JPH0117244B2 - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0117244B2 JPH0117244B2 JP59045565A JP4556584A JPH0117244B2 JP H0117244 B2 JPH0117244 B2 JP H0117244B2 JP 59045565 A JP59045565 A JP 59045565A JP 4556584 A JP4556584 A JP 4556584A JP H0117244 B2 JPH0117244 B2 JP H0117244B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- cover
- quartz
- holding device
- upper plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
- H10P72/10—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof using carriers specially adapted therefor, e.g. front opening unified pods [FOUP]
- H10P72/12—Vertical boat type carrier whereby the substrates are horizontally supported, e.g. comprising rod-shaped elements
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10P—GENERIC PROCESSES OR APPARATUS FOR THE MANUFACTURE OR TREATMENT OF DEVICES COVERED BY CLASS H10
- H10P72/00—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof
- H10P72/10—Handling or holding of wafers, substrates or devices during manufacture or treatment thereof using carriers specially adapted therefor, e.g. front opening unified pods [FOUP]
- H10P72/12—Vertical boat type carrier whereby the substrates are horizontally supported, e.g. comprising rod-shaped elements
- H10P72/123—Vertical boat type carrier whereby the substrates are horizontally supported, e.g. comprising rod-shaped elements characterised by a material, a roughness, a coating or the like
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は縦形拡散炉に用いるためのウエハー
保持装置に関するものである。
保持装置に関するものである。
近年、ウエハーの大口径化が進み、またウエハ
ーの製造工程の自動化が促進されているが、その
ようなウエハーの大口径化と自動化等を考えて、
縦形拡散炉が提案されるようになつた。従来の横
形拡散炉に比較して、縦形拡散炉は構造が簡単で
あり、炉の断面均熱特性が勝れており、ウエハー
の口径が大きくなつても制御がし易く、更にはウ
エハーの自重によるボート支持点部分の結晶欠陥
の発生が少なくなるなどという長所がある。
ーの製造工程の自動化が促進されているが、その
ようなウエハーの大口径化と自動化等を考えて、
縦形拡散炉が提案されるようになつた。従来の横
形拡散炉に比較して、縦形拡散炉は構造が簡単で
あり、炉の断面均熱特性が勝れており、ウエハー
の口径が大きくなつても制御がし易く、更にはウ
エハーの自重によるボート支持点部分の結晶欠陥
の発生が少なくなるなどという長所がある。
この発明はこのような実情に鑑みてなされたも
のであり、縦形拡散炉の長所を最大限に活かすこ
とのできるウエハー保持装置を提供することを目
的としている。
のであり、縦形拡散炉の長所を最大限に活かすこ
とのできるウエハー保持装置を提供することを目
的としている。
この目的を達成するための本発明の要旨とする
ところは、縦形拡散灯に用いるためのウエハー保
持装置において、上方プレートと下方プレートの
間に３本の保持部材を設けて載置式に構成し、各
保持部材を補強材とその補強材の周囲に設けられ
た石英製のカバーによつて構成し、その石英製の
カバーにウエハー用の係止溝を所定間隔毎に形成
し、上方プレートを全体的に石英のみで形成した
ことを特徴とするウエハー保持装置にある。
ところは、縦形拡散灯に用いるためのウエハー保
持装置において、上方プレートと下方プレートの
間に３本の保持部材を設けて載置式に構成し、各
保持部材を補強材とその補強材の周囲に設けられ
た石英製のカバーによつて構成し、その石英製の
カバーにウエハー用の係止溝を所定間隔毎に形成
し、上方プレートを全体的に石英のみで形成した
ことを特徴とするウエハー保持装置にある。
この発明は以上のような構成になつているの
で、多数のウエハーを保持しても十分に強度が得
られるとともに、炉心管内の清浄化が極めて容易
であるという大きな効果がある。上方プレートと
下方プレートの間に３本の保持部材を設け、それ
らの保持部材を構成する石英製のカバーに係止溝
を形成して、それらの係止溝にウエハーを係止し
て保持したうえ、ウエハーを炉心管内に上下方向
に出し入れするので、塵芥が発生せず、ウエハー
の自重による支持点部分の結晶欠陥も発生しな
い。このような効果は特にウエハーの大口径化を
計つた時に顕著となる。また、ウエハー保持スペ
ースを小さく出来るという効果もある。
で、多数のウエハーを保持しても十分に強度が得
られるとともに、炉心管内の清浄化が極めて容易
であるという大きな効果がある。上方プレートと
下方プレートの間に３本の保持部材を設け、それ
らの保持部材を構成する石英製のカバーに係止溝
を形成して、それらの係止溝にウエハーを係止し
て保持したうえ、ウエハーを炉心管内に上下方向
に出し入れするので、塵芥が発生せず、ウエハー
の自重による支持点部分の結晶欠陥も発生しな
い。このような効果は特にウエハーの大口径化を
計つた時に顕著となる。また、ウエハー保持スペ
ースを小さく出来るという効果もある。
以下、図面を参照して、この発明の好適な実施
例を説明する。
例を説明する。
上方プレート１と下方プレート２の間に３本の
保持部材３が垂直に設けられている。図面に示し
た実施例においては、上方プレート１と下方プレ
ート２は円形に形成されており、各保持部材３は
全長が約１〜1.2ｍで、全体がほぼ円柱状となつ
ている。
保持部材３が垂直に設けられている。図面に示し
た実施例においては、上方プレート１と下方プレ
ート２は円形に形成されており、各保持部材３は
全長が約１〜1.2ｍで、全体がほぼ円柱状となつ
ている。
各保持部材３は丸棒形状をした補強材４とその
補強材４の周囲に設けられた円管形状の石英製の
カバー５で構成されている。補強材４の材質は
SiCが好ましいが、Si、SiC―Si、Ｃ、SiO2、
Al2O3なども使用できる。また、カバー５は補強
材４の周囲に図示例では離して設けてあるが、場
合によつては補強材４とカバー５とを接触させて
もよい。
補強材４の周囲に設けられた円管形状の石英製の
カバー５で構成されている。補強材４の材質は
SiCが好ましいが、Si、SiC―Si、Ｃ、SiO2、
Al2O3なども使用できる。また、カバー５は補強
材４の周囲に図示例では離して設けてあるが、場
合によつては補強材４とカバー５とを接触させて
もよい。
石英製のカバー５にはウエハー用の係止溝６が
所定間隔毎に形成してある。図示例では、各カバ
ー５の内側部分のみに150本以上のウエハー用の
係止溝６が形成してあり、所定間隔毎に150枚以
上のウエハー７をそれぞれ３点で係止して水平状
態又は傾斜状態に保持できるようになつている。
第３図はウエハー７を水平状態に保持した例を示
し、第４図はウエハー７を10゜の傾斜状態に保持
した例を示している。
所定間隔毎に形成してある。図示例では、各カバ
ー５の内側部分のみに150本以上のウエハー用の
係止溝６が形成してあり、所定間隔毎に150枚以
上のウエハー７をそれぞれ３点で係止して水平状
態又は傾斜状態に保持できるようになつている。
第３図はウエハー７を水平状態に保持した例を示
し、第４図はウエハー７を10゜の傾斜状態に保持
した例を示している。
図示例では、カバー５は上端閉成で下端開放の
円管形状になつており、側部の厚みは係止溝６を
形成するに足るだけの厚みとなつている。係止溝
６はカバー５にのみ形成し、係止溝６がカバー５
の内側まで貫通しないようにするのが望ましい。
円管形状になつており、側部の厚みは係止溝６を
形成するに足るだけの厚みとなつている。係止溝
６はカバー５にのみ形成し、係止溝６がカバー５
の内側まで貫通しないようにするのが望ましい。
上方プレート１は全体が石英のみで形成されて
いる。カバー５と上方プレート１とは溶接により
固定されている。
いる。カバー５と上方プレート１とは溶接により
固定されている。
下方プレート２はSiC製のベース８とそのベー
ス８の周囲に設けられた石英製のカバー９で構成
されている。ベース８は円盤状であり、その全体
を包むように石英製のカバー９が設けられてい
る。
ス８の周囲に設けられた石英製のカバー９で構成
されている。ベース８は円盤状であり、その全体
を包むように石英製のカバー９が設けられてい
る。
各保持部材３を構成する補強材４の下端は下方
プレート２のベース８に一体的に固定されてい
る。また、各保持部材３を構成するカバー５の下
端は下方プレート２の石英製のカバー９と溶接に
より固定されている。
プレート２のベース８に一体的に固定されてい
る。また、各保持部材３を構成するカバー５の下
端は下方プレート２の石英製のカバー９と溶接に
より固定されている。
前述の実施例においては、ウエハー保持装置の
いずれの部分においてもSiCの部分が直接外部に
出ているところはない。
いずれの部分においてもSiCの部分が直接外部に
出ているところはない。
なお、前述のウエハー保持装置を使用するに際
しては、すべての係止溝６にそれぞれウエハー７
を水平状態又は傾斜状態を保つように係止して保
持し、縦形拡散炉（図示せず）の上方開放部また
は下方開放部からウエハー保持装置全体を挿入し
て、炉心管内に設定するものである。
しては、すべての係止溝６にそれぞれウエハー７
を水平状態又は傾斜状態を保つように係止して保
持し、縦形拡散炉（図示せず）の上方開放部また
は下方開放部からウエハー保持装置全体を挿入し
て、炉心管内に設定するものである。
第１図はこの発明による縦形拡散炉用のウエハ
ー保持装置を一部断面で示した説明図、第２図は
第１図のＸ―Ｘ線に沿つた概略断面図、第３図は
ウエハーを水平に保持する例を示す概略図、第４
図はウエハーを傾斜させて保持する例を示す概略
図である。 １……上方プレート、２……下方プレート、３
……保持部材、４……補強材、５……カバー、６
……ウエハー用の係止溝、７……ウエハー、８…
…ベース、９……カバー。
ー保持装置を一部断面で示した説明図、第２図は
第１図のＸ―Ｘ線に沿つた概略断面図、第３図は
ウエハーを水平に保持する例を示す概略図、第４
図はウエハーを傾斜させて保持する例を示す概略
図である。 １……上方プレート、２……下方プレート、３
……保持部材、４……補強材、５……カバー、６
……ウエハー用の係止溝、７……ウエハー、８…
…ベース、９……カバー。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 縦形拡散炉に用いるためのウエハー保持装置
において、上方プレートと下方プレートの間に３
本の保持部材を設けて載置式に構成し、各保持部
材を補強材とその補強材の周囲に設けられた石英
製のカバーによつて構成し、その石英製のカバー
にウエハー用の係止溝を所定間隔毎に形成し、上
方プレートを全体的に石英のみで形成したことを
特徴とするウエハー保持装置。 ２ 下方プレートがSiC製のベースとそのベース
の周囲に設けられた石英製のカバーで構成されて
いる特許請求の範囲第１項に記載のウエハー保持
装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59045565A JPS60189930A (ja) | 1984-03-12 | 1984-03-12 | ウエハ−保持装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59045565A JPS60189930A (ja) | 1984-03-12 | 1984-03-12 | ウエハ−保持装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60189930A JPS60189930A (ja) | 1985-09-27 |
| JPH0117244B2 true JPH0117244B2 (ja) | 1989-03-29 |
Family
ID=12722869
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59045565A Granted JPS60189930A (ja) | 1984-03-12 | 1984-03-12 | ウエハ−保持装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60189930A (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3634935A1 (de) * | 1986-10-14 | 1988-04-28 | Heraeus Schott Quarzschmelze | Vertikalhorde |
| JPH029426U (ja) * | 1988-06-30 | 1990-01-22 | ||
| JPH0831427B2 (ja) * | 1989-12-28 | 1996-03-27 | 東芝セラミックス株式会社 | スタッキングボート |
| JP2606932Y2 (ja) * | 1992-06-29 | 2001-02-19 | 株式会社福井信越石英 | 縦型ウエーハ保持ボート |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52145771U (ja) * | 1976-04-27 | 1977-11-04 | ||
| JPS53148283A (en) * | 1977-05-30 | 1978-12-23 | Toshiba Ceramics Co | Silicon wafer jig |
| JPS543647U (ja) * | 1977-06-11 | 1979-01-11 | ||
| JPS5812730A (ja) * | 1981-07-15 | 1983-01-24 | Kurabo Ind Ltd | 折り曲げ硬質発泡体複合板の製造方法 |
| EP0077408A1 (en) * | 1981-10-16 | 1983-04-27 | Helmut Seier GmbH | A method and apparatus for the heat treatment of semiconductor articles |
| JPS58108735A (ja) * | 1981-12-23 | 1983-06-28 | Fujitsu Ltd | 縦型反応管用バスケツト |
| JPS5918434U (ja) * | 1982-07-27 | 1984-02-04 | 株式会社東芝 | 半導体基板用加熱支持台 |
-
1984
- 1984-03-12 JP JP59045565A patent/JPS60189930A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS60189930A (ja) | 1985-09-27 |
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