JPH01169754A - 光情報記録媒体及びその製造方法 - Google Patents
光情報記録媒体及びその製造方法Info
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- JPH01169754A JPH01169754A JP63236510A JP23651088A JPH01169754A JP H01169754 A JPH01169754 A JP H01169754A JP 63236510 A JP63236510 A JP 63236510A JP 23651088 A JP23651088 A JP 23651088A JP H01169754 A JPH01169754 A JP H01169754A
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- Japan
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- film
- substrate
- recording medium
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- information recording
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- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は光情報記録媒体およびその製造方法にかかり、
より詳しくは、基板上に形成される記録膜または反射膜
の防蝕手段に関するものである。
より詳しくは、基板上に形成される記録膜または反射膜
の防蝕手段に関するものである。
〔従来の技術〕
近年、高記録密度にしてランダムアクセス性に優れた記
録媒体として、例えばコンパクトディスクやビデオディ
スク、それにコンピューター用ディスクメモリ等によっ
て代表される光情報記録媒体が急速に普及しつつある。
録媒体として、例えばコンパクトディスクやビデオディ
スク、それにコンピューター用ディスクメモリ等によっ
て代表される光情報記録媒体が急速に普及しつつある。
第17図は、従来より知られているコンパクトディスク
の斜視断面図であって、円板形の基板11の片面に情報
信号を機械的な凹凸の形に変調してなるビット列12が
螺旋状に形成されており、このピット列12の形成面に
例えばアルミニウムなどの金属製反射膜I3が被着され
、さらに、この金属製反射膜13上にそれを保護するた
めの保護膜14が形成されている。
の斜視断面図であって、円板形の基板11の片面に情報
信号を機械的な凹凸の形に変調してなるビット列12が
螺旋状に形成されており、このピット列12の形成面に
例えばアルミニウムなどの金属製反射膜I3が被着され
、さらに、この金属製反射膜13上にそれを保護するた
めの保護膜14が形成されている。
前記基板11は、光透過性が高いこと、成形性が良好で
あること、光学ひずみが小さいことなどからポリカーボ
ネート樹脂にて形成される。また、保護膜14としては
、量産性が高いことなどから紫外線硬化樹脂膜が賞月さ
れている。
あること、光学ひずみが小さいことなどからポリカーボ
ネート樹脂にて形成される。また、保護膜14としては
、量産性が高いことなどから紫外線硬化樹脂膜が賞月さ
れている。
又光情報記録媒体の光ビーム照射面は露出されており、
このために、往々にして傷がついたり、塵芥などが付着
しやすい。また、誤って溶剤などによって基板表面が汚
染されたりすることもある。
このために、往々にして傷がついたり、塵芥などが付着
しやすい。また、誤って溶剤などによって基板表面が汚
染されたりすることもある。
光ビーム照射面に傷がつくと、そこで照射される光ビー
ムが乱反射され、再生情報信号にレベル変動が生ずるし
、また、塵芥や溶剤などが付着すると、光ビームの透過
量が変化して再生情報信号にレベル変動が生ずる。特に
、溶剤などが付着すると、これによってプラスチック基
板が溶解し、光ビーム照射面に傷がつくことになる。塵
芥や溶剤などが付着したときにはこれらを拭き取ればよ
いが、プラスチック基板は比較的柔らがいために、光ビ
ーム照射面に傷がつきやすいし、また、光ビーム照射面
が帯電して塵芥がより付着しやすくなる。
ムが乱反射され、再生情報信号にレベル変動が生ずるし
、また、塵芥や溶剤などが付着すると、光ビームの透過
量が変化して再生情報信号にレベル変動が生ずる。特に
、溶剤などが付着すると、これによってプラスチック基
板が溶解し、光ビーム照射面に傷がつくことになる。塵
芥や溶剤などが付着したときにはこれらを拭き取ればよ
いが、プラスチック基板は比較的柔らがいために、光ビ
ーム照射面に傷がつきやすいし、また、光ビーム照射面
が帯電して塵芥がより付着しやすくなる。
基板11を構成するポリカーボネート樹脂及び保護膜工
4を構成する紫外線硬化樹脂膜は、共に透湿性が比較的
低い樹脂材料である。
4を構成する紫外線硬化樹脂膜は、共に透湿性が比較的
低い樹脂材料である。
しかしながら、コンパクトディスクは、自動車内で使用
されるなど、高温多湿雰囲気中に長時間さらされること
があり、このような場合、前記の樹脂材料はかなり吸湿
する。このため、基板11及び保護膜14から吸湿され
た水分が金属製反射膜13と反応して水酸化物を形成し
、再生用レーザビームの反IJ率が低下して再生信号の
S/N比が劣化するという問題がある。
されるなど、高温多湿雰囲気中に長時間さらされること
があり、このような場合、前記の樹脂材料はかなり吸湿
する。このため、基板11及び保護膜14から吸湿され
た水分が金属製反射膜13と反応して水酸化物を形成し
、再生用レーザビームの反IJ率が低下して再生信号の
S/N比が劣化するという問題がある。
なお、前記においてはコンパクトディスクを例にとって
説明したが、樹脂製の基板及び樹脂製の保護膜を有する
他の光情報記録媒体についてもこれと同様の問題がある
。また、ガラス基板を用いた光情報記録媒体については
、基板側からの透湿が問題になることはないが、保護膜
側からの透湿については何ら対策されていないので、や
はり前記と同様の問題を生じる。
説明したが、樹脂製の基板及び樹脂製の保護膜を有する
他の光情報記録媒体についてもこれと同様の問題がある
。また、ガラス基板を用いた光情報記録媒体については
、基板側からの透湿が問題になることはないが、保護膜
側からの透湿については何ら対策されていないので、や
はり前記と同様の問題を生じる。
本発明は、前記した従来技術の問題点を解決するために
なされたものであって、記録膜または反射膜の腐蝕を防
止し、耐用寿命の長い光情報記録媒体を提供することを
目的とするものである。
なされたものであって、記録膜または反射膜の腐蝕を防
止し、耐用寿命の長い光情報記録媒体を提供することを
目的とするものである。
本発明は、畝上の目的を達成するため、基板の表面およ
び記H膜または反射膜の表面側のうち少なくともいずれ
か一方の面に、例えばフッ化炭素のようなハロゲン化樹
脂のプラズマ重合膜を形成したことを特徴とするもので
ある。
び記H膜または反射膜の表面側のうち少なくともいずれ
か一方の面に、例えばフッ化炭素のようなハロゲン化樹
脂のプラズマ重合膜を形成したことを特徴とするもので
ある。
また、少なくとも記録膜または反射膜が成膜された基板
を所定モノマーのプラズマガス雰囲気中に置き、所望の
面にハロゲン化樹脂のプラズマ重合膜を形成する工程を
含むことを製造上の特徴とするものである。
を所定モノマーのプラズマガス雰囲気中に置き、所望の
面にハロゲン化樹脂のプラズマ重合膜を形成する工程を
含むことを製造上の特徴とするものである。
本発明は、又光ビーム照射面側に溶剤型紫外線硬化樹脂
膜からなる保護膜を設けたものである。
膜からなる保護膜を設けたものである。
ハロゲン化樹脂はそれ自身撥水性が高い物質である。し
かも、これをプラズマ重合にて成膜とすると、分子間の
架橋反応によって一層ち田でt8水性が高く、膜厚が薄
く、しかも密着種の高い膜を形成することができる。従
って、この膜を所望の部分に成膜することによって透湿
による記録膜または反射膜の腐蝕を防止することができ
、記録。
かも、これをプラズマ重合にて成膜とすると、分子間の
架橋反応によって一層ち田でt8水性が高く、膜厚が薄
く、しかも密着種の高い膜を形成することができる。従
って、この膜を所望の部分に成膜することによって透湿
による記録膜または反射膜の腐蝕を防止することができ
、記録。
再生特性の劣化を防止することができる。
〔実施例)
まず、本発明に係る光情報記録媒体の概略を、第1図乃
至第6図に基づいて説明する。これらの図において、1
は基板、2は信号パターン、3は記録膜または反射膜、
4は保護膜、5はハロゲン化樹脂のプラズマ重合膜を示
している。
至第6図に基づいて説明する。これらの図において、1
は基板、2は信号パターン、3は記録膜または反射膜、
4は保護膜、5はハロゲン化樹脂のプラズマ重合膜を示
している。
基板1は、ポリカーボネートのほか、例えばガラスなど
の透明セラミックスや、ポリメチルメタクリレート、ポ
リメチルペンテン、エポキシ等、他の透明な樹脂材料に
よって形成することができる。この基板1の片面には、
必要に応じて、トラツキ:/グ信号に対応する案内溝や
アドレス信号、あるいは情報信号に対応するピット列な
どの信号パターン2が形成される。
の透明セラミックスや、ポリメチルメタクリレート、ポ
リメチルペンテン、エポキシ等、他の透明な樹脂材料に
よって形成することができる。この基板1の片面には、
必要に応じて、トラツキ:/グ信号に対応する案内溝や
アドレス信号、あるいは情報信号に対応するピット列な
どの信号パターン2が形成される。
信号パターン2の形成手段としては、前記基板1の材質
によって適宜の方法が適用される。
によって適宜の方法が適用される。
例えば、基板1がポリカーボネートやポリメチルメタク
リレート、それにポリメチルペンテンなどの熱可塑性樹
脂にて形成される場合には、射出成形用金型内に溶融し
た基板材料を射出して基板lと信号パターン2とを一体
に成形する所謂インジェクション法が適する。また、こ
の基板材料に関しては、射出成形用金型内に溶融した基
板材料を射出したのちに圧力を加える、所謂コンプレッ
ション法あるいはインジェクション−コンプレッション
法といった公知に属する形成手段を適用することもでき
る。
リレート、それにポリメチルペンテンなどの熱可塑性樹
脂にて形成される場合には、射出成形用金型内に溶融し
た基板材料を射出して基板lと信号パターン2とを一体
に成形する所謂インジェクション法が適する。また、こ
の基板材料に関しては、射出成形用金型内に溶融した基
板材料を射出したのちに圧力を加える、所謂コンプレッ
ション法あるいはインジェクション−コンプレッション
法といった公知に属する形成手段を適用することもでき
る。
また、基板1がガラスなどのセラミックスやエポキシな
どの熱硬化性樹脂にて形成される場合には、所望の信号
パターンの反転パターンが形成さ ゛れたスタ
ンバ(金型)と基板1との間で光硬化性樹脂を展伸し、
スタンバの反転パターンを基板1に転写する所謂2P法
(光硬化性樹脂法)が適する。さらに、この熱硬化性樹
脂に関しては、金型内に溶融状態にある基板材料を静注
して基板1と信号パターン2とを一体に成形する所謂注
型法を適用することもできる。
どの熱硬化性樹脂にて形成される場合には、所望の信号
パターンの反転パターンが形成さ ゛れたスタ
ンバ(金型)と基板1との間で光硬化性樹脂を展伸し、
スタンバの反転パターンを基板1に転写する所謂2P法
(光硬化性樹脂法)が適する。さらに、この熱硬化性樹
脂に関しては、金型内に溶融状態にある基板材料を静注
して基板1と信号パターン2とを一体に成形する所謂注
型法を適用することもできる。
記録膜3は、その光記録媒体に合致した任意のヒートモ
ード材料によって形成される。例えば、追記型の光記録
媒体については、例えばテルル系合金などの低融点金属
記録材料や、例えばシアニン系あるいはフタロシアニン
系有機色素などの有機色素記録材料にて形成される。ま
た、書換型の光情報記録媒体については、例えばテルル
と鉄とコバルトとを主成分とする非晶質合金などで代表
される光磁気記録材料や、例えばインジウム及びセレン
を主成分とする非晶質合金などで代表される相変化型記
録材料などにて形成される。
ード材料によって形成される。例えば、追記型の光記録
媒体については、例えばテルル系合金などの低融点金属
記録材料や、例えばシアニン系あるいはフタロシアニン
系有機色素などの有機色素記録材料にて形成される。ま
た、書換型の光情報記録媒体については、例えばテルル
と鉄とコバルトとを主成分とする非晶質合金などで代表
される光磁気記録材料や、例えばインジウム及びセレン
を主成分とする非晶質合金などで代表される相変化型記
録材料などにて形成される。
また、読み出し専用の光情報記録媒体においては、記録
膜に代えて反射膜が形成される。この反射膜3は、例え
ばアルミニウムやクロム、それに銀など、反射率の高い
金属を用いて形成することができる。
膜に代えて反射膜が形成される。この反射膜3は、例え
ばアルミニウムやクロム、それに銀など、反射率の高い
金属を用いて形成することができる。
前記記録膜または反射膜3は、例えばスパッタリング、
真空蒸着、イオンブレーティング、プラズマ蒸着、無電
解めっき等、公知に属する薄膜形成手段を用いて形成す
ることができる。
真空蒸着、イオンブレーティング、プラズマ蒸着、無電
解めっき等、公知に属する薄膜形成手段を用いて形成す
ることができる。
前記保護膜4は、紫外線硬化樹脂によって形成される。
この保護膜4の形成に当っては、溶融状態にある紫外線
硬化樹脂を前記記録膜または反射膜3の表面にスピンコ
ードし、所定の波長の紫外線を照射して硬化する方法が
採られる。
硬化樹脂を前記記録膜または反射膜3の表面にスピンコ
ードし、所定の波長の紫外線を照射して硬化する方法が
採られる。
ハロゲン化樹脂のプラズマ重合膜5は、前記基板1の表
面および前記記録膜または反射膜3の表面側のうち、少
な(ともいずれが一方の面に形成される。
面および前記記録膜または反射膜3の表面側のうち、少
な(ともいずれが一方の面に形成される。
例えば、第1図に示すように、前記基板1の表面および
周面、それに前記記録膜または反射膜3と前記保護膜4
との間の双方に前記ハロゲン化樹脂のプラズマ重合膜5
を形成することもできるし、また、第2図に示すように
、前記基板1の表面、および前記保護膜4の表面、それ
にこれら基板1および保護膜4の周面に前記ハロゲン化
樹脂のプラズマ重合膜5を形成することもできる。
周面、それに前記記録膜または反射膜3と前記保護膜4
との間の双方に前記ハロゲン化樹脂のプラズマ重合膜5
を形成することもできるし、また、第2図に示すように
、前記基板1の表面、および前記保護膜4の表面、それ
にこれら基板1および保護膜4の周面に前記ハロゲン化
樹脂のプラズマ重合膜5を形成することもできる。
この場合には、記録膜または反射膜3が完全にハロゲン
化樹脂のプラズマ重合膜5によって被覆されるので、記
録膜または反射膜3が空気中の水分によって侵されると
いうことがなく、耐食性が大幅に改善される。
化樹脂のプラズマ重合膜5によって被覆されるので、記
録膜または反射膜3が空気中の水分によって侵されると
いうことがなく、耐食性が大幅に改善される。
また、第3図に示すように、前記記録膜または反射膜3
と前記保護膜4との間にのみ前記ハロゲン化樹脂のプラ
ズマ重合膜5を形成することもできるし。また、第4図
に示すように、前記保護膜4の表面および周面にのみ前
記ハロゲン化樹脂のプラズマ重合膜5を形成することも
できる。
と前記保護膜4との間にのみ前記ハロゲン化樹脂のプラ
ズマ重合膜5を形成することもできるし。また、第4図
に示すように、前記保護膜4の表面および周面にのみ前
記ハロゲン化樹脂のプラズマ重合膜5を形成することも
できる。
基板1として、例えばガラスのように透湿性のないもの
を用いた場合には、このような構成であっても充分な防
湿効果が得られる。
を用いた場合には、このような構成であっても充分な防
湿効果が得られる。
さらに、第5図に示すように、前記基板1の表面および
周面にのみハロゲン化樹脂のプラズマ重合膜5を形成す
ることができる。
周面にのみハロゲン化樹脂のプラズマ重合膜5を形成す
ることができる。
この場合には、基板1側からの透湿が防止され、透湿に
よる記録膜または反射膜の劣化が半減される。
よる記録膜または反射膜の劣化が半減される。
加えて、第6図に示すように、前記記録膜または反射膜
3と前記保護膜4との間に前記ハロゲン化樹脂のプラズ
マ重合膜5を形成すると共に、前記基板1の表面、およ
び前記保護膜4の表面、それにこれら基板1および保護
膜4の周面に前記ハロゲン化樹脂のプラズマ重合膜5を
形成することもできる。
3と前記保護膜4との間に前記ハロゲン化樹脂のプラズ
マ重合膜5を形成すると共に、前記基板1の表面、およ
び前記保護膜4の表面、それにこれら基板1および保護
膜4の周面に前記ハロゲン化樹脂のプラズマ重合膜5を
形成することもできる。
このようにすると、記録膜または反射膜3が2重に保護
され、透湿による記録膜または反射膜3の劣化が一層防
止されるつ なお、このハロゲン化樹脂のプラズマ重合膜5としては
、1Ω水性が良好であるところから、フッ化炭素系樹脂
のプラズマ重合膜が特に好適である。
され、透湿による記録膜または反射膜3の劣化が一層防
止されるつ なお、このハロゲン化樹脂のプラズマ重合膜5としては
、1Ω水性が良好であるところから、フッ化炭素系樹脂
のプラズマ重合膜が特に好適である。
以下、本発明の具体的な実施例を示し、ハロゲン化樹脂
のプラズマ重合膜が形成されていない比較例との対比に
おいて、本発明の効果に言及する。
のプラズマ重合膜が形成されていない比較例との対比に
おいて、本発明の効果に言及する。
く第1実施例〉
ポリカーボネート製基板を、真空度がlXl0−6(T
orr)に調整された真空蒸着装置内に収納し、この
真空蒸着装置内に酸素を毎分50(ml)ずつ黒人しな
がら内装されたアルミニウムを加熱、蒸発させ、前記基
板の片面に約100似人)の厚さのアルミニウム反射膜
を蒸着した。
orr)に調整された真空蒸着装置内に収納し、この
真空蒸着装置内に酸素を毎分50(ml)ずつ黒人しな
がら内装されたアルミニウムを加熱、蒸発させ、前記基
板の片面に約100似人)の厚さのアルミニウム反射膜
を蒸着した。
次いで、このようにしてアルミニウム反射膜が形成され
た基板を、真空度が1 xio−6(Torr)に予め
調整されたプラズマ処理室に収納し、4フツ化エチレン
モノマーガスを毎分10(ml)ずつ導入しつつ、電極
に300 (Wa t ts)のRF高周波電力を印加
してプラズマガスを発生させ、前記基板およびアルミニ
ウム反射膜の全面に約500(人)のフッ化炭素のプラ
ズマ重合膜を設けた。
た基板を、真空度が1 xio−6(Torr)に予め
調整されたプラズマ処理室に収納し、4フツ化エチレン
モノマーガスを毎分10(ml)ずつ導入しつつ、電極
に300 (Wa t ts)のRF高周波電力を印加
してプラズマガスを発生させ、前記基板およびアルミニ
ウム反射膜の全面に約500(人)のフッ化炭素のプラ
ズマ重合膜を設けた。
く第2実施例〉
前記第1実施例に示したと同様にして、ポリカーボネー
ト基板の片面に約1000(入)の厚さのアルミニウム
反射膜を蒸着する。このポリカーボネート基板を槽外に
取り出したのち、アルミニウム反射膜の表面に紫外線硬
化樹脂膜をスピンコードし、所定の波長の紫外線を照射
して約10μmの厚さの保護膜を形成した。
ト基板の片面に約1000(入)の厚さのアルミニウム
反射膜を蒸着する。このポリカーボネート基板を槽外に
取り出したのち、アルミニウム反射膜の表面に紫外線硬
化樹脂膜をスピンコードし、所定の波長の紫外線を照射
して約10μmの厚さの保護膜を形成した。
次いで、この保護膜が形成された基板を、プラズマ処理
室に収納し、これにアルゴンガスを毎分10(ml)ず
つ導入してアルゴンプラズマを発生させ、基板および保
護膜の表面を浄化した。
室に収納し、これにアルゴンガスを毎分10(ml)ず
つ導入してアルゴンプラズマを発生させ、基板および保
護膜の表面を浄化した。
アルゴンガスを排したのち、第1実施例と同様の条件の
下で、前記基板および保護膜の全面に約200(人)の
フッ化炭素のプラズマ重合膜を設けた。
下で、前記基板および保護膜の全面に約200(人)の
フッ化炭素のプラズマ重合膜を設けた。
〈第3実施例〉
第1実施例と同様の条件の下で、ポリカーボネート製基
板の片面に約1000 (人)の厚さのアルミニウム反
射膜を蒸着すると共に、これら基板およびアルミニウム
反射膜の全面に約200(人)のフッ化炭素のプラズマ
重合膜を設けた。
板の片面に約1000 (人)の厚さのアルミニウム反
射膜を蒸着すると共に、これら基板およびアルミニウム
反射膜の全面に約200(人)のフッ化炭素のプラズマ
重合膜を設けた。
次いで、この基板を槽外に取り出し、第2実施例と同様
の条件の下で、アルミニウム反射膜上に被着されたフッ
化炭素のプラズマ重合股上に、約IOμmの厚さの紫外
線硬化樹脂の保護膜を形成した。
の条件の下で、アルミニウム反射膜上に被着されたフッ
化炭素のプラズマ重合股上に、約IOμmの厚さの紫外
線硬化樹脂の保護膜を形成した。
く第1比較例〉
第1実施例と同様の条件の下で、ポリカーボネート基板
の片面に約1000(人)の厚さのアルミニウム反射膜
を蒸着した。
の片面に約1000(人)の厚さのアルミニウム反射膜
を蒸着した。
〈第2比較例〉
第1実施例と同様の条件の下で、ポリカーボネート製基
板の片面多こ約1000(人)の厚さのアルミニウム反
射膜を蒸着したのち、第2実施例と同様の条件の下で、
アルミニウム反射膜の表面に約10μmの厚さの紫外線
硬化樹脂の保護膜を形成した。
板の片面多こ約1000(人)の厚さのアルミニウム反
射膜を蒸着したのち、第2実施例と同様の条件の下で、
アルミニウム反射膜の表面に約10μmの厚さの紫外線
硬化樹脂の保護膜を形成した。
下表に、前記各実施例および各比較例の光情報記録媒体
の耐食試験結果を示す。但し、試験条件は気温60℃、
相対湿度90%、試験時間は2000時間である。なお
、表中の反射率の減少率は試験前の光の反射率η1に対
する試験後の光の反射率η2の比(η、/ηl)であり
、また、接触角θは試料表面に滴下された水滴の試料表
面に対する接触角である。
の耐食試験結果を示す。但し、試験条件は気温60℃、
相対湿度90%、試験時間は2000時間である。なお
、表中の反射率の減少率は試験前の光の反射率η1に対
する試験後の光の反射率η2の比(η、/ηl)であり
、また、接触角θは試料表面に滴下された水滴の試料表
面に対する接触角である。
表
この表から明らかなように、各実施例の光情報記録媒体
は、ハロゲン化樹脂(フッ化炭素)のプラズマ重合膜が
形成されてしないものと比較して反射率の減少率および
接触角がともに大幅に改善されている。また、角実施例
のうちでは顕著な差違は認められず、ハロゲン化樹脂(
フッ化炭素)のプラズマ重合膜をいずれの面に設けた場
合にもほぼ同様の効果がある。
は、ハロゲン化樹脂(フッ化炭素)のプラズマ重合膜が
形成されてしないものと比較して反射率の減少率および
接触角がともに大幅に改善されている。また、角実施例
のうちでは顕著な差違は認められず、ハロゲン化樹脂(
フッ化炭素)のプラズマ重合膜をいずれの面に設けた場
合にもほぼ同様の効果がある。
(実施例4〉
第7図は本発明における光ディスクの一実施例を示す断
面図であって、11はプラスチック基板、11aは記録
面、llbは光ビーム照射面、13は記録膜または反射
膜、14は保護膜である。
面図であって、11はプラスチック基板、11aは記録
面、llbは光ビーム照射面、13は記録膜または反射
膜、14は保護膜である。
同図において、プラスチック基板11は、たとえばPC
,PMMAなとの熱可塑性樹脂もしくはエポキシ樹脂な
どの熱硬化性樹脂からなり、その−方の面1aはピット
列からなる螺旋状もしくは同心状のトラックが形成され
た記録面である。この記録面11aには記録層13が設
けられている。
,PMMAなとの熱可塑性樹脂もしくはエポキシ樹脂な
どの熱硬化性樹脂からなり、その−方の面1aはピット
列からなる螺旋状もしくは同心状のトラックが形成され
た記録面である。この記録面11aには記録層13が設
けられている。
プラスチック基板lの他方の面11bは光ビームが照射
される面であり、この光ビーム照射面11bに保護膜1
4が設けられている。この保護膜14は溶剤型紫外線硬
化樹脂からなり、高硬度でプラスチック基板11に比べ
て帯電防止効果が優れている。
される面であり、この光ビーム照射面11bに保護膜1
4が設けられている。この保護膜14は溶剤型紫外線硬
化樹脂からなり、高硬度でプラスチック基板11に比べ
て帯電防止効果が優れている。
これによって光ビーム照射面11b側の耐傷性が向上し
、帯電による塵芥などの付着を防止できるし、溶剤によ
って浸食されることはない。
、帯電による塵芥などの付着を防止できるし、溶剤によ
って浸食されることはない。
溶剤型紫外線硬化樹脂は、上記のように、機械的強度の
点で優れているが、これを保護膜3として用いる場合、
紫外線照射による硬化時での収縮率が小さくなければな
らない(15%程度以下)。
点で優れているが、これを保護膜3として用いる場合、
紫外線照射による硬化時での収縮率が小さくなければな
らない(15%程度以下)。
また、形成された被膜のプラスチック基板11との密着
性が良好で、かつ屈折率や熱膨張率がプラスチック基板
11と同程度で、溶剤に浸食されないものでなければな
らない。これらの条件を満足する溶剤型紫外線硬化樹脂
としては、保護膜材料をトルエン、アセトン、メチルエ
チルケトン、メチルアルコール、エチルアルコール、プ
ロピルアルコールなどのいずれか一種類の溶剤あるいは
2種類以上の混合溶剤に溶解したものを用いるが、プラ
スチック基板11の材料によって異なり、溶剤を選択し
て用いなければならない。ここで、その−具体例を示す
と、プラスチック基板11をPCからなるものとした場
合、保護膜14として上記諸条件を満たす溶剤型紫外線
硬化樹脂はスリーボンド社のUVX−HM・185−2
.3070型、東洋紡社のMIT−2、藤倉化成社のH
5123−UN、大日本インキ社のコーアンダ17−8
24、日東電工社のNA−803などがある。また無溶
剤型紫外線硬化樹脂としては、大日本インキ社のユニデ
イクV−7005型、東亜合成社のアロニソクスUV3
700型、日本電工社のNA−802型などがある。さ
らにこの他に、大日本インキ社のESP−0167型な
どもある。
性が良好で、かつ屈折率や熱膨張率がプラスチック基板
11と同程度で、溶剤に浸食されないものでなければな
らない。これらの条件を満足する溶剤型紫外線硬化樹脂
としては、保護膜材料をトルエン、アセトン、メチルエ
チルケトン、メチルアルコール、エチルアルコール、プ
ロピルアルコールなどのいずれか一種類の溶剤あるいは
2種類以上の混合溶剤に溶解したものを用いるが、プラ
スチック基板11の材料によって異なり、溶剤を選択し
て用いなければならない。ここで、その−具体例を示す
と、プラスチック基板11をPCからなるものとした場
合、保護膜14として上記諸条件を満たす溶剤型紫外線
硬化樹脂はスリーボンド社のUVX−HM・185−2
.3070型、東洋紡社のMIT−2、藤倉化成社のH
5123−UN、大日本インキ社のコーアンダ17−8
24、日東電工社のNA−803などがある。また無溶
剤型紫外線硬化樹脂としては、大日本インキ社のユニデ
イクV−7005型、東亜合成社のアロニソクスUV3
700型、日本電工社のNA−802型などがある。さ
らにこの他に、大日本インキ社のESP−0167型な
どもある。
次に、この溶剤型紫外線硬化樹脂を保護膜14とした光
ディスクの保護膜形成方式および性能について説明する
。
ディスクの保護膜形成方式および性能について説明する
。
まず、保護膜形成方法については、PCからなるプラス
チック基板11の光ビーム照射面11bに、スピンコー
ド法により、溶剤型紫外線硬化樹脂光のUVX−HM−
185−2)を3〜5μmの厚さで塗布し、80℃の雰
囲気内で1分間予備乾燥を行なった後(これによって溶
剤を除<)、150mW/an!の紫外線を10秒間乗
車して溶剤型紫外線硬化樹脂を硬化させる。これによっ
て保護膜14が得られる。
チック基板11の光ビーム照射面11bに、スピンコー
ド法により、溶剤型紫外線硬化樹脂光のUVX−HM−
185−2)を3〜5μmの厚さで塗布し、80℃の雰
囲気内で1分間予備乾燥を行なった後(これによって溶
剤を除<)、150mW/an!の紫外線を10秒間乗
車して溶剤型紫外線硬化樹脂を硬化させる。これによっ
て保護膜14が得られる。
上記保護膜14についての機械的耐傷性について、20
0gの荷重をかけて保護膜14の表面を5000回擦る
ステールウール(#0000)試験を行なったが、その
表面には全く傷がつかなかった。これにより、保護膜1
4は充分高い耐擦傷性を有していることがわかる。
0gの荷重をかけて保護膜14の表面を5000回擦る
ステールウール(#0000)試験を行なったが、その
表面には全く傷がつかなかった。これにより、保護膜1
4は充分高い耐擦傷性を有していることがわかる。
〔実施例5〕
溶剤型紫外線硬化樹脂からなる保護膜を設けても、大気
湿分の吸湿性を低下させる効果は得られない。この点は
、前記紫外線硬化樹脂からなる保護膜と前記ハロゲン化
樹脂のプラズマ重合膜とを組合わせることによって改善
される。
湿分の吸湿性を低下させる効果は得られない。この点は
、前記紫外線硬化樹脂からなる保護膜と前記ハロゲン化
樹脂のプラズマ重合膜とを組合わせることによって改善
される。
第8図、第9図、第10図、第11図、第12図は透明
樹脂製基板1の光ビーム照射面側にあらかじめ溶剤型紫
外線硬化樹脂からなる保護膜14を形成して、この後、
第1図、第2図、第4図、第5図。
樹脂製基板1の光ビーム照射面側にあらかじめ溶剤型紫
外線硬化樹脂からなる保護膜14を形成して、この後、
第1図、第2図、第4図、第5図。
第6図の実施例で示した場合と同じ方式、同じ材料を用
いてハロゲン化樹脂のプラズマ重合膜5を形成した場合
の実施例である。
いてハロゲン化樹脂のプラズマ重合膜5を形成した場合
の実施例である。
このような組み合せの保護膜を用いることによって少な
くとも透明基板lの大気湿分吸収の抑制および塵、はこ
りなどの吸着防止などの効果が得られる。
くとも透明基板lの大気湿分吸収の抑制および塵、はこ
りなどの吸着防止などの効果が得られる。
〔実施例6〕
前記透明基板1の表面に微小な傷かっ(のを防止する効
果をも得るためには、該透明基板lの保護膜の構成は最
外側に溶剤型紫外線硬化樹脂からなる保護膜を設け、そ
の内側にハロゲン化樹脂のプラズマ重合膜を配置するの
が効果的である。
果をも得るためには、該透明基板lの保護膜の構成は最
外側に溶剤型紫外線硬化樹脂からなる保護膜を設け、そ
の内側にハロゲン化樹脂のプラズマ重合膜を配置するの
が効果的である。
第13図、第14図、第15図、第16図は前記第1図
。
。
第2図、第4図、第6図に示したハロゲン化樹脂のプラ
ズマ重合膜5を保護膜として形成した光ディスクの各実
施例の透明基板1の光照射側面に、溶剤型紫外線硬化樹
脂からなる保護膜14をさらに形成した光ディスクの実
施例を示す。
ズマ重合膜5を保護膜として形成した光ディスクの各実
施例の透明基板1の光照射側面に、溶剤型紫外線硬化樹
脂からなる保護膜14をさらに形成した光ディスクの実
施例を示す。
本実施例に示す特徴は前記の如く、ハロゲン化樹脂のプ
ラズマ重合膜5の形成による大気湿分の吸湿抑制のみな
らず、硬い前記紫外線硬化樹脂の保護膜14を外表面に
形成することによって、光″ディスクの耐外傷性を高め
る効果が得られることにある。
ラズマ重合膜5の形成による大気湿分の吸湿抑制のみな
らず、硬い前記紫外線硬化樹脂の保護膜14を外表面に
形成することによって、光″ディスクの耐外傷性を高め
る効果が得られることにある。
尚、本発明の要旨は、基板の片面に記録膜または反射膜
を被着して成る光情報記録媒体の所望の面にハロゲン化
樹脂のプラズマ重合膜を形成した点にあるのであって、
基板の形状や構造、それに信号パターンの有無、記録膜
、反射膜、保護膜の膜厚や材質、保護膜の有無等につい
ては、前記実施例のものに限定されるものではない。
を被着して成る光情報記録媒体の所望の面にハロゲン化
樹脂のプラズマ重合膜を形成した点にあるのであって、
基板の形状や構造、それに信号パターンの有無、記録膜
、反射膜、保護膜の膜厚や材質、保護膜の有無等につい
ては、前記実施例のものに限定されるものではない。
例えば、前記実施例においては、光情報記録媒体の単板
について説明したが、本発明の要旨はこれに限定される
ものではなく、これら2枚の単板を2枚貼り合せて両面
記録形の光情報記録媒体を構成することもできる。この
場合、いわゆるエアサンドイッチ構造、直接貼り合せ形
など、あらゆるタイプの光情報記録媒体を構成すること
ができる。なお、両面記録形の光情報記録媒体について
は、貼り合せ後に基板の外面にハロゲン化樹脂のプラズ
マ重合膜を形成することもできる。
について説明したが、本発明の要旨はこれに限定される
ものではなく、これら2枚の単板を2枚貼り合せて両面
記録形の光情報記録媒体を構成することもできる。この
場合、いわゆるエアサンドイッチ構造、直接貼り合せ形
など、あらゆるタイプの光情報記録媒体を構成すること
ができる。なお、両面記録形の光情報記録媒体について
は、貼り合せ後に基板の外面にハロゲン化樹脂のプラズ
マ重合膜を形成することもできる。
また、光情報記録媒体の種類もディスク状光情報記録媒
体に限定されるものではなく、カード状光情報記録媒体
あるいはテープ状光情報記録媒体に応用することができ
る。
体に限定されるものではなく、カード状光情報記録媒体
あるいはテープ状光情報記録媒体に応用することができ
る。
以上説明したように、本発明の光情報記録媒体は、所望
の面にハロゲン化樹脂のプラズマ重合膜を形成したので
、基板あるいは保護膜からの透湿が防止され、記録膜ま
たは反射膜が湿度によって侵されることがない。従って
、耐食性に優れ、耐用命数の長い光情報記録媒体を提供
することができる。
の面にハロゲン化樹脂のプラズマ重合膜を形成したので
、基板あるいは保護膜からの透湿が防止され、記録膜ま
たは反射膜が湿度によって侵されることがない。従って
、耐食性に優れ、耐用命数の長い光情報記録媒体を提供
することができる。
第1図乃至第16図は本発明の各実施例の光情報記録媒
体の断面図、第17図は従来の光情報記録媒体の断面図
である。 1.11・・・基板、lla・・・記録面、llb・・
・光ビーム照射面、2・・・信号パターン、3.13・
・・記録膜または反射膜、4,14・・・保護膜、5・
・・ハロゲン化樹脂のプラズマ重合膜。 代理人 弁理士 武 顕 次 晶゛■、:j:H
ゝ・ど− ′ 第1図 第2図 第3ズ 第4図 第5図 第6図 第7図 nb 11Q 14コ2
12. 12 12 1.
1 ・第8図 第9図 第10図 第11図 第12図 5 竺 32 1 第16ズ
体の断面図、第17図は従来の光情報記録媒体の断面図
である。 1.11・・・基板、lla・・・記録面、llb・・
・光ビーム照射面、2・・・信号パターン、3.13・
・・記録膜または反射膜、4,14・・・保護膜、5・
・・ハロゲン化樹脂のプラズマ重合膜。 代理人 弁理士 武 顕 次 晶゛■、:j:H
ゝ・ど− ′ 第1図 第2図 第3ズ 第4図 第5図 第6図 第7図 nb 11Q 14コ2
12. 12 12 1.
1 ・第8図 第9図 第10図 第11図 第12図 5 竺 32 1 第16ズ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)基板の片面に少なくとも記録膜または反射膜を被
着して成る光情報記録媒体において、前記基板の表面お
よび前記記録膜または反射膜の表面側のうち少なくとも
いずれか一方の面に、ハロゲン化樹脂のプラズマ重合膜
を形成したことを特徴とする光情報記録媒体。 (2)請求項(1)記載の光情報記録媒体において、前
記基板の表面および周面、それに前記記録膜または反射
膜の表面にハロゲン化樹脂のプラズマ重合膜を形成し、
この記録膜または反射膜の表面に形成されたハロゲン化
樹脂のプラズマ重合膜上に保護膜を形成したことを特徴
とする光情報記録媒体。 (3)請求項(1)記載の光情報記録媒体において、前
記記録膜または反射膜の表面に保護膜を形成し、この保
護膜の表面および基板の表面、それに保護膜および基板
の各周面に前記ハロゲン化樹脂のプラズマ重合膜を形成
したことを特徴とする光情報記録媒体。 (4)請求項(1)記載の光情報記録媒体において、前
記記録膜または反射膜の表面に前記ハロゲン化樹脂のプ
ラズマ重合膜を形成し、このハロゲン化樹脂のプラズマ
重合膜上に保護膜を形成したことを特徴とする光情報記
録媒体。 (5)請求項(1)記載の光情報記録媒体において、前
記記録膜または反射膜の表面に保護膜を形成し、この保
護膜の表面及び周面に前記ハロゲン化樹脂のプラズマ重
合膜を形成したことを特徴とする光情報記録媒体。 (6)請求項(1)記載の光情報記録媒体において、前
記記録膜または反射膜の表面に保護膜を形成し、基板の
表面及び周面に前記ハロゲン化樹脂のプラズマ重合膜を
形成したことを特徴とする光情報記録媒体。 (7)請求項(1)記載の光情報記録媒体において、前
記記録膜または反射膜の表面に前記ハロゲン化樹脂のプ
ラズマ重合膜を形成し、このハロゲン化樹脂のプラズマ
重合膜上に保護膜を形成すると共に、この保護膜の表面
、および基板の表面、それにこれら保護膜および基板の
各周面に前記ハロゲン化樹脂のプラズマ重合膜を形成し
たことを特徴とする光情報記録媒体。 (8)請求項(1)記載の光情報記録媒体において、前
記ハロゲン化樹脂のプラズマ重合膜が、フッ化炭素系樹
脂のプラズマ重合膜であることを特徴とする光情報記録
媒体。 (9)請求項(2)記載の光情報記録媒体において、前
記保護膜が、紫外線硬化樹脂製であることを特徴とする
光情報記録媒体。 (10)基板の片面に少なくとも記録膜または反射膜を
被着して成る光情報記録媒体において、前記基板の表面
および前記記録膜または反射膜の表面側のうち少なくと
もいずれか一方の面に、ハロゲン化樹脂のプラズマ重合
膜および紫外線硬化樹脂膜とを積層状に形成したことを
特徴とする光情報記録媒体。 (11)請求項(10)記載の光情報記録媒体において
、前記基板の表面及び周面、それに前記記録膜または反
射膜の表面にハロゲン化樹脂のプラズマ重合膜と紫外線
硬化樹脂膜とを積層状に形成し、この積層膜上に保護膜
を形成したことを特徴とする光情報記録媒体。 (12)請求項(10)記載の光情報記録媒体において
、前記記録膜または反射膜の表面に保護膜を形成し、こ
の保護膜の表面、およびこれら保護膜および基板の各周
面に前記ハロゲン化樹脂のプラズマ重合膜の形成すると
共に、基板の表面には紫外線硬化樹脂膜とハロゲン化樹
脂のプラズマ重合膜との積層膜を形成したことを特徴と
する光情報記録媒体。 (13)請求項(10)記載の光情報記録媒体において
、前記記録膜または反射膜の表面に保護膜を形成し、基
板の表面に紫外線硬化樹脂膜とハロゲン化樹脂のプラズ
マ重合膜との積層を形成すると共に、基板の周面に前記
ハロゲン化樹脂のプラズマ重合膜を形成したことを特徴
とする光情報記録媒体。 (14)請求項(10)記載の光情報記録媒体において
、前記記録膜または反射膜の表面に前記ハロゲン化樹脂
のプラズマ重合膜を形成し、このハロゲン化樹脂のプラ
ズマ重合膜上に保護膜を形成すると共に、この保護膜の
表面と保護膜および基板の各周面に、前記ハロゲン化樹
脂のプラズマ重合膜を形成すると共に、基板の表面には
紫外線硬化樹脂膜とハロゲン化樹脂のプラズマ重合膜の
積層膜を形成したことを特徴とする光情報記録媒体。 (15)請求項(10)記載の光情報記録媒体において
、前記ハロゲン化樹脂のプラズマ重合膜が、フッ化炭素
系樹脂のプラズマ重合膜であることを特徴とする光情報
記録媒体。(16)請求項(1)〜(15)記載の光情
報記録媒体において、前記基板が、ポリカーボネート製
であることを特徴とする光情報記録媒体。 (17)請求項(1)および請求項(16)記載の光情
報記録媒体において、前記保護膜が、紫外線硬化樹脂製
であることを特徴とする光情報記録媒体。 (18)片面に記録膜または反射膜が成膜され他面に紫
外線硬化樹脂膜を形成した基板を所定モノマーのプラズ
マガス雰囲気中に置き、所望の面にハロゲン化樹脂のプ
ラズマ重合膜を形成する工程を含むことを特徴とする光
情報記録媒体の製造方法。 (19)少なくとも記録膜または反射膜が成膜された基
板を所定モノマーのプラズマガス雰囲気中に置き、所望
の面にハロゲン化樹脂のプラズマ重合膜を形成する工程
を含むことを特徴とする光情報記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63236510A JPH01169754A (ja) | 1987-09-25 | 1988-09-22 | 光情報記録媒体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62-238986 | 1987-09-25 | ||
| JP23898687 | 1987-09-25 | ||
| JP63236510A JPH01169754A (ja) | 1987-09-25 | 1988-09-22 | 光情報記録媒体及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01169754A true JPH01169754A (ja) | 1989-07-05 |
Family
ID=26532711
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63236510A Pending JPH01169754A (ja) | 1987-09-25 | 1988-09-22 | 光情報記録媒体及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01169754A (ja) |
-
1988
- 1988-09-22 JP JP63236510A patent/JPH01169754A/ja active Pending
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