンチルシクロヘキシル)ベンゾニ
トリル 90重量%、 トランス−4−(4−ペンテニル)シクロヘキサンカル
ボン酸 4−フルオロフェニル エステル10重量%; v+o=1−1 ’7v、tow−22ms1△n−0
.108゜ 混合物 3 4−(1−ランス−4−ペンチルシクロヘキシル)ベン
ゾニトリル 70重量%、 トランス−4−[トランス−4−(4−ペンテニル)シ
クロヘキシル]シクロヘキサンカルボン酸4−フルオロ
フェニル エステル 30重量%;vIo−1−55V
s t a @−44m S s△n−0,110
;透明点(N−I)75.3℃。 混合物 4 4−(1−ランス−4−ペンチルシクロヘキシル)ベン
ゾニトリル 90重量%、 4−(4−ペンテニル)安息香酸 4−フルオロフェニ
ル エステル 10重量%; V+o=1.42V、t、、=26ms、△n=0.1
17、透明点(N−1)50.3°C0混合物 5 4−(1−ランス−4−ペンチルシクロヘキシル)ベン
ゾニトリル 90重量%、 4−(3−ブテニルオキシ)安息香酸 3,4−ジフル
オロフェニル エステル 10重量%:”1o−1,2
3V%t am−36m Ss△n−0,116、透明
点(N−1)44.5°C1混合物 6 4−Dランス−4−ペンチルシクロヘキシル)べンゾニ
トリル 90重量%、 l−[トランス−4−[トランス−4−(4−ペンテニ
ル)シクロヘキシル]シクロヘキシル]4−フルオロベ
ンゼン 10重量%; V、a−1,47V%、 t、−25m5sΔn−0゜
112、透明点(N−I)59.1”o。 混合物 7 4−()ランス−4−ペンチルシクロヘキシルンゾニト
リル 90重量%、 トランス−2−[トランス−4−(4−フルオロフェニ
ル)シクロヘキシル]−5−(4−ペンテニル)−m−
ジオキサン、 10重量%; Vla− 1 、3 4V% t 、、111113
1 m5%Δn−0。 116、透明点(N−1)54.0℃。 実施例14 次の混合物を製造した。特記せぬ限り、電子−光学的デ
ータは8μmのプレート間隔を有するTNセル中にて2
2℃で測定した。 混合物 A トランス−4−[トランス−4−(3−ブテニル)シク
ロヘキシルコシクロヘキサンカルボニトリル15重量%
、 トランス−4−[トランス−4−(3E−ペンテニル)
シクロヘキシルコシクロヘキサンカルボニトリル 12
重量%、 トランス−4−[トランス−4−(4−ペンテニル)シ
クロヘキシルコシクロヘキサンカルボニトリル10重量
%、 4−[トランス−4 −(l E−プロペニル)シクロ
へキシル]ベンゾニトリル 10重量%、トランス−4
−アリルオキシ−1−()ランス−4−プロピルシクロ
ヘキシル 20重量%、 4−エトキシ−l−[トランス−4−(3E−ペンテニ
ル)シクロヘキシル]ベンゼン 15重量%、 トランス−4−[トランス−4−(3−ブテニル)シク
ロヘキシルコシクロヘキサンカルボン酸4−フルオロフ
ェニル エステル 10重量%、トランス−4−[トラ
ンス−4−(4−ペンテニル)シクロヘキシルコシクロ
ヘキサンカルボン酸4−フルオロフェニル エステル
8重量%:融点く一30℃、透明点(N−1)71”O
:Vl。 −2.10V,p−0.204、tea−19ms。 ts++=31ms.Δn−0.084。 混合物 B トランス−4−[トランス−4−(3−ブテニル)シク
ロヘキシルコシクロヘキサンカルボニトリル15重量%
、 トラ゛ンスー4−[トランス−4 −(3 E−ペンテ
ニル)シクロヘキシルコシクロヘキサンカルボニトリル
12重量%、 トランス−47[トランス−4−(4−ペンテニル)シ
クロヘキシルコシクロヘキサンカルボニトリル10重量
%、 トランス−4−アリルオキシ−1−()ランス−4−プ
ロピルシクロヘキシル)シクロヘキサン33重量%、 トランス−4−[トランス−4−(3−ブテニル)シク
ロヘキシル1シクロヘキサンカルボン酸4−フルオロフ
ェニル エステル 20重量%、トランス−4−[トラ
ンス−4−(4−ペンテニル)シクロヘキシル1シクロ
ヘキサンカルボン酸 4−フルオロフェニル エステル
lO]1[量%;融点く一20℃、透明点(N−I)
81’c;v.。 =2.4 1V,p=0.2 1 1,t.、−24m
s。 t* j K ”” 3 7 m S %Δn=0.0
67。 混合物 C 4−[トランス−4 −(l E−プロペニル)シクロ
ヘキシル]ベンゾニトリル 10重量%、4−エトキシ
−l−[トランス−4 −(3 E−ペンテニル)シク
ロヘキシル]ベンゼン 15重量%、トランス−4−[
トランス−4−(3−ブテニル)シクロヘキシル1シク
ロヘキサン力ルボニトリル12重量%、 トランス−4−[トランス−4−(3E−ペンテニル)
シクロヘキシルコシクロヘキサンカルボニトリル 10
重量%、 トランス−4−[トランス−4−(4−ペンテニル)シ
クロヘキシル]シクロヘキサン力ルポニトリル8重量%
、 トランス−4−(3−ブテニル)−1−()ランス−4
−エトキシシクロヘキシル)シクロヘキサン15重量%
、 1−[2−()ランス−4−ブチルシクロヘキシル)エ
チル]−4−(1−ランス−4−ペンチルシクロヘキシ
ル)ベンゼン 8重量%、 トランス−4−[トランス−4−(3−ブテニル)シク
ロヘキシル]シクロヘキサンカルボン酸4−フルオロフ
ェニル エステル 81i量%、トランス−4−[トラ
ンス−4−(3E−ペンテニル)シクロへキシルコシク
ロヘキサンカルボン酸4−フルオロフェニル エステル
8を量%、トランス−4−[トランス−4−(4−ペ
ンテニル)シクロヘキシル]シクロヘキサンカルボン酸
4−フルオロフェニル エステル 8を量%;融点く
一30℃、透明点84°C1ネマテイク;Vro= 2
−35 V ; t −−(22℃)=15ms1t、
、(−20℃) ”309ms、 t 、11 (2
2°C)=27ms% t、++(20℃)−420m
s ;△n=0. 088゜ 混合物 D 4−[トランス−4−(I E−プロペニル)シクロヘ
キシル1ベンゾニトリル 10重量%、4−[トランス
−4−(3E−プロペニル)シクロヘキシル]ベンゾニ
トリル 6重量%、4−エトキシ−1−[トランス−4
−(3E−ペンテニル)シクロヘキシル]ベンゼン 1
2重量%、トランス−4−[トランス−4−(3−ブテ
ニル)シクロヘキシルコシクロヘキサンカルボニトリル
5重量%、 トランス−4−[トランス−4−(3E−ペンテニル)
シクロヘキシルコシクロヘキサンカルボニトリル 7重
量%、 トランス−4−アリルオキシ−1−(トランス−4−プ
ロピルシクロヘキシル)シクロヘキサン12重量%、 トランス−4−(3E−ペンテニル)−1−(トランス
−4−エトキシシクロヘキシル)シクロヘキサン 10
重量%、 4−[トランス−4−(3E−ペンテニル)シクロヘキ
シル]−4’−プロピルビフェニル 6重量%、トラン
ス−4−プロピルシクロヘキサンカルボン酸 4−[ト
ランス−4−(3E−ペンテニル)シクロヘキシルJフ
ェニル エステル 6重量%;1−12−()ランス−
4−ブチルシクロヘキシル)エチル]−4−()ランス
−4−ペンチルシクロヘキシル)ベンゼン lO量%、 4−[2−()ランス−4−ブチルシクロヘキシル)エ
チル]−4’−[トランス−4−(3E−ペンテニル)
シクロへキシル]ビフェニル 4重量%、トランス−4
−[トランス−4−(3−ブテニル)シクロヘキシル】
シクロヘキサンカルボン酸 4−フルオロフェニル エ
ステル 8重量%、トランス−4−[トランス−4−(
3E−ペンテニル)シクロヘキシルコシクロヘキサンカ
ルボン酸4−フルオロフェニル エステル 4重量%;
融点く一30℃、透明点100°C1ネマテイク:V+
o−2,82V; t、、(22°O)=12ms。 t−*(20℃)−220msS t、++(22℃)
−21rns、 t−++(20°O)−330ms
;Δn=0. 105゜ 混合物 E 4−[トランス−4−(IE−プロペニル)シクロヘキ
シル]ベンゾニトリル 9.40重量%、4−[トラン
ス−4−(3E−ペンテニル)シクロヘキシル]ベンゾ
ニトリル 5.64重量%、4−エトキシ−1−[トラ
ンス−4−(3E−ペンテニル)シクロヘキシル]ベン
ゼン 11.28重量%、 トランス−4−[トランス−4−(3−ブテニル)シク
ロヘキシルコシクロヘキサンカルボニトリル4.70重
量%、 トランス−4−[トランス−4−(3E−ペンテニル)
シクロへキシルコシクロヘキサンカルボニトリル 6.
58重量%、 トランス−4−アリルオキシ−1−(トランス−4−プ
ロピルシクロヘキシル)シクロヘキサン11.28重量
%、 トランス−4−(3E−ペンテニル)−1−(トラシス
−4−エトキシシクロヘキシル)シクロヘキサン 9.
40重量%、 2−シアノ−5−(トランス−4−ブチルシクロヘキシ
ル)ピリミジン 6.00重量%、トランス−4−プロ
ピルシクロヘキサンカルボン酸 4−[トランス−4
−(3 E−ペンテニル)シクロヘキシル】フェニル
エステル 5.641量%、 4−[)ランス−4−(3−ペンテニル)シクロヘキシ
ル]−4’−グロピルビフェニル 5.641量%; 1−[2−()ランス−4−ブチルシクロヘキシル)エ
チル]−4−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル
)ベンゼン 9.40量%、 4−(2−(トランス−4−ブチルシクロヘキシル)エ
チル】−4″−[トランス−4 −(3 E−ペンテニ
ル)シクロへキシル】ビフェニル 3.76を量%、ト
ランス−4−[トランス−4−(3−ブテニル)シクロ
ヘキシルコシクロヘキサンカルボン酸 4−フルオロフ
ェニル エステル 7.5211量%、トランス−4−
[トランス−4−(3E−ペンテニル)シクロヘキシル
コシクロヘキサンカルボン酸4−フルオロフェニル エ
ステル 3.76重量%; 融点く一30℃、透明点95℃、ネマテイク;V+a−
2.35V; t.、(22℃)−16ms。 t.m(−20℃) −3 0 0 ms s t
* 、+ ( 2 2℃)= 2 4 rn slt
*** ( 2 0℃)−350ms;△n=0.1
04。 混合物 F 4−[トランス−4−(IE−プロペニル)シクロヘキ
シル]ベンゾニトリル lol量%、4−(2E−ブテ
ニルオキシ)−1−()ランス−4−プロピルシクロヘ
キシル)ベンゼン 12重量%、 トランス−4−[トランス−4−(3−ブテニル)シク
ロへキシルコシクロヘキサンカルボニトリル5重量%、 トランス−4−[トランス−4−(3E−ペンテニル)
シクロヘキシル1シクロヘキサンカルボニトリル 7重
量%、 トランス−4−[トランス−4−(4−ペンテニル)シ
クロヘキシルコシクロヘキサンカルボニトリル6重量%
、 トランス−4−アリルオキシ−1−(トランス−4−プ
ロピルシクロヘキシル)シクロヘキサン12重量%、 トランス−4 −(3 E−ペンテニル)−l−(トラ
ンス−4−エトキシシクロヘキシル)シクロヘキサン
10重量%、 トランス−4−プロピルシクロヘキサンカルボン酸 4
−[トランス−4−(3E−ペンテニル)シクロヘキシ
ル]フェニル エステル 8重量%、1−[2−()ラ
ンス−4−ブチルシクロヘキシル)エチル]−4−(1
−ランス−4−ペンチルシクロヘキシル)ベンゼン 1
0量%、 4−[2−(トランス−4−ブチルシクロへキシル)エ
チル]−4−()ランス−4−ペンチルシクロヘキシル
)ビフェニル 5重量%、 5−0ランス−4−ペンチルシクロヘキシル2−[4−
()ランス−4−プロピルシクロヘキシル)フェニル]
ピリミジン 3重量%、トランス−4−〔トランス−4
−(3 E−ブテニル)シクロヘキシルコシクロヘキ
サンカルボン酸 4−フルオロフェニル エステル 4
1量%;トランスー4−[トランス−4 −(3 E−
ペンテニル)シクロへキシル1シクロヘキサンカルボン
酸4−フルオロフェニル エステル 8重量%;融点く
一30℃、透明点109℃、ネマテイク;V+a−2.
8 4V.; t 、、(2 2℃)−16ms。 t.、(−20℃)−33量mS% t.t*(22
℃)=26ms,t−sl( 20℃)−370ms
HΔn=0.096。 混合物 G 4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)ベンゾ
ニトリル 10重量%、 4−[トランス−4 −(l E−プロペニル)シクロ
ヘキシル]ベンゾニトリル 8重量%、トランス−4−
()ランス−4−ビニルシクロヘキシル)シクロヘキサ
ンカルボニトリル 10重量%、 トランス−4−[トランス−4−(3E−ペンテニル)
シクロヘキシルコシクロヘキサンカルボニトリル 8重
量%、 トランス−4−エトキシ−1−[トランス−4−(3E
−ペンテニル)シクロへキシル]シクロヘキサンlO重
量%、 トランス−4−二トキシ−1−[トランス−4−(4−
ペンテニル)シクロへキシルコシクロヘキサン8!i量
%、 2−シアノ−5−(1−ランス−4−ブチルシクロヘキ
シル)ピリミジン 8重量%、 2−シアノ−5−(1−ランス−4−ペンチルシクロヘ
キシル)ピリミジン 3重量%、 4−(2E−ブテニルオキシ)−1−[トランス−4−
プロピルシクロヘキシル)シクロヘキシル]ベンゼン
7重量%、 トランス−4−[5−(1−ランス−4−ブチルシクロ
ヘキシル)−2−ピリミジニル]シクロヘキサンカルボ
ニトリル 5重量%、 トランス−4−プロピルシクロヘキサンカルボン酸 4
−[トランス−4−(3E−ペンテニル)シクロへキシ
ル]フェニル エステル 8重量%、1−[トランス−
4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)シクロ
ヘキシル] −4−フルオロベンゼン78重量%、 トランス−4−[トランス−4−(3−ブテニル)シク
ロヘキシル]シクロヘキサンカルボンM4−フルオロフ
ェニル エステル 5重量%、トランス−4−[トラン
ス−4−(4−ペンテニル)シクロヘキシルコシクロヘ
キサンカルボン酸4−フルオロフェニル エステル 7
重量%;融点く一30°C1透明点92℃、ネマテイク
;VIO−1,71V、t、、(22℃)−19ms。 t、、(−20°O)−530mss t−++(2
2℃)=34ms% t、++(−20°C)−772
ms;へn=0.094゜ 混合物 H 4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)ベンゾ
ニトリル 7量%、 4−[トランス−4−(I E−プロペニル)シクロへ
キシル]ベンゾニトリル 8重量%、トランス−4−(
トランス−4−ビニルシクロヘキシル)シクロヘキサン
カルボニトリル 10重量%、 トランス−4−メトキシ−1−[トランス−4−(3E
−ペンテニル)シクロヘキシル]シクロヘキサン10重
量%、 トランス−4−二トキシ−1−[トランス−4−(3フ
チニル)シクロヘキシル]シクロヘキサン 10重量%
、 トランス−4−二トキシ−1−[トランス−4−(3フ
チニル)シクロヘキシル]シクロヘキサンlO重量%、 トランス−4−二トキシ−1−[トランス−4−(3E
−ヘンテニル)シクロヘキシル]シクロヘキサン12重
量%、 1−[2−(トランス−4−ブチルシクロヘキシル)エ
チル]−4−(トランス−4−(ペンチルシクロヘキシ
ル)ベンゼン 8重量%、 トランス−4−プロピルシクロヘキサンカルボン酸 4
−[トランス−4−(3E−ペンテニル)シクロヘキシ
ル]フェニル エステル 61量%、l−[トランス−
4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)シクロ
ヘキシル] 4−フルオロベンゼン 8重量%、 1−[)ランス−4−(ビニルシクロヘキシル)シクロ
ヘキシル] 4−フルオロベンゼン 6重量%、 4−[2−()ランス−4−ブチルシクロヘキシル)エ
チル]−4″−[トランス−4−(3E−ペンテニル)
シクロヘキシル]ビフェニル 41量%、5−Cトラン
ス−4−ペンチルシクロヘキシル)−2−[4−(トラ
ンス−4−プロピルシクロヘキシル)フェニル]ピリミ
ジン 31[[量%、トランス−4−(4−ペンテニル
)シクロヘキサンカルボン酸 4−フルオロフェニル 8重量%; 融点く一30°C1透明点88℃、ネマテイク;VIo
−2.2 9v ; t 、、 (2 2°O)−12
ms。 t、、(−20℃)”221m51 t−++(22℃
)=23ms% t−++(−20℃)−296ms
;Δn=0.080゜ 混合物 l 4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)ベンゾ
ニトリル 7量%、 4−(トランス−4−(l E−プロペニル)シクロヘ
キシル)ベンゾニトリル 8重量%、トランス−4−D
ランス−4−ビニルシクロヘキシル)シクロヘキサンカ
ルボニトリル 10重量%、 トランス−4−メトキシ−1−[トランス−4−(3E
−ペンテニル)シクロヘキシル】シクロヘキサン10重
量%、 トランス−4−エトキシ−1−【トランス−4−(3ブ
テニル)シクロヘキシル1シクロヘキサン 10重量%
、 トランス−4−エトキシ−1−[トランス−4−(3E
−ペンテニル)シクロヘキシル]シクロヘキサン12重
量%、 1−[2−()ランス−4−ブチルシクロヘキシル)エ
チル]−4−(トランス−4−(ペンチルシクロヘキシ
ル)ベンゼン 8重量%、 トランス−4−プロピルシクロヘキサンカルボン酸 4
−[トランス−4 −(3 E−ペンテニル)シクロヘ
キシル1フエニル エステル 6重量%、l−[トラン
ス−4−(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)シ
クロヘキシル1 4−フルオロベンゼン 8重量%、 l−〔トランス−4−(トランス−4−ビニルシクロヘ
キシル)シクロヘキシル] 4−フルオロベンゼン
6重量%、 4−[2−(トランス−4−ブチルシクロヘキシル)エ
チル]−4’−[トランス−4 −(3 E−ペンテニ
ル)シクロヘキシル1フエニル 4重量%、5−()ラ
ンス−4−ペンチルシクロヘキシル2−[4−()ラン
ス−4−プロピルシクロヘキシル)フェニル]ピリミジ
ン 3重量%、トランス−2−(4−フルオロフェニル
)− 5 −(4−ペンテニル)−m−ジオキサン 8
重量%:融点く一30℃、透明点81℃、ネマテイク;
vto−2−15v; t.、(22℃)−14ms。 t.、(−20℃)=249ms,tー*+(22℃)
= 2 6 rn s s t −tt (− 2 0
℃)−342ms ;Δn−0.087− 混合物 J 4−()ランス−4−プロピルシクロヘキシル)ベンゾ
ニトリル lO量%、 4−(トランス−4−ビニルシクロヘキシル)ベンゾニ
トリル 7重量%、 4−[トランス−4 −(l E−プロペニル)シクロ
ヘキシル]ベンゾニトリル 8重量%、4−エトキシ−
1−()ランス−4−プロピルシクロヘキシル)ベンゼ
ン 6重量%、 トランス−4−メトキシ−l−[トランス−4−(3E
−ペンテニル)シクロヘキシルコシクロヘキサン 10
重量%、 トランス−4−エトキシ−l−[トランス−4−(3−
ブテニル)シクロヘキシル]シクロヘキサンlO重量%
、 トランス−4−二トキシ−l−[トランス−4−(3E
−ペンテニル)シクロヘキシルコシクロヘキサ212重
量%、 トランス−4−二トキシ−l−[トランス−4−(3E
−ペンテニル)シクロヘキシルJシクロヘキサン12重
量%、 4−(2E−ブテニルオキシ’)− 1 − [)ラン
ス−4−プロピルシクロヘキシル)シクロヘキシル]ベ
ンゼン 8重量%、 1−[2−(トランス−4−ブチルシクロヘキシル)エ
チル]−4−()ランス−4−ペンチルシクロヘキシル
)ベンゼン 8重量%、 トランス−4−プロピルシクロヘキサンカルボン酸 4
−[トランス−4−(3E−ペンテニル)シクロヘキシ
ル1フエニル エステル 6重量%、4、4′−ビス−
(トランス−4−プロピルシクロヘキシル)ビフェニル
41量%、 5−(トランス−4−ペンチルシクロヘキシル)−2−
[4−Dランス−4−プロピルシクロヘキシル)フェニ
ル]ピリミジン 3重量%、トランス−4−[トランス
−4−(4−ペンテニル)シクロへキシルコシクロヘキ
サンカルボン酸 4−フルオロフェニル エステル 8
重量%;融点く一30°C1透明点95°C1ネマティ
ク;V+o−2,41V; t−−(22℃)−12m
s。 t、、(−20°Cり−195m5.t、++(22℃
)=21m5S t、++(−20°O)=276ms
;△n=0.101゜
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ I 式中、X^1はフッ素または塩素を表わし、そしてX^
2は水素、フッ素または塩素を表わし;R^1は3E−
アルケニル、4−アルケニル、2E−アルケニルオキシ
または3 −アルケニルオキシを表わし;nは数0または1を表わ
し;基Y^1及びY^2の一つは単一共有結合、−CO
O−、−OOC−、−CH_2CH_2−、−CH_2
O−または−OCH_2を表わし、そして基Y^1及び
Y^2の他は単一共有結合を表わし;環A^1及びA^
2は各々独立して、随時2個の非隣接CH_2基が酸素
に代わっていてもよい置換されたまたは未置換のトラン
ス−1,4−シクロヘキシレン、或いは随時1個のCH
基または2個のCH基が窒素に代わつていてもよい置換
されたまたは未置換の1,4−フェニレンを表わし;条
件として、同時にX^1がフッ素を表わし、そしてR^
1が3E−アルケニルを表わす場合、X^2はフッ素ま
たは塩素を表わし、そして/或いはY^1またはY^2
は−CH_2O−または−OCH_2−を表わすものと
する、 の化合物。 2、環A^2が置換されたまたは未置換のトランス−1
,4−シクロヘキシレン、置換されたまたは未置換の1
,4−フェニレンを表わすか、或いはピリジン−2,5
−ジイル、ピリミジン−2,5−ジイルまたはピラジン
−2,5−ジイルを表わす特許請求の範囲第1項記載の
化合物。 3、環A^3が置換されたまたは未置換のトランス−1
,4−シクロヘキシレン、置換されたまたは未置換の1
,4−フェニレンを表わすか、或いは環A^1が置換さ
れたまたは未置換のトランス−1,4−シクロヘキシレ
ンまたは置換されたまたは未置換の1,4−フェニレン
を表わす場合、またピリミジン−2,5−ジイルまたは
トランス−m−ジオキサン−2,5−ジイルを表わす特
許請求の範囲第1項または第2項記載の化合物。 4、環A^1がトランス−1,4−シクロヘキシレン、
1,4−フェニレン、ピリジン−2,5−ジイル、ピリ
ミジン−2,5−ジイルまたはピラジン−2,5−ジイ
ルを表わし、そして環A^2がトランス−1,4−シク
ロヘキシレンを表わす特許請求の範囲第1〜3項のいず
れかに記載の化合物。 5、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ I −23 式中、R^1、X^1、X^2及びY^1は特許請求の
範囲第1項に示した意味を有する、を有する特許請求の
範囲第1項記載の化合物。 6、X^1がフッ素を表わし、そしてX^2が水素を表
わすか、X^1及びX^2がフッ素を表わすか、或いは
X^1が塩素を表わし、そしてX^2が水素を表わす特
許請求の範囲第1〜5項のいずれかに記載の化合物。 7、R^1が直鎖状残基を表わす特許請求の範囲第1〜
6項のいずれかに記載の化合物。 8、R^1が炭素原子4〜15個を有する3E−アルケ
ニル、炭素原子5〜15個を有する4−アルケニル、炭
素原子3〜14個を有する2E−アルケニルオキシまた
は炭素原子4〜14個を有する3−アルケニルオキシを
表わす特許請求の範囲第1〜7項のいずれかに記載の化
合物。 9、少なくとも一つの成分が特許請求の範囲第1項記載
の化合物である、少なくとも二成分を有する液晶混合物
。 10、電子−光学用途のための特許請求の範囲第1項に
定義した化合物の使用。
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Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05500830A (ja) * | 1990-04-13 | 1993-02-18 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング | 液晶媒体 |
| WO1996034071A1 (en) * | 1995-04-25 | 1996-10-31 | Chisso Corporation | Liquid crystal composition and liquid crystal display element |
| WO1998023561A1 (en) * | 1996-11-28 | 1998-06-04 | Chisso Corporation | Chlorobenzene derivatives, liquid-crystal composition, and liquid-crystal display elements |
| WO1998023563A1 (en) * | 1996-11-28 | 1998-06-04 | Chisso Corporation | Liquid crystal compounds exhibiting negative anisotropy of permittivity, liquid crystal compositions, and liquid crystal displays |
| JP2003518154A (ja) * | 1999-12-21 | 2003-06-03 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング | 液晶媒体 |
Families Citing this family (37)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0315014B1 (de) * | 1987-11-06 | 1994-01-12 | F. Hoffmann-La Roche Ag | Halogenierte Benzolderivate |
| GB8911217D0 (en) * | 1989-05-16 | 1989-07-05 | Merck Patent Gmbh | Fluorinated cyclohexyl derivatives |
| US5482653A (en) * | 1989-05-30 | 1996-01-09 | Merck Patent Gesellschaft Mit Beschrankter Haftung | Fluoro-chloro-benzene derivatives |
| US5068462A (en) * | 1989-07-28 | 1991-11-26 | Dainippon Ink And Chemicals, Inc. | Fluorine-substituted compound containing ether bond and intermediate thereof |
| US5250220A (en) * | 1989-08-12 | 1993-10-05 | Merck Patent Gesellschaft Mit Beschrankter Haftung | 2,5-disubstituted heterocyclic compounds, and a liquid-crystalline medium |
| EP0438574B1 (de) * | 1989-08-12 | 1995-01-25 | MERCK PATENT GmbH | 2,5-disubstituierte heterocyclen und flüssigkristallines medium |
| DE4025550B4 (de) | 1989-08-16 | 2007-05-03 | Merck Patent Gmbh | Phenylcyclohexane und flüssigkristallines Medium |
| ES2069089T3 (es) * | 1989-09-06 | 1995-05-01 | Merck Patent Gmbh | Derivados de fluorobenceno y medio fluidocristalino. |
| US5171473A (en) * | 1989-10-18 | 1992-12-15 | Hoffmann-La Roche Inc. | Liquid crystal compounds having a terminal 1-alkynyl residue |
| US5264149A (en) * | 1989-10-18 | 1993-11-23 | Hoffmann-La Roche Inc. | Liquid crystal compounds having a terminal 1-alkynyl residue |
| KR920701195A (ko) * | 1989-12-08 | 1992-08-11 | 위르겐 호이만·라인하르트 슈틀러 | 페닐디옥산 |
| EP0433836B1 (de) * | 1989-12-19 | 1996-03-27 | F. Hoffmann-La Roche Ag | Halophenyl-substituierte Dioxane |
| US5389289A (en) * | 1990-03-09 | 1995-02-14 | Merck Patent Gesellschaft Mit Beschrankter Haftung | Liquid-crystalline medium |
| DE4010447A1 (de) * | 1990-03-31 | 1991-10-02 | Merck Patent Gmbh | Matrix-fluessigkristallanzeige |
| US5185098A (en) * | 1990-04-05 | 1993-02-09 | Hoffmann-La Roche Inc. | Liquid crystalline mixtures containing 3,4-difluorophenyl-substituted bicyclohexyls |
| DE69110733T2 (de) * | 1990-04-12 | 1996-02-22 | Dainippon Ink & Chemicals | Phenylcyclohexyldioxanderivate mit einer Ätherbindung für elektrooptische Stoffe. |
| DE59107572D1 (de) * | 1990-04-13 | 1996-04-25 | Merck Patent Gmbh | Flüssigkristallines medium |
| WO1991016321A1 (de) * | 1990-04-26 | 1991-10-31 | MERCK Patent Gesellschaft mit beschränkter Haftung | 1,3-dioxanderivate und flüssigkristallines medium |
| US5494606A (en) * | 1990-04-26 | 1996-02-27 | Merck Patent Gesellscaft Mit Beschrankter Haftung | 1,3-dioxane derivatives, and liquid-crystalline medium |
| EP0458176B1 (de) * | 1990-05-21 | 1995-08-02 | F. Hoffmann-La Roche Ag | Bicyclohexylderivate |
| GB9012751D0 (en) * | 1990-06-08 | 1990-08-01 | Merck Patent Gmbh | Liquid crystal medium |
| EP0460436B1 (en) * | 1990-06-08 | 1997-03-12 | MERCK PATENT GmbH | Supertwist liquid-.crystal display |
| US5292452A (en) * | 1990-09-14 | 1994-03-08 | Hoffmann-La Roche Inc. | Alkenylcyclohexane liquid crystalline compounds |
| DE59209825D1 (de) * | 1991-02-01 | 2000-05-11 | Merck Patent Gmbh | Vierringverbindungen und sie enthaltende flüssigkristalline Gemische |
| DE4123389A1 (de) * | 1991-07-15 | 1993-01-21 | Merck Patent Gmbh | Fluessigkristallines medium |
| EP0559859B1 (en) * | 1991-10-01 | 1999-12-08 | MERCK PATENT GmbH | Fluorobenzonitriles and liquid crystalline mixtures containing them |
| DE4333838A1 (de) * | 1993-10-05 | 1995-04-06 | Hoechst Ag | 3,4-Difluorbenzole und ihre Verwendung in Flüssigkristallmischungen |
| US5888423A (en) * | 1995-07-17 | 1999-03-30 | Rolic Ag | Fluorobenzyl ether derivatives |
| KR100462959B1 (ko) * | 1995-08-01 | 2004-12-24 | 메르크 파텐트 게엠베하 | 액정 매질 |
| JP3797389B2 (ja) * | 1995-10-09 | 2006-07-19 | チッソ株式会社 | フッ素置換アルケニル液晶性化合物、液晶組成物および液晶表示素子 |
| JP3823354B2 (ja) * | 1995-12-05 | 2006-09-20 | チッソ株式会社 | 酸素原子含有結合基を持つアルケニル化合物、液晶組成物および液晶表示素子 |
| US6225479B1 (en) | 1996-01-02 | 2001-05-01 | Rolic Ag | Optically active bis-dioxane derivatives |
| DE19626771C2 (de) * | 1996-07-03 | 1998-09-24 | Merck Patent Gmbh | 4-(4-Oxocyclohexyl)-benzamide |
| GB9620060D0 (en) * | 1996-09-26 | 1996-11-13 | Secr Defence | Liquid crystal compounds, mixtures and devices |
| US6402779B1 (en) | 1999-07-26 | 2002-06-11 | Endomed, Inc. | Balloon-assisted intraluminal stent graft |
| US6183481B1 (en) | 1999-09-22 | 2001-02-06 | Endomed Inc. | Delivery system for self-expanding stents and grafts |
| AU2001286631A1 (en) | 2000-08-23 | 2002-03-04 | Endomed, Inc. | Method of manufacturing custom intravascular devices |
Family Cites Families (45)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE2907332A1 (de) * | 1979-02-24 | 1980-09-18 | Merck Patent Gmbh | Fluorphenylcyclohexane, verfahren zu ihrer herstellung und ihre verwendung als komponenten fluessigkristalliner dielektrika |
| JPS5754148A (ja) * | 1980-09-19 | 1982-03-31 | Chisso Corp | 44harogenoansokukosantoransuu4 toransuu4 arukirushikurohekishiru shikurohekishiruesuteru |
| US4405488A (en) * | 1980-10-09 | 1983-09-20 | Chisso Corporation | Liquid-crystalline halogenobenzene derivatives |
| JPS57118538A (en) * | 1981-01-13 | 1982-07-23 | Chisso Corp | 4-halogenobenzoic acid 4-(4'-alkylphenyl)phenol ester derivative |
| JPS57139074A (en) * | 1981-02-20 | 1982-08-27 | Chisso Corp | P-(trans-5-alkyl-1,3-dioxane-2-yl)phenyl p- halogenobenzoate |
| DE3233641C2 (de) * | 1981-09-10 | 1984-11-08 | Dainippon Ink And Chemicals, Inc., Tokio/Tokyo | Neue nematische Halogenverbindungen |
| JPS5910533A (ja) * | 1982-07-08 | 1984-01-20 | Dainippon Ink & Chem Inc | 新規ネマチツクハロゲン化合物 |
| DE3151356A1 (de) * | 1981-12-24 | 1983-07-07 | Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt | 4-fluorbiphenylderivate, verfahren zu ihrer herstellung, diese enthaltende dielektrika und elektrooptisches anzeigeelement |
| US4502974A (en) * | 1982-03-31 | 1985-03-05 | Chisso Corporation | High temperature liquid-crystalline ester compounds |
| US4985583A (en) * | 1982-08-26 | 1991-01-15 | Merck Patent Gesellschaft Mit Beschrankter Haftung | Cyclohexane derivatives |
| GB2132612B (en) * | 1982-10-30 | 1986-01-22 | Dainippon Ink & Chemicals | Nematic liquid crystalline cyclohexyl esters |
| JPS5982382A (ja) * | 1982-11-04 | 1984-05-12 | Chisso Corp | 含ハロゲンメタジオキサンエステル |
| US4565425A (en) * | 1983-03-16 | 1986-01-21 | Hoffmann-La Roche Inc. | Liquid crystals |
| DE3465192D1 (en) * | 1983-03-16 | 1987-09-10 | Hoffmann La Roche | Liquid crystal components having an alkenyl chain |
| US4581155A (en) * | 1983-03-31 | 1986-04-08 | Chisso Corporation | Halogenopyrimidine derivatives |
| JPS59193880A (ja) * | 1983-04-18 | 1984-11-02 | Sumitomo Chem Co Ltd | 新規なω−ピペラジノプロピルベンゼン誘導体およびその製造法 |
| JPS59193848A (ja) * | 1983-04-20 | 1984-11-02 | Dainippon Ink & Chem Inc | 新規ネマチツク液晶化合物 |
| JPS59193850A (ja) * | 1983-04-20 | 1984-11-02 | Dainippon Ink & Chem Inc | 新規ネマチツク液晶化合物 |
| JPS59210048A (ja) * | 1983-05-13 | 1984-11-28 | Seimi Kagaku Kk | 3−クロロ−4−フロロフエニルエステル |
| JPS6013731A (ja) * | 1983-07-01 | 1985-01-24 | Chisso Corp | 置換フエニルエ−テル化合物 |
| JPS6041638A (ja) * | 1983-08-16 | 1985-03-05 | Asahi Glass Co Ltd | 4−置換安息香酸トランス−4′−(4″−置換フエニル)シクロヘキシルエステル |
| JPS6097925A (ja) * | 1983-11-02 | 1985-05-31 | Chisso Corp | 置換シクロヘキサン誘導体 |
| JPS60130542A (ja) * | 1983-12-20 | 1985-07-12 | Chisso Corp | エ−テル結合を有する置換シクロヘキサン誘導体 |
| JPS60161941A (ja) * | 1984-01-31 | 1985-08-23 | Chisso Corp | エ−テル結合を有するシクロヘキサン誘導体 |
| US4629581A (en) * | 1984-06-29 | 1986-12-16 | Hoffmann-La Roche Inc. | Cyclohexanecarbonitriles |
| DE3575158D1 (de) * | 1984-07-12 | 1990-02-08 | Hoffmann La Roche | Fluessigkristalline gemische enthaltend komponenten mit einer 4-alkenyl- oder 2z-alkenyl-seitenkette. |
| US5238602A (en) * | 1984-07-16 | 1993-08-24 | Hoffmann La Roche Inc. | Liquid crystals |
| EP0168683B1 (de) * | 1984-07-16 | 1990-11-28 | F. Hoffmann-La Roche Ag | Flüssigkristalle mit Alkenyl- oder Alkenyloxygruppen |
| DE3506446A1 (de) * | 1985-02-23 | 1986-08-28 | Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt | Pyrimidinderivate |
| JPS61207347A (ja) * | 1985-03-12 | 1986-09-13 | Chisso Corp | シクロヘキサン誘導体 |
| DE3608764A1 (de) * | 1985-03-22 | 1986-10-02 | Merck Patent Gmbh, 6100 Darmstadt | Carbocyclische verbindungen |
| JPS61227546A (ja) * | 1985-03-22 | 1986-10-09 | メルク・パテント・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング | 炭素環式化合物 |
| EP0195974B1 (de) * | 1985-03-26 | 1989-11-29 | F. Hoffmann-La Roche Ag | Alkenylsubstituierte Phenylisothiocyanate und Benzonitrile |
| US4654421A (en) * | 1985-06-20 | 1987-03-31 | Dainippon Ink And Chemicals, Inc. | 4-substituted phenyl crotyl ether derivative |
| DE3768691D1 (de) * | 1986-04-22 | 1991-04-25 | Hoffmann La Roche | Fluessigkristalline pyridinderivate. |
| JPH01500837A (ja) * | 1986-09-08 | 1989-03-23 | メルク・パテント・ゲゼルシヤフト・ミツト・ベシユレンクテル・ハフツング | 液晶相 |
| DE3631611C2 (de) * | 1986-09-17 | 1999-05-20 | Merck Patent Gmbh | Hydroterphenyle, ihre Verwendung als Komponenten flüssigkristalliner Phasen und Sie enhaltende flüssigkristalline Phasen für elektrooptische Anzeigeelemente |
| EP0315014B1 (de) * | 1987-11-06 | 1994-01-12 | F. Hoffmann-La Roche Ag | Halogenierte Benzolderivate |
| US5013477A (en) * | 1987-11-06 | 1991-05-07 | Hoffmann-La Roche Inc. | Alkenylbicyclohexane liquid crystals |
| US5102578A (en) * | 1988-08-15 | 1992-04-07 | Hoffmann-La Roche Inc. | Liquid crystalline mixtures and method of making same |
| KR920701195A (ko) * | 1989-12-08 | 1992-08-11 | 위르겐 호이만·라인하르트 슈틀러 | 페닐디옥산 |
| US5160661A (en) * | 1989-12-22 | 1992-11-03 | Hoffmann-La Roche Inc. | Dioxanylpyridine |
| US5185098A (en) * | 1990-04-05 | 1993-02-09 | Hoffmann-La Roche Inc. | Liquid crystalline mixtures containing 3,4-difluorophenyl-substituted bicyclohexyls |
| EP0458176B1 (de) * | 1990-05-21 | 1995-08-02 | F. Hoffmann-La Roche Ag | Bicyclohexylderivate |
| US5292452A (en) * | 1990-09-14 | 1994-03-08 | Hoffmann-La Roche Inc. | Alkenylcyclohexane liquid crystalline compounds |
-
1988
- 1988-10-25 EP EP88117693A patent/EP0315014B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1988-10-25 DE DE88117693T patent/DE3887084D1/de not_active Expired - Fee Related
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- 1988-11-04 KR KR1019880014490A patent/KR0132678B1/ko not_active Expired - Fee Related
-
1993
- 1993-03-29 US US08/038,395 patent/US5302317A/en not_active Expired - Lifetime
-
1994
- 1994-01-06 US US08/178,180 patent/US5454974A/en not_active Expired - Lifetime
-
1995
- 1995-03-09 HK HK33295A patent/HK33295A/xx not_active IP Right Cessation
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05500830A (ja) * | 1990-04-13 | 1993-02-18 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング | 液晶媒体 |
| WO1996034071A1 (en) * | 1995-04-25 | 1996-10-31 | Chisso Corporation | Liquid crystal composition and liquid crystal display element |
| US5779933A (en) * | 1995-04-25 | 1998-07-14 | Chisso Corporation | Liquid crystal composition and liquid crystal display element |
| WO1998023561A1 (en) * | 1996-11-28 | 1998-06-04 | Chisso Corporation | Chlorobenzene derivatives, liquid-crystal composition, and liquid-crystal display elements |
| WO1998023563A1 (en) * | 1996-11-28 | 1998-06-04 | Chisso Corporation | Liquid crystal compounds exhibiting negative anisotropy of permittivity, liquid crystal compositions, and liquid crystal displays |
| US6210761B1 (en) | 1996-11-28 | 2001-04-03 | Chisso Corporation | Liquid crystal compounds exhibiting negative anisotropy of permittivity, liquid crystal compositions, and liquid crystal displays |
| US6329027B1 (en) | 1996-11-28 | 2001-12-11 | Chisso Corporation | Chlorobenzene derivatives, liquid-crystal composition, and liquid-crystal display elements |
| JP2003518154A (ja) * | 1999-12-21 | 2003-06-03 | メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフトング | 液晶媒体 |
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