JPH01169A - 石英系光通信ファイバ用被覆組成物 - Google Patents
石英系光通信ファイバ用被覆組成物Info
- Publication number
- JPH01169A JPH01169A JP62-223813A JP22381387A JPH01169A JP H01169 A JPH01169 A JP H01169A JP 22381387 A JP22381387 A JP 22381387A JP H01169 A JPH01169 A JP H01169A
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- JP
- Japan
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- optical communication
- groups
- based optical
- composition
- silica
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Links
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、石英系光通信ファイバ用被覆材組成物に関す
る。
る。
[従来の技術]
コア部、クラッド部が共に石英を主成分とし、微量のゲ
ルマニウム、リン等の屈折率調節剤を含有する石英系光
通信ファイバは、その細径性、耐熱性、耐候性、可撓性
、低損失性、大容聞伝送性などの利点から公衆通信、長
距離通信等の通信媒体として広く使用されている。また
一般に石英系光通信フ乙イバ表面には、強度保持、スト
レス緩和、外力によるマイクロベンディングを防止する
目的で一次被覆した後に、最終的な被覆が施されている
。そしてこの−次被覆の内側にプライマリ−コートとし
てウレタン、フェニルシリコーンなどの高屈折率のもの
により被覆されている。
ルマニウム、リン等の屈折率調節剤を含有する石英系光
通信ファイバは、その細径性、耐熱性、耐候性、可撓性
、低損失性、大容聞伝送性などの利点から公衆通信、長
距離通信等の通信媒体として広く使用されている。また
一般に石英系光通信フ乙イバ表面には、強度保持、スト
レス緩和、外力によるマイクロベンディングを防止する
目的で一次被覆した後に、最終的な被覆が施されている
。そしてこの−次被覆の内側にプライマリ−コートとし
てウレタン、フェニルシリコーンなどの高屈折率のもの
により被覆されている。
従来、この−法被覆材には低級アルケニル基含有オルガ
ノポリシロキサンとケイ素原子結合水素原子含有オルガ
ノポリシロキサンとが白金系触媒の存在下に付加反応し
硬化する付加反応硬化型シリコーン組成物が用いられて
いた。しかしながら、この硬化型シリコーン組成物で被
覆した石英系光通信ファイバは光伝送特性が低下すると
いう欠点を有していた。これは、Electron、
Lett、 19,1983゜または昭和59年度電
子通信学会総合全国大会、講演論文集〜α1126等に
示される様に、付加反応硬化型シリコーン組成物の硬化
時に発生する水素ガスが、石英系光通信ファイバ中に屈
折率調節・剤として撤回含有するゲルマニウムと反応し
て水酸基を形成し、これが赤外域の光を吸収して光伝送
特性を低下させるものと考えられている。
ノポリシロキサンとケイ素原子結合水素原子含有オルガ
ノポリシロキサンとが白金系触媒の存在下に付加反応し
硬化する付加反応硬化型シリコーン組成物が用いられて
いた。しかしながら、この硬化型シリコーン組成物で被
覆した石英系光通信ファイバは光伝送特性が低下すると
いう欠点を有していた。これは、Electron、
Lett、 19,1983゜または昭和59年度電
子通信学会総合全国大会、講演論文集〜α1126等に
示される様に、付加反応硬化型シリコーン組成物の硬化
時に発生する水素ガスが、石英系光通信ファイバ中に屈
折率調節・剤として撤回含有するゲルマニウムと反応し
て水酸基を形成し、これが赤外域の光を吸収して光伝送
特性を低下させるものと考えられている。
この問題を解決するために、水素ガスの発生日を減少さ
せることを目的とした付加反応硬化型シリコーン組成物
が提案されている。
せることを目的とした付加反応硬化型シリコーン組成物
が提案されている。
例えば、特開昭60−255649号公報には、ケイ素
原子結合水素原子と全脂肪族不飽和基とのモル比を1.
0に近い値にコントロールしたシリコーン組成物が開示
されており、また、特開昭6’1−52616号公報に
は白金系化合物触媒の舟を通常使用されている0以上に
含有させたシリコーン組成物が開示されている。
原子結合水素原子と全脂肪族不飽和基とのモル比を1.
0に近い値にコントロールしたシリコーン組成物が開示
されており、また、特開昭6’1−52616号公報に
は白金系化合物触媒の舟を通常使用されている0以上に
含有させたシリコーン組成物が開示されている。
[発明が解決しようとする問題点]
ところが、前者のシリコーン組成物は硬化速度が遅いも
のであり、得られるシリコーン被覆材は、硬化不足とな
り易く軟かいものになる。このため、できあがった石英
系光通信ファイバは変形し易くなる。また、後者のシリ
コーン組成物は着色したシリコーン被覆材となり、さら
に、使用に際しては触媒が多い分だけ硬化速度のコント
ロールが難しいと言う問題点があり、十分満足できるも
のではなかった。
のであり、得られるシリコーン被覆材は、硬化不足とな
り易く軟かいものになる。このため、できあがった石英
系光通信ファイバは変形し易くなる。また、後者のシリ
コーン組成物は着色したシリコーン被覆材となり、さら
に、使用に際しては触媒が多い分だけ硬化速度のコント
ロールが難しいと言う問題点があり、十分満足できるも
のではなかった。
本発明者らは前記問題点を解消すべく鋭意検討した結果
本発明に到達した。
本発明に到達した。
本発明の目的は硬化が迅速であり、水素ガスの発生量が
皆無に近い石英系光通信ファイバ用被覆材組成物を提供
するにある。
皆無に近い石英系光通信ファイバ用被覆材組成物を提供
するにある。
[問題点の解決手段とその作用]
前記した目的は、
(A) 1分子中に少なくとも2個の低級アルケニル基
を有し、分子中に含まれる全有機基に占めるアリール基
の量は101/31モル%未満であり、かつ、25℃に
おける粘度が100〜20,000センチポイズの範囲
内にあるオルガノポリシロキサン、 (B) R1 H8i○1/2単位(R1は1価の炭化水素M)、Rざ
SiO単位(R2は水素原子または1価の炭化水素m>
、R35r○3/2単位(R3は水素原子または1価
の炭化水素基)および/またはSi 02単位から成り
、分子中に含まれる全有機基に占めるアリール基の瓜が
100/101モル%未満であり、かつ、平均分子線1
000〜30,000のオルガノハイドロジエンポリシ
ロキサン、本組成物中の全ケイ素原子結合水素原子と全
低級アルケニル基とのモル比が 0.75 : 1.00〜1.05:1.00になるよ
うな口、および 0 白金系化合物 (A)成分と■成分の合計ff1100万重最部に対し
て白金金属として0.5〜500重0部から成ることを
特徴とする石英系光通信フ?イバ用被覆材組成物によっ
て達成される。
を有し、分子中に含まれる全有機基に占めるアリール基
の量は101/31モル%未満であり、かつ、25℃に
おける粘度が100〜20,000センチポイズの範囲
内にあるオルガノポリシロキサン、 (B) R1 H8i○1/2単位(R1は1価の炭化水素M)、Rざ
SiO単位(R2は水素原子または1価の炭化水素m>
、R35r○3/2単位(R3は水素原子または1価
の炭化水素基)および/またはSi 02単位から成り
、分子中に含まれる全有機基に占めるアリール基の瓜が
100/101モル%未満であり、かつ、平均分子線1
000〜30,000のオルガノハイドロジエンポリシ
ロキサン、本組成物中の全ケイ素原子結合水素原子と全
低級アルケニル基とのモル比が 0.75 : 1.00〜1.05:1.00になるよ
うな口、および 0 白金系化合物 (A)成分と■成分の合計ff1100万重最部に対し
て白金金属として0.5〜500重0部から成ることを
特徴とする石英系光通信フ?イバ用被覆材組成物によっ
て達成される。
これを説明すると、(A)成分は本発明組成物の主成分
であり、1分子中に少なくとも2個の低級アルケニル基
を有撮基として含有するオルガノポリシロキサンである
。かかる低級アルケニル基としてはビニル基、フリル基
が例示される。低級アルケニル基以外の有機基としては
メチル基、エチル基、プロピル基などのアルキル基:フ
ェニル基、トリル基などのアリール基が例示される。本
発明においては、このような分子中に含まれる有機基に
占めるメチル基の艮は95モル%以上であることが好ま
しく、97モル%以上がより好ましい。特に、フェニル
基等のアリール基を含有する場合には、分子中に含まれ
る全盲gilJJに占めるアリール基のmは101/3
1モル%未満であることが必要である。このオルガノポ
リシロキサンの分子構造は、直鎖状の構造でも枝分れを
持つ樹脂状の構造でもよく、また、これらの混合物でも
よいが、少なくとも粘性を持つ流体で25℃における粘
度が100〜20.000センチストークスの範囲内の
ものが好ましい。なお、本成分には微量の水酸基やアル
コキシ基を含有していてもよい。
であり、1分子中に少なくとも2個の低級アルケニル基
を有撮基として含有するオルガノポリシロキサンである
。かかる低級アルケニル基としてはビニル基、フリル基
が例示される。低級アルケニル基以外の有機基としては
メチル基、エチル基、プロピル基などのアルキル基:フ
ェニル基、トリル基などのアリール基が例示される。本
発明においては、このような分子中に含まれる有機基に
占めるメチル基の艮は95モル%以上であることが好ま
しく、97モル%以上がより好ましい。特に、フェニル
基等のアリール基を含有する場合には、分子中に含まれ
る全盲gilJJに占めるアリール基のmは101/3
1モル%未満であることが必要である。このオルガノポ
リシロキサンの分子構造は、直鎖状の構造でも枝分れを
持つ樹脂状の構造でもよく、また、これらの混合物でも
よいが、少なくとも粘性を持つ流体で25℃における粘
度が100〜20.000センチストークスの範囲内の
ものが好ましい。なお、本成分には微量の水酸基やアル
コキシ基を含有していてもよい。
本成分の具体的な例としては、両末端ジメチルビニルシ
ロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン、両末端ジメチル
ビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルとニ
ルシロキサン共重合体、両末端ジメチルビニルシロキシ
基封鎖ジメチルシロキサン・メチルフェニルシロキサン
共重合体、上記各ポリシロキサンの末端封鎖基をメ°チ
ルフェニルビニルシOキシ基に替えたもの、(CH3)
s Si O1/2単位、(CH3)25io単位、
CHsSi 03/2単位、CH3(CH2=CH)S
iO単位、(CH3)2 (CH2=CH)Si 01
/2単位、CH3(CeHs)SiO単位、Si 02
単位の内少なくとも3秤類以上の単位で構成される共重
合体があげられる。
ロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン、両末端ジメチル
ビニルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルとニ
ルシロキサン共重合体、両末端ジメチルビニルシロキシ
基封鎖ジメチルシロキサン・メチルフェニルシロキサン
共重合体、上記各ポリシロキサンの末端封鎖基をメ°チ
ルフェニルビニルシOキシ基に替えたもの、(CH3)
s Si O1/2単位、(CH3)25io単位、
CHsSi 03/2単位、CH3(CH2=CH)S
iO単位、(CH3)2 (CH2=CH)Si 01
/2単位、CH3(CeHs)SiO単位、Si 02
単位の内少なくとも3秤類以上の単位で構成される共重
合体があげられる。
(B)成分は本発明の特徴をなす成分である。
これは(A)成分の架橋剤としての働きをし、0成分の
触媒作用により本成分中のケイ素原子結合水素原子が(
A)成分中の低級アルケニル基と付加反応して硬化し、
水素ガス発生量が皆無に近いシリコーンゴム層を形成す
ると言う作用効果を示す。
触媒作用により本成分中のケイ素原子結合水素原子が(
A)成分中の低級アルケニル基と付加反応して硬化し、
水素ガス発生量が皆無に近いシリコーンゴム層を形成す
ると言う作用効果を示す。
R251o単位、R3Si O3/2および/またはS
i 02単位から成るオルガノポリシロキサンであるこ
とを必須とする。
i 02単位から成るオルガノポリシロキサンであるこ
とを必須とする。
ここで、R1はメチル基、エチル基、プロピル基などの
アルキル基ニジクロヘキシル基などのシクロアルキル基
あるいはこれらの水素原子が部分的にハロゲン原子など
で置換された基で代表される1価の炭化水素基であり、
R2とR3は、R1と同様な1価の炭化水素基または水
素原子である。また、上式中、ノボリシロキサンの分子
鎖末端に存在しケイ素原子結合水素原子を含む基として
は、ジメチルハイドロジエンシロキシ基、メチルフェニ
ルハイドロジエンシロキシ基が代表例として挙げられる
。また、RjSi O単位すなわち主鎖を形成する単位
およびまたはR3Si 03/2単位すなわち分枝鎖を
形成する単位の中にケイ素原子結合水素原子を含有して
もよいが、この場合のケイ素原子結合水素原子の凶は咎
成分中に含まれる全ケイ素原子結合水素原子量に対して
10重量%以下である。またこれらの単位にフェニル基
等のアリ←≠。また、本成分にはケイ素原子に結合する
水酸基やアルコキシ基を少量含有してもよい。
アルキル基ニジクロヘキシル基などのシクロアルキル基
あるいはこれらの水素原子が部分的にハロゲン原子など
で置換された基で代表される1価の炭化水素基であり、
R2とR3は、R1と同様な1価の炭化水素基または水
素原子である。また、上式中、ノボリシロキサンの分子
鎖末端に存在しケイ素原子結合水素原子を含む基として
は、ジメチルハイドロジエンシロキシ基、メチルフェニ
ルハイドロジエンシロキシ基が代表例として挙げられる
。また、RjSi O単位すなわち主鎖を形成する単位
およびまたはR3Si 03/2単位すなわち分枝鎖を
形成する単位の中にケイ素原子結合水素原子を含有して
もよいが、この場合のケイ素原子結合水素原子の凶は咎
成分中に含まれる全ケイ素原子結合水素原子量に対して
10重量%以下である。またこれらの単位にフェニル基
等のアリ←≠。また、本成分にはケイ素原子に結合する
水酸基やアルコキシ基を少量含有してもよい。
このような■成分の具体例としては、両末端ジメチルハ
イドロジエンシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン、
両末端ジメチルハイドロジエンシロキシ基封鎖ジメチル
シロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体、両末
端メチルフェニルハイドロジエンシロキシ基封鎖ジメチ
ルポリシロキサン、両末端メチルフェニルハイドロジエ
ンシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルフェニル
シロキサン共重合体およびこれらのポリシロキサンが枝
分れしたオルガノハイドロジエンポリシロキサンが挙げ
られる。
イドロジエンシロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン、
両末端ジメチルハイドロジエンシロキシ基封鎖ジメチル
シロキサン・メチルフェニルシロキサン共重合体、両末
端メチルフェニルハイドロジエンシロキシ基封鎖ジメチ
ルポリシロキサン、両末端メチルフェニルハイドロジエ
ンシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルフェニル
シロキサン共重合体およびこれらのポリシロキサンが枝
分れしたオルガノハイドロジエンポリシロキサンが挙げ
られる。
本発明においては、■)成分のケイ素原子結合水素原子
の含有岱は0.1〜0.9重量%の範囲内にあることが
好ましい。これは、0.1重Φ%未満になると硬化が不
十分となり、一方、0.9重量%を越えると石英系光通
信ファイバ用被覆材料として適した硬度を有する被覆材
とならないことがあるからである。このようなオルガノ
ポリシロキサンは、例えばR3Si C!、、R2Si
C12、R8i C13および水を共加水分解反応さ
せることによって得られる共加水分解物とオルガノハイ
ドロジエンポリシロキサンとジオルガノポリシロキサン
とを酸触媒の存在下に加熱平衡化反応させることによっ
て容易に得られる。
の含有岱は0.1〜0.9重量%の範囲内にあることが
好ましい。これは、0.1重Φ%未満になると硬化が不
十分となり、一方、0.9重量%を越えると石英系光通
信ファイバ用被覆材料として適した硬度を有する被覆材
とならないことがあるからである。このようなオルガノ
ポリシロキサンは、例えばR3Si C!、、R2Si
C12、R8i C13および水を共加水分解反応さ
せることによって得られる共加水分解物とオルガノハイ
ドロジエンポリシロキサンとジオルガノポリシロキサン
とを酸触媒の存在下に加熱平衡化反応させることによっ
て容易に得られる。
また、本発明においては、■成分の平均分子量が500
〜30,000の範囲内であるコトが必要テアリ、10
00〜10.oOOの範囲のものが好ましい。
〜30,000の範囲内であるコトが必要テアリ、10
00〜10.oOOの範囲のものが好ましい。
これは、平均分子量が500未満になると西成分の沸点
が低すぎるか(B)成分中の低沸点物が増大し、これが
硬化時に揮散することがあり、一方、平均分子量が30
,000を越えると分子鎖末端に存在するケイ素原子結
合水素原子の回が少なくなり、いずれも硬化が不十分と
なるからである。
が低すぎるか(B)成分中の低沸点物が増大し、これが
硬化時に揮散することがあり、一方、平均分子量が30
,000を越えると分子鎖末端に存在するケイ素原子結
合水素原子の回が少なくなり、いずれも硬化が不十分と
なるからである。
(2)成分の配合割合は、本発明組成物中の全ケイ素原
子結合水素原子と全低級アルケニルMと(r)モ)1.
、比が0.75 : 1.00〜1.05 : 1.0
0になるような缶であることが必要である。
子結合水素原子と全低級アルケニルMと(r)モ)1.
、比が0.75 : 1.00〜1.05 : 1.0
0になるような缶であることが必要である。
(0成分の白金系化合物は(A)成分と■成分とを付加
反応により硬化させるための触媒であり、これには、微
粒子状白金金属、白金金属を各種担体に吸着させた微粒
子状白金、塩化白金酸、アルコール変性の塩化白金酸、
塩化白金酸とオレフィン類とのコンプレックス、塩化白
金酸あるいはそのオレフィン類とのコンプレックスをケ
トン、エーテルなどの溶剤に溶解したものが挙げられる
。0成分の使用母は(A)成分と■成分の合計量に対し
て白金系金属としテ0.5〜10001)I)11 、
好t、<は1〜’+ooppmの範囲内である。
反応により硬化させるための触媒であり、これには、微
粒子状白金金属、白金金属を各種担体に吸着させた微粒
子状白金、塩化白金酸、アルコール変性の塩化白金酸、
塩化白金酸とオレフィン類とのコンプレックス、塩化白
金酸あるいはそのオレフィン類とのコンプレックスをケ
トン、エーテルなどの溶剤に溶解したものが挙げられる
。0成分の使用母は(A)成分と■成分の合計量に対し
て白金系金属としテ0.5〜10001)I)11 、
好t、<は1〜’+ooppmの範囲内である。
本発明においては本発明組成物の硬化速度を調節し、水
素ガスの発生社をより効果的に抑えるために(A)〜0
成分に加えて(D)成分として1分子中に少なくとも1
個のアルケニル基を有する化合物を加えることが好まし
い。
素ガスの発生社をより効果的に抑えるために(A)〜0
成分に加えて(D)成分として1分子中に少なくとも1
個のアルケニル基を有する化合物を加えることが好まし
い。
このような■)成分は、1分子中に少なくとも1個のア
ルケニル基を有する化合物であり、その化学構造は特に
制限されない。本成分の具体例としては、次のような化
合物が例示される。
ルケニル基を有する化合物であり、その化学構造は特に
制限されない。本成分の具体例としては、次のような化
合物が例示される。
□H0H
CH。
CH,−st÷Q −C−CミOH)。
CH。
(D)成分の添加母は、本成分中の全アルキニル基と0
成分中の白金系化合物との比率が重伍比で1.0:1.
0〜15.0:1.0となるような最が必要であり、好
ましくは3.0:1.0〜12.0:1.0となるよう
な量である。
成分中の白金系化合物との比率が重伍比で1.0:1.
0〜15.0:1.0となるような最が必要であり、好
ましくは3.0:1.0〜12.0:1.0となるよう
な量である。
なお、本発明組成物に0成分を含有する場合には、前記
した(2)成分の配合割合は、■成分中の全ケイ素原子
結合水素原子のモル数と、(A)成分中のアルケニル基
およびの)成分中のアルキニル基の全脂肪族不飽和基と
のモル数の合計量との比率が、0.75:1.00〜1
.05:1.00の範囲内になることが必要である。
した(2)成分の配合割合は、■成分中の全ケイ素原子
結合水素原子のモル数と、(A)成分中のアルケニル基
およびの)成分中のアルキニル基の全脂肪族不飽和基と
のモル数の合計量との比率が、0.75:1.00〜1
.05:1.00の範囲内になることが必要である。
本発明組成物は、前記した(A)〜00部もしくは(A
)〜(0)成分の所定量を従来公知の方法によって混合
することによって容易に得られる。
)〜(0)成分の所定量を従来公知の方法によって混合
することによって容易に得られる。
また、本発明組成物を石英系光通信ファイバに被覆する
方法としては、例えば、これを塗布ダイを使用し石英系
光通信ファイバ表面に塗布した後加熱硬化して被覆する
ことができる。
方法としては、例えば、これを塗布ダイを使用し石英系
光通信ファイバ表面に塗布した後加熱硬化して被覆する
ことができる。
また、本発明組成物に必要に応じて従来公知の添加剤、
例えば、乾式法シリカ、湿式法シリカ等のシリカ類、金
属酸化物、マイカ、タルク、顔料等を添加配合すること
は本発明の目的を損わない限り差支えない。
例えば、乾式法シリカ、湿式法シリカ等のシリカ類、金
属酸化物、マイカ、タルク、顔料等を添加配合すること
は本発明の目的を損わない限り差支えない。
[実 施 例]
次に実施例にて本発明を説明する。
実施例中、部は重囚部、含有量を表わすときのパーセン
トは重量パーセント、viはビニル基、Meはメチル基
を示し、粘度は25℃における値を示す。
トは重量パーセント、viはビニル基、Meはメチル基
を示し、粘度は25℃における値を示す。
また、水素ガスの発生量の測定および硬化速度の測定は
次の方法によった。
次の方法によった。
く水素ガス発生量の測定方法〉
本発明組成物を加熱硬化させシリコーンゴムシート(1
cmx5cn+xO,2cm)を作成し、これを200
℃/1時間の条件下で加熱した。次いt発生した水素ガ
スをガスクロマトグラフィーにより定量した。測定値は
1気圧、25℃の値に換算しμt/嘗の単位で示した。
cmx5cn+xO,2cm)を作成し、これを200
℃/1時間の条件下で加熱した。次いt発生した水素ガ
スをガスクロマトグラフィーにより定量した。測定値は
1気圧、25℃の値に換算しμt/嘗の単位で示した。
く硬化速度の測定方法〉
本発明組成物をキュラストメータ[東洋ボードウィン■
製JSRキュラストメータ]に入れ、150℃の温度条
件下で硬化させ、硬化したシリコーンゴムの硬さの変化
を追跡した。測定値は完全に硬化したシリコーンゴムの
硬さを100とし、これの70%硬さまで硬化するに要
した加熱時間を硬化速度とした。
製JSRキュラストメータ]に入れ、150℃の温度条
件下で硬化させ、硬化したシリコーンゴムの硬さの変化
を追跡した。測定値は完全に硬化したシリコーンゴムの
硬さを100とし、これの70%硬さまで硬化するに要
した加熱時間を硬化速度とした。
[実施例1]
粘度2400センチポイズの両末端ジメチルビニルシロ
キシ基封鎖ジメチルポリシOキサン100部、(Me
) 2 H8i O1/2単位、(Me )zsi O
単位、(Me )lsi 03部2単位からなり、その
モル比が40:30:30であるオルガノハイドロジエ
ンポリシロキサン(平均分子ε1500)15部、 CH3 ! 式 CH35i−4−0−C−C=CH) sHs で示される有機ケイ素化合物0.01部、塩化白金酸の
オクチルアルコール溶液(白金含有ff10.5%)0
.5部を混合し石英系光通信ガラスファイバ用被覆材組
成物を得た。このものの硬化速度をキュラストメータで
測定したところ、70%まで硬化するのに7秒間を要し
た。また、200℃、3分間の条件下で加熱硬化させた
シリコーンゴムシートについて水素ガスの発生量を測定
したところ、その量は0.4μt/fであった。次に上
記で得られた′被覆材組成物の中に直径125μの石英
系光通信ガラスファイバを単線状で浸漬し、これを直ち
に引き上げ垂直状にて300℃の熱気中に2秒間保った
ところ、膜厚40μのシリコーンゴムにて被覆された石
英系光通信ファイバが得られた。このシリコーンゴム被
覆層には気泡が存在せず、無色透明であった。
キシ基封鎖ジメチルポリシOキサン100部、(Me
) 2 H8i O1/2単位、(Me )zsi O
単位、(Me )lsi 03部2単位からなり、その
モル比が40:30:30であるオルガノハイドロジエ
ンポリシロキサン(平均分子ε1500)15部、 CH3 ! 式 CH35i−4−0−C−C=CH) sHs で示される有機ケイ素化合物0.01部、塩化白金酸の
オクチルアルコール溶液(白金含有ff10.5%)0
.5部を混合し石英系光通信ガラスファイバ用被覆材組
成物を得た。このものの硬化速度をキュラストメータで
測定したところ、70%まで硬化するのに7秒間を要し
た。また、200℃、3分間の条件下で加熱硬化させた
シリコーンゴムシートについて水素ガスの発生量を測定
したところ、その量は0.4μt/fであった。次に上
記で得られた′被覆材組成物の中に直径125μの石英
系光通信ガラスファイバを単線状で浸漬し、これを直ち
に引き上げ垂直状にて300℃の熱気中に2秒間保った
ところ、膜厚40μのシリコーンゴムにて被覆された石
英系光通信ファイバが得られた。このシリコーンゴム被
覆層には気泡が存在せず、無色透明であった。
[実施例2]
粘度10000センチポイズの両末端ジメチルビニルシ
ロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン100部、Vi(
Me)2 S:01/2単位とSi 02単位から成り、そのモル
比が2=1である粘度150センチボイスのメチルビニ
ルポリシロキサン5部およびH(Me)2si 01/
a単位と(Me ) 3si 01 /22部、(Me
) 2SiO単位、Me Si 03/2単位から成
り、そのモル比が20:10:45:25である平均分
子ff12000のポリシロキサン15部、3−メチル
1−ブチン3−オール0.01部およびジビニルテトラ
メチルジシロキサンと塩化白金酸との錯体を全体で15
p1)11になるように混合し、石英系光通信ファイバ
用被覆材組成物を得た。
ロキシ基封鎖ジメチルポリシロキサン100部、Vi(
Me)2 S:01/2単位とSi 02単位から成り、そのモル
比が2=1である粘度150センチボイスのメチルビニ
ルポリシロキサン5部およびH(Me)2si 01/
a単位と(Me ) 3si 01 /22部、(Me
) 2SiO単位、Me Si 03/2単位から成
り、そのモル比が20:10:45:25である平均分
子ff12000のポリシロキサン15部、3−メチル
1−ブチン3−オール0.01部およびジビニルテトラ
メチルジシロキサンと塩化白金酸との錯体を全体で15
p1)11になるように混合し、石英系光通信ファイバ
用被覆材組成物を得た。
この組成物のケイ素原子結合水素原子と全脂肪tS不飽
和基のモル比は0.9であった。このものの硬化速度を
キュラストメータで測定したところ、70%硬化するま
で16秒間を要した。
和基のモル比は0.9であった。このものの硬化速度を
キュラストメータで測定したところ、70%硬化するま
で16秒間を要した。
また、このものを200℃、3分間の条件下で硬化させ
シリコーンゴムシートを作成した後、水素ガス発生Gを
測定したところ、その沿は2μt/9であった。次に上
記で得られた被覆材組成物中に直径125μの石英系光
通信ガラスファイバを単線状で浸漬し、これを直ちに引
き上げ垂直状にて300℃の熱気中に2秒間保ったとこ
ろ、膜厚60μのシリコーンゴムにて被覆された石英系
光通信ガラスファイバが得られた。
シリコーンゴムシートを作成した後、水素ガス発生Gを
測定したところ、その沿は2μt/9であった。次に上
記で得られた被覆材組成物中に直径125μの石英系光
通信ガラスファイバを単線状で浸漬し、これを直ちに引
き上げ垂直状にて300℃の熱気中に2秒間保ったとこ
ろ、膜厚60μのシリコーンゴムにて被覆された石英系
光通信ガラスファイバが得られた。
このシリコーンゴム被覆層には気泡が存在せず無色透明
で均一であった。
で均一であった。
[実施例3]
粘度10000センチポイズの両末端ジメチルビニルシ
ロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキ
サン共千合体〈ビニル基含有小0.4%>100部、(
Me)2Vi Si 01/2 単位トMe 3Si
O1/2単位およびSi 02単位から成りビニル基含
有m5%のオルガノポリシロキサンが30 : 40
: 20 : 10である平均分子ff12000のメ
チルハイドロジエンポリシロキサン7部を加えて混合し
た。
ロキシ基封鎖ジメチルシロキサン・メチルビニルシロキ
サン共千合体〈ビニル基含有小0.4%>100部、(
Me)2Vi Si 01/2 単位トMe 3Si
O1/2単位およびSi 02単位から成りビニル基含
有m5%のオルガノポリシロキサンが30 : 40
: 20 : 10である平均分子ff12000のメ
チルハイドロジエンポリシロキサン7部を加えて混合し
た。
次いで、これに3−フェニル1−ブチン3−オール0.
01部およびジビニルテトラメチルジシロキサンと塩化
白金酸との錯体を全体で1opp+aによるように混合
し石英系光通信ファイバ用被覆材組成物を得た。
01部およびジビニルテトラメチルジシロキサンと塩化
白金酸との錯体を全体で1opp+aによるように混合
し石英系光通信ファイバ用被覆材組成物を得た。
なお、この組成物のケイ素原子結合水素原子と全脂肪族
不飽和基の比率は0.90であった。この組成物の硬化
速度はキュラストメータで測定すると70%硬化するま
で18秒であった。また、この組成物の水素ガス発生量
は、200℃、1分間の条件下で硬化させたシリコーン
ゴムについて1μ!、/9であった。
不飽和基の比率は0.90であった。この組成物の硬化
速度はキュラストメータで測定すると70%硬化するま
で18秒であった。また、この組成物の水素ガス発生量
は、200℃、1分間の条件下で硬化させたシリコーン
ゴムについて1μ!、/9であった。
次に上記で得られた被覆材組成物中に直径125μの石
英系光通信用ガラスファイバを単線状で浸漬し直ちに引
き上げ垂直状にして300’Cの熱気中にて2秒間保っ
たところ、膜厚6oμのシリコーンゴムにて被覆された
石英系光通信ガラスファイバが得られた。
英系光通信用ガラスファイバを単線状で浸漬し直ちに引
き上げ垂直状にして300’Cの熱気中にて2秒間保っ
たところ、膜厚6oμのシリコーンゴムにて被覆された
石英系光通信ガラスファイバが得られた。
[比較例11
粘度2500センチポイズの両末端ジメヂルビニルシロ
キシ基封鎖ジメチルポリシロキサン100部、トリメチ
ルシロキシ基封鎖のメチルハイドロジエンポリシロキサ
ン0.6部を加えて混合し、次いでこれに3−フェニル
1−ブチン3−オール 0.01部およびジビニルテトラメチルポリシロキサン
と塩化白金酸との錯体を全体で10ppmになるように
混合し石英系光通信ファイバ用被覆材組成物を得た。こ
こでケイ素原子結合水素原子と全脂肪族不飽和基とのモ
ル比は1.2’t’あった。この組成物の硬化速度を実
施例3と同様にして測定したところ、70%硬化するま
で5秒であった。また、150℃、30分間の条件下で
硬化させて作成したシリコーンゴムシートからの水素ガ
ス発生ωを測定したところ、700μf/9もの水素ガ
スの発生が測定された。
キシ基封鎖ジメチルポリシロキサン100部、トリメチ
ルシロキシ基封鎖のメチルハイドロジエンポリシロキサ
ン0.6部を加えて混合し、次いでこれに3−フェニル
1−ブチン3−オール 0.01部およびジビニルテトラメチルポリシロキサン
と塩化白金酸との錯体を全体で10ppmになるように
混合し石英系光通信ファイバ用被覆材組成物を得た。こ
こでケイ素原子結合水素原子と全脂肪族不飽和基とのモ
ル比は1.2’t’あった。この組成物の硬化速度を実
施例3と同様にして測定したところ、70%硬化するま
で5秒であった。また、150℃、30分間の条件下で
硬化させて作成したシリコーンゴムシートからの水素ガ
ス発生ωを測定したところ、700μf/9もの水素ガ
スの発生が測定された。
[比較例2]
粘度2500センチボイズの両末端ジメチルビニルシロ
キシ基封鎖ジメチルポリシロキサン100部、H(Me
) 2Si O1/2単位、(Me)3si01/2
単位、Si 02単位からなり、ケイ素原子に結合した
水素原子の含有量が0.4%であるレジン状オルガノポ
リシロキサン2部、3メチル1−ブチル3−オール0.
01部、塩化白金酸のオクチルアルコール溶液(白金含
有ff10.5%)を混合し石英系光通信ガラスフ?イ
バ用被覆材組成物を得た。この組成物のケイ素原子結合
水素原子と全脂肪族不飽和基との比率は0.9であった
。
キシ基封鎖ジメチルポリシロキサン100部、H(Me
) 2Si O1/2単位、(Me)3si01/2
単位、Si 02単位からなり、ケイ素原子に結合した
水素原子の含有量が0.4%であるレジン状オルガノポ
リシロキサン2部、3メチル1−ブチル3−オール0.
01部、塩化白金酸のオクチルアルコール溶液(白金含
有ff10.5%)を混合し石英系光通信ガラスフ?イ
バ用被覆材組成物を得た。この組成物のケイ素原子結合
水素原子と全脂肪族不飽和基との比率は0.9であった
。
この組成物の硬化速度を実施例1と同様にして測定した
ところ、70%硬化するまでに42秒を要した。また2
00”C13分間の条件下で加熱硬化させたシリコーン
ゴムシートからの水素ガスの発生量は30μt/9であ
った。
ところ、70%硬化するまでに42秒を要した。また2
00”C13分間の条件下で加熱硬化させたシリコーン
ゴムシートからの水素ガスの発生量は30μt/9であ
った。
次に上記で得られた被覆材組成物の中に直径125μの
石英系光通信ガラスファイバを単線状で浸漬し、これを
直ちに引き上げ垂直状にて300℃の熱気中に2秒間保
ったところ、膜厚40μのシリコーンゴムにて被覆され
た石英系光通信ファイバが得られた。しかし、このシリ
コーンゴム被覆層は表面がべたついており、その硬化が
不十分であることが判った。
石英系光通信ガラスファイバを単線状で浸漬し、これを
直ちに引き上げ垂直状にて300℃の熱気中に2秒間保
ったところ、膜厚40μのシリコーンゴムにて被覆され
た石英系光通信ファイバが得られた。しかし、このシリ
コーンゴム被覆層は表面がべたついており、その硬化が
不十分であることが判った。
[比較例3]
H(Me ) 2si 01 /22部、(Me)2S
iO単位および(Me )Si 03部2単位よりなり
、そのモル比が3:1:1であるシリコーンレジン(ケ
イ素原子結合水素原子含有ff10.9%)を合成した
。このシリコーンレジンは沸点 150℃/3薗以下であり、ゲルパーミエイションガス
クロマトグラフイで分析したポリスチレン換算の平均分
子団(数平均分子量)は500であった。
iO単位および(Me )Si 03部2単位よりなり
、そのモル比が3:1:1であるシリコーンレジン(ケ
イ素原子結合水素原子含有ff10.9%)を合成した
。このシリコーンレジンは沸点 150℃/3薗以下であり、ゲルパーミエイションガス
クロマトグラフイで分析したポリスチレン換算の平均分
子団(数平均分子量)は500であった。
次に、このシリコーンレジン1部、粘度2000センチ
ストークスの両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメ
チルポリシOキサン100部、3メチル1ブチン3オー
ルo、oi部、塩化白金酸のオクチルアルコール溶液(
白金含有ω0.5%)0.5部を混合し石英系光通信ガ
ラスファイバ用被覆材組成物を得た。
ストークスの両末端ジメチルビニルシロキシ基封鎖ジメ
チルポリシOキサン100部、3メチル1ブチン3オー
ルo、oi部、塩化白金酸のオクチルアルコール溶液(
白金含有ω0.5%)0.5部を混合し石英系光通信ガ
ラスファイバ用被覆材組成物を得た。
この組成物を200℃、3分間の条件下で硬化させたと
ころ、硬化物の表面は滑らかではなく、この組成物は石
英系光通信ファイバ用被覆材としては適さないことが判
った。
ころ、硬化物の表面は滑らかではなく、この組成物は石
英系光通信ファイバ用被覆材としては適さないことが判
った。
[発明の効果]
本発明は、■成分である特定のオルガノハイドロジエン
ポリシロキサンを架橋剤とする付加反応硬化型シリコー
ン組成物から成る石英系光通信ファイバ用被覆材組成物
なので、硬化が迅速であり、特に水素ガスの発生ωが皆
無に近いという特徴を有する。かかる特徴を生かして石
英系光通信ファイバ用被覆材として、好適に使用できる
。さらに、本発明の石英系光通信ファイバ用組成物によ
り被覆された石英系光通信ファイバは、被覆材より発生
する水素ガスに起因する伝送損失がなく、公衆通信用お
よび長距離通信用の石英系光通信ファイバとして好適に
使用できる。
ポリシロキサンを架橋剤とする付加反応硬化型シリコー
ン組成物から成る石英系光通信ファイバ用被覆材組成物
なので、硬化が迅速であり、特に水素ガスの発生ωが皆
無に近いという特徴を有する。かかる特徴を生かして石
英系光通信ファイバ用被覆材として、好適に使用できる
。さらに、本発明の石英系光通信ファイバ用組成物によ
り被覆された石英系光通信ファイバは、被覆材より発生
する水素ガスに起因する伝送損失がなく、公衆通信用お
よび長距離通信用の石英系光通信ファイバとして好適に
使用できる。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (A)1分子中に少なくとも2個の低級アルケニル基を
有し、分子中に含まれる全有機基に占めるアリール基の
量は101/31モル%未満であり、かつ、25℃にお
ける粘度が100〜 20,000センチポイズの範囲内にあるオルガノポリ
シロキサン、 (B) ▲数式、化学式、表等があります▼1/2単位(R^1
は1価の炭化水 素基)、R^2_2SiO単位(R^2は水素原子また
は1価の炭化水素基)、R^3SiO^3/_2単位(
R^3は水素原子または1価の炭化水素基)および/ま
たはSiO_2単位から成り、分子中に含まれる全有機
基に占めるアリール基の量が100/101モル%未満
であり、かつ、平均分子量500〜30,000のオル
ガノハイドロジェンポリシロキサン 本組成物中の全ケイ素原子結合水素原子と 全低級アルケニル基とのモル比が0.75:1.00〜
1.05:1.00になるような量、および (C)白金系化合物 (A)成分と(B)成分の合計量100万重量部に対し
て白金金属として0.5〜500重量部から成ることを
特徴とする石英系光通信ファイバ用被覆材組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62-223813A JPH01169A (ja) | 1987-03-23 | 1987-09-07 | 石英系光通信ファイバ用被覆組成物 |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6831887 | 1987-03-23 | ||
| JP62-68318 | 1987-03-23 | ||
| JP62-223813A JPH01169A (ja) | 1987-03-23 | 1987-09-07 | 石英系光通信ファイバ用被覆組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS64169A JPS64169A (en) | 1989-01-05 |
| JPH01169A true JPH01169A (ja) | 1989-01-05 |
Family
ID=
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