JPH01165033A - 磯気記録媒体の製造装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は高分子フィルム基体上に連続磁性薄膜を形成す
る磁気記録媒体の製造装置に関する。

〔従来の技術〕

磁気記録の分野においては、その高記録密度化に伴い、
従来の塗布型媒体からＣｏ−Ｎｉ、　　Ｇｏ−Ｃｒ、γ
−Ｆｅ２Ｏ３、あるいはＢａフェライト等に代表される
磁性材料を真空蒸着法、スパッタリング法等により高分
子フィルム基体表面に形成して作製される連続磁性薄膜
媒体へと移行しつつある。これら磁性薄膜を記録層とし
たフロッピーディスク、磁気テープ等を作製する場合に
は、長尺状の高分子フィルム基体を真空槽内て連続的に
巻き出し、加熱された主ローラーに巻付けられながら、
蒸発源からの磁性材料を高分子フィルム基体上に形成さ
せるのが一般的である。この場合、Ｇｏ−Ｎｉ膜を除い
た（：ｏ−１１：ｒ、γ二”’２０３　、Ｂａ−フェラ
イト膜においては、磁気記録媒体として所望の磁気特性
を得る為に、ベースフィルム（高分子フィルム基体）を
１００℃以上に加熱する必要がある。このベースフィル
ムの加熱は、ベースフィルムの支持体である主ローラー
を加熱することにより行なわれるが、主ローラー表面と
ベースフィルム裏面が密着しているため、ベースフィル
ムが加熱された主ロールと接触した時にベースフィルム
から発生するガスが、主ローラー表面とベースフィルム
裏面の間に局所的に残留する。このため、ベースフィル
ム表面にあばた状の凹凸やシワが発生することがある。

あるいは、ベースフィルムが加熱されたことによるベー
スフィルムの幅方向の熱膨張がシワの発生原因となるこ
ともある。このようなしわや凹凸を有する磁気記録媒体
は磁気ヘッドとの安定なコンタクトが得られず、このた
め、磁気記録媒体の再生出力のエンベロープの平坦性が
失われるなどの問題点がある。一方、ベースフィルムを
連続的に走行させるフィルム搬送系の機械的精度が向上
するにつれ、ベースフィルム裏面と主ローラー表面との
接触状態が改善される。しかしながら、ベースフィルム
表面の温度は主ローラーの温度と蒸発源からの輻射熱に
よる上昇温度との和に依存するため、ベースフィルム裏
面と主ローラー表面との接触状態が良好になると、ベー
スフィルムと主ローラー間の熱伝導が良くなる。このた
め、ベースフィルム表面の実効的な温度があまり上がら
ず、ベースフィルムの所望の磁気特性は得られにくくな
る問題点がある。

（発明が解決しようとする問題点） 本発明は上記の重大な問題点を改善し、あばた状の凹凸
やしわのない磁気特性の優れた磁気記録媒体の製造装置
を提供することを目的とする。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明はの磁気記録媒体の製造装置は、高分子フィルム
基体を連続的に走行させ、所定位置に存在する該高分子
フィルム基体の支持体である主ローラーに巻き付けた状
態で、該高分子フィルム基体上に連続磁性薄膜を形成す
る磁気記録媒体の製造装置において、 前記主ローラーは表面に規則的な凹凸の形状を有するこ
とを特徴としている。

本発明は上記構成により、高分子フィルム基板が主ロー
ラーに極めて均一状態で良好に接触し、かつ適度に浮く
ことになる。

以下、本発明を図面を参照して説明する。

第１図は本発明の磁気記録媒体の製造装置の一例を示す
正面図であり、第２図は第１図の主ローラ−４の斜視図
である。

高分子フィルム基体１は、巻出しローラー２から連続的
に送出され、補助ローラー３を経て、表面に網目構造の
溝が形成され、加熱された主ローラ−４に巻き付けられ
、さらに補助ローラー６を経て巻取りローラー７で巻取
られる。高分子フィルム基体１は主ローラ−４を走行す
る際に、主ローラ−４と対向して設けられている蒸発源
５から磁性薄膜材料が供給されて、高分子フィルム基体
１に磁性薄膜が連続的に形成されることになる。

高分子フィルム基体１としてはポリエチレンテレフタレ
フト、ポリイミド、ポリアミド、ポリスルホン等の高分
子フィルムを用いることができ、厚さ５〜１００−が好
適であり、いっそう好ましい範囲は５〜５０鱗である。

補助ローラー３．６の数は、特に限定されない。

主ローラ−４の溝のピッチは２５〜５００木／インチが
好適であり、いっそう好ましい範囲は３００〜５００本
／インチである。ピッチ２５本／インチ以下では、磁気
記録媒体にしわが発生し、また５００本／インチは加工
技術の限界である。めやすとしては、使用する高分子基
体１の厚さをδ鱗、主ローラ−４のメツシュの数をＮ個
／インチとすると、０．０５＜δ／Ｎ＜１．０の範囲で
ある。

主ローラ−４の表面には第３図に示すように平行構造の
溝９を設けてもよい。この場合、溝９のピッチは、上記
の綱目構造のものと同じである。

さらに、主ローラ−４の表面には第４図に示すように穴
１０を設けてもよい。穴のピッチは主ローラ−４の凸部
の表面積を考慮して、２５〜１００００個／ｒｎｍ２の
範囲が好ましい。

なお、溝、穴の深さは高分子フィルム基体１からのガス
が残留しすぎないことと、加工技術を考慮して、０．０
５〜１ｍｍが好適であり、いっそう好ましい範囲は０．
０５〜０．２ｍｍである。

主ローラ−４の材質は、Ｆｅ％Ｃｒ、　Ｇｏ、ＡＩ、ス
テンレス等の金属、あるいはそれらの金属でメツキされ
たものである。

（実施例） 以下、本発明を具体的に実施例をあげて説明する。

実施例１ 主ローラーの表面に第３図に示したようなピッチ４０本
／インチ、深さ０．１５ｆｆｌｆｆｌの平行構造の溝が
設けられている。この主ローラーを有した第１図の装置
で、幅５０ｃｍ、厚さ２５ｕ＋のポリイミドの長尺フィ
ルムをベースフィルムとしてＧｏ−２１重量％Ｃｒ組成
のマグネトロンスパッタ用ターゲットを用いて、Ｇｏ−
（：ｒのスパッタリングを行ない、Ｇｏ−Ｃｒ膜テープ
（磁気記録媒体）を作製した。成膜条件は、主ローラー
の表面温度１５０℃、Ｇｏ−Ｃｒ成膜速度０．３ｕＩ／
ｍｉｎとし、Ｇｏ−Ｃｒ膜を０．５μ形成した。

このＧｏ−Ｃｒ　＠テープの磁気特性をＶＳＭで測定し
たところ、表に示すように、飽和磁束密度４πＭｓは４
８００　ＧａｕＳＳ、テープ走行面に対して垂直方向の
保磁力Ｈｃは１２０００ｅ　、テープ走行面に対して平
行な成分の保磁力Ｈ″Ｃは７０００ｅであった。また、
テープの表面にはあばた状の凹凸やしわがなく、磁気特
性および表面性にすぐれたＧｏ−Ｃｒ膜テープ（磁気記
録媒体）を得た。（次述の他の実施例、比較例の結果も
同じ表に掲載。） 実施例２ 主ローラーの表面に第２図に示すようなピッチ５００本
／インチの綱目構造の溝が設けられている以外は、実施
例１と同一方法でＧｏ−（：ｒ膜テープを作製した。こ
のＧｏ−Ｏｒ膜テープのＨ’ｃは７０００ｅであり実施
例１のそれと同一であるが、Ｈｅは実施例１のそれより
も大きくなっている。これは、溝の本数が増加した分だ
け、ベースフィルムと主ローラーの接触面積が減少する
ので、ベースフィルムから主ローラーへの熱の伝導が少
なくなり、ベースフィルム表面の実効的な温度が上昇し
た、と考えられる。

実施例３ 主ローラーの表面に第４図に示すようなピッチ５００個
／ｍｌｌ１２の穴ｌＯが設けられている以外は、実施例
１と同一方法でＧｏ−Ｃｒ　＠テープを作製した。

比較例１ 主ローラーの表面に第３図に示すようなピッチ２０木／
インチの網目構造の溝が設けられている以外は、実施例
１と同一方法でＧｏ−Ｏｒ膜テープを作製した。このＧ
ｏ−Ｃｒ膜テープの表面にはしわが３本以上あるか、ま
たはしわのない部分にはあばた状の凹凸が発生していた
。

比較例２ 主ローラーの表面に溝や穴が設けられていない以外は、
実施例１と同一方法でＧｏ−Ｃｒ膜テープを作製した。

このＧｏ−Ｃｒ　＠テープの表面にはしわが１２本本土
上生していた。

比較例３ 主ローラーの表面に第４図に示すようなピッチ２０個／
１Ｉｆｌ１２の穴が設けられている以外は、実施例１と
同一方法でＧｏ−Ｃｒ膜テープを作製した。このＧｏ−
（：ｒ膜テープの表面にはしわが４零以上発生していた
。

表により本発明の実施例と、比較例との差は明らかであ
る。なお、本実施例、比較例においては、（：ｏ−Ｃｒ
膜のスパッタリング連続成膜装置を例にあげたが、本発
明は真空蒸着法、イオンブレーティング法等、他の物理
蒸着法についても有効であることはいうまでもない。ま
た、γ−Ｆｅ２Ｏ３やＢａフェライトのような磁性酸化
物の磁性薄膜材料でも有効である。

〔発明の効果〕

以上説明したように、高分子フィルム基体を連続的に走
行させ、所定位置で、高分子フィルム基体上に連続磁性
薄膜を形成する磁気記録媒体の製造装置において、所定
位置に存在する高分子フィルム基体の支持体となる主ロ
ーラーは表面に規則的な凹凸の形状を有することにより
、主ローラーとベースフィルムとの適度な密着性が得ら
れ、表面にあばた状の凹凸がなくしわのない磁気特性、
表面特性に優れた磁気記録媒体の提供が可能となる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の磁気記録媒体の製造装置の一例を示す
正面図、第２図、第３図、第４図はそれぞれ第１図にお
ける主ローラーの第１、第２、第３の実施例の斜視図で
ある。 １・−高分子フィルム基体、２・−巻出しローラー、３
．６−・・補助ローラー、　　４・・・主ローラ−，５
・・・蒸発源、　　　　　　　７・・・巻取りローラー
、８．９−・・溝、　　　　　　１０−・・穴。 特許出願人　　キャノン株式会社

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）高分子フィルム基体を連続的に走行させ、所定位置
   に存在する該高分子フィルム基体の支持体である主ロー
   ラーに巻き付けた状態で該高分子フィルム基体上に連続
   磁性薄膜を形成する磁気記録媒体の製造装置において、 前記主ローラーは表面に規則的な凹凸の形状を有するこ
   とを特徴とする磁気記録媒体の製造装置。 ２）前記主ローラーは表面にピッチ２５〜５００本／イ
   ンチの平行構造の溝を有する特許請求の範囲第１項記載
   の磁気記録媒体の製造装置。 ３）前記主ローラーは表面にピッチ２５〜５００本／イ
   ンチの網目構造の溝を有する特許請求の範囲第１項記載
   の磁気記録媒体の製造装置。 ４）前記主ローラーは表面にピッチ２５〜１００００個
   ／ｍｍ＾２の穴を有する特許請求の範囲第１項記載の磁
   気記録媒体の製造装置。