JPH01165554A - 置換ヒドロキシルアミン - Google Patents

置換ヒドロキシルアミン

Info

Publication number
JPH01165554A
JPH01165554A JP63293737A JP29373788A JPH01165554A JP H01165554 A JPH01165554 A JP H01165554A JP 63293737 A JP63293737 A JP 63293737A JP 29373788 A JP29373788 A JP 29373788A JP H01165554 A JPH01165554 A JP H01165554A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
formula
aryl
alkyl
substituted
alkylsulfonyl
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP63293737A
Other languages
English (en)
Inventor
Walter Huebsch
バルター・ヒユプシユ
Rolf Angerbauer
ロルフ・アンガーバウアー
Peter Fey
ペーター・フアイ
Hilmar Bischoff
ヒルマル・ビシヨツフ
Dieter Petzinna
デイーター・ペツツイナ
Shiyumitsuto Derufu
デルフ・シユミツト
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Bayer AG
Original Assignee
Bayer AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Bayer AG filed Critical Bayer AG
Publication of JPH01165554A publication Critical patent/JPH01165554A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D207/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
    • C07D207/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D207/30—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D207/32—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D207/325—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals directly attached to the ring nitrogen atom
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D207/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom
    • C07D207/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom
    • C07D207/30—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D207/32—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D207/33—Heterocyclic compounds containing five-membered rings not condensed with other rings, with one nitrogen atom as the only ring hetero atom with only hydrogen or carbon atoms directly attached to the ring nitrogen atom having two double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms with substituted hydrocarbon radicals, directly attached to ring carbon atoms
    • C07D207/335—Radicals substituted by nitrogen atoms not forming part of a nitro radical
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P3/00—Drugs for disorders of the metabolism
    • A61P3/06—Antihyperlipidemics
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
    • A61P—SPECIFIC THERAPEUTIC ACTIVITY OF CHEMICAL COMPOUNDS OR MEDICINAL PREPARATIONS
    • A61P9/00—Drugs for disorders of the cardiovascular system
    • A61P9/10—Drugs for disorders of the cardiovascular system for treating ischaemic or atherosclerotic diseases, e.g. antianginal drugs, coronary vasodilators, drugs for myocardial infarction, retinopathy, cerebrovascula insufficiency, renal arteriosclerosis
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07C—ACYCLIC OR CARBOCYCLIC COMPOUNDS
    • C07C239/00—Compounds containing nitrogen-to-halogen bonds; Hydroxylamino compounds or ethers or esters thereof
    • C07C239/08—Hydroxylamino compounds or their ethers or esters
    • C07C239/18—Hydroxylamino compounds or their ethers or esters having nitrogen atoms of hydroxylamino groups further bound to carbon atoms of hydrocarbon radicals substituted by carboxyl groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D307/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom
    • C07D307/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
    • C07D307/34—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D307/38—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one oxygen atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings having two or three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with substituted hydrocarbon radicals attached to ring carbon atoms
    • C07D307/52—Radicals substituted by nitrogen atoms not forming part of a nitro radical
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D333/00—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom
    • C07D333/02—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings
    • C07D333/04—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings not substituted on the ring sulphur atom
    • C07D333/06—Heterocyclic compounds containing five-membered rings having one sulfur atom as the only ring hetero atom not condensed with other rings not substituted on the ring sulphur atom with only hydrogen atoms, hydrocarbon or substituted hydrocarbon radicals, directly attached to the ring carbon atoms
    • C07D333/14—Radicals substituted by singly bound hetero atoms other than halogen
    • C07D333/20—Radicals substituted by singly bound hetero atoms other than halogen by nitrogen atoms

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Bioinformatics & Cheminformatics (AREA)
  • Animal Behavior & Ethology (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Nuclear Medicine, Radiotherapy & Molecular Imaging (AREA)
  • Veterinary Medicine (AREA)
  • Pharmacology & Pharmacy (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Public Health (AREA)
  • Urology & Nephrology (AREA)
  • Diabetes (AREA)
  • Hematology (AREA)
  • Obesity (AREA)
  • Vascular Medicine (AREA)
  • Cardiology (AREA)
  • Heart & Thoracic Surgery (AREA)
  • Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
  • Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Heterocyclic Carbon Compounds Containing A Hetero Ring Having Nitrogen And Oxygen As The Only Ring Hetero Atoms (AREA)
  • Pyrrole Compounds (AREA)
  • Pyridine Compounds (AREA)
  • Furan Compounds (AREA)
  • Heterocyclic Compounds Containing Sulfur Atoms (AREA)
  • Indole Compounds (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は置換されたヒドロキシルアミン、その製造に対
する中間体、その製造及びその薬剤における使用に関す
るものである。
菌・カビの培養から単離されるラクトン誘導体が3−ヒ
ドロキシ−3−メチル−グルタリル補酵素へ還元酵素(
HMG−CoA還元酵素)の阻害剤であることは開示さ
れている(メビノリン、ヨーロッパ特許出願第22,4
78号;米国特許第4.231.938号)。更にまた
、あるインドール誘導体またはピラゾール誘導体はHM
G−C。
A還元酵素の阻害剤である(ヨーロッパ特許出願第1,
114,027号;米国特許第4.613゜610号)
。
一般式(I) 式中、Rは水素を表わすか、エステル基を表わすか、ま
たは陽イオンを表わし、そしてR1は式 %式% R2は水素、ハロゲンまたは炭素原子6個までを有する
直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキルを表わし、 R3、R4は同一もしくは相異なり、且つ水素、ハロゲ
ンまたは炭素原子6個までを有する直鎖状もしくは分校
鎖状のアルキルを表わすか、或いは R3及びR6は一緒になってテトラメチレン鎖を形成し
、 Aは同一もしくは相異なるハロゲン、アルキル、アルコ
キシ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アリール、
アリールオキシ、アリールチオ、アリールスルホニル、
トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフル
オロメチルチオ、アルコキシカルボニルまたは式−NR
’R’の基で一1二または三置換され得るヘテロアリー
ルを表わし、ここに R%、R@は同一もしくは相異なり、且つアルキル、ア
リール、アラルキル、アシル、アルキルスルホニルまた
はアリールスルホニルを表わすか、或いは同一もしくは
相異なるアルキル、アルコキシ、アルキルチオ、アルキ
ルスルホニル、アリール、アリールオキシ、アリールチ
オ、アリールスルホニル、アラルキル、アラルコキシ、
アラルキルチオ、アラルキルスルホニル、ハロゲン、シ
アノ、ニトロ、トリフルオロメチル、トリフルオロメト
キシ、トリフルオロメチルチオ、アルコキシカルボニル
、スルファモイ4゜ジアルキルスルファモイル、カルバ
モイル、ジアルキルカルバモイルまたは式−NR’R’
の基で−から三置換され得るアリールを表わし、ここに
R6及びR6は上記の意味を有し、Bはシクロアルキル
を表わすか、或いはハロゲン、シアノ、アルコキシ、ア
ルキルチオ、アルキルスルホニル、トリフルオロメチル
、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、ト
リフルオロメチルスルホニル、アルコキシカルボニル、
アシルまたはR8%R6が同一もしくは相異なり、且つ
アルキル、アリール、アラルキル、アシル、アルキルス
ルホニルまたはアリールスルホニルを表わす式−NR″
R1の基、或し・はカルバモイル、ジアルキルカルバモ
イル、スルファモイル、ジアルキルカルバモイノ呟へテ
ロアリール、アリール、アリールオキシ、アリールチオ
、アリールスルホニル、アラルコキシ、アラルキルチオ
またはアラルキルスルホニルで置換され得るアルキルを
表わし、その際に後者の置換基のへテロアリール及びア
リール基は同一もしくは相異なるハロゲン、シアノ、ト
リフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、アルキル ルキルスルホニル置換基で−、二または三置換されるこ
とができ、 XはOlSまたはN−C’を表わし、そしてC1、C2
、C3は同一もしくは相異なり、且つ水素を表わすか、
シクロアルキルを表わすか、ハロゲン、シアノ、アルコ
キシ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、トリフルオ
ロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチル
チオ、トリフルオロメチルスルホニル、アルコキシカル
ボニル、アシルまたはR6、R1が上記の意味を有する
一NR’R’、或いはカルバモイル、ジアルキルカルバ
モイル、スルファモイル、ジアルキルスルファモイル、
ヘテロアリール、アリール、アリールオキシ、アリール
チオ、アリールスルホニル、アラルコキシ、アラルキル
チオまたはアラルキルスルホニルで置換されることがで
き、ここにヘテロアリール及びアリール基は同一もしく
は相異なるハロゲン、シアノ、トリフルオロメチル、ト
リフルオロメトキシ、アルキル、アルコキシ、アルキル
チオまたはアルキルスルホニル置換基でー、二または三
置換され得るアルキルを表わすか、同一もしくは相異な
るハロゲン、アルキル、アルコキシ、アルキルチオ、ア
ルキルスルホニル、アリール、アリールオキシ、アリー
ルチオ、アリールスルホニル、トリフルオロメチル、ト
リフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、アルコ
キシカルボニルまたはR5及びR6が上記の意味を有す
る式−NR’R’の基でー、二または三置換され得るヘ
テロアリールを表わすか、或いは同一もしくは相異なる
アルキル、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルホ
ニル、アリール、アリールオキシ、アリールチオ、アリ
ールスルホニル、アラルキル、アラルコキシ、アラルキ
ルチオ、アラルキルスルホニル、ハロゲン、シアノ、ニ
トロ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、ト
リフルオロメチルチオ、アルコキシカルボニル、スルフ
ァモイル、ジアルキルスルファモイル、カルバモイル ルまたはRS及びR6が上記の意味を有する式−NR’
R’の基でーから三置換されるアリールを表わす、 の置換されたヒドロキシルアミンが見い出された。
驚くべきことに、本発明による置換されたヒドロキシル
アミンはHMG−CoA還元酵素(3−ヒドロキシ−3
−メチル−グルタリン補酵素A還元酵素)に対して優れ
た阻害作用を示す。
シクロアルキルは一般に炭素原子3〜8個を有する環式
炭化水素基を表わす。シクロプロピル、シクロペンタン
及びシクロヘキサン環が好ましい。
Φげ得る例にはシクロプロピル、シクロペンチル、シク
ロヘキシル、シクロヘプチル及びシクロオクチルがある
。
アルキルは一般に炭素原子1〜12個を有する直鎖状も
しくは分枝鎖状炭化水素基を表わす。炭素原子1〜約6
個を有する低級アルキルが好ましい。挙げ得る例にはメ
チル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソ
ブチル、ペンチル、イソペンチルヘキシル、イソヘキシ
ル、ヘプチル、イソヘプチル、オクチル及びイソオクチ
ルがある。
アルコキシは一般に酸素原子を介して結合し、そして炭
素原子1−12個を有する直鎖状もしくは分枝鎖状の炭
化水素基を表わす。炭素原子1〜約6個を有する低級ア
ルコキシが好ましい。炭素原子1〜4ftAを有するア
ルコキシ基が殊に好ましい。挙げ得る例にはメトキシ、
エトキシ、プロポキシ、インプロポキシ、ブトキシ、イ
ソブトキシ、ペントキシ、イソペントキシ、ヘキソキシ
、イソヘキソキシ、ヘプトキシ、イソへブトキシ、オク
トキシまたはインオクトキシがある。
アルキルチオは一般に硫黄原子を介して結合し、そして
炭素原子1〜12個を有する直鎖状もしくは分枝鎖状の
炭化水素基を表わす。炭素原子1〜約6個を有する低級
アルキルチオが好ましい。炭素原子1〜4個を有するア
ルキルチオ基が殊に好ましい。挙げ得る例にはメチルチ
オ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブ
チルチオ、インブチルチオ、ペンチルチオ、イソペンチ
ルチオ、ヘキシルチオ、イソへキシルチオ、ヘプチルチ
オ、イソへブチルチオ、オクチルチオまたはインオクチ
ルチオがある。
アルキルスルホニルは一般にSo、基を介して結合する
炭素原子1−12mを有する直鎖状もしくは分枝鎖状の
炭化水素基を表わす。炭素原子1〜約6個を有する低級
アルキルスルホニルが好ましい。挙げ得る例には次のも
のがある:メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロ
ピルスルホニル、イソプロピルスルホニル、ブチルスル
ホニル、インブチルスルホニル、ペンチルスルホニル、
イソペンチルスルホニル、ヘキシルスルホニル及びイン
ヘキシルスルホニル。
スルファモイル(アミノスルホニル)は基−502−N
H,を表わす。
アリールは一般に炭素原子6〜約12個を有する芳香族
基を表わす。好適なアリール基はフェニル、ナフチル及
びビフェニルである。
アリールオキシは一般に酸素原子を介して結合する炭素
原子6〜約12個を有する芳香族基を表わす。好適なア
リールオキシ基はフェノキシまたはナフチルオキシであ
る。
アリールチオは一般に硫黄原子を介して結合する炭素原
子6〜約12個を有する芳香族基を表わす。好適なアリ
ールチオ基はフェニルチオまたはナフチルチオである。
アリールスルホニルは一般にS02基を介して結合する
炭素原子6〜約12個を有する芳香族基を表わす。挙げ
得る例には7ヱニルスルホニル、ナフチルスルホニル及
びビフェニルスルホニルがある。
アラルキルは一般にアルキレン鎖を介して結合する炭素
原子7〜14Mを有するアリール基を表わす。脂肪族部
分に炭素原子1〜6個及び芳香族部分に炭素原子6〜1
2個を有するアラルキル基が好ましい。例として次のア
ラルキル基を挙げ得る:ベンジル、ナフチルメチル、フ
ェネチルl’フェニルプロピル。
アラルコキシは一般にアルキレン鎖が酸素原子を介して
結合する、炭素原子7〜14個を有するアルキル基を表
わす。脂肪族部分に炭素原子1〜6個及び芳香族部分に
炭素原子6〜12個を有するアラルコキシ基が好ましい
。例として次のアラルコキシ基を挙げ得る:ベンジルオ
キシ、ナフチルメトキシ、フエネトキシ及びフェニルプ
ロポキシ。
アラルキルチオは一般にアルキル鎖が硫黄原子を介して
結合する、炭素原子7〜約14個を有するアラルキル基
を表わす。脂肪族部分に炭素原子1〜6個及び芳香族部
分に炭素原子6〜12個を有するアルキルチオ基が好ま
しい。例として次のアラルキルチオ基を挙げ得る:ベン
ジルチオ、ナ7チルメチルチオ、フェネチルチオ及びフ
ェニルプロピルチオ。
アラルキルスルホニルは一般にアルキル基がS02鎖を
介して結合する、炭素原子7〜約14個を有するアラル
キル基を表わす。脂肪族部分に炭素原子1〜6個及び芳
香族部分に炭素原子6〜12個を有するアラルキルスル
ホニル基が好ましい。
例として次のアラルキルスルホニル基を挙げ得る:ベン
ジルスルホニル、ナフチルスルホニル、7エネチルスル
ホニル及びフェニルグロビルスルホニル。
アルコキシカルボニルは例えば式 %式% により表わし得る。この場合、アルキルは炭素原子1〜
12個を有する直鎖状もしくは分枝鎖状の炭化水素基を
表わす。アルキル部分に炭素原子1〜約6個を有する低
級アルコキシカルボニルが好ましい。殊に、アルキル部
分に炭素原子1〜4個を有するアルコキシカルボニルが
好ましい。例として次のアルコキシカルボニルを挙げ得
る:メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、プロポ
キシカルボニル、イレプロポキシ力ルポニル、ブトキシ
カルボニルまたはインブトキシカルボニル。
アシルは一般にカルボニル基を介して結合する、フェニ
ルまたは炭素原子1〜約6個を有する直鎖状もしくは分
枝鎖状の低級アルキルを表わす。フェニル及び炭素原子
4個までを有するアルキル基が好ましい。挙げ得る例に
は次のものがある:ベンゾイル、アセチル、エチルカル
ボニル、プロピルカルボニル、イソプロピルカルボニル
、ブチルカルボニル及びインブチルカルボニル。
ハロゲンは一般にフッ素、塩素、臭素まタハヨウ素、好
ましくはフッ素、塩素または臭素を表わす。ハロゲンは
殊に好ましくはフッ素または塩素を表わす。
ヘテロアリールは一般にヘテロ原子として酸素、硫黄及
び/または窒素を含有することができ、そしてその上に
追加の芳香族環を縮合させることができる5〜6員の芳
香族環を表わす。1個の酸素、1個の硫黄及び/まt;
は2個までの窒素原子を含み、そして随時ベンゼンに融
合されていてもよい5及び6員の芳香族環が好ましい。
挙げ得る殊に好適なヘテロアリール基には次のものがあ
る:チェニル、フリノ呟 ピロリ/L−,ピラゾリル、
ピリジJ呟 ピリダジニル ピラジニル、ピリダジニル
、キノリノ呟イソキノリル、キナゾリル、キノキサリル
、7タラジニノ呟シンノリル、チアゾリル、ベンゾチア
ゾチアゾリル、インチアゾリル、オキサシリル、ベンゾ
キサゾリル、インキサゾリル、イミダゾリル、ベンズイ
ミダゾリル、ピラゾリル、インドリル及びイソインドリ
ル。
R1がエステル基を表わす場合、生体内で容易に遊離カ
ルボキシル基に加水分解される生理学的に許容し得るア
ルコール及び対応する生理学的に許容し得るアルコール
は好ましくはこのものを意味する。これらのものには例
えばアルキルエステル(01〜C4)及びアラルキルエ
ステル(C2〜C1゜)、好ましくは低級アルキルエス
テル及びベンジルエステルが含まれる。更に、次のエス
テルヲ挙if得ル:メチルエステル、エチルエステル、
プロピルエステル及びベンジルエステル。
R1が陽イオンを表わす場合、生理学的に許容し得る陽
イオンまたはアンモニウム陽イオンを好ましくは意味す
る。ここに塩の生成に使用し得るアルカリ金属陽イオン
またはアルカリ土金属陽イオン例えばナトリウム、カリ
ウム、マグネシウムまたはカルシウムの陽イオン、及び
またアルミニウム陽イオンまたはアンモニウム陽イオン
、並びにまたアミンからの無毒性の置換されたアンモニ
ウム陽イオン例えば低級の第二級アルキルアミン、低級
の第三級アルキルアミン、プロ力イン、ジベンジルアミ
ン、N、N’ −ジベンジルエチレンジアミン、N−ベ
ンジル−β−フェネチルアミン、N−メチルモルホリン
もしくはN−エチルモルホリン、l−エフエナミン、ジ
ヒドロアビエチルアミン、N、N’  −ビス−ジヒド
ロアビエチルエチレンジアミン、N−低級アルキルビペ
リジン及び他のアミンが好ましい。
好適な一般式(1)の化合物はRが水素を表わすか、生
理学的に許容し得るエステル基を表わすか、または生理
学的に許容し得る陽イオンを表わし、そしてR1が式 %式% の基を表わし、ここにR2が水素、フッ素、塩素、臭素
を表わすか、または炭素原子5個までを有する直鎖状も
しくは分枝鎖状のアルキルを表わし、R3、R4が同一
もしくは相異なり、且つ水素、フッ素、塩素、臭素を表
わすか、または炭素原子4個までを有する直鎖状もしく
は分枝鎖状のアルキルを表わすか、或いはR3及びR4
は一緒になってテトラメチレン鎖を形成し、Aがその各
々が同一もしくは相異なるフッ素、塩素、臭素、低級ア
ルキル、低級アルコキシ、フェニル、フェノキシ、トリ
フルオロメチル、トリフルオロメトキシまたは低級アル
コキシカルボニル置換基で−または二置換され得るチエ
ニル、7リノ呟チアゾリル、インチアゾリル、オキサシ
リル、インキサゾリル、ピリジル、ピリミジル、ピラジ
ニル、ピリダジニル、インドリル、イソインドリル、キ
ノリル、イソキノリル、フタラジニル、キノキサリニル
、キナゾリニル、シンノリニル、ベンゾチアゾリル、ベ
ンゾキサゾリルまたはベンズイミダゾリルを表わすか、
或いはその各々が同一もしくは相異なる低級アルキル、
低級アルコキシ、低級アルキルチオ、低級アルキルスル
ホニノ呟フェニル、フェニルオキシ、フェニルチオ、フ
ェニルスルホニル、ベンジン、ベンジルオキシ、ベンジ
ルチオ、ベンジルスルホニ/L=、フェネチル、7エネ
トキシ、フェネチルチオ、フェネチルスルホニル、フッ
素、塩素、臭素、シアノ、トリフルオロメチル、トリフ
ルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、低級アルコ
キシカルボニルまたは式−NR’R’の基で−から三置
換され得るフェニルまたはナフチルを表わし、その際に
R5及びR6は同一もしくは相異なり、且つ低級アルキ
ル、フェニル、ベンジノ呟アセチル、ベンゾイル、フェ
ニルスルホニルまたは低級アルキルスルホニルを表わし
、Bがシクロプロピル、シクロペンチルよにはシクロヘ
キンルを表わすか、或いはフッ素、塩素、臭素、シアン
、低級アルコキシ、低級アルキルチオ、低級アルキルス
ルホニル、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ
、トリフルオロメチルスルホニル、低級アルコキシカル
ボニル、ベンゾイル、低級アルキルカルボニル、R8及
びR6が土泥の意味を有する式−NR’R’の基、或い
はピリジル、ピリミジル、ピラジニル、ピリダジル、キ
ノリル、イソキノリル、ピリル、インドリル、チエニル
、フリル、イミダゾリル、オキサシリル、チアゾリル、
フェニル、フェノキシ、フェニルチオ、フェニルスルホ
ニル スルホニル、フェネトキシ、7エネチルチオまたはフェ
ネチルスルホニルで置換されることができ、その際に挙
げられるヘテロアリール及びアリール基は同一もしくは
相異なるフッ素、塩素、臭素、低級アルキル、低級アル
コキシ、トリフルオロメチルまたはトリフルオロメトキ
シ置換基でーまたは二置換され得る低級アルキルを表わ
し、XがO、SまたはN−C3を表わし、そしてCI,
C2、C3は同一もしくは相異なり、且つ水素を表わす
か、シフo 7’ oピル、シクロペンチルまたはシク
ロヘキシルを表わすか、フッ素、塩素、臭素、シアノ、
低級アルコキシ、低級アルキルチオ、低級アルキルスル
ホニル、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、
トリフルオロメチルスルホニル、低級アルコキシカルボ
ニル、ベンゾイル、低級アルキルカルボ二ノ呟R6及び
R″が上記の意味を有する式−NR’R’の基、或いは
ピリジル、ピリミジル、ピラジニル、ピリダジル、キノ
リル、イソキノリル、ピロリル、インドリル、チエニル
、フリル、イミダゾリル、オキサシリル、チアゾリル、
フェニル、フェノキシ、フェニルチオ、フェニルスルホ
ニル、ベンジルオキシ、ベンジルチオ、ベンジルスルホ
ニル、フエネトキシ、フェネチルチオまたはフェネチル
スルホニルで置換されることができ、その際に挙げられ
るヘテロアリール及びアリール基は同一もしくは相異な
るフッ素、塩素、臭素、低級アルキル、低級アルコキシ
、トリフルオロメチルまたはトリフルオロメトキシ置換
基で−または多置換され得る低級アルキルを表わすか、
その各々が同一もしくは相異なる7ツ素、塩素、臭素、
低級アルキノ呟低級アルコキシ、フェニル、フェノキシ
、トリフルオロメチノ呟トリフルオロメトキシまたは低
級アルコキシカルボニル置換基で−または二置換され得
るチェニノ呟フリル、チアゾリル、インチアゾリル、オ
キサシリル、インキサゾリル、ピリジル、ピリミジル、
ピラジニル、ピリダジニル、インドリル、イソインドリ
ル、キノリル、イソキノリル、フタラジニル、キノキサ
リニル、キナゾリニル、シンノリニル、ベンゾチアゾリ
ル、ベンゾキサゾリルまたはベンズイミダゾリルを表わ
すか、或いはその各々が同一もしくは相異なる低級アル
キル、低級アルコキシ、低級アルキルチオ、低級アルキ
ルスルホニル、フエニノ呟 フェノキシ、フェニルチオ
、フェニルスルホニル、ベンジル、ペン、ジルオキシ、
ベンジルチオ、ベンジルスルホニル、フェネチル、フェ
ニルエトキシ、フェネチルチオ、フェネチルスルホニル
、フッ素、塩素、臭素、シアノ、トリフルオロメチル、
トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、低級
アルコキシカルボニルまたはR5及びR6が上記の意味
を有する式−NR’R’の基で−から四置換され得るフ
ェニルまたはナフチルを表わす、ものである。
殊に好適な一般式(I)の化合物はRが水素、メチル、
エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソプロピ
ル t−ブチルまたはベンジルを表わすか、或いはマグ
ネシウムまたはアンモニウム陽イオンを表わし、そして
R1が式 の基を表わし、ここにR2が水素、フッ素、塩素を表わ
すか、または炭素原子4個までを有する直鎖状もしくは
分校鎖状のアルキルを表わし、R1、R4が同時に水素
、フッ素、塩素を表わすか、または炭素原子3個までを
有するアルキルを表わすか、或いはR3及びR4が一緒
になってテトラメチレン鎖を形成し、Aがその各々がフ
ッ素、塩素、メチル、メトキシまたはトリフルオロメチ
ルで置換され得るピリジル、ピリミジル、キノリルまた
はイソキノリルを表わすか、或いは同一もしくは相異な
るメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、
イソブチル、t−ブチル、メトキシ、エトキシ、プロポ
キシ、インプロポキシ、ブトキシ、インブトキシ、t−
ブトキシ、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イ
ソプロピルチオ、メチルスルホニル、エチルスルホニル
、プロピルスルホニル、イソプロピルスルホニル、フェ
ニル、フェノキシ、ベンジン、ベンジルオキシ、フッ素
、塩素、臭素、シアノ、トリフルオロメチル呟 トリフ
ルオロメトキシ、メトキシカルボニル、エトキシカルボ
ニル、プロポキシカルボニル、インプロポキシカルボニ
ル、ブトキシカルボ二ノ呟インブトキシカルボニルまた
はt−ブトキシカルボニル置換基で−、二または三置換
され得るフェニルを表わし、Bがシクロプロピル、シク
ロペンチルまたはシクロヘキシルを表わすか、或いはそ
の各々がフッ素、塩素、臭素、シアノ、メトキシ、エト
キシ、プロポキシ、インプロポキシ、ブトキシ、5ec
−ブトキシ、t−ブトキシ、メチルチオ、エチルチオ、
プロピルチオ、イソプロピルチオ、メチルスルホニル、
エチルスルホニル、プロピルスルホニル、イソプロピル
スルホニル、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキ
シ、メトキシカルボニル ニル、インブトキシカルボニル、t−ブトキシカルボニ
ル、ベンゾイルアセチル、ピリジル、ピリミジル、チエ
ニル、フリル、フェニル、フェノキシ、フェニルチオ、
フェニルスルホニル、ベンジルオキシ、ベンジルチオま
たはベンジルスルホニルで置換され得るメチル、エチル
、プロピル、イソプロピル、ブチル、sec−ブチルま
たは(−ブチルを表わし、XがOlSまたはN−C3を
表わし、そしてCI,CI、C3が同一もしくは相異な
り、且つ水素、シクロプロピル、シクロペンチルまたは
シクロヘキシルを表わすか、その各々がフッ素、塩素、
臭素、シアノ、メトキシ、エトキン、プロポキシ、イン
プロポキシ、ブトキシ、インブトキシ、t−ブトキシ、
メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピル
チオ、ブチルチオ、インブチルチオ、【−ブチルチオ、
メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホ
ニル、イソプロピルスルホニル、ブチルスルホニル、イ
ンブチルスルホニル、t−ブチルスルホニル、トリフル
オロメチル、トリフルオロメトキシ、メトキシカルボニ
ル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、イン
プロポキシカルボニル、ブトキシカルボ二)呟イソブト
キシカルボニル、t−ブトキシカルボニル、ベンゾイル
、アセチノ呟エチルカルボニルまたは基−NR″R6で
置換されることができ、その際にR5及びR6は同一も
しくは相異なり、且つメチノ呟エチノ呟プロピル、イソ
プロピル、ブチル、イソブチル、t−ブチル、フェニル
、ベンジル、アセチ/lz,メチルスルホニル、エチル
スルホニル、プロピルスルホニル、インプロピルスルホ
ニルまたはフェニルスルホニルを表わすか、或いはピリ
ジノ呟 ピリミジル、ピラジニル、ピリダジニル、キノ
リル、イソキノリル、チエニル、フリル、フェニル、フ
ェノキシ、フェニルチオ、フェニルスルホニル、ベンジ
ルオキシ、ベンジルチオまたはベンジルスルホニルで置
換されることができ、その際に挙げられるヘテロアリー
ル及びアリール基がフッ素、塩素、メチル、エチル、プ
ロピル、イソプロピル、イソブチル、t−ブチル、メト
キシ、エトキシ、プロポキシ、インプロポキシ、ブトキ
シ、インブトキシ、t−ブトキシ、トリフルオロメチル
またはトリフルオロメトキシで置換され得る、メチル、
エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル
、1−ブチル、ペンチル、インペンチル、ヘキシルまた
はイソヘキシルを表わすか、チエニル、°フリル、ピリ
ジル、ピリミジル、ピラジニル、ピリダジニル、オキサ
シリル、インオキサシリル、イミダゾリル、ピラゾリノ
呟 チアゾリノ呟 イソチアシリAy。
キノリル、イソキノリル、ベンゾキサゾリル、ベンズイ
ミダゾリルまたはベンズチアゾリルを表わし、ここに挙
げられる基はフッ素、塩素、メチル、エチル、プロピル
、イソプロピル、ブチル、イソブチル、t−ブチル、メ
トキシ、エトキシ、プロポキシ、インプロポキシ、ブト
キン、インブトキシ、t−ブトキシ、フェニル、フェノ
キシ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、メ
トキシカルボニル キシカルボニル、プロポキシカルボニル、ブトキシカル
ボニル、イソブトキシカルボニルまたはt−ブトキシカ
ルボニルで置換され得るか、或いは同一もしくは相異な
るメチル、エチル、プロピル、インプロピノ呟ブチノ呟
イソブチル、t−ブチル、ペンチル、イソペンチル、ヘ
キシル、イソヘキシル呟 メトキシ、エトキシ、プロポ
キシ、インプロポキシ、ブトキシ、インブトキシ、t−
ブトキシ、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イ
ソプロピルチオ、ブチルチオ、インブチルチオ、1−ブ
チルチオ、メチルスルホニル、エチルスルホニル、プロ
ピルスルホニル、イソプロピルスルホニル、ブチルスル
ホニル、イソブチルスルホニル、t−ブチルスルホニル
、フェニル、フェノキシ、フェニルチオ、フェニルスル
ホニル、ベンジル、ベンジルオキシ、ベンジルチオ、ベ
ンジルスルホニル、フッ素、塩素、臭素、シアノ、トリ
フルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロ
メチルチオ、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル
、プロボキシカルポニjtz、インプロポキシカルボニ
ル、ブトキシカルボニル、インブトキシカルボニル、t
−ブトキシカルボニルまたはR5及びR6が上記の意味
を有する基−N R’R’で−、二または三置換され得
るフェニルを表わすものである。
極めて殊に好適な一般式(I)の化合物はRが水素、メ
チルまたはエチルを表わすか、或いは陽イオンまたはカ
リウム陽イオンを表わし、そしてR1が式 %式% の基を表わし、ここにR2が水素、フッ素、塩素を表わ
すか、または炭素原子4個までを有する直鎖状もしくは
分枝鎖状のアルキルを表わし、R3、R′が同時に水素
及びメチルを表わすか、または炭素原子3個までを有す
るアルキルを表わすか、或いはR3及びR4が一緒にな
ってテトラメチレン鎖を形成し、Aが同一もしくは相異
なるメチル、エチル、プロピル、ブチル、イソブチル、
t−ブチル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、インプ
ロポキシ、フェノキシ、ベンジルオキシ、フッ素、塩素
、臭素、シアノ、トリフルオロメチルまたはトリフルオ
ロメトキシ置換基で−または二置換され得るフェニルを
表わし、Bが各々フッ素塩素、メトキシ、フェニル、ま
たはフェノキシで置換され得るシクロプロピル、メチル
、エチル、プロピノ呟 イソプロピル、ブチル、イソブ
チルまたはt−ブチルを表わし、XがOlSまたはN−
C5を表わし、c I、 c 2、C3が同一もしくは
相異なり、且つ水素、シクロプロピル、シクロペンチル
またはシクロヘキシルを表わすか、各々フッ素、塩素、
メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、メ
チルチオ、エチルチオ、メチルスルホニル、エチルスル
ホニル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、
イソブトキシカルボニルまたは弐NR’R’の基で置換
され得るメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブ
チル、イソブチル、(−ブチル、ペンチル、イソペンチ
ル、ヘキシルまたはイソヘキシルを表わし、その際にR
5及びRaは同一もしくは相異なり、且つ水素、メチノ
呟エチル、プロピノ呟 イソプロピノ呟フェニルまたは
ベンジル、或いは各々随時フッ素、塩素、メチル、メト
キシ、トリフルオロメチルまたはトリフルオロメトキシ
で置換されていてもよいピリジル、ピリミジル、キノリ
ノ呟チエニル、フリル、フェニル、フェノキシ、フェニ
ルスルホニルまたはベンジルオキシを表わすか、各々随
時フッ素、塩素、メチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピル、メトキシ、フェニル、メトキシカルボニルまたは
ニドキシカルボニルで置換されていてもよいチエニル、
フリノ呟ピリジル、ピリミジル、キノリル、イソキノリ
ル、ベンゾキサゾリル、ベンズチアゾリルまたはベンズ
イミダゾリルを表わすか、或いは随時同一もしくは相異
なるメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル
、イソブチル、t−ブトキシ、メトキシ、エトキシ、プ
ロポキシ、インプロポキシ、メチルチオ、エチルチオ、
メチルスルホニル、エチルスルホニル、フェニル、フェ
ノキシ、フェニルスルホニル、ベンジルオキシ、フッ素
、塩素、臭素、シアノ、トリフルオロメチル、トリフル
オロメトキシ、メトキシカルボニル、エトキシカルボニ
ル、またはRs及びR1が上記の意味を有する式−NR
’R’の基で−または二置換されていてもよいフェニル
を表わすものである。
本発明による一般式(I)の置換されたヒドロキシルア
ミンは少なくとも1個の不斉炭素原子(炭素原子3)を
有し、従って種々の立体化学形で存在し得る。本発明は
個々の異性体及びその混合物の両方に関するものである
。
例えば次の置換されたヒドロキシルアミンの異性体形を
挙げ得る: RCH2CH2N  CH2−CHCHiCOOHR−
CH,CH2−N−CH2−CH−CH2COOH殊に
好適な式(I)の化合物はRが水素、メチルまたはエチ
ルを表わすか、或いはナトリウムまたはカリウムイオン
を表わし、モしてR1が式%式% 加えて、一般式(1) R’−CH,CH,−N−CH2−CH−CH,−GO
OR(I)式中、Rは水素を表わすか、エステル基を表
わすか、または陽イオンを表わし、そしてR1は式 B                 Aの基を表わし
、ここに R2は水素、ハロゲンまたは炭素原子6個までを有する
直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキルを表わし、 R3、R4は同一もしくは相異なり、且つ水素、ハロゲ
ンまたは炭素原子6個までを有する直鎖状もしくは分枝
鎖状のアルキルを表わすか、或いは R3及びR4は一緒になってテトラメチレン鎖を形成し
、 Aは同一もしくは相異なるハロゲン、アルキル、アルコ
キシ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アリール、
アリールオキシ、アリールチオ、アリールスルホニル、
トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフル
オロメトキシす、アルコキシカルボニルまたは式−NR
’R’の基で−、二または三置換され得るヘテロアリー
ルを表わし、ここに R5、R6は同一もしくは相異なり、且つアルキル、ア
リール、アラルキル、アシル、アルキルスルホニルまた
はアリールスルホニルを表わすか、或いは同一もしくは
相異なるアルキル、アルコキン、アルキルチオ、アルキ
ルスルホニル、アリール、アリールオキシ、アリールチ
オ、アリールスルホニル、アラルキル、アラルコキシ、
アラルキルチオ、アラルキルスルホニル、ハロゲン、シ
アノ、ニトロ、トリフルオロメチル、トリフルオロメト
キシ、トリフルオロメチルチオ、アルコキシカルボニル
、スルファモイル、ジアルキルスルファモイル、カルバ
モイル、ジアルキルカルバモイルまたは式−NR5R’
の基で−から三置換され得るアリールを表わし、ここに
R5及びR6は上記の意味を有し、Bはシクロアルキル
を表わすか、或いはハロゲン、シアノ、アルコキシ、ア
ルキルチオ、アルキルスルホニル、トリフルオロメチル
、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、ト
リフルオロメチルスルホニル、アルコキシカルボ二ノ呟
アシルまたはR5、R6が同一もしくは相異なり、且つ
アルキル、アリール、アラルキル、アシル、アルキルス
ルホニル ールスルホニルを表わず式−NR5R6の基、或いはカ
ルバモイル、ジアルキルカルバモイル、スルファモイル
、ジアルキルスルファモイル、ヘテロアリール、アリー
ル、アラルコキシ、アリールチオ、アリールスルホニル
、アラルコキシ、アラルキルチオまたはアラルキルスル
ホニルで置換され得るアルキルを表わし、その際に後者
の置換基のへテロアリール及びアリール基は同一もしく
は相異なるハロゲン、シアノ、トリフルオロメチル、ト
リフルオロメトキン、アルキル、アルコキシ、アルキル
チオまたはアルキルスルホニル置換基でー、二または三
置換されることができ、 Xは0、SまたはN−C’を表わし、そしてC1、C2
、C3は同一もしくは相異なり、且つ水素を表わすか、
シクロアルキルを表わすか、ハロゲン、シアノ、アルコ
キシ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、トリフルオ
ロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチル
チオ、トリフルオロメチルスルホニル、アルコキンカル
ボニル、アシルまたはR5、R6か上記の意味を有する
一NR5R’、或いはカルバモイル、ジアルキルカルバ
モイル、スルファモイル、ジアルキルスルファモイル、
ヘテロアリール、アリ−ル、アリールオキシ、アリール
チオ、アリールスルホニル、アラルコキシ、アラルキル
チオまたはアラルキルスルホニルで置換されることがで
き、ここにヘテロアリール及びアリール基は同一もしく
は相異なるハロゲン、シアノ、トリフルオロメチル、ト
リフルオロメトキシ、アルキル、アルコキシ、アルキル
チオまたはアルキルスルホニル置換基で−、二または三
置換され得るアルキルを表わすか、同一もしくは相異な
るハロゲン、アルキル、アルコキシ、アルキルチオ、ア
ルキルスルホニル、アリール、アリールオキシ、アリー
ルチオ、アリールスルホニル、トリフルオロメチル、ト
リフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、アルコ
キシカルボニルまたは R5及びR6が上記の意味を有
する式−NR’R’の基で−、二または三置換され得る
ヘテロアリールを表わすか、或いは同一もしくは相異な
るアルキル、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスル
ホニル、アリール、アリールオキシ、アリールチオ、ア
リールスルホニル、アラルキル、アラルコキシ、アラル
キルチオ、アラルキルスルホニル、ハロゲン、シアノ、
ニトロ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、
トリフルオロメチルチオ、アルコキシカルボニル、スル
ファモイル、ジアルキルスルファモイル、カルバモイル
、ジアルキルカルバモイルまたはR5及びR6が上記の
意味を有する式−NR’R’の基で−から三置換される
アリールを表わす、 の置換されたヒドロキシルアミンを製造する際に、一般
式(n) R’−CH,CH,−NH−OH(n)式中、R1は上
記の意味を有する、 のヒドロキシルアミンを不活性溶媒中で一般式([) %式%() 式中、R7は炭素原子6個までを有する直鎖状もしくは
分枝鎖状のアルキルを表わす、のエポキシドと反応させ
、次に酸の製造の場合はエステルを加水分解し、そして
塩の製造の場合は酸を対応する塩基と反応させることを
特徴とする、一般式(I)の置換されたヒドロキシルア
ミンの製造方法が見い出された。
本発明による方法は次式により説明し得る:【 これに関して適当な溶媒にはエポキシドを開環する際に
通常の有機溶媒がある。これらのものには好ましくはア
ルコール例えばメタノール、エタノール、プロパツール
、インプロパツールもしくはブタノール、エーテル例え
ばテトラヒドロフランもしくはジオキサン、或いはジメ
チルホルムアミドまたはジメチルスルホキシドが含まれ
る。アルコール例えばメタノール、エタノール、プロパ
ツールまたはインプロパツールを殊に好適に用いる。同
様に、上記溶媒の混合物を用いることができる。
更に、補助剤例えばチタン(TV)インプロピラードま
たは三フフ化ホウ素エーテラートを非プロトン性溶媒例
えば塩素化された炭化水素、好ましくは塩化メチレンま
たは芳香族炭化水素例えばトルエン、キシレンもしくは
ベンゼン中で用いることもできる。
反応は、一般に0−150°C1好ましくは20〜10
0°Cの温度範囲で行う。
一般に、反応は常圧で行う。しかしながらまた、減圧ま
たは昇圧(例えば0.5〜5バール)で行うこともでき
る。
本発明による方法を行う際に、エポキシドは一般に0.
5〜2モルの量で用いる。好ましくは数モル量の反応体
を用いる。
本発明によるカルボン酸(R= H)の製造に対し、カ
ルボキシレートを常法により一般的に加水分解する。加
水分解は一般にエステルを通常の酸を用いて不活性溶媒
中で処理することにより行い、その際に一般に本発明に
よる化合物が最初に生じ、次に第二工程において塩基で
処理することにより遊離化合物に転化し得る。
酸として通常の鉱酸、及びまたカルボン酸またはスルホ
ン酸も使用し得る。これらのものには好ましくは無機酸
例えば塩酸または硫酸、或いは適当ならばフン素、塩素
及び/または臭素で置換されていてもよい炭素原子1〜
6個を有する有機カルボン酸例えば酢酸、トリフルオロ
酢酸、トリクロロ酢酸もしくはプロピオン酸、またはC
l−C1−アルキル基を有するか、またはアリール基を
有するスルホン酸例えばメタンスルホン酸、エタンスル
ホン酸、ベンゼンスルホン酸もしくはトルエンスルホン
酸が含まれる。加水分解は殊に好ましくは塩酸を用いて
行う。
加水分解に対し、水または加水分解に通常の有機溶媒が
適している。これらのものには好ましくはアルコール例
えばメタノール、エタノール、プロパツール、インプロ
パツールもしくはブタノール、エーテル例えばテトラヒ
ドロ7ランもしくはジオキサン、或いはジメチルホルム
アミドまたはジメチルスルホキシドが含まれる。アルコ
ール例エバメタノール、エタノール、プロパツールマタ
はインプロパツールを殊に好適に用いる。同様に、上記
の溶媒の混合物を用いることができる。
第三級ブチルエステルの加水分解は水性塩酸中にて、適
当ならば溶媒例えばジオキサンまたはテトラヒトラロフ
ランを添加するか、またはハロケン化された炭化水素例
えば塩化メチレンまたはクロロホルム中でガス状塩化水
素を用いて殊に好適に行われる。
加水分解は一般に0〜100°C1好ましくは20〜8
0°Cの温度範囲で行う。
一般に、加水分解は常圧で行う。しかしながらまた、減
圧または昇圧(0,5〜5バール)で行うこともできる
。
出発物質としてもちいられる一般式(III)のエポキ
シドは公知であり [J、ムゲル(Muggel)及び
O,ポーグル(Vogl)、J 、 Polym、 S
ci。
Polym、 Chem、 Ed、  22.2501
−21(1984);s、ブーツ(B oots)及び
M、R,ブーツ(B oots)、J 、 Pharm
、 Sci、 64.1262〜1264 (1975
)]、そして例えば]ブドー3−エノン酸エステと過酸
との反応により製造し得る。
挙げ得るエポキシドの例には次のものがある:L−ブチ
ル3,4−エポキンブチレート、メチル3.4−エポキ
シブチレート、エチル3,4−エポキシブチレート、プ
ロピル3,4−エポキシブチレート、イソプロピル3.
4−エポキシブチレート、イソブチル3.4−エポキシ
ブチレート及びn−ブチル3.4−エポキシブチレート
。
出発物質として用いる式(「)のヒドロキシルアミンは
新規である。
一般式(II) R’−CH2CH2−NH−OH(II)式中、R1は
水素を表わすか、生理学的に許容し得るエステル基を表
わすか、または生理学的に許容し得る陽イオンを表わす
、 のヒドロキシルアミンを製造する際に、第一工程で一般
式(rV) R−CHO(IV) 式中、Rは上記の意味を有する、 のアルデヒドを不活性溶媒中にて適当ならば補助剤の存
在下でニトロメタンと反応させ、続いて第二工程で得ら
れた一般式(V) R−CH=CHNO2(V) のニトロ化合物を適当ならば補助剤の存在下で還元する
ことを特徴とする、一般式(■)のヒドロキシルアミン
の製造方法か見い出された。
本発明による方法は次式により表わし得る:第−工程に
対し、溶媒として反応条件により変化しない通常の有機
溶媒を用いる。これらのものには好ましくは水またはア
ルコール例えばメタノール、エタノール、プロパツール
もしくはインプロパツール、またはエーテル例えばジエ
チルエーテル、ブチルメチルエーテル、ジオキサン、テ
トラヒドロフランもしくはグリコールジメチルエーテル
、またはハロゲン化された炭化水素例えば塩化メチレン
、クロロホルムもしくは四塩化炭素、または炭化水素例
えばベンゼン、トルエン、キシレンもしくは鉱油フラク
ション、またはアミド例えばジメチルホルムアミドもし
くはヘキサメチルリン酸トリアミド、或いはジメチルス
ルホキンド、酢酸、トリフルオロ酢酸またはニトロアル
カンが含まれる。同様に、上記溶媒の混合物を用いるこ
とができる。
補助剤として酸または塩基が適している。塩基としてア
ルカリ金属水酸化物またはアルカリ土金属水酸化物例え
ば水酸化ナトリウム、水酸化カリウムもしくは水酸化バ
リウム、またはアルカリ金属炭酸塩例えば炭酸ナトリウ
ムもしくは炭酸カリウム、またはアルカリ金属アルコラ
ード例えばナトリウムメチラート、ナトリウムエチラー
ト、カリウムメチラート、カリウムメチラート、カリウ
ムエチラート、カリウムt−ブチラードまたはアンモニ
アもしくは酢酸アンモニウム、或いは有機アミン例えば
ジエチルアミン、トリエチルアミン、ジイソプロピルア
ミン、トリプロピルアミン、ピリジン、ピペリジン、モ
ルホリン、N、N−ジメチルアミノピリジン、DBN、
DBU、エチレンジアミンまたはN、N−ジメチルエチ
レンジアミンを好適に用いる。
酸として無機酸例えば塩酸または硫酸或いは適当ならば
フッ素もしくは塩素で置換される炭素原子1〜6個を有
する有機カルボン酸例えばギ酸、酢酸、プロピオン酸、
クロロ酢酸、トリクロロ酢酸もしくはトリフルオロ酢酸
、またはスルホン酸例えばメタンスルホン酸、エタンス
ルホン酸、ベンゼンスルホン酸もしくはトルエンスルホ
ン酸を好適に用いる。
末法の第一工程を溶媒として酢酸中にてピペリジンまた
は酢酸アンモニウムの存在下か、または溶媒としてのニ
トロメタン及び触媒としてのエチレンジアミン中で行う
ことが殊に好ましいことが分った。
末法の第一工程は一般に0〜150°C1好ましくは2
0〜100°Cの温度範囲で行う。
反応は常圧、昇圧または減圧下(例えば0.5〜5バー
ル)で行い得る。一般に、反応は常圧で行う。
末法の第一工程を行う際に、一般にアルデヒド1モルに
対してO,l−100、好ましくは0゜5〜1OO1殊
に好ましくは1〜60モルの量のニトロメタンを用いる
。
本発明による工程段階は一般に適当ならば適当な溶媒中
で、適当ならば塩基を用い、そして適当ならば加熱しな
がらアルデヒドとニトロメタンを混合することにより行
う。処理は常法で抽出、クロマトグラフィー及び/また
は結晶化により行う。
反応の第二工程における還元は不活性溶媒中にて還元剤
としてBH,を用い、適当ならば触媒として他の水素化
物の存在下で行う。
ここに不活性溶媒としてエーテル例えばジエチルエーテ
ル、ジオキサンもしくは好ましくはテトラヒドロフラン
、または炭化水素例えばベンゼン、l・ルエン、キンレ
ン、ヘキサンもしくはシクロヘキサンが適している。
触媒として金属水素化物例えば水素化ホウ素ナトリウム
、水素化ホウ素リチウムまたはシアノ水素化ホウ素ナト
リウムが殊に適している。
還元はBH,を用いてテトラヒドロフラン中にて触媒量
の水素化ホウ素ナトリウムの存在下で殊に良好に行い得
る。
還元は一般に一78〜40℃、好ましくは一20°Cか
ら室温の温度範囲で行う。
本発明による方法は一般に常圧で行う。しかしながらま
た、末法を減圧または昇圧で行うことができる(例えば
0.5〜5バールの範囲)。
一般に、還元剤はケト化合物1モルに対して1〜5モル
、好ましくは1〜2モルの量で用いる。
出発物質として用いるアルデヒドは公知であるか、また
は公知の方法により製造し得る[G、E。
ストツ、カー(S tokker)ら、J 、 Med
、 Chem。
29、+70、(1986);ヨーロッパ特許第221
.025号:米国特許第4,668.794号;同第4
,613.610号;ヨーロッパ特許第114,027
号1゜ 本発明により使用し得るアルデヒドには例えば次のもの
がある:4′−フルオロー3.3’ 、5−トリメチル
−1,l’ −ビフェニル−2−カルボキシアルデヒド
、4′−フルオロ−3,5−ジメチル−1,t’ −ビ
フェニル−2−カルボキンアルデヒド、3.5−ジクロ
ロ−4′ −フルオロ−1,ビ −ビフェニルー2−カ
ルボキシアルデヒド、3−(4’−フルオロフェニル)
−1−イソプロピルインドール−2−カルボキシアルデ
ヒド、3−(4’−フルオロフェニル)−18−インデ
ン−2−カルボキシアルデヒド、3− (4’−フルオ
ロフエニル)−3−イソプロピル−1−フェニル−II
]−ピラゾール−4−カルボキシアルデヒド、5− (
4’−フルオロフェニル)−3−イソプロピル−1−フ
ェニル−IH−ピラゾール−4−カルボキシアルデヒド
、4− (4’ −フルオロフェニル)−1−イソプロ
ピル−2−フェニル−IH−イミダゾール−5−カルボ
キシアルデヒド、1−(4’−フルオロフェニル)−4
−イソプロピル−2−フェニル−IH−イミダゾール−
5−力ルポキシアルデヒド、3−(4−フルオロフェニ
ル)−5−イソプロピル−1−メチル−2−フェニル−
ピロール−4−カルボキシアルデヒド、2−ホルミル−
1−(4−フルオロフェニル)−3−イソプロピル−5
−フェニルピロール、2−ホルミル−3−(4−フルオ
ロフェニル)−1−イソプロピル−5−フェニルピロー
ル、2−ホルミル−3−(4−フルオロフェニル)−1
゜5−ジイソプロピル−47xニルピロール、3−ホル
ミル−4−(4−フルオロフェニル)−2−イソプロピ
ル−5−フェニルフラン、3−ホルミル−4−(4−フ
ルオロフェニル)−2−イソプロピル−5−フェニルチ
オフェン、2−t−7’チル−3−ホルミル−4−(4
−フルオロフェニル)−5−フェニル7ラン、3−ホル
ミル−4=(4−フルオロフェニル)−2,5−ジフェ
ニルチオフェン、3−ホルミル−2−(4−フルオロフ
ェニル)−5−メチル−■−フェニルー4−インプロピ
ルピロール、3−ホルミル−2−(4−フルオロフェニ
ル)−5−メチル−1−(2,6−シメチルフエニル)
−4−イソプロピルピロール、3−ホルミル−2−(4
−フルオロフェニル)−1−ベンジル−4−イソプロピ
ル−5−メチルピロール 、4−(4−クロロフェニル
)−3−ホルミル−2−イソプロピル−1−メチル−5
−フェニルピロール、3−ホルミル−4−(4−フルオ
ロ−3−フェノキシフェニル)−2−イソプロピル−1
,5−ジメチルピロール、3−ホルミル−4−(4−フ
ルオロ−3−フェノキシフェニル)−2−イソプロピル
−5−フェニルピロール、3−ホルミル−4,5−ビス
−(4−フルオロフェニル)−2−イソプロピル−1−
メチルピロール、3− [3−(4−フルオロベンジル
オキシ)] ]フェニルー3−ホルミルー2−イソプロ
ピル1−メチル−4−フェニル、4−(4−フルオロフ
ェニル)−3−ホルミル−2−イソプロピル−5−フェ
ニルピロール、4−(4−フルオロフェニル)−3−ホ
ルミル−1,2−ジイソプロピル−5−フェニルピロー
ル、4−(4−フルオロフェニル)−3−ホルミル−2
−イソプロピル−1−(4−メトキシフェニル)−5−
フェニルピロール、■−(3−ベンジルフェニル−4−
(4−フルオロフエニル)−3−ホルミル−2−イソプ
ロピル−5−メチルピロール。
本発明による置換されたヒドロキシルアミンは人間及び
動物の治療的処6に対する薬剤に使用し得る。好ましく
は、これらのものは3−ヒドロキシ−3−メチル−グル
タリル補酵素A (HGM・CoA)の阻害剤及びコレ
ステロール生合成の阻害剤として使用し得る。従ってこ
れらのものは過脂肪蛋白血症またはアテローム性動脈硬
化症の治療に対して使用し得る。
新規の活性化合物は不活性で、無毒の、製薬学的に適す
る賦形剤または溶媒を用いて公知の方法で通常の調製物
例えば錠剤、糖衣丸、丸剤、顆粒、エアロゾル、シロッ
プ、乳化剤、懸濁剤または液剤に転化し得る。この場合
、治療的に活性な化合物は各々の場合に全混合物の約0
.5〜98重量%、好ましくは1〜90重量%の濃度、
即ち所定の投与範囲量を達成するに十分な量で存在すべ
きである。
調製物は例えば適当ならば乳化剤及び/または分散剤を
用いて活性化合物を溶媒及び/または賦形剤で増量する
ことにより調製し、その際に例えば希釈剤として水を用
いる場合、適当ならば補助溶媒として有機溶媒を使用し
得る。
挙げ得る補助剤には例えば次のものがある:水、無毒性
有機溶媒例えばパラフィン(例えは鉱油フラクション)
、植物油(例えは落花生/ゴマ油)、アルコール(例え
ばエチルアルコール、グリセリン)、賦形剤例えば粉砕
された天然鉱物(例えばカオリン、アルミナ、タルク、
チョーク)、粉砕された合成鉱物(例えば高分散性シリ
カ、ケイ酸塩)、糖(例えばショ糖、ラクトース及びデ
キストロース)、乳化剤(例えばポリオキシエチレン脂
肪酸エステル、ポリオキシエチレン脂肪アルコールエー
テル、アルキルスルホイ、−ト及びアリールスルホネー
ト)、分散剤(例えばリグニル−亜硫酸排液、メチルセ
ルロース、でん粉及びポリビニルピロリドン)並びに潤
滑剤(例えばステアリン酸マグネシウム、タルク、ステ
アリン酸及びラウリル硫酸ナトリウム)。
投与は常法により好ましくは経口、非経口、舌下または
静脈内で行う。経口用途の場合、勿論錠剤は上記の賦形
剤に加えて種々の添加剤例えばでん粉、好ましくはジャ
ガイモでん粉、ゼラチンなどと一緒に添加剤例えばクエ
ン酸ナトリウム、炭酸カルシウム及びリン酸二カルンウ
ムも含むことかできる。更に加えて、潤滑剤例えばステ
アリン酸マグネシウム、ラウリル硫酸ナトリウム及びタ
ルクを錠剤成形に使用し得る。水性懸濁剤の場合、活性
化合物は上記の補助剤に加えて種々の香料改良剤または
着色剤と共に使用し得る。
非経口的使用の場合、適当な液体賦形剤を用いる活性化
合物の液剤を使用し得る。
一般に、静脈内投与に関しては効果的な結果を得るため
に約0.001−11好ましくは約0゜O1〜0.5m
g/kg体重であることが有利であることか分った。
このことにもかかわらず、体重または使用経路のタイプ
、薬剤に対する個々の挙動、その調製物のタイプ及び投
与が行われる時間または間隔に依存して上記の量と異な
る必要があり得る。かくて、ある場合に上記の最少量よ
り少量で十分であることがあり、一方他の場合に上記の
上限を越えなげればならない。大量の投与の場合、−日
数回に分割することが推奨され得る。
製造実施例 実施例 1 l−(4−フルオロフェニル)−4−メチルペント−1
−エン−3−オン 15%水酸化ナトリウム溶液75mQをメタノール30
0m4中の新たに蒸留した4−フルオロベンズアルデヒ
ド198.4g (1,6モル)及びメチルイソプロピ
ルケトン137.6g (1゜6モル)に滴下しなから
加え、そして室温で一夜撹拌した。次に混合物を酢酸1
0rr+I2を用いて中和し、水IQを加え、そして混
合物をエーテル500rylで2回抽出した。−緒にし
た有機相を飽和声化ナトリウム溶液500mQで洗浄し
、そして硫酸ナトリウム上で乾燥した。溶媒を除去した
後、残渣を高真空下で蒸留した。
収全:帯黄色油198.6g (理論値の65%)沸点
:103°C!(0,3ミリバール)’HNMR(CD
C13):δ=1.2(d、 6H,CH3);2.9
(七重線、 IH,CH −(CH3)2);6.8(d、 It(、オレフィン
性−〇);7.1(m、 2H。
芳香族性−H);7.6(m、 3H。
芳香族性−H+オレフィン 性−11)。
実施例 2 2−(4−フルオロフェニル)−5−メチル−1−フェ
ニルヘキサン−1,4−ジオン」 (き 、「シ(、;ti  k:ti2−に−CH−C
H3ジメチルホルムアミド500m4中の新たに蒸留し
たベンズアルデヒド110g (1,04モル)の溶液
をジメチルホルムアミド500m+2中のシアン化ナト
リウム10.2g (0,21モル)に35°Cで滴下
しながら30分間にわたって加え、そしてこの温度で更
に5分間撹拌した。次にジメチルホルムアミド500m
+2中の1−(4−フルオロフェニル)−4−メチル−
ベント−1−エン−3−オン(実施例1)150g (
0,78モル)を1.5時間にわたって加え、そして混
合物を更に1時間撹拌し、その際に温度を35°Cで一
定に保った。
水1.5ffを加えた後、混合物をクロロホルム各50
0mQを用いて4回抽出し、−緒にした有機相を0. 
OIM  H2S0t800rrl 、飽和炭酸水素ナ
トリウム溶液800m+2及び水1.5Qで洗浄し、そ
して硫酸マグネシウム上で乾燥した。
溶媒を除去した後、残渣を高真空下で蒸留した。
収量:無色油167g (理論値の72%)沸点=16
5°C!(0,1ミリバール)、徐々に結晶化した。
融点;54〜55℃ ’ HN M R(CD CI3):δ=1.08(d
、 3H,CH,):1.12(d、 3H,CH,)
;2.65(七重線、IH,CH−(CH3)z);2
−7(dd、 IIL −Co−CHz−CH);3.
6(dd、 IH,H−C−C6H,−F);6.95
(m、 2H,芳香族性−H);7.23(m、 21
(、芳香族性−H);7.4(m、 311.芳香族性
−H);7.95(m、 2H,芳香族性−H)。
実施例 3 3−(4−フルオロフェニル)−1,5−ジイソプロピ
ル−2−7工ニルピロール トルエン200mQ中の四塩化チタン569(0,29
モル)の溶液をトルエン300mQ中の実施例2の化合
物80g (0,27モル)及びイソプロピルアミン9
69  (1,63モル)にlOoCで滴下しながら加
え、そして室温で5時間撹拌した。混合物をケイソウ出
土で濾過し、熱トルエンで洗浄し、そして有機相を水、
lN塩酸及び飽和炭酸水素ナトリウム溶液を用いて抽出
した。!・ルエンを除去した後、残った残渣を石油エー
テルから結晶化した。
収量:無色結晶51g。
融点=147°C 実施例 4 3−(4−フルオロフェニル)−4−ホルミル−1,5
−’;イソプロピルー2−フェニルピロール オキシ塩化リンl1g (0,12モル)をジメチルホ
ルムアミド140g (1,92モル)中の実施例3の
化合物38.6g (0,12モル)の懸濁液に注意し
て滴下しながら加え;すべでの成分が溶解するまで混合
物を室温で1時間、次に60°Cで30分間撹拌した。
溶液を冷0.IN水酸化ナトリウム溶液112に注ぎ、
更にIN水酸化ナトリウム溶液150m(2を加え、そ
して混合物を室温で15分間撹拌した(pH7)。この
ものをジクロロメタン各250mQで4回抽出し、有機
相を飽和炭酸水素ナトリウム溶液及び水苔300mQで
洗浄し、そして硫酸ナトリウム上で乾燥した。
生成物を蒸発させて結晶性スラリーを生成させ、このも
のはエタノールから数回結晶化させた場合に帯黄色結晶
35g (85%)を生じさせた。
融点−197℃ 実施例 5 1[3−(4−フルオロフェニル)−1,5−ジイソプ
ロピル−2−フェニルピロル−4−イル1−2−二トロ
エテン 実施例4の化合物18.1g (51,8ミリモル)を
ニトロメタン140g中で1.2−ジアミノエタン0.
53g (8,83ミリモル)と共に75℃で1.5時
間撹拌した。冷却した後、生成物を炉別し、そして石油
エーテルで洗浄した。
収量:黄色結晶19.89 (理論値の97%);融点
256°C(ジクロロメタン及び石油エーテルから結晶
化)。
IH−NMR(CD CI3):δ=1.45(d、6
H,C−イソプロピル−〇〇、);1.6(d、 6H
。
N−イソプロピル−C1h);3.6 (七重線、 LH,C−イングロ ビルー〇);4.9(七重線、IH。
N−イソプロピル−H);6.5(d。
IH,オレフィン性−■)− 6,8−7,3(m、 9H,芳香族性−H):8.4
Cd、 IH,オレフィン性−H)。
実施例 6 N−(2−[3−(4−フルオロフェニル)−1,5−
ジイソプロピル−2−7xニルピロル−4−イル]エチ
ル) ヒドロキシルアミン温テトラヒドロ7ラン20O
rrl中の実施例5の化合物30g (76,5ミリモ
ル)の溶液をアルゴン雰囲気下にて0℃でテトラヒドロ
フラン中のINホウ酸溶液19.1m(2(0,19モ
ル)に滴下しながら加え;次にヒドロヨウ化ホウ酸ナト
リウム0,5gを加え、そして混合物を室温で2時間撹
拌した。次に冷水180mQを滴下しながら注意して加
え、そして混合物を還流下で1時間沸騰させた。混合物
を6N水酸化ナトリウム溶液10mf2を用いてpH1
3に調整し、酢酸エチル各200mffで3回抽出し、
−緒にした有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして
乾固するまで蒸発させた。残渣を主生成物が最低のRf
−値で溶出するまでジクロロメタン、ジクロロメタン/
メタノール(10:l)及びジクロロメタン/メタノー
ル/濃度アンモニア(100:10:l)を用いてシリ
カゲル(230〜400メツシユ)500g上でクロマ
トグラフにかけた。
収量:融点182°Cの無色結晶(ジクロロメタン/メ
タノールから結晶化)13.5g (理論値の46%)
。
’H−NMR(CDCI、):δ二1.4(m、 12
H,イソプロピル−CH5);2.7(m、 4H。
CH2);3.4(七重線、 IH,C−イソプロピル
−H);4.45(m。
IH,N−イソプロピル−H): 4.9(b、 2H);0.8−7.3(m、 9H。
芳香族性−H)。
実施例 7 N−(2−[3−(4−フルオロフェニル)−1.5−
’;イソプロピルー2−フェニルピロル−4−イル]エ
チル)−N−(3−第三級ブトキン力ルポニル−2−ヒ
ドロキシプロピル)ヒドロキシルアミン 実施例6の化合物0.9g (2,37モル)を無水エ
タノール30m12中の第三級ブチル3,4−エポキシ
ブチレート0.37g (2,37ミリモル)と共に還
流下で24時間加熱した。溶媒を除去した後、残渣を石
油エーテル/酢酸エチル5:1を用いて直径1.5cm
のカラム中のシリカゲル230〜400メツシユ50g
上でクロマトグラフにかけた。無色泡状物0.9gが得
られた。
’H−NMR(CDCl2):δ=1.45(s、 9
H,t−ブチル);2.3(d、 2H,Ct(z−G
OOR);2.45−2.65(m、 4H,CH2)
;2.9(m、 2H,CH2);3.4(m、 b。
2H,C−イソプロピル−Hand OH);4.15(m、 IH,H−C−OH);4.
45(七重線、 ill、 N−イソプロピル−H);
4.95(b、 IH。
OH);6.8−7.25(m、 9tl、芳香族性−
H)。
実施例 8 N−(2−[3−(4−フルオロフェニル)−1,5−
ジインプロピル−2−フェニルピロル−4−イル]エチ
ル) −N−(3−カルボキシ−2−ヒドロキシプロピ
ル)ヒドロキシルアミン塩酸塩 実施例7の化合物1.25g (2,32ミリモル)を
lN塩酸70mff中にて還流下で3時間加熱した。濃
縮した後、残渣を五酸化リン上で乾燥し tこ。
収量:少々着色した泡状物1.179  (98%)。
Rf:0.4[シリカゲル上にてクロロホルム/メタノ
ール(2: l) ] ’t(NMR(CDC1t):δ=1−4(m、 12
H,イソプロピル−CH5);22−35(、2H。
CH2);3.4(m、 IH,C−イソプロピル−H
);4.45(m、 IH,N−イソプロピル−11)
;3.9−5.2(b、 OH,NH,(HO)−CH
)。
実施例 9 I−エチル−3−(4−フルオロフェニル)−5−イソ
プロピル−2−フェニルピロールCH。
十分なエタノールを透明な溶液を生じさせる50%水性
エチルアミン2SmC中の実施例2の化合物8.2g 
(27,5ミリモル)の沸騰した混合物に加え、そして
混合物を還流下で1時間加熱した。エタノールを除去し
、残液を水及びクロロホルム間に分配し、有機相を飽和
塩化ナトリウム溶液で洗浄し、そして硫酸ナトリウム上
で乾燥した。
乾固するまで濃縮した後、融点110℃の無色の結晶4
.5g (53%)が得られた。
’HNMR(CDC13):δ=1.l(t、 3H,
CH3)。
1.35(d、 6H,イソプロピル−CH,);3.
0(七重線、 IH,イソプロピル−H);3.85(
q、 2H。
CH2);6.+5(S、 IH,4−H);6.7−
7.4(m、 9H,芳香族性−H)。
実施例 1O N−(2−[1−エチル−3−(4−フルオロフェニル
)−5−イソプロピル−2−フェニルピロル−4−イル
]エチル) −N−(3−第三級ブトキシ力ルポニル−
2−ヒドロキシプロピル)塩酸塩 CH。
実施例4〜7と同様に実施例9の化合物から本化合物が
得られた。無色泡状物。
’HNMR(CDC13):δ= ]、1(t、3H,
CH2−CH5)il、45(m、 15H,インプロ
ピ ル−CH,及び第五級ブチル− CH5);2.35(d、 2H,CH2−Co。
R);2.55−2.9(m、 6H,CH2);33
−2(、IH,イソプロピル− H);3.9(q、 2H,CH2−CH,);4.1
5(m、 111. CHO)−CH):6.8−7.
3(m、 9H,芳香族性−H)。
実施例 11 N−(2−[1−エチル−3−(4−フルオロフェニル
)−5−イソプロピル−2−フェニルピロル−4−イル
]エチルl −N−(3−カルボキシ−2−ヒドロキシ
プロピル)ヒドロキシルアミン塩酸塩 ■ CHl 実施例8と同様に実施例10の化合物から本化合物が得
られた。無色泡状物。
Rf=0.2 (りOロホルム/メタノール5:1)実
施例 12 3−(4−フルオロフェニル)−5−イソプロピル−1
,2−ジフェニルピロール 2−(4−フルオロフェニル)−5−メチル−1−フェ
ニルヘキサン−1,4−ジオン(実施例2)10.19
  (34ミリモル)及びアニリン9゜39  (10
2ミリモル)をp−トルエンスルホン酸500mgを添
加しながらトルエン150m12中で水分離器中にて還
流下で24時間加熱した。
冷却し、そして酢酸エチルで希釈した後、混合物をIN
塩酸及び次に炭酸水素ナトリウム溶液で洗浄し、硫酸マ
グネシウム上で乾燥し、そして真空中で濃縮した。次に
残渣をシリカゲル上でクロマトグラフにかけた。
収量:4.4g (理論値37%) ’H−NMR(CDCl2):δ= 1.17(d、 
6H);2.70(七重線、 IH);6.28(s、
 1it);6.80−7.30(m、 14H)。
実施例 13 N−(2−[3−(4−フルオロフェニル)−5−イソ
プロピル−1,2−ジフェニルピロル−4−イル)エチ
ルl −N−(l第三級ブトキシカルボニル−2−ヒド
ロキシプロピル)−ヒドロキシルアミン 実施例4〜7と同様に実施例12の化合物から本化合物
が得られた。無色泡状物。
’H−NMR(CDC1,):δ工1.25(d、 6
H,イソプロピル−CL);1.45(s、 9H。
t−ブドーC)I、)沼、4(d、  211゜CH2
−GOOR);2.5−2.75(m、 4H。
CH2);2.95(m、 2H,CI+2及びイソプ
ロピル−H)、3.3(b。
ltl、 OH);4.15(m、 IH,(OH)−
CH);5.1(b、 IH,0f();6.7−7.
35(m、 14H,芳香族性−IO0実施例 14 N−(2−[1〜エチル−3−(4−フルオロフェニル
)−5−イソプロピル−2−7エニルビロルー4−イル
]エチルl −N−(3−カルポキシー2−ヒドロキシ
プロピル)ヒドロキシルアミン塩酸塩 実施例8と同様に20%ジオキサンを含むIN塩酸を用
いて実施例13の化合物から本化合物が得られた。
無色泡状物。
Rf=0.3 (クロロホルム/メタノール3:l)実
施例 15 N−[2−(2,4−ジメチルフェニル)エチル]−N
−(3−カルボキシ−2−ヒドロキシプロピル)ヒドロ
キシルアミン塩酸塩 H CH3 実施例5〜8と同様に2.4−ジメチルベンズアルデヒ
ドから本化合物が得られた。
無色泡状物。
’H−NMR(da−DMSO+ D20):δ= 2
.2(m、 6H,C)13);2.45(m、 DM
SO信号と重複。
CH2);2.95(m、 2H,CH2);33−3
5(、4H,CH2);44−3(。
IH,HO−CH);7.0(m、 3H,芳香族性−
H)。
実施例 16 N−[2−(2,4−ジメチルフェニル)エチル] −
N−(3−メトキシカルボニル−2−ヒドロキシプロピ
ル)ヒドロキシルアミン OHOH CH。
実施例15からの化合物50mg (0,19ミリモル
)を濃塩醜3滴を含むメタノール5m12中にて還流下
で2時間加熱した。混合物を乾固するまで濃縮し、残渣
を酢酸エチル及び炭酸水素ナトリウム溶液間に分配し、
有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして溶媒を真空
中で除去した。
収量:無電池40mg (75%)。
MS :m/e=281(15%、Mつ);233(2
05、M−CH40);162(100%、M  Cs
H+ +)。
実施例 17 N−[2−(2,4−ジクロロフェニル)エチル] −
N−(3−第三級ブトキシ力ルポニル−2−ヒドロキシ
プロピル)ヒドロキシルアミンOHOH0 11I CH2CH□−N−CH2−CH−CH2−C−0−C
(CHs)x運 ■ CI 実施例5〜7と同様に2.4−ジクロロベンズアルデヒ
ドから本化合物が得られた。
無電池。
’ HN M R(CD C+i):δ= 1.45(
s、9H,C(CH3)z);2.4(d、  2!)
(、CH2);2.5(d。
2H,CI(z);3.0(m、4H,CHz);4.
3(m、  IH,HO−CH);5.9(b。
IH,OH);7.15−7.3(m、  3H。
芳香族性−H)。
実施例 18 N−[2−(2,4−ジクロロフェニル)エチル] −
N−(3−カルボキシ−2−ヒドロキシプロピル)ヒド
ロキシルアミン塩酸塩 HOH 実施例8と同様に実施例17の化合物から本化合物が得
られた。
元素分析: 計算値: C41,8H4,7CI 30.9 N 4
.1実測値: C41,4H4,8CI 30.0 N
 4゜0実施例 19 N−[2−(4″−フルオロ−3,5−ジメチル−11
1′−ビフェニル−2−イル)エチル]−N−(3−第
三級ブトキシ力ルポニル−2−ヒドロキシプロピル)ヒ
ドロキシルアミンOFI  OH CH3 実施例5〜7と同様に4′−フルオロ−3,5−ジメチ
ル−1,ビ −ビフェニルー2−カルボキシルアルデヒ
ド[G、E、ストッカー(S 1okker)ら、J 
、 Med、 Chem、  29.170(1986
)]から本化合物が得られた。
’H−NMR(CDCl2):δ= 1.45(S、9
H,C(CH3)5);2,25−2.4(m、 8H
,C113及びC1l□);2.55(m、2H,CH
2);2.65(m、 2H,CH2);2.8(m。
2H,CI□);3.6(b、 IH,OH)。
4.15(m、 IH,HO−CH);4.9(b。
IH,OH);6.8−7.3(m、 6H。
芳香族性−H)。
実施例 2O N−[2−(4’−フルオロ−3,5−ジメチル−1,
1゛−ビアエン−2−イル)エチル]−N−(3−カル
ボキシ−2−ヒドロキシプロピル)ヒドロキシルアミン
塩酸塩 OHOH 実施例8と同様に実施例19がら本化合物が得られた。
無色油。
Rf=0.38 (クロロホルム/メタノール4:実施
例 21 2−(4−フルオロ−3−フェノキシ−ベンジリデン)
−4−メチル−3−オキソペンタカルポン酸エチル 1じ、1 ピペリジン2.8m(2(29ミリモル)及び酢酸1.
7rrJ  (29ミリモル)をインプロパツール30
0m12中の4−メチル−3−オキソ−ペンタカルボン
酸エチル[S、B、ソロウェイ(Sol−oway)及
びF、B、う・7オージ(La Forge)、ジャー
ナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサイアテ(−(
J 、 Am、 Chem、 Soc、) 69.26
77 (1947)の方法と同様にメチルイソプロピル
ケトンから製造] 79g (0,5モル)及び4−フ
ルオロ−3−フェノキシ−ベンズアルデヒド108g 
(0,5モル)の溶液に加え、そして室温で一夜撹拌し
た。次に混合物を濃縮し、残渣をエーテル500m12
中に取り入れ、水で2回及び飽和塩化ナトリウム溶液で
1回洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして溶媒を
除去した。
最後のフラクションが185℃及び0.3ミリバールで
留出するまで残渣を高真空下で蒸留した。
すべての留出液(44g)を排棄した。蒸留残渣は帯褐
色油の生成物(144,7g、81%)を含み、このも
のを精製せずに更に反応させた。
Rf=0.25 (石油エーテル/酢酸エチルlO:l
)。
実施例 22 3−エトキシカルボニル− −3−フェノキシ−フェニル)−5−メチル−l−7エ
ニルヘキサンー1.4−ジオン 実施例21の化合物142.49 (0,4モル)をエ
タノール27(]tn4中のベンズアルデヒド42.4
9  (0,4モル)、塩化3−ベンジル−5−(2−
ヒドロキシエチル)−4−メチルチアゾリウム10.8
g (0,04モル)及びトリエチルアミン33mQと
共に還流下で一夜撹拌した。
溶媒を真空中で除去し、残渣をクロロホルムに溶解し、
lN硫酸、水及び炭素水素ナトリウム溶液で2回洗浄し
、そして硫酸ナトリウム上で乾燥した。乾固するまで濃
縮した後、帯黄色消185゜29が残った。粗製生成物
は更に処理するために十分に純粋であった。
Rf=0.17 (石油エーテル/酢酸エチルlO:l
) 実施例 23 3−エトキンカルボニル−4−(4−フルオロ−3−フ
ェノキシフェニル)−2−イソプロピル−5−フェニル
フラン 実施例22からの化合物185g (0,4ミlJモル
)をトルエン2Q中のp−トルエンスルホン酸水利物1
5.2g (0,05モル)と共に水分離器中にて2.
5時間沸騰させた。水7mQが混合物から分離した。冷
却した後、混合物を飽和炭素水素ナトリウムで2回及び
塩化ナトリウム溶液で1回洗浄し、硫酸ナトリウム上で
乾燥し、そして乾固するまで濃縮した。残渣をエタノー
ルから再結晶した。
収量:無色結晶57.9g (33%)。
融点=99°C ’H−NMR(CDC13):δ=1.l(t、 3H
,0−CH□−CHl);1.35(d、 6H,イソ
プロピル−CHl3);3.8(七重線。
18、イソプロピル−H);4.15 (Q、 2H,0−CH2−CHl);6.l−7,3
5(m、 13H,芳香族性−H)。
実施例 24 4−(4−フルオロ−3−フェノキシフェニル)−3−
ヒドロキシメチル−2−インプロピル−5=7二二ルフ
ラン トルエン中の1.2M水素化ジイソブチルアルミニウム
溶液70mQ  (84ミリモル)をアルゴン雰囲気下
にて一78°Cで温度が一65℃を越えないように無水
トルエン350ryl中の実施例23からの化合物31
g (70ミリモル)の溶液に滴下しながら徐々に加え
た。−70°Cで1時間撹拌した後、更にD I BA
H溶液58m(1(70ミリモル)を加え、そして混合
物を更に1時間撹拌した。次にIN@酸240m++を
約−30°Cで滴下しながら加え、そして最後に水40
0m(2及び酢酸エチル200mQを加え、その結果混
合物は室温に加熱された。水相を酢酸エチル250m(
1で3回抽出し、洗浄した有機相を水400mQ及び飽
和塩化ナトリウム溶液400mQで洗浄し、そして硫酸
ナトリウム上で乾燥した。溶媒を除去し、そして残渣を
高真空下で乾燥した。
収fl:27.2g (97%) 無色結晶 融点=157°C 実施例 25 4−(4−フルオロ−3−フェノキ/フェニル)−3−
ホルミル−2−イソプロピル−5−フェニルフラン ジクロロメタン90mQ中の無水トリフルオロ酢酸13
.8m+2  (97ミリモル)の溶液を無水ジクロロ
メタン7OmQ中のジメチルスルホキシド9.2rrl
  (1’30ミリモル)に−70〜−65°Cで滴下
しながら加え、そして混合物をこの温度で10分間撹拌
した。次にジメチル500m12に溶解した実施例24
からの化合物26.1g (665ミリモル)を滴下し
ながら加え、そして混合物を一65°Cで更に1時間撹
拌した。トリエチルアミン26.9m12  (195
ミリモル)を加え、そして混合物を同じ温度で更に10
分間保持した。
室温に加温後、混合物を飽和炭素水素ナトリウム溶液及
び塩化ナトリウム溶液で洗浄し、そして溶媒を真空中で
除去した。残渣をエタノールと共に沸騰させた後、融点
137°Cの無色固体17.6g (68%)が残った
。エタノール性溶液を冷却することにより、更に融点1
38℃のもの5.6g (21%)か生成された。
’H−NMR(CDCl2):δ−1,4(d、 6H
,イソプロピル−CD5);3.7(七重線。
IH,イソプロピル−〇);6.9− 7.4(m、 14H,芳香族性−H);9.8(s、
 LH,CHO)。
実施例 26 N−(2−[4−(4−フルオロ−3−フェノキシフェ
ニル)−2−イソプロピル−5−フェニルフラン−3−
イル]エチル) −N−(3−第三級ブトキシ力ルポニ
ル−2−ヒドロキシプロピル)ヒドロキシルアミン 実施例5〜7と同様に実施例25の化合物から本化合物
が得られた。
無色泡状物。
’H−NMR(CDC13):δ=1.3(d、 6H
,イソプロピル−CD5);1.45(S、 98゜t
−ブチル−CD5);2.4(d、 2H。
CHz);2.6(m、 6H,CH2);3.1(m
、 IH,イソプロピル−H); 3.4(b、 IH,OH);4.2(IH。
HO−CI();5.2(b、 LH,OH);6.9
−7.4(m、 14H,芳香族性−H)。
実施例 27 N−f2− [4−(4−フルオロ−3−フェノキシフ
ェニル)−2−イソプロピル−5−フェニルフラン−3
−イル]エチルl −N−(3−カルボキシ−2−ヒド
ロキンプロピル)ヒドロキシルアミン塩酸塩 実施例8と同様に実施例26の化合物から本化合物か得
られた。
固体の無色泡状物。
’H−NMR(D6−DMSO):δ=1.3(d、 
6H,イソプロピル−CHz);22−4(,0M5O
信号と重複、CHz);2.8(m。
2+1. CH2);3.0−3゜3(b、 H20信
号と重複、 CI(2);4.25(b。
LH,HOCH);5.4(極めてす。
IH,OH);6.9−7.6(m、  14H。
芳香族性−H)。
実施例 28 N−(2−[4−(4−フルオロフェニル)−2−イソ
プロピル−5−フェニルチオフェン−3−イル1エチル
)−N−(3−第三級ブトキシ力ルポニル−2−ヒドロ
キシ−プロピル)ヒドロキシルアミン 実施例5〜7と同様に4−(4−フルオロフェニル)−
3−ホルミル−2−イソプロピル−5−フェニルチオフ
ェンから本化合物が得られた。
無色泡状物。
’H−NMR(CDCh):δ=1.38(d、 6H
,イソプロピル−CD5);1.45(S、 9H。
t−ブチル);2.35(d、 2H。
CH2);2.5−2.65(m、 4H);2.75
(m、 2H,CHz);33−35(。
2H,イソプロピル−H+ OH) ;4.25(m、
 IH,HO−CH);5.1(b。
LH,OH);7.0−7.2(m、 9H。
芳香族性−H)。
実施例 29 N−(2−[4−(4−フルオロフェニル)−2−イソ
プロピル−5−フェニルチオフェン−3−イル1エチル
1−N−(3−カルボキシ−2−ヒドロキシプロピル)
ヒドロキシルアミン臭化水素酸塩 実施例28からの化合物0−7g (1,4ミリモル)
をIN臭化水素酸25m12及びジオキサン5mQ中に
て還流下で1時間加熱した。溶媒を真空中で除去し、そ
して残渣をエーテルから再結晶し tこ。
収量:無色結晶0.64g (84%)融点=135〜
140°C(分解) Rf=0.4 (クロロホルム/メタノール3:1)I
H−NMR(CD、OD):δ=1.4(d、 6+1
.イソプロピル−CH5);2.5(d、 2H。
CH2);33−0(、2H,c112);33−15
−3−5(、CD30D信号と重複);4.3(b、 
lH);7.1−7.3(m、 9H,芳香族性−H)
。
実施例 30 1−(4−フルオロフェニル)−4−メチル−2−7エ
ニルーペンテンー3−オン 4−フルオロベンズアルデヒド319  (0,25モ
ル)、ベンジルイソプロピルケトン40.69、ピペリ
ジン2.5+n+2及び木酢m1.75mQをトルエン
200mQ中で水分離器中にて20時間沸騰させた。溶
媒を除去した後、残渣を20cmビグローカラムを通し
て蒸留した。
収f!L:帯黄色油56.89  (85%)。
沸点:140°O(0,2ミリバール)、冷蔵庫中で完
全に結晶化した(融点47°C) 実施例 31 3−(4−フルオロフェニル)−5−メチル−1−二ト
ロー3−フェニルヘキサン−4−オンアセトニトリル1
00mff中のDBU311?(0,2モル)の溶液を
アセトニトリル200mQ中の実施例30の化合物53
g (0,2モル)及びニトロメタン29g (0,4
7モル)の溶液に室温で滴下しながら加え、そして混合
物を室温で一夜撹拌した。溶媒を蒸発させ、残渣をIN
塩a500mQ及びジクロロメタン500m12間に分
配し、有機相を飽和塩化ナトリウム溶液及び炭酸水素ナ
トリウム溶液で洗浄し、そして硫酸ナトリウム上で乾燥
した。残渣をエーテルから再結晶した。収量:無色結晶
26.4g (40%)融点:178°C ’H−NMR(CDCIり:δ−0.68 +〇、77
(2つのd。
6)f、イングロビルーc)lx); 2.4(m、 IH,イソプロピル− H);4.115−4−5(、4H);7.0(t。
2H,F−C−C11);7.25−7.45(m。
7H,芳香族性−H)。
実施例 32 4−フルオロフェニル−1,2−ジインプロピル−3−
フェニルビロール エタノール20OmQ中の実施例31の化合物26.5
g (80ミリモル)の溶液及び2N水酸化ナトリウム
溶液50m+2 (0,1モル)をエタノールloOm
Q及び水50m12中の硫酸22゜5g (0,2モル
)の溶液にO′Cで滴下しながら加え、次に室温で1時
間撹拌した。混合物を少量の沈殿から炉別し、濃縮した
炉液をクロロホルム及び水量に分配し、有機相をIN塩
酸及び飽和炭酸水素ナトリウム溶液で洗浄し、そして硫
酸ナトリウム上で乾燥した。溶媒を除去した後、暗色油
(2−フルオロフェニル−5−メチル−4−オキソ−3
−フェニルヘキサナールの粗製生成物)24gが残った
。
Rf=0.2 (石油エーテル/酢酸エチル2:1)上
の油をイソプロピルアミン29g (0,5モル)と−
緒にトルエン400mQに溶解した。トルエン50rr
l中の四塩化チタン15.3g (80ミリモル)をこ
のものに0°Cで滴下しながら加え、そして混合物を室
温で6時間撹拌した。混合物をケイソウ土を通して吸引
濾過し、トルエンで十分洗浄し、炉液を6N塩酸で2回
抽出し、飽和炭酸水素ナトリウム溶液で洗浄し、そして
硫酸ナトリウム上で乾燥した。濃縮した後、暗色油26
gが残り、このものを短かいシリカゲルカラム(石油エ
ーテル/ジクロロメタン2:1)を通して濾過した。
溶離液から無色結晶3.25g (13%)が得られた
。
融点=150°C ’H−NMR(CDC13):δ−1,25(d、6H
,C−イソプロピル−CR2);1.5(d、 6H。
N−イソプロピル−〇H,);3.2(七重線、 IH
,C−イソプロピル −H);4.55(七重線、 IH,N−イソプロピル
−H);6.8(s。
IH,5−H);6.8−7.3(+n、 9H。
芳香族性−H)。
実施例 33 3−(4−フルオロフェニル)−2−ホルミル−1,5
−ジイソプロピル−4−7エニルピロール オキシ塩化リン0.92g (10ミリモル)をジメチ
ルホルムアミド50m12中の実施例の化合物3.25
g (IOミリ七)C)の溶液に室温で滴下しながら加
え、混合物を室温で1時間及び400Cで2時間撹拌し
、次に氷冷したIN水酸化ナトリウム溶液40mQ中に
注いた(pH〜9)。混合物を酢酸エチルを用いて3回
抽出し、有機相を水で洗浄し、そして硫酸ナトリウム上
で乾燥した。
溶媒を蒸発させた後、固体残1(3,5g)が残り、こ
のものを塩化メチレン/石油エーテルから再結晶した。
収量:少々着色した結晶3.0g (85%)融点:1
60°C 実施例 34 1− [3−(4−フルオロフェニル)−1,5−ジイ
ソプロピル−4−フェニル−ピロル−2−イル]−2−
二トロエタン 実施例33の化合物1.1g (3,15ミリモル)及
び1.2−ジアミノエタン32mg (0゜53ミリモ
ル)をニトロメタン12rrl中にて75°O’C’1
7時間撹拌した。混合物をジクロロメタン中に取り入れ
、水で2回洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして
残渣をエーテル/石油エーテルから再結晶した。
収量:橙色結晶1.09g (88%)融点:238°
C ’H−NMR(CDC13):δ=1.3(d、 6H
,C−イソプロピル−CR2);1.75(d、 6H
。
N−イソプロピル−H);3.28(m。
IH,C−イソプロピル−〇〇x); 4.85(m、 IH,N−イソプロピル−8);6.
6(db、 IH,オレフイン性−H);6.9−7.
25(m、 9H。
芳香族性−H);8.85(db、 IH。
オレフィン性−H)。
実施例 35 N−+2− [3−(4−フルオロフェニル)=1.5
−ジイソプロピル−4−フェニルピロル−2−イル]エ
チル) −N−(3−t−ブトキシカルボニル−2−ヒ
ドロキシプロピル)ヒドロキシルアミン 実施例6及び7と同様に実施例34の化合物から本化合
物が得られた。
’H−NMR(CD C+3):δ=1.05−1.3
(b、 6H,イソプロピル−CD5);l−45(S
。
9H,t−ブチル);1.62(d、 6H。
イソプロピル−CJ);2.35(b。
2H,C:H2);2.45−2.75(b、 4H。
CH2);2.85(b、  2H,CH2);3.1
5(b、  IH,OH);3.3(m。
IH,C−イソプロピル−H); 4.15(b、 IH,HO−リ);4.6(b。
IH,N−イソプロピル−H);5゜ 2(b、 it(、OH);6.75−7.2(mb。
9H,芳香族性−H)。
実施例 36 N−(2−[3−(4−フルオロフェニル)=1.5−
ジイソプロピル−4−フェニルピロル−2−イル]エチ
ルl −N−(3−カルボキン−2=ヒドロキシ−プロ
ピル)ヒドロキシルアミン臭化水素酸塩 実施例29と同様に実施例35の化合物から本化合物が
得られた。粗製生成物を各々クロロホルム及びメタノー
ル10:l及び5:1200m12を用いて25倍量の
ンリカゲル(230〜400メツシユ)上でクロマトグ
ラフにかけた。
収量=170°Cから分解する無色結晶(エーテルから
)56%。
Rf=0.45 (クロロホルム/メタノール3:l) ’H−NMR(CD30D):δ−1,05−1,3(
b、 6H,イソプロピル−CHa);1.6(d。
611、イソプロピル−CD5); 2.3−3.2(b、 8H);4.2(b、 IH。
HO−リ);4.7(b、  IH,N−イソプロピル
)i6.7−7.2(b、 9H。
芳香族性−H)。
使用例 実施例 37 酵素活性の測定はG、C,ネス(N ess)ら、アー
カイブズ・オブ・バイオケミストリー・アンド0バイオ
フイジツクス(Archives of B ioch
−emistry and B 1ophysics)
 197.493−499 (1979)の方法を改良
して行った。雄のリコ(R1co)ラット(体重300
−4009)をコレスチルアミン40g/kg飼料を加
えたアルツロミン(altromin)粉末飼料で11
日間処置した。屠殺後、肝臓を動物から除去し、そして
氷上に置いた。肝臓を粉砕し、そしてホモジナイザー中
にてpH7,2で3倍容量の0.1Mショ糖、0.05
M  KCI、0.04M  K、H,リン酸塩(pH
7,2を有するに2HPO,及びKH2PO。
の混合物)、0.03Mエチレンジアミン四酢酸、0.
002Mジチオトレイトール(SPE)緩衝液(ショ糖
/リン酸塩/エチレンジアミン四酢緩衝液)中で3回均
質にした。次にホモジネートを15分間遠心分離し、そ
して沈殿を排棄した。上澄を75分間沈殿させた。ペレ
ットを1/4容量のSPE緩衝液中に取り入れ、更に一
度均質化し、次に再び60分間遠心分離した。ベレット
をその容■の5倍のSPE緩衝液に取り入れ、均質化し
、凍結し、そして−78°Cで貯蔵した(二酵素溶液)
。
試験化合物(または参照物質としてのメヒノリン)を試
験のために1NNaOH5容量%を加えてジメチルホル
ムアミドに溶解し、そしてIOμgを用いて種々の濃度
で酵素試験に用いた。酵素と共に化合物を37°Cで2
0分間予備培養した後、試験を開始した。試験バッチは
O−0−38Oであり、そしてグルコース−6一リン酸
4μmols 牛血清アルブミン1.1mg、ジチオト
レイトール2.1μmol、NADP0.35μmo+
、グルコース−6−リン酸脱水素酵素1単位、K * 
Hy !Jン酸塩pH7,235μmol、酵素調製物
20pQ及び3−ヒドロキン−3−メチル−グルタリル
補酵素A(グルタリル−3”C)100.OOOdpm
53nmolを含んでいた。
混合物を37°Cで60分間培養し、そして0゜24M
 HCl300μQを加えて反応を停止した。
37°Cで60分間の後培養の後、バッチを遠心分離し
、そして上澄600μQを粒径100〜200メソシユ
を有する5−塩素陰イオン交換体を充填した0、7X4
cmカラム(陰イオン交換体)にかけた。カラムを蒸留
水2mffで洗浄し、シンチレーション(scinti
llation)液を溶離液+洗浄液に加え、そしてシ
ンチレーション・カウンター中で計数した。この試験に
おける化合物の濃度に対する%阻害をプロットすること
による内挿によりIC5゜値を測定した。相対的阻害能
を測定するため、参照物質メビノリンのIC5゜値を1
00で設定し、そして同時に測定した試験化合物のIC
6゜値と比較した。
本発明による主な特徴及び態様は以下のとおりである。
1、一般式(1) %式%(1) 式中、Rは水素を表わすか、エステル基を表わすか、ま
たは陽イオンを表わし、そしてR1は式 %式% R2は水素、ハロゲンまたは炭素原子6個までを有する
直鎖状もしくは分校鎖状のアルキルを表わし、 R3、R′は同一もしくは相異なり、且つ水素、ハロゲ
ンまたは炭素原子6個までを有する直鎖状もしくは分枝
鎖状のアルキルを表わすか、或いは R3及びR6は一緒になってテトラメチレン鎖を形成し
、 Aは同一もしくは相異なるハロゲン、アルキノ呟アルコ
キシ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アリール、
アリールオキシ、アリールチオ、アリールスルホニル、
トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフル
オロメチルチオ、アルコキシカルボニルまたは式−NR
’R’の基で一1二または三置換され得るヘテロアリー
ルを表わし、ここに R5、R6は同一もしくは相異なり、且つアルキル、ア
リール、アラルキル、アシル、アルキルスルホニルまた
はアリールスルホニルを表わすか、或いは同一もしくは
相異なるアルキル、アルコキシ、アルキルチオ、アルキ
ルスルホニル、アリール、アリールオキシ、アリールチ
オ、アリールスルホニル、アラルキル、アラルコキシ、
アラルキルチオ、アラルキルスルホニル、ハロゲン、シ
アノ、ニトロ、トリフルオロメチル、トリフルオロメト
キシ、トリフルオロメチルチオ、アルコキシカルボニル
、スルファモイル、ジアルキルスルファモイル、カルバ
モイル、ジアルキルカルバモイルまたは式−NR5R’
の基で−から三置換され得るアリールを表わし、ここに
R5及びR6は上記の意味を有し、Bはシクロアルキル
を表わすか、或いはハロゲン、シアノ、アルコキシ、ア
ルキルチオ、アルキルスルホニル、トリフルオロメチル
、トリフルオロメチル7、トリフルオロメチルチオ、ト
リフルオロメチルスルホニル、アルコキシカルボニル、
アシルまたはR5、R8が同一もしくは相異なり、且つ
アルキル、アリール、アラルキル、アシル、アルキルス
ルホニルまたはアリールスルホニルを表わす式−NR’
R’の基、或いはカルバモイル、ジアルキルカルバモイ
ル、スルファモイル、ジアルキルスルファモイル、ヘテ
ロアリール、アリール、アリールオキシ、アリールチオ
、アリールスルホニル、アラルコキシ、アラルキルチオ
またはアラルキルスルホニルで置換され得るアルキルを
表わし、その際に後者の置換基のへテロアリール及びア
リール基は同一もしくは相異なるハロゲン、シアノ、ト
リフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、アルキル、
アルコキシ、アルキルチオまたはアルキルスルホニル置
換基で一1二または三置換されることができ、 XはO,SまにはN−C5を表わし、そしてC1、C2
、C3は同一もしくは相異なり、且つ水素を表わすか、
シクロアルキルを表わすか、ハロゲン、シアノ、アルコ
キシ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、トリフルオ
ロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチル
チオ、トリフルオロメチルスルホニル、アルコキンカル
ボニル、アシルまたはR5、R6が上記の意味を有する
一NR’R’、或いはカルバモイル、ジアルキル力ルバ
モイノ呟スルファモイノ呟ジアルキルスルファモイル、
ヘテロアリール、アリール、アリールオキシ、アリール
チオ、アリールスルホニル、アラルコキシ、アラルキル
チオまたはアラルキルスルホニルで置換されることがで
きるアルキルを表わし、ここにヘテロアリール及びアリ
ール基は同一もしくは相異なるハロゲン、シアン、トリ
フルオロメチル、トリフルオロメトキシ、アルキル、ア
ルコキシ、アルキルチオまたはアルキルスルホニル置換
基で−、二まI;は三置換されることができ、或いはC
1、C2、C3は、同一もしくは相異なるハロゲン、ア
ルキル、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルホニ
ル、アリール、アリールオキシ、アリールチオ、アリー
ルスルホニル、トリフルオロメチル、トリフルオロメト
キシ、トリフルオロメチルチオ、アルコキンカルボニル
またはR5及びR6が上記の意味を有する式−NR’R
Sの基で一1二または三置換され得るヘテロアリールを
表わすか、或いは同一もしくは相異なるアルキル、アル
コキシ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アリール
、アリールオキシ、アリールチオ、アリールスルホニル
、アラルキル、アラルコキシ、アラルキルチオ、アラル
キルスルホニル、ハロゲン、シアノ、ニトロ、トリフル
オロメチル、−トリフルオロメトキシ、トリフルオロメ
チルチオ ルファモイル、ジアルキルスルファモイル、カルバモイ
ル、ジアルキルカルバモイルまたはR5及びR6が上記
の意味を有する式−NR5R6の基で−から三置換され
るアリールを表わす、の置換されたヒドロキシルアミン
。
2、 Rが水素を表わすか、生理学的に許容し1りるエ
ステル基を表わすか、または生理学的に許容し得る陽イ
オンを表わし、モしてR1が式B          
      Aの基を表わし、ここにR2が水素、フッ
素、塩素、臭素を表わすか、または炭素原子5個までを
有する直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキルを表わし、R
3、R4が同一もしくは相異なり、且つ水素、フッ素、
塩素、臭素を表わすか、または炭素原子4個までを有す
る直鎖状もしくは分校鎖状のアルキルを表わすか、或い
はR3及びR4が一緒になってテトラメチレン鎖を形成
し、Aがその各々が同一もしくは相異なるフッ素、塩素
、臭素、低級アルキノ呟低級アルコキシ、フェニル、フ
ェノキシ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ
または低級アルコキシカルボニル置換基で−または二置
換され得るチエニル、フリル、チアゾリル、イソチアゾ
リル、オキサシリル、イソキサシリ/lz、ピリジル、
ピリミジル、ピラジニル、ピリダジニノ呟インドリル、
イソインドリノ呟キノリル、イソキノリル、フタラジニ
ル、キノキサリニル、キナゾリニル、シンノリニ/L/
、ベンゾチアゾリル、ベンゾキサゾリルまたはベンズイ
ミダゾリルを表わすか、或いはその各々が同一もしくは
相異なる低級アルキノ呟低級アルコキシ、低級アルキル
チオ、低級アルキルスルホニル、フェニル、フェニルオ
キシ、フェニルチオ、フェニルスルホニル、ベンジン、
ベンジルオキシ、ベンジルチオ、ベンジルスルホニル、
フェネチル、7エ不トキシ、フェネチルチオ、フェネチ
ルスルホニル、フッ素、a素、臭素、シアノ、トリフル
オロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチ
ルチオ、低級アルコキシカルボニルまたは式−NR’R
’の基で−から三置換され得るフェニルまたはす7チル
を表わし、その際にR5及びR6は同一もしくは相異な
り、且つ低級アルキル、フェニル、ベンジノ呟アセチル
、ベンゾイノ呟フェニルスルホニルまたは低級アルキル
スルホニルを表わし、 Bがシクロプロピノ呟 シクロペンチルまたはシクロヘ
キシルを表わすか、或いはフッ素、塩素、臭素、シアン
、低級アルコキシ、低級アルキルチオ、低級アルキルス
ルホニル、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ
、トリフルオロメチルスルホニル、低級アルコキシカル
ボニル、ベンゾイル、低級アルキルカルボニル、R5及
びR6が上記の意味を有する式−NR5R’の基、或い
はピリジル、ピリミジル、ピラジニル、ピリダジル、キ
ノリル、イソキノリル、ピリル、インドリル、チエニル
、フリル、イミダゾリル、オキサシリル、チアゾリル、
フェニル、フェノキシ、フェニルチオ、フェニルスルホ
ニル、ベンジルオキシ、ベンジルチオ、ベンジルスルホ
ニル、フエ不トキシ、7エ不チルチオまたはフェネチル
スルホニルで置換されることができる低級アルキルを表
わし、その際に挙げられるヘテロアリール及びアリール
基は同一もしくは相異なるフッ素、塩素、臭素、低級ア
ルキノ呟低°級アルコキシ、トリフルオロメチルまたは
トリフルオロメトキシ置換基で−または二置換されるこ
とができ、 XがO,、SまたはN−C”を表わし、そしてC1、C
2、C3が同一もしくは相異なり、且つ水素を表わすか
、シクロプロピル、シクロペンチルまたはシクロヘキシ
ルを表わすか、フッ素、塩素、臭素、シアハ低級アルコ
キシ、低級アルキルチオ、低級アルキルスルホニル、ト
リフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオ
ロメチルスルホニル、低級アルコキシカルボニル、ベン
ゾイル、低級アルキルカルボニル R5及びR6が上記
の意味を有する式−NR’R6の基、或いはピリジル、
ピリミジル、ピラジニル、ピリダジル、キノリル、イソ
キノリル、ピロリル、インドリル、チエニル、フリノペ
イミダゾリノ呟 オキサシリル、チアゾリル、フエニノ
呟フェノキシ、フェニルチオ、フェニルスルホニル、ベ
ンジルオキシ、ベンジルチオ、ベンジルスルホニル、フ
エネトキシ、フェネチルチオまたは7エネチルスルホニ
ルで置換されることができる低級アルキルを表わし、そ
の際に挙げられるヘテロアリール及びアリール基は同一
もしくは相異なるフッ素、塩素、臭素、低級アルキル、
低級アルコキシ、トリフルオロメチルまたはトリフルオ
ロメトキシ置換基で−または多置換されることができ、
ClSC2、C3は、その各々が同一もしくは相異なる
フッ素、塩素、臭素、低級アルキル、低級アルコキシ、
フェニル、フェノキシ、トリフルオロメチル、トリフル
オロメトキシまたは低級アルコキシカルボニル置換基で
−または二置換され得るチエニル、フリル、チアゾリル
、インチアゾリル、オキサシリル、インキサゾリノ呟 
ピリジル、ピリミジル、ピラジニル、ピリダジニル、イ
ンドリル、イソインドリル、キノリル、イソキノリル、
フタラジニル、キノキサリニル、キナゾリニル、シンノ
リニル、ベンゾチアゾリル、ベンゾキサゾリルまたはベ
ンズイミダグリルを表わすか、或いはその各々が同一も
しくは相異なる低級アルキル、低級アルコキシ、低級ア
ルキルチオ、低級アルキルスルホニル、フェニル、フェ
ノキシ、フェニルチオ、フェニルスルホニル、ベンジル
、ベンジルオキシ、ベンジルチオ、ベンジルスルホニル
、フェネチル、フェニルエトキシ、7エネチルチオ、フ
ェネチルスルホニル、フッ素、塩素、臭素、シアノ、ト
リフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオ
ロメチルチオ、低級アルコキシカルボニルまたはR5及
びR6が上記の意味を有する式−NR,’R’の基で−
から四置換され得るフェニルまたはナフチルを表わす、
上記lに記載の置換されたヒドロキシルアミン。
3、 Rが水素、メチル、エチル、プロピル、イソプロ
ピル、ブチル、イソブチル、t−ブチルまたはベンジル
を表わすか、或いはマグネシウムまたはアンモニウム陽
イオンを表わし、そしてR1が式 の基を表わし、ここにR2が水素、フッ素、塩素を表わ
すか、または炭素1g子4@までを有する直鎖状もしく
は分枝鎖状のアルキルを表わし R3、R4が同時に水
素、フッ素、塩素を表わすか、または炭素原子3個まで
を有するアルキルを表わすか、或いはR3及びR4が一
緒になってテトラメチレン鎖を形成し、 Aがその各々がフッ素、塩素、メチル、メトキシまたは
トリフルオロメチルで置換され得るピリジル、ピリミジ
ル、キノリルまたはイソキノリルを表わすか、或いは同
一もしくは相異なるメチル、エチル、プロピル、イソプ
ロピル、ブチル、イソブチル、t−ブチAI、メトキシ
、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、
インブトキシ、t−ブトキシ、メチルチオ、エチルチオ
、プロピルチオ、イソプロピルチオ、メチルスルホニル
、エチルスルホニル、プロピルスルホニル、イソプロピ
ルスルホニル、フェニル、フェノキシ、ベンジル、ベン
ジルオキシ、フッ素、塩素、臭素、シアノ、トリフルオ
ロメチル、トリフルオロメトキシ、メトキシカルボニル
、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、インブ
ロボキシカルポニル、ブトキシカルボニル、インブトキ
シカルボニルまたはし一ブトキシカルボニル置換基で一
1二または三置換され得るフェニルを表わし、Bがシク
ロプロピル、シクロペンチルまたはシクロヘキシルを表
わすか、或いはその各々がフッ素、塩素、臭素、シアノ
、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、インプロポキシ、
ブトキシ、5ec−ブトキシ、(−ブトキシ、メチルチ
オ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、メ
チルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニ
ル、インプロピルスルホニル、トリフルオロメチル、ト
リフルオロメトキシ、メトキシカルボニル、エトキシカ
ルボニル、ブトキシカルボニル、インブトキシカルボニ
ル、(−ブトキシカルボ二〕呟ベンゾイルアセチル、ピ
リジル、ピリミジル、チェ二り、フリノ呟 フェニル、
フェノキシ、フェニルチオ、フェニルスルホニル、ベン
ジルオキシ、ベンジルチオまたはベンジルスルホニルで
置換され得るメチル、エチル、プロピル、イソプロピノ
呟ブチル、5eC−ブチルまたはt−ブチルを表わXが
0、SまfニーはN−C5を表ワシ、Cl5(:2、C
3が同一もしくは相異なり、且つ水素、シクロプロピノ
呟シクロペンチルまたはシクロヘキシルを表わすか、そ
の各々がフッ素、塩素、臭素、シアノ、メトキシ、エト
キシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、インブ
トキシ、t−ブトキシ、メチルチオ、エチルチオ、プロ
ピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ、イソブチル
チオ、【−ブチルチオ、メチルスルホニル、エチルスル
ホニル、プロピルスルホニル、イソプロピルスルホニル
、ブチルスルホニル、インブチルスルホニル、t−ブチ
ルスルホニル、トリフルオロメチル、トリフルオロメト
キシ、メトキシカルボ二)呟エトキシカルボニル、プロ
ポキシカルボ二ノ呟 インプロポキシカルボニル、ブト
キシカルボニル、インブトキシカルボニル、t−ブトキ
シカルボニル、ベンゾイル、アセチル、エチルカルボニ
ルまたは基−NR’R’で置換されることができ、その
際にR5及びR6は同一もしくは相異なり、且つメチル
、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチノ呟 イソブ
チJ呟t−ブチル、フェニル、ベンジル、アセチル、メ
チルスルホニル、エチルスルホニル、プロピルスルホニ
ル、イソプロピルスルホニルまたはフェニルスルホニル
を表わすか、或いはピリジル、ピリミジル、ピラジニル
、ピリダジニル、キノリル、イソキノリル、チエニル、
フリル、フェニル、フェノキシ、フェニルチオ、フェニ
ルスルホニル、ベンジルオキシ、ベンジルチオまたはベ
ンジルスルホニルで置換されることかでき、その際に挙
げられるヘテロアリール及びアリール基がフッ素、塩素
、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、イソブチ
Ay、t−ブチル、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、
イソプロポキン、ブトキシ、インブトキシ、【−ブトキ
シ、トリフルオロメチルまたはトリフルオロメトキシで
置換され得る、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、イソブチル、t−ブチル、ペンチル、イン
ペンチル、ヘキシルまたはイソヘキシルを表わすか;チ
エニル、フリル、ピリジル、ピリミジル、ピラジニル、
ピリダジニル、オキサシリル、インオキサシリル、イミ
ダゾリル呟 ピラゾリル、チアゾリル、インチアゾリル
、キノリル、イソキノリル、ベンゾキサゾリル、ベンズ
イミダゾリルまたはベンズチアゾリルを表わし、ここに
挙げられる基はフッ素、塩素、メチル、エチル、プロピ
ル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、し−ブチル、
メトキシ、エトキシ、プロポキシ、インプロポキシ、ブ
トキシ、インブトキシ、【−ブトキシ、フェニノ呟フェ
ノキシ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、
メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、イソプロポ
キシカルボニル、プロポキシカルボニル、ブトキシカル
ボニル、インブトキシカルボニルまたはt−ブトキシカ
ルボニルで置換され得ることができ;或いは同一もしく
は相異なるメチノ呟エチル、プロピル、イソプロピル、
ブチル、イソブチル、(−ブチル、ペンチル、イソペン
チル、ヘキシル、イソヘキシル、メトキシ、エトキシ、
プロポキシ、インプロポキシ、ブトキシ、イソブトキシ
、t−ブトキン、メチルチオ、エチルチオ、プロピルチ
オ、イソプロピルチオ、ブチルチオ、インブチルチオ、
1−ブチルチオ、メチルスルホニル、エチルスルホニル
、プロピルスルホニル、イソプロピルスルボニル、ブチ
ルスルホニル、インブチルスルホニル、t−ブチルスル
ホニル、フェニル、フェノキシ、フェニルチオ、フェニ
ルスルホニル、ベンジル、ベンジルオキシ、ベンジルチ
オ、ベンジルスルボニル、フッ素、塩素、臭素、シアノ
、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフ
ルオロメチルチオ、メトキシカルボニル、エトキシカル
ボニル、プロポキシカルボニル、インプロポキシカルボ
ニル、ブトキシカルボニル、インブトキシカルボニル、
t−ブトキシカルボニルまたはR5及びR6が上記の意
味を有する基−NR’R’で−、二または三置換され得
るフェニルを表わす:上記l及び2に記載の置換された
ヒドロキシルアミン。
4、治療的処置に用いる一般式(I) R’  CHzCJ  N  CHz  CI  CJ
  C0OR(1)式中、R及びR1は上記第1に記載
の意味を存する、 の置換されたヒドロキシルアミン。
5、一般式(I) OHOH R’  CH2C82N  C)12  CHC82G
OOR(I)式中、Rは水素を表わすか、エステル基を
表わすか、または陽イオンを表わし、モしてR1は式 %式% R2は水素、ハロゲンまたは炭素原子6個までを有する
直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキルを表わし、 R3、R4は同一もしくは相異なり、且つ水素、ハロゲ
ンまたは炭素原子6個までを有する直鎖状もしくは分枝
鎖状のアルキルを表わすが、或いは R3及びR4は一緒になってテトラメチレン鎖を形成し
、 Aは同一もしくは相異なるハロゲン、アルキノ呟アルコ
キシ、アルキルチオ、アルキルン−ルホニル、アリール
、アリールオキシ、アリールチオ、アリールスルホニル
、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフ
ルオロメチルチオ、アルコキシカルボニルまたは式−N
R’R’の基で−、二または三置換され得るヘテロアリ
ールを表わし、ここに R6、R6は同一もしくは相異なり、且つアルキル、ア
リール、アラルキル、アシル、アルキルスルホニルまた
はアリールスルホニルを表わすか、或いは同一もしくは
相異なるアルキル、アルコキシ、アルキルチオ、アルキ
ルスルホニル、アリール、アリールオキシ、アリールチ
オ、アリールスルホニル、アラルキル、アラルコキシ、
アラルキルチオ、アラルキルスルホニル、ハロゲン、シ
アン、ニトロ、トリフルオロメチノ呟トリフルオロメト
キシ、トリフルオロメチルチオ、アルフキ/カルボニル
、スルファモイル、ジアルキルスルファモイル、カルバ
モイル、ジアルキルカルバモイルまたは式−NR5R’
の基で−から三置換され得るアリールを表わし、ここに
R5及びR6は上記の意味を有し、Bはシクロアルキル
を表わすか、或いはハロゲン、シアノ、アルコキシ、ア
ルキルチオ、アルキルスルホニル、トリフルオロメチル
、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、ト
リフルオロメチルスルホニル、アルコキシカルボニル、
アシルまたはR6、R6が同一もしくは相異なり、且つ
アルキル、アリール、アラルキノ呟アシル、アルキルス
ルホニルまたはアリールスルホニルを表わす式−NR’
R’の基、或いはカルバモイル スルファモイル、ジアルキルスルファモイル、ヘテロア
リール、アリール、アリールオキシ、アリールチオ、ア
リールスルホニル、アラルコキシ、アラルキルチオまた
はアラルキルスルホニルで置換され得るアルキルを表わ
し、その際に後者の置換基のへテロアリール及びアリー
ル基は同一もしくは相異なるハロゲン、シアノ、トリフ
ルオロメチノ呟トリフルオロメトキシ、アルキル、アル
コキシ、アルキルチオまたはアルキルスルホニル置換基
で−、二または三置換されることができ、 Xは0、SまたはN−C3を表わし、そしてCI、C2
、C3は同一もしくは相異なり、且つ水素を表わすか、
シクロアルキルを表わすか、ハロゲン、シアノ、アルコ
キシ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、トリフルオ
ロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチル
チオ、トリフルオロメチルスルホニル、アルコキシカル
ボニル、アシルまたはRS、RSが上記の意味を有する
一NR’R’、或いはカルバモイル、ジアルキルカルバ
モイル、スルファモイル、ジアルキルスルファモイル、
ヘテロアリール、アリール、アリールオキシ、アリール
チオ、アリールスルホニル、アラルコキシ、アラルキル
チオまたはアラルキルスルホニルで置換されることがで
き、ここにヘテロアリール及びアリール基は同一もしく
は相異なるハロゲン、シアノ、トリフルオロメチル、ト
リフルオロメトキシ、アルキル、アルコキシ、アルキル
チオまたはアルキルスルホニル置換基でー、二または三
置換され得るアルキルを表わすか、同一もしくは相異な
るハロゲン、アルキル、アルコキシ、アルキルチオ、ア
ルキルスルホニル、アリール、アリールオキシ、アリー
ルチオ、アリールスルホニル、トリフルオロメチル、ト
リフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、アルコ
キシカルボニルまたは R5及びR6が上記の意味を有
する式−NR’R’の基で−、二または三置換され得る
ヘテロアリールを表わすか、或いは同一もしくは相異な
るアルキル、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスル
ホニル、アリール、アリールオキシ、アリールチオ、ア
リールスルホニル、アラルキル、アラルコキシ、アラル
キルチオ、アラルキルスルホニル、ハロゲン、シアノ、
ニトロ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキン、
トリフルオロメチルチオ、アルコキシカルボニル、スル
ファモイル、ジアルキルスルファモイル、カルバモイル
、ジアルキルカルバモイルまたはR5及びR6が上記の
意味を存する式−NR’R’の基で−から三置換される
アリールを表わす、 の置換されたヒドロキシルアミンを製造する際に、一般
式(II) R’−CH,CHI−NH−OH    (II)式中
、R1は上記の意味を有する、 のヒドロキシルアミンを不活性溶媒中で一般式式中、R
7は炭素原子6個までを有する直鎖状もしくは分枝鎖状
のアルキルを表わす、のエポキシドと反応させ、次に酸
の製造の場合はエステルを加水分解し、そして塩の製造
の場合は酸を対応する塩基と反応させることを特徴とす
る、一般式(I)の置換されたヒドロキシルアミンの製
造方法。
6、反応を0〜150°Cの温度範囲で行うことを特徴
とする、上記5に記載の方法。
7、一般式 R’  CHzGHz  NHOH(II)式中、R1
は上記lに記載の意味な有する、のヒドロキシルアミン
。
8、一般式 %式%() 式中、R1は上記5に記載の意味を有する、のヒドロキ
シルアミンを製造する際に、第一工程で一般式(IV) R−CHO(■) 式中、Rは水素を表わすか、エステル基を表わすか、ま
たは陽イオンを表わす、 のアルデヒドを不活性溶媒中で適当ならば補助剤の存在
下でニトロメタンと反応させ、続いて第二工程で得られ
た一般式(V) RCH=CHNo2   (V) のニトロ化合物を不活性溶媒中で適当ならば補助剤の存
在下で還元することを特徴とする、一般式(I[)のヒ
ドロキシルアミンの製造方法。
9.0〜150°Cの温度範囲で行うことを特徴とする
、上記8に記載の方法。
10、一般式 %式% 式中、R及びR1は上記1に記載の意味を有する、 の置換されたヒドロキシルアミンを含むW剤。
11、置換されたヒドロキシルアミン0.5〜98重量
%を含む、上記IOに記載の薬剤。
12、治療的処置に対する式 %式% 式中、R及びR1は上記lの記載の意味を有する、 の置換されたヒドロキシルアミンの使用。
13、薬剤の製造に対する式 %式% 式中、R及びR1は上記lに記載の意味を有する、 の置換されたヒドロキシルアミンの使用。
14.3−ヒドロキシ−3−メチル−グルタリル補酵素
(coenzyme) A還元酵素の阻害剤及びコレス
テロール生合成の阻害剤の製造に対する上記13に記載
の使用。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 式中、Rは水素を表わすか、エステル基を表わすか、ま
    たは陽イオンを表わし、そしてR^1は式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
    式、表等があります▼ の基を表わし、ここに R^2は水素、ハロゲンまたは炭素原子6個までを有す
    る直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキルを表わし、 R^3、R^4は同一もしくは相異なり、且つ水素、ハ
    ロゲンまたは炭素原子6個までを有する直鎖状もしくは
    分枝鎖状のアルキルを表わすか、或いは R^3及びR^4は一緒になってテトラメチレン鎖を形
    成し、 Aは同一もしくは相異なるハロゲン、アルキル、アルコ
    キシ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アリール、
    アリールオキシ、アリールチオ、アリールスルホニル、
    トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフル
    オロメチルチオ、アルコキシカルボニルまたは式−NR
    ^5R^6の基で一、二または三置換され得るヘテロア
    リールを表わし、ここに R^5、R^6は同一もしくは相異なり、且つアルキル
    、アリール、アラルキル、アシル、アルキルスルホニル
    またはアリールスルホニルを表わすか、或いは同一もし
    くは相異なるアルキル、アルコキシ、アルキルチオ、ア
    ルキルスルホニル、アリール、アリールオキシ、アリー
    ルチオ、アリールスルホニル、アラルキル、アラルコキ
    シ、アラルキルチオ、アラルキルスルホニル、ハロゲン
    、シアノ、ニトロ、トリフルオロメチル、トリフルオロ
    メトキシ、トリフルオロメチルチオ、アルコキシカルボ
    ニル、スルファモイル、ジアルキルスルファモイル、カ
    ルバモイル、ジアルキルカルバモイルまたは式−NR^
    5R^6の基で一から五置換され得るアリールを表わし
    、ここにR^5及びR^6は上記の意味を有し、Bはシ
    クロアルキルを表わすか、或いは ハロゲン、シアノ、アルコキシ、アルキルチオ、アルキ
    ルスルホニル、トリフルオロメチル、トリフルオロメト
    キシ、トリフルオロメチルチオ、トリフルオロメチルス
    ルホニル、アルコキシカルボニル、アシルまたはR^5
    、R^6が同一もしくは相異なり、且つアルキル、アリ
    ール、アラルキル、アシル、アルキルスルホニルまたは
    アリールスルホニルを表わす式−NR^5R^6の基、
    或いはカルバモイル、ジアルキルカルバモイル、スルフ
    ァモイル、ジアルキルスルファモイル、ヘテロアリール
    、アリール、アリールオキシ、アリールチオ、アリール
    スルホニル、アラルコキシ、アラルキルチオまたはアラ
    ルキルスルホニルで置換され得るアルキルを表わし、そ
    の際に後者の置換基のヘテロアリール及びアリール基は
    同一もしくは相異なるハロゲン、シアノ、トリフルオロ
    メチル、トリフルオロメトキシ、アルキル、アルコキシ
    、アルキルチオまたはアルキルスルホニル置換基で一、
    二または三置換されることができ、 XはO、SまたはN−C^3を表わし、そしてC^1、
    C^2、C^3は同一もしくは相異なり、且つ水素を表
    わすか、シクロアルキルを表わすか、ハロゲン、シアノ
    、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、ト
    リフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオ
    ロメチルチオ、トリフルオロメチルスルホニル、アルコ
    キシカルボニル、アシルまたはR^5、R^6が上記の
    意味を有する−NR^5R^6、或いはカルバモイル、
    ジアルキルカルバモイル、スルファモイル、ジアルキル
    スルファモイル、ヘテロアリール、アリール、アリール
    オキシ、アリールチオ、アリールスルホニル、アラルコ
    キシ、アラルキルチオまたはアラルキルスルホニルで置
    換されることができるアルキルを表わし、ここにヘテロ
    アリール及びアリール基は同一もしくは相異なるハロゲ
    ン、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキ
    シ、アルキル、アルコキシ、アルキルチオまたはアルキ
    ルスルホニル置換基で一、二または三置換されることが
    でき、或いは C^1、C^2、C^3は、同一もしくは相異なるハロ
    ゲン、アルキル、アルコキシ、アルキルチオ、アルキル
    スルホニル、アリール、アリールオキシ、アリールチオ
    、アリールスルホニル、トリフルオロメチル、トリフル
    オロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、アルコキシカ
    ルボニルまたはR^5及びR^6が上記の意味を有する
    式−NR^5R^6の基で一、二または三置換され得る
    ヘテロアリールを表わすか、或いは同一もしくは相異な
    るアルキル、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスル
    ホニル、アリール、アリールオキシ、アリールチオ、ア
    リールスルホニル、アラルキル、アラルコキシ、アラル
    キルチオ、アラルキルスルホニル、ハロゲン、シアノ、
    ニトロ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、
    トリフルオロメチルチオ、アルコキシカルボニル、スル
    ファモイル、ジアルキルスルファモイル、カルバモイル
    、ジアルキルカルバモイルまたはR^5及びR^6が上
    記の意味を有する式−NR^5R^6の基で一から五置
    換されるアリールを表わす、 の置換されたヒドロキシルアミン。 2、治療的処置に用いる一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 式中、R及びR^1は特許請求の範囲第1項記載の意味
    を有する、 の置換されたヒドロキシルアミン。 3、一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 式中、Rは水素を表わすか、エステル基を表わすか、ま
    たは陽イオンを表わし、そしてR^1は式 ▲数式、化学式、表等があります▼ ▲数式、化学式、表等があります▼または▲数式、化学
    式、表等があります▼ の基を表わし、ここに R^2は水素、ハロゲンまたは炭素原子6個までを有す
    る直鎖状もしくは分枝鎖状のアルキルを表わし、 R^3、R^4は同一もしくは相異なり、且つ水素、ハ
    ロゲンまたは炭素原子6個までを有する直鎖状もしくは
    分枝鎖状のアルキルを表わすか、或いは R^3及びR^4は一緒になってテトラメチレン鎖を形
    成し、 Aは同一もしくは相異なるハロゲン、アルキル、アルコ
    キシ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、アリール、
    アリールオキシ、アリールチオ、アリールスルホニル、
    トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフル
    オロメチルチオ、アルコキシカルボニルまたは式−NR
    ^5R^6の基で一、二または三置換され得るヘテロア
    リールを表わし、ここに R^5、R^6は同一もしくは相異なり、且つアルキル
    、アリール、アラルキル、アシル、アルキルスルホニル
    またはアリールスルホニルを表わすか、或いは同一もし
    くは相異なるアルキル、アルコキシ、アルキルチオ、ア
    ルキルスルホニル、アリール、アリールオキシ、アリー
    ルチオ、アリールスルホニル、アラルキル、アラルコキ
    シ、アラルキルチオ、アラルキルスルホニル、ハロゲン
    、シアノ、ニトロ、トリフルオロメチル、トリフルオロ
    メトキシ、トリフルオロメチルチオ、アルコキシカルボ
    ニル、スルファモイル、ジアルキルスルファモイル、カ
    ルバモイル、ジアルキルカルバモイルまたは式−NR^
    5R^6の基で一から五置換され得るアリールを表わし
    、ここにR^5及びR^6は上記の意味を有し、Bはシ
    クロアルキルを表わすか、或いは ハロゲン、シアノ、アルコキシ、アルキルチオ、アルキ
    ルスルホニル、トリフルオロメチル、トリフルオロメト
    キシ、トリフルオロメチルチオ、トリフルオロメチルス
    ルホニル、アルコキシカルボニル、アシルまたはR^5
    、R^6が同一もしくは相異なり、且つアルキル、アリ
    ール、アラルキル、アシル、アルキルスルホニルまたは
    アリールスルホニルを表わす式−NR^5R^6の基、
    或いはカルバモイル、ジアルキルカルバモイル、スルフ
    ァモイル、ジアルキルスルファモイル、ヘテロアリール
    、アリール、アリールオキシ、アリールチオ、アリール
    スルホニル、アラルコキシ、アラルキルチオまたはアラ
    ルキルスルホニルで置換され得るアルキルを表わし、そ
    の際に後者の置換基のヘテロアリール及びアリール基は
    同一もしくは相異なるハロゲン、シアノ、トリフルオロ
    メチル、トリフルオロメトキシ、アルキル、アルコキシ
    、アルキルチオまたはアルキルスルホニル置換基で一、
    二または三置換されることができ、 XはO、SまたはN−C^3を表わし、そしてC^1、
    C^2、C^3は同一もしくは相異なり、且つ水素を表
    わすか、シクロアルキルを表わすか、ハロゲン、シアノ
    、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルホニル、ト
    リフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、トリフルオ
    ロメチルチオ、トリフルオロメチルスルホニル、アルコ
    キシカルボニル、アシルまたはR^5、R^6が上記の
    意味を有する−NR^5R^6、或いはカルバモイル、
    ジアルキルカルバモイル、スルファモイル、ジアルキル
    スルファモイル、ヘテロアリール、アリール、アリール
    オキシ、アリールチオ、アリールスルホニル、アラルコ
    キシ、アラルキルチオまたはアラルキルスルホニルで置
    換されることができるアルキルを表わし、ここにヘテロ
    アリール及びアリール基は同一もしくは相異なるハロゲ
    ン、シアノ、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキ
    シ、アルキル、アルコキシ、アルキルチオまたはアルキ
    ルスルホニル置換基で一、二または三置換されることが
    でき、或いはC^1、C^2、C^3は、同一もしくは
    相異なるハロゲン、アルキル、アルコキシ、アルキルチ
    オ、アルキルスルホニル、アリール、アリールオキシ、
    アリールチオ、アリールスルホニル、トリフルオロメチ
    ル、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、
    アルコキシカルボニルまたはR^5及びR^6が上記の
    意味を有する式−NR^5R^6の基で一、二または三
    置換され得るヘテロアリールを表わすか、或いは同一も
    しくは相異なるアルキル、アルコキシ、アルキルチオ、
    アルキルスルホニル、アリール、アリールオキシ、アリ
    ールチオ、アリールスルホニル、アラルキル、アラルコ
    キシ、アラルキルチオ、アラルキルスルホニル、ハロゲ
    ン、シアノ、ニトロ、トリフルオロメチル、トリフルオ
    ロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、アルコキシカル
    ボニル、スルファモイル、ジアルキルスルファモイル、
    カルバモイル、ジアルキルカルバモイルまたはR^5及
    びR^6が上記の意味を有する式−NR^5R^6の基
    で一から五置換されるアリールを表わす、の置換された
    ヒドロキシルアミンを製造する際に、一般式(II) R^1−CH_2CH_2−NH−OH(II)式中、R
    ^1は上記の意味を有する、 のヒドロキシルアミンを不活性溶媒中で一般式(III) ▲数式、化学式、表等があります▼(III) 式中、R^7は炭素原子6個までを有する直鎖状もしく
    は分枝鎖状のアルキルを表わす、 のエポキシドと反応させ、次に酸の製造の場合はエステ
    ルを加水分解し、そして塩の製造の場合は酸を対応する
    塩基と反応させることを特徴とする、一般式( I )の
    置換されたヒドロキシルアミンの製造方法。 4、一般式 R^1−CH_2CH_2−NH−OH(II)式中、R
    ^1は特許請求の範囲第1項記載の意味を有する、 のヒドロキシルアミン。 5、一般式 R^1−CH_2CH_2−NH−OH(II)式中、R
    ^1は特許請求の範囲第3項記載の意味を有する、 のヒドロキシルアミンを製造する際に、第一工程で一般
    式(IV) R−CHO(IV) 式中、Rは水素を表わすか、エステル基を表わすか、ま
    たは陽イオンを表わす、 のアルデヒドを不活性溶媒中で適当ならば補助剤の存在
    下でニトロメタンと反応させ、続いて第二工程で得られ
    た一般式(V) R−CH=CH−NO_2(V) のニトロ化合物を不活性溶媒中で適当ならば補助剤の存
    在下で還元することを特徴とする、一般式(II)のヒド
    ロキシルアミンの製造方法。 6、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 式中、R及びR^1は特許請求の範囲第1項記載の意味
    を有する、 の置換されたヒドロキシルアミンを含む薬剤。 7、置換されたヒドロキシルアミン0.5〜98重量%
    を含む、特許請求の範囲第6項記載の方法。 8、薬剤の製造に対する式 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) 式中、R及びR^1は特許請求の範囲第1項記載の意味
    を有する、 の置換されたヒドロキシルアミンの使用。
JP63293737A 1987-11-25 1988-11-22 置換ヒドロキシルアミン Pending JPH01165554A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19873739882 DE3739882A1 (de) 1987-11-25 1987-11-25 Substituierte hydroxylamine
DE3739882.2 1987-11-25

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH01165554A true JPH01165554A (ja) 1989-06-29

Family

ID=6341199

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63293737A Pending JPH01165554A (ja) 1987-11-25 1988-11-22 置換ヒドロキシルアミン

Country Status (16)

Country Link
US (2) US4968681A (ja)
EP (1) EP0317845A3 (ja)
JP (1) JPH01165554A (ja)
KR (1) KR890008092A (ja)
CN (1) CN1033991A (ja)
AU (1) AU2590288A (ja)
DD (1) DD283603A5 (ja)
DE (1) DE3739882A1 (ja)
DK (1) DK656588A (ja)
FI (1) FI885427L (ja)
HU (1) HU203722B (ja)
IL (1) IL88446A0 (ja)
NO (1) NO885117L (ja)
NZ (1) NZ227031A (ja)
PT (1) PT89056A (ja)
ZA (1) ZA888789B (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR960031439A (ko) * 1995-02-01 1996-09-17 클라우스 로이터·크누트 샤우에르테 치환 인돌 유도체

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5354772A (en) * 1982-11-22 1994-10-11 Sandoz Pharm. Corp. Indole analogs of mevalonolactone and derivatives thereof
US6492413B2 (en) 1993-01-15 2002-12-10 G.D. Searle & Co. 3.4-diaryl thiophenes and analogs thereof having use as antiinflammatory agents
AU6027694A (en) 1993-01-15 1994-08-15 G.D. Searle & Co. Novel 3,4-diaryl thiophenes and analogs thereof having use as antiinflammatory agents
US5474995A (en) * 1993-06-24 1995-12-12 Merck Frosst Canada, Inc. Phenyl heterocycles as cox-2 inhibitors
GB9411088D0 (en) * 1994-06-03 1994-07-27 Hoffmann La Roche Hydroxylamine derivatives
ES2208964T3 (es) * 1996-12-10 2004-06-16 G.D. SEARLE & CO. Compuestos de pirrolilo substituidos para el tratamiento de la inflamacion.
US6355812B1 (en) 1999-06-11 2002-03-12 Orth-Mcneil Pharmaceutical, Inc. Methods for the synthesis of dioxoalkanoic acid compounds
CA2445712A1 (en) * 2001-05-31 2002-12-05 Cellegy Pharmaceuticals, Inc. Store operated calcium influx inhibitors and methods of use
KR100888408B1 (ko) * 2001-07-13 2009-03-13 아스트라제네카 유케이 리미티드 아미노피리미딘 화합물의 제조 방법
WO2005079790A1 (en) * 2004-01-20 2005-09-01 Warner-Lambert Company Llc Imidazole-based hmg-coa reductase inhibitors
GB0428328D0 (en) * 2004-12-24 2005-02-02 Astrazeneca Uk Ltd Chemical process
CN112159333A (zh) * 2020-10-15 2021-01-01 济宁康德瑞化工科技有限公司 一种双羟丙基羟胺的制备方法

Family Cites Families (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3760086A (en) * 1971-03-29 1973-09-18 Airco Inc Tranquilizer
US3897465A (en) * 1971-03-29 1975-07-29 Airco Inc Ethyl beta-(N-methylfurfurylamino) propionate
BE848465A (fr) * 1976-11-18 1977-03-16 Stereo-isomeres de 1-(1'-benzyl-2' pyrryl)-2-disec.butylaminoethanols a activite analgesique et preparations pharmaceutiques qui les contiennent
AU535944B2 (en) * 1979-06-15 1984-04-12 Merck & Co., Inc. Hypocholestermic fermentation products from aspergillus
US4231938A (en) * 1979-06-15 1980-11-04 Merck & Co., Inc. Hypocholesteremic fermentation products and process of preparation
HU204253B (en) * 1982-11-22 1991-12-30 Sandoz Ag Process for producing mevalonolactone analogues and derivatives and pharmaceutical compositions containing them
US4595693A (en) * 1984-06-04 1986-06-17 Merck & Co., Inc. Method of use of 2,5-diaryl tetrahydrofurans and analogs thereof as PAF-antagonists
US4613610A (en) * 1984-06-22 1986-09-23 Sandoz Pharmaceuticals Corp. Cholesterol biosynthesis inhibiting pyrazole analogs of mevalonolactone and its derivatives

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR960031439A (ko) * 1995-02-01 1996-09-17 클라우스 로이터·크누트 샤우에르테 치환 인돌 유도체

Also Published As

Publication number Publication date
FI885427A7 (fi) 1989-05-26
DK656588A (da) 1989-05-26
NO885117L (no) 1989-05-26
EP0317845A3 (de) 1989-08-30
DD283603A5 (de) 1990-10-17
DK656588D0 (da) 1988-11-24
KR890008092A (ko) 1989-07-08
US5032590A (en) 1991-07-16
CN1033991A (zh) 1989-07-19
US4968681A (en) 1990-11-06
DE3739882A1 (de) 1989-06-08
NO885117D0 (no) 1988-11-16
EP0317845A2 (de) 1989-05-31
AU2590288A (en) 1989-06-01
IL88446A0 (en) 1989-06-30
ZA888789B (en) 1989-08-30
FI885427L (fi) 1989-05-26
NZ227031A (en) 1990-09-26
FI885427A0 (fi) 1988-11-23
HUT52068A (en) 1990-06-28
HU203722B (en) 1991-09-30
PT89056A (pt) 1989-11-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JPH02258766A (ja) 置換された2―ピリドン及びピリド―2―チオン、それらの製造方法、及び医薬におけるそれらの使用
CA1254212A (en) Amine derivatives, salts thereof, process for preparing the same and an anti-ulcer agent containing the same
JP3528186B2 (ja) 光学活性キノリンメバロン酸のジアステレオマー塩
JPWO2005063222A1 (ja) Hsp90ファミリー蛋白質阻害剤
US4992462A (en) Substituted pyrroles
US5032590A (en) Substituted hydroxylamines
JP2712107B2 (ja) 二置換ピリジン類
JPS6222986B2 (ja)
DE69403084T2 (de) Benzopyrane und diese enthaltende pharmazeutische zusammenstellungen
DE69119979T2 (de) Pyrrolderivate
JPH01261377A (ja) 置換されたピリミジン
US7446229B2 (en) Bicyclic cannabinoids
KR840001775B1 (ko) 헤테로 사이클릭 유도체의 제조방법
US4757078A (en) Cyclic aryl hydroxamic acids, derivatives thereof and method of use as anti-allergy agents
AU610218B2 (en) Improvements in or relating to leukotriene antagonists
JP2965610B2 (ja) 置換されたフエニル類
JPH01313460A (ja) N‐置換されたn‐アミノ‐ピロール
US4973598A (en) Substituted imidazolinones and imidazolinethiones
RU2049776C1 (ru) Производное хинона или его фармакологически приемлемые соли
KR0178027B1 (ko) 1-알킬-, 1-알케닐- 및 1-알키닐아릴-2-아미노-1, 3-프로판디올 및 관련 화합물, 이의 제조방법, 이의 제조용 중간체, 및 이를 함유하는 약제학적 조성물
US4937255A (en) Disubstituted pyrroles
US3419573A (en) 3-chloro-4-oxy-1,2,5-thiadiazoles, and a process for preparing same
EP0094738B1 (en) Pharmaceutical benzodioxane compounds and process for their manufacture
JP4241975B2 (ja) 2−スルホニルピリジン誘導体の製造方法
EP0352575A2 (de) Substituierte anellierte Pyrrole