JPH01175294A - 回路基板 - Google Patents

回路基板

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JPH01175294A
JPH01175294A JP62334836A JP33483687A JPH01175294A JP H01175294 A JPH01175294 A JP H01175294A JP 62334836 A JP62334836 A JP 62334836A JP 33483687 A JP33483687 A JP 33483687A JP H01175294 A JPH01175294 A JP H01175294A
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JP
Japan
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capacitor
resistor
pattern
circuit board
electrodes
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JP62334836A
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Satoru Fukui
覚 福井
Hayashi Matsunaga
松永 速
Susumu Nishimoto
進 西本
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明はガラス基板を用い、このガラス基板上に抵抗お
よびコンデンサが混在して形成される回路基板に関する
ものである。
従来の技術 従来、回路基板に実装される電子部品として、半導体部
品はパッケージされた物が用いられ、他の個別部品はデ
ィスクリートの物が用いられることが多かった。しかし
、近年、実装面積の削減、コストダウンの目的のために
、半導体部品としてパッケージされてないペアチップを
実装し、基板上に個別部品を印刷、焼成して構成された
回路基  板を用いた製品が多くなってきた。
ガラス基板上に半導体部品をフェースダウンしく素子形
成面をガラス基板に向けて実装し)、フリップチップ実
装した例を第2図に示す。半導体チップ1は、ガラス基
板2の上に形成された配線のんパターン3に、半導体チ
ップlの電極部に形成されたAuバンプ4を熱圧着させ
て実装されている。
また、個別部品の抵抗とコンデンサを同じガラス基板2
の上に形成した例を第3図と第4図に示す。抵抗5は第
3図に示すように、ガラス基板2の上の配線のAuパタ
ーン3の間に抵抗体のRu2O3の薄膜6を形成して構
成され、コンデンサ7は第4図に示すように、ガラス基
板2の上の配線のんパターン3の上に高誘電体のPdT
i2O.からなる絶総膜8を形成し、さらにその上に第
2層Mパターン9を形成して構成されている。コンデン
サ7はAuパターン3.9を両方の電極としている。
発明が解決しようとする問題点 しかし、従来のコンデンサ7の構成ではんパターンを2
度印刷、焼成する必要があり、ガラス基板2の1に構成
しようとするコンデンサ7の数が少ない場合、特に工数
増加によるコストダウンメリットの減少となっていた。
本発明は上記問題点を解決するものであり、工数を削減
し、コストダウンが図れる回路基板を提供することを目
的とするものである。
問題点を解決するための手段 と記問題点を解決するため本発明は、部品実装基板にガ
ラス基板を用い、前記ガラス基板上に抵抗およびコンデ
ンサの一方の極となるパターンをRu2O.で形成し、
前記コンデンサの一方の極とななる配線パターンと前記
抵抗に接続される配線パターンとをんで形成してなるも
のである。
作用 上記構成によれば、コンデンサをガラス基板にて構成さ
れた部品実装基板上に構成するにあたり、コンデンサの
一方の電極を抵抗を形成するRu2O。
で形成し、コンデンサの他方の電極を、抵抗に接続され
る配線パターンの形成と同時にひとつの勤パターンで形
成する。よって、抵抗とコンデンサが混在する回路基板
の工数は、従来のように抵抗を形成し、コンデンサの両
方の極をAuパターンで形成する回路基板の工数より少
なくなる。
実施例 以下、本発明の一実施例を図面に基づいて説明する。
第1図(a)および第1図(b)は本発明の回路基板の
断面図および抵抗、コンデンサ部の平面図である。
第1図(a)、(b)において、部品実装基板であるガ
ラス基板11の上に半導体チップ12が実装され、抵抗
13およびコンデンサ14が形成されて回路基板が構成
されている。
第1図(a)に示す上記回路基板の形成方法を説明する
。まず、ガラス基板11の上に抵抗13およびコンデン
サ14の一方の極となるパターンをRu2O3の薄膜1
5で形成し、コンデンサ14の一方の極となるRu2O
,のパターンの薄膜15の上に高誘導体で絶縁体のPd
Ti2O3の絶縁膜16を形成し、さらに、このPdT
i!03の絶縁膜1Gの上に形成されてコンデンサ14
の他方の極となる配線パターンと、抵抗13に接続され
る配線パターンと、抵抗13とコンデンサ14の一方の
極とを接続するパターンとを同じAuパターン17で形
成する。Ru2O.の比抵抗は数10Ωメロであり、第
1図(b)に示すように、コンデンサ14の下の一方の
電極として用いる部分は充分広い幅をとることで抵抗値
を小さくできる。
次にAuパターン17に半導体チップ12の電極部に形
成されたAuバンプ18を熱圧着させて半導体チップ1
2を実装し回路基板が形成される。
このように、従来のコンデンサの両方の極をAuパター
ンで形成した回路基板の工数と比較して、コンデンサの
一方の極をRu2O3の薄膜15で代用し、他方の極を
他の配線パターンと同じAuパターンで形成するため、
Auパターンを形成する工程が少なくて済み、コストダ
ウンを図ることができる。
発明の効果 以上のように本発明によれば、コンデンサをガラス基板
にて構成された部品実装基板上に形成するにあたり、コ
ンデンサの一方の電極を抵抗を形成するRu2O3で形
成し、他方の電極を、抵抗に接続される配線パターンと
同じAuパターンで形成することにより、抵抗とコンデ
ンサが混在する回路基板の工数を、コンデンサの両極を
Auパターンで形成する回路基板の工数より削減するこ
とができ、コストダウンを図ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図(a)および(b)は本発明の一実施例を示す回
路基板の断面図および抵抗、コンデンサ部の平面因、第
2図は従来の半導体チップを実装した回路基板の断面図
、第3図は従来の抵抗を基板上に形成した回路基板の断
面図、第4図は従来のコンデンサを基板上に形成した回
路基板の断面図である。 11・・・ガラス基板、13・・・抵抗、14・・・コ
ンデンサ、15−Ru2O3(7) n膜、16−Pd
Ti 、O8の絶縁膜、17 ・・・Auパターン。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.部品実装基板にガラス基板を用い、前記ガラス基板
    上に抵抗およびコンデンサの一方の極となるパターンを
    Ru_2O_3で形成し、前記コンデンサの一方の極と
    なるRu_2O_3のパターン上に高誘電体で絶縁体の
    PdTi_2O_3を形成し、前記PdTi_2O_3
    の上に形成されて前記コンデンサの他方の極となる配線
    パターンと前記抵抗に接続される配線パターンとをAu
    で形成してなる回路基板。
JP62334836A 1987-12-28 1987-12-28 回路基板 Expired - Lifetime JP2545107B2 (ja)

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JPH01175294A true JPH01175294A (ja) 1989-07-11
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0387055A (ja) * 1989-08-30 1991-04-11 Nec Corp 薄膜コンデンサおよびその製造方法
JPH03108752A (ja) * 1989-09-22 1991-05-08 Nec Corp 半導体装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0387055A (ja) * 1989-08-30 1991-04-11 Nec Corp 薄膜コンデンサおよびその製造方法
JPH03108752A (ja) * 1989-09-22 1991-05-08 Nec Corp 半導体装置

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