JPH01175759A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
半導体装置の製造方法Info
- Publication number
- JPH01175759A JPH01175759A JP62333944A JP33394487A JPH01175759A JP H01175759 A JPH01175759 A JP H01175759A JP 62333944 A JP62333944 A JP 62333944A JP 33394487 A JP33394487 A JP 33394487A JP H01175759 A JPH01175759 A JP H01175759A
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- JP
- Japan
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- lead
- lead frame
- frame
- base
- cap
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Landscapes
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、半導体装置の製造技術、特に、低融点ガラス
による気密封止形パッケージに対する多連リードフレー
ムによるリード群の組み込み技術に関し、例えば、低融
点ガラスにより封着される気密封止形パッケージを備え
ている半導体集積回路装置(以下、ICという、)の製
造に利用して有効な技術に関する。
による気密封止形パッケージに対する多連リードフレー
ムによるリード群の組み込み技術に関し、例えば、低融
点ガラスにより封着される気密封止形パッケージを備え
ている半導体集積回路装置(以下、ICという、)の製
造に利用して有効な技術に関する。
(従来の技術)
気密封止形パッケージを備えているICの製造方法とし
て、セラミックから形成されたベースまたはキャップに
低融点ガラスをスクリーン印刷により塗布するとともに
、これをガラスの軟化温度付近(約400℃)にて仮焼
付けすることにより、低融点ガラス層を予め形成してお
き、ベースに半導体ペレット等を組み付けた後、ベース
とキャップとを合わせてリードフレームを挟み込んだ状
態で、高温度(440°C以上)に加熱処理することに
より、前記低融点ガラス層を溶融固化させて封着層を形
成し、この封着層によりリードフレームとベースとキャ
ップとの接合面間を封着させるようにした方法がある。
て、セラミックから形成されたベースまたはキャップに
低融点ガラスをスクリーン印刷により塗布するとともに
、これをガラスの軟化温度付近(約400℃)にて仮焼
付けすることにより、低融点ガラス層を予め形成してお
き、ベースに半導体ペレット等を組み付けた後、ベース
とキャップとを合わせてリードフレームを挟み込んだ状
態で、高温度(440°C以上)に加熱処理することに
より、前記低融点ガラス層を溶融固化させて封着層を形
成し、この封着層によりリードフレームとベースとキャ
ップとの接合面間を封着させるようにした方法がある。
なお、低融点ガラスを用いたリード線のガラス気密封止
方法を述べである例として、特開昭53−90867号
公報がある。
方法を述べである例として、特開昭53−90867号
公報がある。
このような低融点ガラスを用いた気密封止パッケージを
備えている半導体装置の製造方法においては、仮焼付け
された低融点ガラス層が高温度加熱されることにより、
封着層が形成されるため、複数の単位リードフレームが
並設された多連リードフレームが使用される場合、リー
ドフレームと低融点ガラスとの熱膨張係数差により不測
の応力が発生し、多連リードフレームに不正な変形が発
生するという問題点があることが、本発明者によってあ
きらかにされた。
備えている半導体装置の製造方法においては、仮焼付け
された低融点ガラス層が高温度加熱されることにより、
封着層が形成されるため、複数の単位リードフレームが
並設された多連リードフレームが使用される場合、リー
ドフレームと低融点ガラスとの熱膨張係数差により不測
の応力が発生し、多連リードフレームに不正な変形が発
生するという問題点があることが、本発明者によってあ
きらかにされた。
本発明の目的は、多連リードフレームを使用して気密封
止形パッケージを形成する場合において、封着処理時に
おける熱による悪影響を回避することができる半導体装
置の製造方法を提供することにある。
止形パッケージを形成する場合において、封着処理時に
おける熱による悪影響を回避することができる半導体装
置の製造方法を提供することにある。
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
。
明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう
。
本願において開示される発明のうち代表的なものの概要
を説明すれば、次の通りである。
を説明すれば、次の通りである。
すなわち、複数本のリードを備えた単位リードフレーム
が複数並設されており、各リードフレームにおいてはリ
ード群を互いに結合した結合部材が外枠の支持部に接続
されているとともに、この支持部にはスリットが開設さ
れている多連リードフレームが準備される工程と、半導
体ペレットを組み付けられたベースと、このベースを被
覆するキャップとが互いに合わされた状態で、前記多連
リードフレームの各単位リードフレームにそれぞれ接合
され、このベースとキャップとの合わせ面間に低融点ガ
ラスからなる封着層が形成されて前記ペレットを気密封
止するパッケージが形成される工程とを設け、前記パッ
ケージ形成工程において、多連リードフレームに作用す
る不正な応力が前記スリットの変形により吸収されるよ
うにしたものである。
が複数並設されており、各リードフレームにおいてはリ
ード群を互いに結合した結合部材が外枠の支持部に接続
されているとともに、この支持部にはスリットが開設さ
れている多連リードフレームが準備される工程と、半導
体ペレットを組み付けられたベースと、このベースを被
覆するキャップとが互いに合わされた状態で、前記多連
リードフレームの各単位リードフレームにそれぞれ接合
され、このベースとキャップとの合わせ面間に低融点ガ
ラスからなる封着層が形成されて前記ペレットを気密封
止するパッケージが形成される工程とを設け、前記パッ
ケージ形成工程において、多連リードフレームに作用す
る不正な応力が前記スリットの変形により吸収されるよ
うにしたものである。
前記した手段によれば、リード群結合部材を支持してい
る支持部にスリットが開設されているため、封着工程に
おいて、加熱および冷却によりリード群から結合部材に
応力が作用すると、支持部の結合部材吊持部がスリット
を拡大または縮小させるように変形し、この変形により
、当該応力は外枠に伝達されるのを阻止される。その結
果、多連リードフレーム全体が不正に変形されるのは回
避されることになる。
る支持部にスリットが開設されているため、封着工程に
おいて、加熱および冷却によりリード群から結合部材に
応力が作用すると、支持部の結合部材吊持部がスリット
を拡大または縮小させるように変形し、この変形により
、当該応力は外枠に伝達されるのを阻止される。その結
果、多連リードフレーム全体が不正に変形されるのは回
避されることになる。
第1図は本発明の一実施例である半導体装置の製造方法
により得られた気密封止形パッケージを備えているIC
を示す縦断面図、第2図〜第20図はその製造方法を示
す各説明図である。
により得られた気密封止形パッケージを備えているIC
を示す縦断面図、第2図〜第20図はその製造方法を示
す各説明図である。
本実施例において、このIC90はバット・ウィング形
状のアウタリードを有する表面実装形の気密封止パッケ
ージ(以下、ガラス封止形ミニ・スクエア・パッケージ
またはMSPCということがある。)21を備えており
、このパッケージは半導体ペレット(以下、ペレットと
いう。)18を金−シリコン共晶層からなるボンディン
グ層19により接合されたベース11と、ベースに被着
されるキャップ16とがその合わせ面間に低融点ガラス
からなる封着層22により封着されることにより構成さ
れている。パッケージ21の内部にはリード9群がベー
スとキャップとの合わせ面間の封着層を貫通するように
して挿入されており、このリード群は後述するように多
連リードフレームを用いて形成されている。パッケージ
の内部において、各リードとベレットの各電橋との間に
はワイヤ20がその両端部をボンディングされて橋絡さ
れており、パッケージの外部において、リード群はバッ
ト・ウィング形状に屈曲成形されている。このように構
成されているIC(以下、MSPG・IC,または、I
Cということがある。)は、次のような製造方法により
製造されている。
状のアウタリードを有する表面実装形の気密封止パッケ
ージ(以下、ガラス封止形ミニ・スクエア・パッケージ
またはMSPCということがある。)21を備えており
、このパッケージは半導体ペレット(以下、ペレットと
いう。)18を金−シリコン共晶層からなるボンディン
グ層19により接合されたベース11と、ベースに被着
されるキャップ16とがその合わせ面間に低融点ガラス
からなる封着層22により封着されることにより構成さ
れている。パッケージ21の内部にはリード9群がベー
スとキャップとの合わせ面間の封着層を貫通するように
して挿入されており、このリード群は後述するように多
連リードフレームを用いて形成されている。パッケージ
の内部において、各リードとベレットの各電橋との間に
はワイヤ20がその両端部をボンディングされて橋絡さ
れており、パッケージの外部において、リード群はバッ
ト・ウィング形状に屈曲成形されている。このように構
成されているIC(以下、MSPG・IC,または、I
Cということがある。)は、次のような製造方法により
製造されている。
以下、本発明の一実施例であるこのMSPG・ICの製
造方法を説明する。この説明により、前記MSPC−I
Cについての構成の詳細が明らかにされる。
造方法を説明する。この説明により、前記MSPC−I
Cについての構成の詳細が明らかにされる。
本実施例において、MSPC−ICの製造方法には、第
2図に示されている多連リードフレームlが使用されて
いる。この多連リードフレームlは4270イ等のよう
な鉄系(鉄またはその合金)材料からなる薄板を用いて
、打ら抜きプレス加工またはエツチング加工等のような
適当な手段により一体成形されており、この多連リード
フレームlには複数の単位リードフレーム2が横方向に
1列に並設されている。
2図に示されている多連リードフレームlが使用されて
いる。この多連リードフレームlは4270イ等のよう
な鉄系(鉄またはその合金)材料からなる薄板を用いて
、打ら抜きプレス加工またはエツチング加工等のような
適当な手段により一体成形されており、この多連リード
フレームlには複数の単位リードフレーム2が横方向に
1列に並設されている。
単位リードフレーム2は位置決め孔3aが開設されてい
る外枠3を一対備えており、両外枠3は所定の間隔で平
行にそれぞれ延設されている。隣り合う単位リードフレ
ーム2.2間には一対のセクション枠4が両外枠3.3
間に互いに平行で外枠に直行するように配されて一体的
に架設されており、これら外枠、セクション枠により形
成される略正方形の枠体内に単位リードフレーム2が構
成されている。
る外枠3を一対備えており、両外枠3は所定の間隔で平
行にそれぞれ延設されている。隣り合う単位リードフレ
ーム2.2間には一対のセクション枠4が両外枠3.3
間に互いに平行で外枠に直行するように配されて一体的
に架設されており、これら外枠、セクション枠により形
成される略正方形の枠体内に単位リードフレーム2が構
成されている。
各単位リードフレーム2において、外枠3およびセクシ
ョンパー4の接続部には略正方形形状に形成されている
タイバー支持部5が径方向内向きに配されて一体的に突
設されており、このタイバー支持部5は内側角部が略4
5度に切り欠かれている。タイバー支持部5にはスリッ
ト6が切欠部の傾斜面に沿うように配されて穿設されて
おり、このスリット6によりその内側にはタイバー吊り
部材7がアーチ形状に形成されている。このタイバー吊
り部材7の内側にはリード結合部材としてのタイバー8
が4本、前記外枠3とセクション枠4とにより形成され
る枠体と同心的な略正方形の枠形状になるように配設さ
れており、これらタイバー8はその両端においてタイバ
ー吊り部材7に略45度の角度で接続されることにより
、これらに吊持されている。そして、隣り合うタイバー
8.8は略90度の角度で交差するようになっている。
ョンパー4の接続部には略正方形形状に形成されている
タイバー支持部5が径方向内向きに配されて一体的に突
設されており、このタイバー支持部5は内側角部が略4
5度に切り欠かれている。タイバー支持部5にはスリッ
ト6が切欠部の傾斜面に沿うように配されて穿設されて
おり、このスリット6によりその内側にはタイバー吊り
部材7がアーチ形状に形成されている。このタイバー吊
り部材7の内側にはリード結合部材としてのタイバー8
が4本、前記外枠3とセクション枠4とにより形成され
る枠体と同心的な略正方形の枠形状になるように配設さ
れており、これらタイバー8はその両端においてタイバ
ー吊り部材7に略45度の角度で接続されることにより
、これらに吊持されている。そして、隣り合うタイバー
8.8は略90度の角度で交差するようになっている。
これらタイバー8には複数本のり一ド9が長手方向に等
間隔に配されて、互いに平行で、タイバー8と直交する
ように一体的に突設されており、本実施例において、タ
イバー8のリード9群に対する交差位置は、後述するり
一ド9についての切断および屈曲成形工程における悪影
響を回避するため、屈曲箇所よりも外側位置になるよう
に配設されている。各リード9の内側端部は先端が正方
形形状に整列するように配設されることにより、インナ
部9aをそれぞれ構成しており、インチ部9aの先端部
表面には後述するワイヤボンディングのボンダビリティ
−を高めるためのアルミニニウム被膜10が蒸着等のよ
うな適当な手段により被着されている。他方、各リード
9のアウタ部9bをそれぞれ構成する外側端部ば、外枠
3およびセクション枠4から離間されて切り離されてい
る。
間隔に配されて、互いに平行で、タイバー8と直交する
ように一体的に突設されており、本実施例において、タ
イバー8のリード9群に対する交差位置は、後述するり
一ド9についての切断および屈曲成形工程における悪影
響を回避するため、屈曲箇所よりも外側位置になるよう
に配設されている。各リード9の内側端部は先端が正方
形形状に整列するように配設されることにより、インナ
部9aをそれぞれ構成しており、インチ部9aの先端部
表面には後述するワイヤボンディングのボンダビリティ
−を高めるためのアルミニニウム被膜10が蒸着等のよ
うな適当な手段により被着されている。他方、各リード
9のアウタ部9bをそれぞれ構成する外側端部ば、外枠
3およびセクション枠4から離間されて切り離されてい
る。
本実施例において、MSPC−ICの製造方法には、第
3図および第4図に示されているベースIIが使用され
ており、このベース11は後記するキャップと協働して
気密封止パンケージを形成し得るように構成されている
。このベース11は本体12を備えており、本体12は
アルミナ(A1□O1)を主成分とするセラミックを用
いて、平面形状が略正方形の平盤形状に形成されている
。
3図および第4図に示されているベースIIが使用され
ており、このベース11は後記するキャップと協働して
気密封止パンケージを形成し得るように構成されている
。このベース11は本体12を備えており、本体12は
アルミナ(A1□O1)を主成分とするセラミックを用
いて、平面形状が略正方形の平盤形状に形成されている
。
本体12のキャップとの合わせ而となる一平面(以下、
合わせ面という。)上にはキャビティー凹所13aが同
心的に配されて、平面形状が正方形の富み形状で、かつ
一定深さになるように一体的に形成されている。キャビ
ティー凹所13aの底面にはボンディング床14が中央
部に配されて、ペレットよりも若干大きめの形状になる
ように被着されており、このボンディング床14は金(
AU)等を用いて蒸着法等のような適当な手段によりメ
タライズされている。
合わせ面という。)上にはキャビティー凹所13aが同
心的に配されて、平面形状が正方形の富み形状で、かつ
一定深さになるように一体的に形成されている。キャビ
ティー凹所13aの底面にはボンディング床14が中央
部に配されて、ペレットよりも若干大きめの形状になる
ように被着されており、このボンディング床14は金(
AU)等を用いて蒸着法等のような適当な手段によりメ
タライズされている。
ベース本体12の合わせ面におけるキャビティー13a
の外方には低融点ガラス層15aが250〜300μm
程度の厚さをもって均一に被着されており、このガラス
層は正方形枠形状に形成されることによりキャビティー
凹所13aを完全に取り囲むようになっている。低融点
ガラス層は次のような組成を有する非結晶ガラスが使用
されて構成されている。すなわち、重量比で、PbOが
約51%、SnO,が約22%、Sighが約5%、Z
nOが約12%、の非結晶ガラスである。
の外方には低融点ガラス層15aが250〜300μm
程度の厚さをもって均一に被着されており、このガラス
層は正方形枠形状に形成されることによりキャビティー
凹所13aを完全に取り囲むようになっている。低融点
ガラス層は次のような組成を有する非結晶ガラスが使用
されて構成されている。すなわち、重量比で、PbOが
約51%、SnO,が約22%、Sighが約5%、Z
nOが約12%、の非結晶ガラスである。
低融点ガラス層は、このような非結晶ガラス材料からな
るペーストがベース本体12の合わせ面上にスクリーン
印刷により塗布された後、加熱炉において440℃以上
に加熱されて焼成されることにより、ベース本体に被着
される。このように低融点ガラス層15aは予め440
“C以上の温度で焼成されることにより、ベース本体1
2のセラミック表面と完全かつ強力に接着した状態にな
っている。
るペーストがベース本体12の合わせ面上にスクリーン
印刷により塗布された後、加熱炉において440℃以上
に加熱されて焼成されることにより、ベース本体に被着
される。このように低融点ガラス層15aは予め440
“C以上の温度で焼成されることにより、ベース本体1
2のセラミック表面と完全かつ強力に接着した状態にな
っている。
他方、第5図および第6図に示されているように、ベー
ス11と協働して気密封止パッケージを形成するキャッ
プ16は本体17を備えており、このキャップ本体17
はベース本体12と路間−の正方形平盤形状に形成され
ている。キャップ本体17のベースとの合わせ面上には
キャビティー凹所13bが同心的に配されて、ベース側
のキャビティー凹所13aに対して大きめの相似形状の
窪み形状で、一定深さになるように一体的に形成されて
いる。キャップ本体17の合わせ面におけるキャビティ
ー13aの外方には低融点ガラス層15bが、ベース側
の低融点ガラス層15aと同様に構成かつ焼成されて被
着されている。
ス11と協働して気密封止パッケージを形成するキャッ
プ16は本体17を備えており、このキャップ本体17
はベース本体12と路間−の正方形平盤形状に形成され
ている。キャップ本体17のベースとの合わせ面上には
キャビティー凹所13bが同心的に配されて、ベース側
のキャビティー凹所13aに対して大きめの相似形状の
窪み形状で、一定深さになるように一体的に形成されて
いる。キャップ本体17の合わせ面におけるキャビティ
ー13aの外方には低融点ガラス層15bが、ベース側
の低融点ガラス層15aと同様に構成かつ焼成されて被
着されている。
このように構成されたベース11は前記構成にかかる多
連リードフレームIに各単位リードフレーム2毎に、第
7図および第8図に示されているようにそれぞれ組み付
けられる。すなわち、ベース11はその低融点ガラス層
15aが単位リードフレーム2におけるアルミニュウム
被膜10が被着されていない側の平面に当接するように
向けられるとともに、キャビティー凹所13aの開口縁
がリードのインナ部9aの先端群と整合するように配さ
れてセットされる。このセット状態が維持されながら、
多連リードフレームlが加熱炉を通されることにより、
低融点ガラス層15aによって単位リードフレーム2に
おけるインナ部9a群とベース本体12とが溶着されて
一体化される。
連リードフレームIに各単位リードフレーム2毎に、第
7図および第8図に示されているようにそれぞれ組み付
けられる。すなわち、ベース11はその低融点ガラス層
15aが単位リードフレーム2におけるアルミニュウム
被膜10が被着されていない側の平面に当接するように
向けられるとともに、キャビティー凹所13aの開口縁
がリードのインナ部9aの先端群と整合するように配さ
れてセットされる。このセット状態が維持されながら、
多連リードフレームlが加熱炉を通されることにより、
低融点ガラス層15aによって単位リードフレーム2に
おけるインナ部9a群とベース本体12とが溶着されて
一体化される。
このとき、低融点ガラス層15aについての加熱温度を
440℃以上に設定することにより、低融点ガラスl1
15aをベース本体12の表面に完全に接着させるよう
にしてもよい。
440℃以上に設定することにより、低融点ガラスl1
15aをベース本体12の表面に完全に接着させるよう
にしてもよい。
このようにして、各単位リードフレーム2毎にベース1
1が組み付けられた多連リードフレーム1には各単位リ
ードフレーム2毎にペレット・ボンディング作業、続い
て、ワイヤ・ボンディング作業が実施される。このボン
ディング作業は多連リードフレーム1が横方向にピッチ
送りされることにより、各単位リードフレーム2毎に順
次実施される。
1が組み付けられた多連リードフレーム1には各単位リ
ードフレーム2毎にペレット・ボンディング作業、続い
て、ワイヤ・ボンディング作業が実施される。このボン
ディング作業は多連リードフレーム1が横方向にピッチ
送りされることにより、各単位リードフレーム2毎に順
次実施される。
このボンディング作業により、第9図および第1O図に
示されているように、前工程においてバイポーラ形の集
積回路を作り込まれた半導体集積回路素子としてのペレ
ット18は、各単位リードフレーム2におけるベース1
1のボンディング床14に金箔を介して当接されるとと
もに、こすり付けられることにより形成される金−シリ
コン共晶ボンディング層19によって固着される。
示されているように、前工程においてバイポーラ形の集
積回路を作り込まれた半導体集積回路素子としてのペレ
ット18は、各単位リードフレーム2におけるベース1
1のボンディング床14に金箔を介して当接されるとと
もに、こすり付けられることにより形成される金−シリ
コン共晶ボンディング層19によって固着される。
そして、ベース11にボンディングされたベレフ)1B
の電極パッド(図示せず)と、各単位リードフレーム2
におけるリード9のインナ部9aとの間にはアルミニュ
ウム系材料からなるワイヤ20が、ボンディング工具と
してウェッジが使用されている超音波式ワイヤボンディ
ング装置(所謂、USボンダ)が使用されることにより
、その両端部をそれぞれボンディングされて橋絡される
。
の電極パッド(図示せず)と、各単位リードフレーム2
におけるリード9のインナ部9aとの間にはアルミニュ
ウム系材料からなるワイヤ20が、ボンディング工具と
してウェッジが使用されている超音波式ワイヤボンディ
ング装置(所謂、USボンダ)が使用されることにより
、その両端部をそれぞれボンディングされて橋絡される
。
これにより、ペレット12に作り込まれている集積回路
は、電極パッド、ワイヤ20、リード゛9のインナ部9
aおよびアウタ部9bを介して電気的に外部に引き出さ
れることになる。
は、電極パッド、ワイヤ20、リード゛9のインナ部9
aおよびアウタ部9bを介して電気的に外部に引き出さ
れることになる。
このようにして、各単位リードフレーム2毎にベース1
1が組み付けられ、かつ、ペレットボンディング作業お
よびワイヤポンディング作業が実施された多連リードフ
レーム1には、第11図および第12図に示されている
ように気密封止パフケージ21を形成するための封着処
理作業が実施される。
1が組み付けられ、かつ、ペレットボンディング作業お
よびワイヤポンディング作業が実施された多連リードフ
レーム1には、第11図および第12図に示されている
ように気密封止パフケージ21を形成するための封着処
理作業が実施される。
すなわち、第11図に示されているように、キャップ1
6はその低融点ガラス層15bが単位リードフレーム2
におけるベース11とは反対側の平面に当接するように
向けられているとともに、当該ベース11と整合するよ
うに被せられてセットされる。このセット状態が維持さ
れつつ、ベース11とキャップ16との間に適度な合わ
せ力を加えられながら、多連リードフレーム1が加熱炉
を通されると、ベース11とキャップ16との低融点ガ
ラス層15a、15bが溶融されることによって低融点
ガラス層からなる封着層22が形成される。その結果、
ベース11とキャップ16との合わせ面同士が封着N2
2により封着され、キャビティー13内を気密封止する
パッケージ21が形成される。
6はその低融点ガラス層15bが単位リードフレーム2
におけるベース11とは反対側の平面に当接するように
向けられているとともに、当該ベース11と整合するよ
うに被せられてセットされる。このセット状態が維持さ
れつつ、ベース11とキャップ16との間に適度な合わ
せ力を加えられながら、多連リードフレーム1が加熱炉
を通されると、ベース11とキャップ16との低融点ガ
ラス層15a、15bが溶融されることによって低融点
ガラス層からなる封着層22が形成される。その結果、
ベース11とキャップ16との合わせ面同士が封着N2
2により封着され、キャビティー13内を気密封止する
パッケージ21が形成される。
このとき、低融点ガラス層15a、15bを加熱する温
度はこれらが軟化する温度、すなわち、435°C以下
に設定されている。したがって、パンケージ21のベー
ス11に既に組み付けられているペレット18およびワ
イヤ20等の内部構成部分に加わる熱ストレスによる悪
影響は抑制されることになる。他方、低融点ガラス層1
5a、15b同士においては、それが軟化温度程度に達
することにより、充分確実な封着層22を安定的に形成
され得ることが、本発明者の実験によって確認されてい
る。
度はこれらが軟化する温度、すなわち、435°C以下
に設定されている。したがって、パンケージ21のベー
ス11に既に組み付けられているペレット18およびワ
イヤ20等の内部構成部分に加わる熱ストレスによる悪
影響は抑制されることになる。他方、低融点ガラス層1
5a、15b同士においては、それが軟化温度程度に達
することにより、充分確実な封着層22を安定的に形成
され得ることが、本発明者の実験によって確認されてい
る。
ところで、低融点ガラス層とセラミック表面との間にお
いては、ガラスの軟化温度程度では低融点ガラス層とセ
ラミック表面との接着は不確実ないしは不安定的な状態
になる。このため、気密封止性能が低下し、製品の品質
および信転性が低下することになる。
いては、ガラスの軟化温度程度では低融点ガラス層とセ
ラミック表面との接着は不確実ないしは不安定的な状態
になる。このため、気密封止性能が低下し、製品の品質
および信転性が低下することになる。
しかし、本実施例においては、前述した通り、ベース1
1にペレット18が搭載される前に、低融点ガラス層1
5a、15bが440°C以上に加熱されることにより
、ベース本体12およびキャップ本体17の表面にそれ
ぞれ完全に接着されているため、この封着工程における
加熱温度が軟化温度程度であっても、ベース本体12お
よびキヤ、ブ本体17の表面と封着層22との間の接着
状態は安全かつ強力で、しかも、安定的に確保されるこ
とになる。
1にペレット18が搭載される前に、低融点ガラス層1
5a、15bが440°C以上に加熱されることにより
、ベース本体12およびキャップ本体17の表面にそれ
ぞれ完全に接着されているため、この封着工程における
加熱温度が軟化温度程度であっても、ベース本体12お
よびキヤ、ブ本体17の表面と封着層22との間の接着
状態は安全かつ強力で、しかも、安定的に確保されるこ
とになる。
ところで、気密封止パッケージ21が加熱後冷却すると
、多連リードフレームlと低融点ガラス封着1122と
の熱膨張係数差により、リード9群に対してパッケージ
21の径方向の引張または圧縮応力が加わる。当該応力
がそのまま、リード9群が接続されている各タイバー8
を通じて外枠3およびセクション枠4に伝達されると、
第13図に示されているように、多連リードフレームl
全体が波を打ったように変形してしまうという問題点が
あることが、本発明者によって明らかにされた。多連リ
ードフレームlについてこのような変形が発生すると、
後述するリード切断成形工程において、フィーダにおけ
る詰まり現象や、位置合わせ不良等が発生するため、リ
ード成形精度が低下してしまう。
、多連リードフレームlと低融点ガラス封着1122と
の熱膨張係数差により、リード9群に対してパッケージ
21の径方向の引張または圧縮応力が加わる。当該応力
がそのまま、リード9群が接続されている各タイバー8
を通じて外枠3およびセクション枠4に伝達されると、
第13図に示されているように、多連リードフレームl
全体が波を打ったように変形してしまうという問題点が
あることが、本発明者によって明らかにされた。多連リ
ードフレームlについてこのような変形が発生すると、
後述するリード切断成形工程において、フィーダにおけ
る詰まり現象や、位置合わせ不良等が発生するため、リ
ード成形精度が低下してしまう。
本実施例においては、タイバー8を支持している支持部
5にスリット6が開設されることにより、タイバー8は
タイバー吊り部材7に支持されており、これにより、リ
ード9群の応力が外枠3およびセクション枠4にそのま
ま伝達されるのは阻止されるため、多連リードフレーム
l全体が波を打ったように変形してしまう現象は防止さ
れることになる。
5にスリット6が開設されることにより、タイバー8は
タイバー吊り部材7に支持されており、これにより、リ
ード9群の応力が外枠3およびセクション枠4にそのま
ま伝達されるのは阻止されるため、多連リードフレーム
l全体が波を打ったように変形してしまう現象は防止さ
れることになる。
すなわち、リード9群によりタイバー8に引張応力が作
用すると、タイバー吊り部材7が第14図に示されてい
るように変形することにより、この引張応力を実質的に
吸収することになるため、この応力が外枠3およびセク
ション枠4に伝達するのは防止されることになる。また
、リード9群によりタイバー8に圧縮応力が作用すると
、タイバー吊り部材7が第15図に示されているように
変形することにより、この圧縮応力を実質的に吸収する
ことになるため、この応力が外枠3およびセフシラン枠
4に伝達するのは防止されることになる。
用すると、タイバー吊り部材7が第14図に示されてい
るように変形することにより、この引張応力を実質的に
吸収することになるため、この応力が外枠3およびセク
ション枠4に伝達するのは防止されることになる。また
、リード9群によりタイバー8に圧縮応力が作用すると
、タイバー吊り部材7が第15図に示されているように
変形することにより、この圧縮応力を実質的に吸収する
ことになるため、この応力が外枠3およびセフシラン枠
4に伝達するのは防止されることになる。
前述したようにして、気密封止パッケージ21が成形さ
れた多連リードフレームlは、第16図に示されている
ようにはんだめっき処理工程において、全体的にはんだ
めっき被膜を被着される作業を実施される。
れた多連リードフレームlは、第16図に示されている
ようにはんだめっき処理工程において、全体的にはんだ
めっき被膜を被着される作業を実施される。
第16図に示されているように、はんだめっき処理装置
31ははんだめっき液32を貯留するためのはんだ槽3
3と、めっき電源34とを備えており、被めっき物とし
ての多連リードフレーム1はめっき液32中に浸漬され
た状態において、電源34によりめっき液32との間に
通電されることにより、金属露出面全体にわたって電解
めっき被膜35を形成される。このとき、各単位リード
フレーム2におけるリード9のアウタ部9bは端末にお
いて開放されているため、めっき被膜35が先端面にも
完全に被着されることになる。
31ははんだめっき液32を貯留するためのはんだ槽3
3と、めっき電源34とを備えており、被めっき物とし
ての多連リードフレーム1はめっき液32中に浸漬され
た状態において、電源34によりめっき液32との間に
通電されることにより、金属露出面全体にわたって電解
めっき被膜35を形成される。このとき、各単位リード
フレーム2におけるリード9のアウタ部9bは端末にお
いて開放されているため、めっき被膜35が先端面にも
完全に被着されることになる。
めっき被膜を被着された多連リードフレーム1は、第1
7図に示されているようにリード切断成形工程において
各単位リードフレーム毎に順次、第18図に示されてい
るリード切断装置により、タイバー8を切り落された後
、第19図に示されているリード成形装置により、第2
0図に示されているように、リード9のアウタ部9bを
バッドリード形状に屈曲成形される。
7図に示されているようにリード切断成形工程において
各単位リードフレーム毎に順次、第18図に示されてい
るリード切断装置により、タイバー8を切り落された後
、第19図に示されているリード成形装置により、第2
0図に示されているように、リード9のアウタ部9bを
バッドリード形状に屈曲成形される。
この工程で使用されるリード切断成形装置40は第17
図に示されているようにフィーダ41を備えており、フ
ィーダ4Iは間欠送り装置(図示せず)により、被処理
物としての多連リードフレーム1を単位リードフレーム
2に対応するピッチをもって一方向に歩進送りするよう
に構成されている。フィーダ41の一端部(以下、前端
部とする。)にはローダ42が設備されており、ローダ
42はラック等に収容された多連リードフレーム■をフ
ィーダ41上に1枚宛払い出すように構成されている。
図に示されているようにフィーダ41を備えており、フ
ィーダ4Iは間欠送り装置(図示せず)により、被処理
物としての多連リードフレーム1を単位リードフレーム
2に対応するピッチをもって一方向に歩進送りするよう
に構成されている。フィーダ41の一端部(以下、前端
部とする。)にはローダ42が設備されており、ローダ
42はラック等に収容された多連リードフレーム■をフ
ィーダ41上に1枚宛払い出すように構成されている。
フィーダ41の中間部にはリード切断装置43が設備さ
れており、この装置は第18図に示されているように構
成されている。フィーダ41におけるリード切断装置4
3の片膝には、第19図に示されているように構成され
ているリード成形装置44がリード切断装置、43と並
ぶように配されて設備されており、再装置43と44と
の間にはハンドラ45が、リード切断装W43において
多連リードフレーム1の外枠から切り離された中間製品
としてのMSPG・10部47を保持してリード成形装
置44に移載し得るように設備されている。また、フィ
ーダ41の後端部にはアンローダ46が設備されており
、このアンローダ46はリード切断装置43においてM
SPC・10部47を切り抜かれた多連リードフレーム
lの残渣部品としての外枠部4日をフィーダ41から順
次下して排出して行くように構成されている。
れており、この装置は第18図に示されているように構
成されている。フィーダ41におけるリード切断装置4
3の片膝には、第19図に示されているように構成され
ているリード成形装置44がリード切断装置、43と並
ぶように配されて設備されており、再装置43と44と
の間にはハンドラ45が、リード切断装W43において
多連リードフレーム1の外枠から切り離された中間製品
としてのMSPG・10部47を保持してリード成形装
置44に移載し得るように設備されている。また、フィ
ーダ41の後端部にはアンローダ46が設備されており
、このアンローダ46はリード切断装置43においてM
SPC・10部47を切り抜かれた多連リードフレーム
lの残渣部品としての外枠部4日をフィーダ41から順
次下して排出して行くように構成されている。
第18図に示されているリード切断装置43は下側取付
板50および下側取付板60を備えており、上側取付板
50はシリンダ装置(図示せず)によって上下動される
ことにより、機台上に固設されている下側取付板60に
対して接近、離反するように構成されている。両数付板
50および60にはホルダ51および61がそれぞれ固
定的に取り付けられており、両ホルダ51および61に
は上側押さえ型52および下側押さえ型62(以下、上
型52および下型62ということがある。
板50および下側取付板60を備えており、上側取付板
50はシリンダ装置(図示せず)によって上下動される
ことにより、機台上に固設されている下側取付板60に
対して接近、離反するように構成されている。両数付板
50および60にはホルダ51および61がそれぞれ固
定的に取り付けられており、両ホルダ51および61に
は上側押さえ型52および下側押さえ型62(以下、上
型52および下型62ということがある。
)が互いに心合わせされてそれぞれ保持されている。上
型52および下型62は互いにもなか合わせになる形状
にそれぞれ形成されており、上型52と下型62とは前
後左右の押さえ部53と63とによってリード9の根元
部を上下から押さえるように構成されている。また、上
型52は後記する外枠押さえと同様に、ガイド58およ
びスプリング59により独立懸架されるように構成され
ている。
型52および下型62は互いにもなか合わせになる形状
にそれぞれ形成されており、上型52と下型62とは前
後左右の押さえ部53と63とによってリード9の根元
部を上下から押さえるように構成されている。また、上
型52は後記する外枠押さえと同様に、ガイド58およ
びスプリング59により独立懸架されるように構成され
ている。
上側ホルダ51には略くし歯形状(図示せず)に形成さ
れたパンチ54が4組(左右の2組のみが図示されてい
る。以下、同じ、)、上型52の前後左右脇においてリ
ード9群のピッチに対応するように配されて、垂直下向
きに固設されており、バンチ54には剪断刃56かくし
歯におけるエツジに配されて、後記する剪断ダイと協働
してタイバー8のり一ド9.9間に位置する部分(以下
、リード連結部片という、)を切り落とすように構成さ
れている。上側ホルダ51には外枠押さえ57がガイド
58に摺動自在に嵌合されて上下動自在に支持されてお
り、外枠押さえ57はスプリング59により常時下方に
付勢された状態で独立懸架されるように構成されている
。このスプリング59により、外枠押さえ57はリード
フレームの外枠3を後記する剪断グイ上面との間で挟圧
して押さえるようになっている。
れたパンチ54が4組(左右の2組のみが図示されてい
る。以下、同じ、)、上型52の前後左右脇においてリ
ード9群のピッチに対応するように配されて、垂直下向
きに固設されており、バンチ54には剪断刃56かくし
歯におけるエツジに配されて、後記する剪断ダイと協働
してタイバー8のり一ド9.9間に位置する部分(以下
、リード連結部片という、)を切り落とすように構成さ
れている。上側ホルダ51には外枠押さえ57がガイド
58に摺動自在に嵌合されて上下動自在に支持されてお
り、外枠押さえ57はスプリング59により常時下方に
付勢された状態で独立懸架されるように構成されている
。このスプリング59により、外枠押さえ57はリード
フレームの外枠3を後記する剪断グイ上面との間で挟圧
して押さえるようになっている。
他方、下型62には4&Ilの剪断グイ66が押さえ部
63の前後左右脇に配されて、リード形状の下面に沿う
形状に形成されており、剪断ダイ66は前記パンチ54
の剪断刃56と協働してタイバー8のリード連結部片を
切り落とすように形成されている。
63の前後左右脇に配されて、リード形状の下面に沿う
形状に形成されており、剪断ダイ66は前記パンチ54
の剪断刃56と協働してタイバー8のリード連結部片を
切り落とすように形成されている。
第19図に示されているリード成形装置44は下側取付
板70および下側取付板8oを備えており、下側取付板
70はシリンダ装置(図示せず)によって上下動される
ことにより、機台上に固設されている下側取付板80に
対して接近、離反するように構成されている0両取付板
7oおよび80にはホルダ71および81がそれぞれ固
定的に取り付けられており、両ホルダ7Iおよび81に
は上側押さえ型72および下側押さえ型82(以下、上
型72および下型82ということがある。
板70および下側取付板8oを備えており、下側取付板
70はシリンダ装置(図示せず)によって上下動される
ことにより、機台上に固設されている下側取付板80に
対して接近、離反するように構成されている0両取付板
7oおよび80にはホルダ71および81がそれぞれ固
定的に取り付けられており、両ホルダ7Iおよび81に
は上側押さえ型72および下側押さえ型82(以下、上
型72および下型82ということがある。
)が互いに心合わせされてそれぞれ保持されている。上
型72および下型82は互いにもなか合わせになる形状
にそれぞれ形成されており、上型72と下型82とは左
右の押さえ部73と83とによってリード9の根元部を
上下から押さえるように構成されている。また、上型7
2はガイド78およびスプリング79により独立懸架さ
れるように構成されている。
型72および下型82は互いにもなか合わせになる形状
にそれぞれ形成されており、上型72と下型82とは左
右の押さえ部73と83とによってリード9の根元部を
上下から押さえるように構成されている。また、上型7
2はガイド78およびスプリング79により独立懸架さ
れるように構成されている。
上側ホルダ71には成形ロール74が4&fl、上型7
2の前後左右脇においてリード9群に対応するように垂
直下向きに配されて、回転自在に支持されており、この
ロール74は後記する成形グイと協働してリード9を略
垂直下向きに屈曲成形し得るように構成されている。
2の前後左右脇においてリード9群に対応するように垂
直下向きに配されて、回転自在に支持されており、この
ロール74は後記する成形グイと協働してリード9を略
垂直下向きに屈曲成形し得るように構成されている。
他方、下型82には一対の成形グイ84が押さえ部83
の前後左右脇に配されて、成形後におけるリードアウタ
部9bの下面に沿う形状に形成されている。
の前後左右脇に配されて、成形後におけるリードアウタ
部9bの下面に沿う形状に形成されている。
次に作用を説明する。
前述したように、はんだめっき処理された多連リードフ
レームは複数枚宛、ラック等に収容されてリード切断成
形装置40のローダ42に供給される。ローダ42に送
給された多連リードフレームlはローダ42によりラッ
ク等から1枚宛、フィーダ41上に順次払い出されて行
く、フィーダ41に払い出された多連リードフレーム1
はフィーダ41により単位リードフレーム2.2間の間
隔をもって1ピッチ宛歩進送りされる。
レームは複数枚宛、ラック等に収容されてリード切断成
形装置40のローダ42に供給される。ローダ42に送
給された多連リードフレームlはローダ42によりラッ
ク等から1枚宛、フィーダ41上に順次払い出されて行
く、フィーダ41に払い出された多連リードフレーム1
はフィーダ41により単位リードフレーム2.2間の間
隔をもって1ピッチ宛歩進送りされる。
そして、フィーダ41上を歩進送りされる多連リードフ
レーム1は単位リードフレーム2をリード切断装置43
に順次供給されて行く、多連リードフレーム1は前述し
た通り、変形されていないため、この歩進送り中、詰ま
り現象が発生することはない。
レーム1は単位リードフレーム2をリード切断装置43
に順次供給されて行く、多連リードフレーム1は前述し
た通り、変形されていないため、この歩進送り中、詰ま
り現象が発生することはない。
ここで、リード切断装置についての作用を説明する。
第18図に示されているように、多連リードフレームl
についての歩進送りにより下型62に単位リードフレー
ム2が凹部にパッケージ21を落とし込まれるようにさ
れてセットされる。これにより、リード9の根本部が下
型62の押さえ部63に当接する。
についての歩進送りにより下型62に単位リードフレー
ム2が凹部にパッケージ21を落とし込まれるようにさ
れてセットされる。これにより、リード9の根本部が下
型62の押さえ部63に当接する。
次ぎに、シリンダ装置により上側取付板5oが下降され
、上型52および外枠押さえ57が下型62にスプリン
グ59の付勢力により合わせられる。これにより、上型
52の押さえ部53と下型62の押さえ部63との間で
リード9の根本部が挟圧されて固定される。また、外枠
押さえ57と剪断ダイ66上面との間で外枠3が挟圧さ
れて固定される。
、上型52および外枠押さえ57が下型62にスプリン
グ59の付勢力により合わせられる。これにより、上型
52の押さえ部53と下型62の押さえ部63との間で
リード9の根本部が挟圧されて固定される。また、外枠
押さえ57と剪断ダイ66上面との間で外枠3が挟圧さ
れて固定される。
その後、上側取付板50がさらに下降されて行くと、パ
ンチ54が下降されて行く、このとき、上型52および
外枠押さえ57はスプリング59が圧縮変形されるため
、下型62および剪断ダイ66に押圧される。パンチ5
4の下降に伴って、パンチ54の剪断刃56と剪断ダイ
66との協働による剪断により、タイバー8のリード連
結部片群がリード9群から切り落とされる。
ンチ54が下降されて行く、このとき、上型52および
外枠押さえ57はスプリング59が圧縮変形されるため
、下型62および剪断ダイ66に押圧される。パンチ5
4の下降に伴って、パンチ54の剪断刃56と剪断ダイ
66との協働による剪断により、タイバー8のリード連
結部片群がリード9群から切り落とされる。
パンチ54が所定のストロークを終了すると、パンチ5
4は上側取付板50により上昇され、元の待機状態まで
戻される。
4は上側取付板50により上昇され、元の待機状態まで
戻される。
リード切断装置43において、切断が終了し、上側取付
板50が上昇すると、多連リードフレーム1の外枠3か
ら切り離された中間製品であるMSPG・10部47は
、下型62上からリード成形装置44における下型82
上へハンドラ45により移載される。
板50が上昇すると、多連リードフレーム1の外枠3か
ら切り離された中間製品であるMSPG・10部47は
、下型62上からリード成形装置44における下型82
上へハンドラ45により移載される。
MSPC・10部47がリード成形装置44に移載され
ると、フィーダ41により多連リードフレームlが単位
リードフレーム2の1ピッチ分だけ歩進送りされ、次段
の単位リードフレーム2について前記した切断作業が実
施される。以降、各単位リードフレーム2について切断
作業が繰り返されて行く。
ると、フィーダ41により多連リードフレームlが単位
リードフレーム2の1ピッチ分だけ歩進送りされ、次段
の単位リードフレーム2について前記した切断作業が実
施される。以降、各単位リードフレーム2について切断
作業が繰り返されて行く。
そして、全ての単位リードフレーム2についての切断作
業が終了した多連リードフレームlの残渣としての外枠
部48は、アンローダ46においてフィーダ41上から
下ろされ所定の場合に回収される。
業が終了した多連リードフレームlの残渣としての外枠
部48は、アンローダ46においてフィーダ41上から
下ろされ所定の場合に回収される。
一方、リード成形装置44に供給されたMSPG・10
部47はこの装置によりリード成形作業を実施される。
部47はこの装置によりリード成形作業を実施される。
ここで、リード成形装置44についての作用を説明する
。
。
第19図に示されているように、下型82にMSPC・
10部47が凹部にパッケージ21を落とし込むように
してセットされる。これにより、リード9の根本部が下
型82の押さえ部83に当接する。
10部47が凹部にパッケージ21を落とし込むように
してセットされる。これにより、リード9の根本部が下
型82の押さえ部83に当接する。
次ぎに、シリンダ装置により上側取付板70が下降され
、上型72が下型82にスプリング79の付勢力により
合わせられる。これにより、上型72の押さえ部73と
下型82の押さえ部83との間で被屈曲部としてのり一
ド9の根本部が挟圧されて固定される。
、上型72が下型82にスプリング79の付勢力により
合わせられる。これにより、上型72の押さえ部73と
下型82の押さえ部83との間で被屈曲部としてのり一
ド9の根本部が挟圧されて固定される。
その後、上側取付板70がさらに下降されて行(と、成
形ロール74が下降されて行く、このとき、上型72は
スプリング79が圧縮変形されるため、下型82に押圧
される。
形ロール74が下降されて行く、このとき、上型72は
スプリング79が圧縮変形されるため、下型82に押圧
される。
さらに、成形ロール74が成形ダイ84に対して下降さ
れると、リード9のアウタ部9bはロール74の下降に
伴って成形ダイ84に押しつけられることにより、この
成形ダイ84に倣うように屈曲されて、第20図に示さ
れているように所望のバッドリード形状に成形される。
れると、リード9のアウタ部9bはロール74の下降に
伴って成形ダイ84に押しつけられることにより、この
成形ダイ84に倣うように屈曲されて、第20図に示さ
れているように所望のバッドリード形状に成形される。
成形ロール74が所定のストロークを終了すると、ロー
ル74は上昇され、元の待機状態まで戻される。その後
、成形済のICは下型82がら取り外され、次工程に送
給されて行く。
ル74は上昇され、元の待機状態まで戻される。その後
、成形済のICは下型82がら取り外され、次工程に送
給されて行く。
前述した通り、多連リードフレーム1は波打つように変
形してしまうのをスリントロを開設されることにより防
止されているため、前記リードの切断および成形作業に
おいて上型と下型との間で精密に位置決めされることに
なり、その結果、当該作業が情度よ〈実施されることに
なる。
形してしまうのをスリントロを開設されることにより防
止されているため、前記リードの切断および成形作業に
おいて上型と下型との間で精密に位置決めされることに
なり、その結果、当該作業が情度よ〈実施されることに
なる。
このようにして、リードの切断成形作業を最終工程にお
いて実施することにより、多連リードフレームの形態に
おいて突出部分を発生させなくて済むため、多連リード
フレームの取扱性が良好になるとともに、ポンディング
装置やリード切断成形装置等における搬送路および治具
の構造等を簡単化することができる。
いて実施することにより、多連リードフレームの形態に
おいて突出部分を発生させなくて済むため、多連リード
フレームの取扱性が良好になるとともに、ポンディング
装置やリード切断成形装置等における搬送路および治具
の構造等を簡単化することができる。
ところで、前記リードの切断作業において、被切断部で
あるタイバー8がリード9のアウタ部9bにおける根元
部に配置されていた場合、当該タイバーのリード連結部
片切断に伴う引張力がリード9群を通じて封着JW22
に作用することにより、脆弱な低融点ガラスからなる封
着7122が損傷される危惧がある。
あるタイバー8がリード9のアウタ部9bにおける根元
部に配置されていた場合、当該タイバーのリード連結部
片切断に伴う引張力がリード9群を通じて封着JW22
に作用することにより、脆弱な低融点ガラスからなる封
着7122が損傷される危惧がある。
また、前記リードの成形作業において、被屈曲箇所にタ
イバー8の残痕部8Aがあると、当該タイバー残痕部8
Aの屈曲強度が高いため、成形ロールとダイとの協働に
よる屈曲に伴う応力がリード9群を通じて封着層22に
作用することにより、脆弱な低融点ガラスからなる封着
層22が損傷される危惧がある。ちなみに、タイバー残
痕部8Aはリード9の内側に切り口が喰い込むことによ
り、リード9が細って通電抵抗が高くなるのを回避する
ため、リード9の外側に突出するように設定されている
。その結果、タイバー残痕部8Aにおける屈曲強度は大
きくなる。
イバー8の残痕部8Aがあると、当該タイバー残痕部8
Aの屈曲強度が高いため、成形ロールとダイとの協働に
よる屈曲に伴う応力がリード9群を通じて封着層22に
作用することにより、脆弱な低融点ガラスからなる封着
層22が損傷される危惧がある。ちなみに、タイバー残
痕部8Aはリード9の内側に切り口が喰い込むことによ
り、リード9が細って通電抵抗が高くなるのを回避する
ため、リード9の外側に突出するように設定されている
。その結果、タイバー残痕部8Aにおける屈曲強度は大
きくなる。
しかし、本実施例においては、タイバー8のリード9群
に対する結合位置がリード9のアウタ部9bにおける根
元から離間され、しかも、屈曲成形箇所よりも先端寄り
に配設されているため、前記リードの切断および成形作
業において、封着層22が損傷されることはない。
に対する結合位置がリード9のアウタ部9bにおける根
元から離間され、しかも、屈曲成形箇所よりも先端寄り
に配設されているため、前記リードの切断および成形作
業において、封着層22が損傷されることはない。
すなわち、タイバー8がリード9の根元部から充分離間
されていることにより、切断時に伴う引張力がリード9
群を通じて封着層22に加わることは抑制されるため、
脆弱な低融点ガラスからなる封着層22であっても、当
該引張力によって損傷されることはない。
されていることにより、切断時に伴う引張力がリード9
群を通じて封着層22に加わることは抑制されるため、
脆弱な低融点ガラスからなる封着層22であっても、当
該引張力によって損傷されることはない。
また、タイバー8が被屈曲箇所から離間されていること
により、曲げ強度の高いタイバー残痕部8Aについて屈
曲加工による成形を施さなくて済むため、当該屈曲加工
に伴う応力がリード9群を通じて封着層22に加わるこ
とは抑制される。したがって、脆弱な低融点ガラス層か
らなる封着層22であっても、当該応力によって損傷さ
れることはない。
により、曲げ強度の高いタイバー残痕部8Aについて屈
曲加工による成形を施さなくて済むため、当該屈曲加工
に伴う応力がリード9群を通じて封着層22に加わるこ
とは抑制される。したがって、脆弱な低融点ガラス層か
らなる封着層22であっても、当該応力によって損傷さ
れることはない。
前述のようにして製造されたMSPC・1cは第21図
および第22図に示されているようにプリント配線基板
に実装される。
および第22図に示されているようにプリント配線基板
に実装される。
第21図および第22図において、プリント配線基板9
1にはランド92が複数個、実装対象物となるMSPG
−IC90における各リード9に対応するように配され
て、はんだ材料を用いて略長方形の薄板形状に形成され
ており、このランド92群にこのMSPC−IC90の
リード9群がそれぞれ整合されて当接されているととも
に、各リード9とランド92とがリフローはんだ処理に
より形成されたはんだ盛り層93によって電気的かつ機
械的に接続されている。
1にはランド92が複数個、実装対象物となるMSPG
−IC90における各リード9に対応するように配され
て、はんだ材料を用いて略長方形の薄板形状に形成され
ており、このランド92群にこのMSPC−IC90の
リード9群がそれぞれ整合されて当接されているととも
に、各リード9とランド92とがリフローはんだ処理に
より形成されたはんだ盛り層93によって電気的かつ機
械的に接続されている。
そして、各リード9がランド92にリフローはんだ処理
される際、リード9の下端部にめっき被膜35が完全な
状態で被着されているため、リード9ははんだ盛り層9
3によって確実に接続されることになる。したがって、
このMSPC−IC90についてのはんだ付は作業の自
動化を促進させることができる。
される際、リード9の下端部にめっき被膜35が完全な
状態で被着されているため、リード9ははんだ盛り層9
3によって確実に接続されることになる。したがって、
このMSPC−IC90についてのはんだ付は作業の自
動化を促進させることができる。
前記実施例によれば次の効果が得られる。
(1)ペレットかベースに組み付けられる前に、ベース
およびキャップに形成された低融点ガラス層を融点以上
に加熱しておくことにより、予め、低融点ガラス層とベ
ースおよびキャップ表面とを完全、かつ、安定的に接着
させておくことができるため、封着工程における加熱温
度を低く設定することにより、所期の封着性能を確保し
ながら、ベースに組み付けられたペレットに対する熱ス
トレスを抑制することができ、製品の品質および信頼性
を高めることができる。
およびキャップに形成された低融点ガラス層を融点以上
に加熱しておくことにより、予め、低融点ガラス層とベ
ースおよびキャップ表面とを完全、かつ、安定的に接着
させておくことができるため、封着工程における加熱温
度を低く設定することにより、所期の封着性能を確保し
ながら、ベースに組み付けられたペレットに対する熱ス
トレスを抑制することができ、製品の品質および信頼性
を高めることができる。
(2)外枠とセフシラン枠との接続部に支持部を形成す
るとともに、この支持部にスリットを開設してタイバー
吊り部材を形成し、このタイバー吊り部材にリード群を
保持したタイバーを吊持させることにより、リード群に
対する熱ストレスによる応力がタイバーに作用した際に
、タイバー吊り部材が変形することにより、この応力を
吸収することができるため、多連リードフレームが熱ス
トレスにより変形するのを防止することができる。
るとともに、この支持部にスリットを開設してタイバー
吊り部材を形成し、このタイバー吊り部材にリード群を
保持したタイバーを吊持させることにより、リード群に
対する熱ストレスによる応力がタイバーに作用した際に
、タイバー吊り部材が変形することにより、この応力を
吸収することができるため、多連リードフレームが熱ス
トレスにより変形するのを防止することができる。
(3)タイバーのリード群に対する結合位置をリード先
端寄りに配設することにより、リード切断および成形時
にリード群を通じて封着層に加わる応力を抑制すること
ができるため、当該応力により脆弱な低融点ガラス層か
らなる封着層が損傷されるのを防止することができる。
端寄りに配設することにより、リード切断および成形時
にリード群を通じて封着層に加わる応力を抑制すること
ができるため、当該応力により脆弱な低融点ガラス層か
らなる封着層が損傷されるのを防止することができる。
(4) リード途中に配設されたタイバーによりリー
ド群を保持することにより、リードの先端を外枠および
セクシ四ン枠から切り離すことができるため、リード先
端まではんだめっき被膜を完全に被着することができ、
その結果、バッドリード形パッケージICにおける実装
状態を完全化させることができる。
ド群を保持することにより、リードの先端を外枠および
セクシ四ン枠から切り離すことができるため、リード先
端まではんだめっき被膜を完全に被着することができ、
その結果、バッドリード形パッケージICにおける実装
状態を完全化させることができる。
(5) リードの切断成形作業を最終工程において実
施することにより、多連リードフレームの形態において
突出部分を発生させなくて済むため、多連リードフレー
ムの取扱性が良好になるとともに、ボンディング装置や
リード切断成形装置等における搬送路および治具の構造
等を簡単化することができる。
施することにより、多連リードフレームの形態において
突出部分を発生させなくて済むため、多連リードフレー
ムの取扱性が良好になるとともに、ボンディング装置や
リード切断成形装置等における搬送路および治具の構造
等を簡単化することができる。
(6)気密封止パッケージを多連リードフレームの形態
で取り扱って製造を進行させて行くことにより、信幀性
の高い気密封止パッケージを備えた半導体装置の製造に
ついて作業能率を高め、その生産性を高めることができ
るため、気密封止パッケージを備えた半導体装置のコス
トを低減化することができる。
で取り扱って製造を進行させて行くことにより、信幀性
の高い気密封止パッケージを備えた半導体装置の製造に
ついて作業能率を高め、その生産性を高めることができ
るため、気密封止パッケージを備えた半導体装置のコス
トを低減化することができる。
以上本発明者によってなされた発明を実施例に基づき具
体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。
体的に説明したが、本発明は前記実施例に限定されるも
のではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能
であることはいうまでもない。
例えば、440°C以上の高温度で低融点ガラスをセラ
ミック表面に接着させる工程は、−層の低融点ガラスを
セラミック表面に塗布した後、高温加熱処理して接着さ
せる方法を使用するに限らず、第2図に示されている方
法を使用してもよい。
ミック表面に接着させる工程は、−層の低融点ガラスを
セラミック表面に塗布した後、高温加熱処理して接着さ
せる方法を使用するに限らず、第2図に示されている方
法を使用してもよい。
すなわち、第1層の低融点ガラスが塗布されたら、44
0℃以上で高温加熱処理されてセラミック表面への接着
処理が施され、第1低融点ガラス層15Aが形成される
。その後、第2低融点ガラス層15Bが通常の加熱処理
により形成される。
0℃以上で高温加熱処理されてセラミック表面への接着
処理が施され、第1低融点ガラス層15Aが形成される
。その後、第2低融点ガラス層15Bが通常の加熱処理
により形成される。
この複数のガラス層により所望の厚さの低融点ガラス層
が形成される。この方法による場合、第2低融点ガラス
層15Bは従来と同等の状態を維持しているため、封着
処理工程において、従来通りの状態が創り出されること
になる。
が形成される。この方法による場合、第2低融点ガラス
層15Bは従来と同等の状態を維持しているため、封着
処理工程において、従来通りの状態が創り出されること
になる。
低融点ガラス層を形成するための材料としては前記した
非結晶ガラスに限らず、他の非結晶ガラスや結晶ガラス
等を用いてもよい。
非結晶ガラスに限らず、他の非結晶ガラスや結晶ガラス
等を用いてもよい。
また、ベースおよびキャップを形成するための材料とし
ては、アルミナセラミックに限らず、ムライト、窒化ア
ルミニニウム、炭化シリコンセラミック、さらには、エ
ポキシ樹脂等を用いてもよい。
ては、アルミナセラミックに限らず、ムライト、窒化ア
ルミニニウム、炭化シリコンセラミック、さらには、エ
ポキシ樹脂等を用いてもよい。
ボンダビリティ−を高めるための被膜はアルミニニウム
蒸@膜により構成するに限らず、アルミニニウム箔をク
ラッドして形成してもよいし、他の材料をめっき処理等
のような適当な手段により被着してもよい。
蒸@膜により構成するに限らず、アルミニニウム箔をク
ラッドして形成してもよいし、他の材料をめっき処理等
のような適当な手段により被着してもよい。
以上の説明では主として本発明者によってなされた発明
をその背景となった利用分野である樹脂封止形MSPG
・IC1およびその製造方法に適用した場合について説
明したが、それに限定されるものではなく、低融点ガラ
ス封着層による気密封止形パッケージを備えているIC
等のような半導体装置全般に適用することができる。
をその背景となった利用分野である樹脂封止形MSPG
・IC1およびその製造方法に適用した場合について説
明したが、それに限定されるものではなく、低融点ガラ
ス封着層による気密封止形パッケージを備えているIC
等のような半導体装置全般に適用することができる。
本願において開示される発明のうち代表的なものによっ
て得られる効果をWI巾に説明すれば、次の通りである
。
て得られる効果をWI巾に説明すれば、次の通りである
。
多連リードフレームにおける各単位リードフレームに支
持部を形成するとともに、この支持部にリード群結合部
材を形成し、さらに、この支持部のリード群結合部材の
内側にスリットを開設することにより、気密封止パッケ
ージの封着部形成時の加熱によって応力がリード群を通
じてリード群結合部材に作用した際に、スリットが変形
することにより、この応力を吸収することができるため
、多連リードフレームが材料の熱膨張係数差による応力
により変形されてしまうのを防止することができる。
持部を形成するとともに、この支持部にリード群結合部
材を形成し、さらに、この支持部のリード群結合部材の
内側にスリットを開設することにより、気密封止パッケ
ージの封着部形成時の加熱によって応力がリード群を通
じてリード群結合部材に作用した際に、スリットが変形
することにより、この応力を吸収することができるため
、多連リードフレームが材料の熱膨張係数差による応力
により変形されてしまうのを防止することができる。
第1図は本発明の一実施例であるMSPG・ICを示す
一部切断正面図、 第2図〜第20図は本発明の一実施例であるMSPG・
ICの製造方法を示すものであり、第2図はそれに使用
される多連リードフレームを示す一部省略平面図、 第3図および第4図は同じくベースを示す平面図および
正面断面図、 第5図および第6図は同じくキャップを示す底面図およ
び正面断面図、 第7図および第8図はベースとリードフレームとの組付
後を示す拡大部分平面図および正面断面図、 第9図および第10図はペレットおよびワイヤボンディ
ング後を示す拡大部分平面図および拡大部分正面断面図
、 第11図および第12図は気密封止形パッケージ成形後
の多連リードフレームを示す一部省略正面断面図および
平面図、 第13図、第14図および第15図はその作用を説明す
るための各説明図、 第16図ははんだめっき処理工程を示す一部省略正面断
面図、 第17図はリード切断成形装置を示す一部省略概略平面
図、 第18図はそのリード切断装置を示す縦断面図、第19
図はそのリード成形装置を示す縦断面図、第20図はそ
のリード成形後の要部を示す拡大部分斜視図、 第21図はこの半導体装置の製造方法で得られたMSP
C・ICの実装状態を示す一部省略一部切断斜視図、 第22図はその一部省略拡大縦断面図である。 第23図は(a)、(ハ)は低融点ガラス層接着方法の
変形例を示す各正面断面図である。 l・・・多連リードフレーム、2・・・単位リードフレ
ーム、3・・・外枠、4・・・セクション枠、5・・・
タイバー支持部、6・・・スリント、7・・・タイバー
吊り部材、8・・・タイバー(リード群結合部材)、9
・・・リード、9a・・・インナ部、9b・・・アウタ
部、11・・・ベース、12・・・ベース本体、13a
、13b・・・キャビティー凹所、14・・・ボンディ
ング床、15a、15b・・・低融点ガラス層、15A
・・・第1低融点ガラス層、15B・・・第2低融点ガ
ラス層、16・・・キャップ、17・・・キャップ本体
、18・・・ペレット、19・・・ボンディング層、2
0・・・ワイヤ、21・・・気密封止パッケージ、22
・・・封着層、31・・・はんだめっき処理装置、32
・・・めっき液、33・・・はんだ槽、34・・・めっ
き電源、40・・・リード切断成形装置、41・・・フ
ィーダ、42・・・ローダ、43・・・リード切断装置
、44・・・リード成形装置、45・・・ハンドラ、4
6・・・アンローダ、47・・・MSPC・IC部(中
間製品)、48・・・外枠部(残渣部)、50.60.
70.80・・・取付板、51.61.71.81・・
・ホルダ、52.62.72.82・・・押さえ型、5
3.63.73.83・・・押さえ部、54・・・パン
チ、66・・・剪断ダイ、56・・・剪断刃、57・・
・外枠押さえ、58.7日・・・ガイド、59.79・
・・スプリング、74・・・成形ロール、84・・・成
形グイ、90・・・MSPG・IC(半導体装置)、9
1・・・プリント配線基板、92・・・ランド、93・
・・はんだ盛り層。 代理人 弁理士 梶 原 辰 也第3[ZI 第4図 14 15a 第6図 17 13b 1λb 第80 ]1 ]l 第10図 ? 第11図 第131!1 第16図 第17図 第22図 1ii23図 (a) 1′2 (b) 、!5A 15B 蚕固ま固更コ
一部切断正面図、 第2図〜第20図は本発明の一実施例であるMSPG・
ICの製造方法を示すものであり、第2図はそれに使用
される多連リードフレームを示す一部省略平面図、 第3図および第4図は同じくベースを示す平面図および
正面断面図、 第5図および第6図は同じくキャップを示す底面図およ
び正面断面図、 第7図および第8図はベースとリードフレームとの組付
後を示す拡大部分平面図および正面断面図、 第9図および第10図はペレットおよびワイヤボンディ
ング後を示す拡大部分平面図および拡大部分正面断面図
、 第11図および第12図は気密封止形パッケージ成形後
の多連リードフレームを示す一部省略正面断面図および
平面図、 第13図、第14図および第15図はその作用を説明す
るための各説明図、 第16図ははんだめっき処理工程を示す一部省略正面断
面図、 第17図はリード切断成形装置を示す一部省略概略平面
図、 第18図はそのリード切断装置を示す縦断面図、第19
図はそのリード成形装置を示す縦断面図、第20図はそ
のリード成形後の要部を示す拡大部分斜視図、 第21図はこの半導体装置の製造方法で得られたMSP
C・ICの実装状態を示す一部省略一部切断斜視図、 第22図はその一部省略拡大縦断面図である。 第23図は(a)、(ハ)は低融点ガラス層接着方法の
変形例を示す各正面断面図である。 l・・・多連リードフレーム、2・・・単位リードフレ
ーム、3・・・外枠、4・・・セクション枠、5・・・
タイバー支持部、6・・・スリント、7・・・タイバー
吊り部材、8・・・タイバー(リード群結合部材)、9
・・・リード、9a・・・インナ部、9b・・・アウタ
部、11・・・ベース、12・・・ベース本体、13a
、13b・・・キャビティー凹所、14・・・ボンディ
ング床、15a、15b・・・低融点ガラス層、15A
・・・第1低融点ガラス層、15B・・・第2低融点ガ
ラス層、16・・・キャップ、17・・・キャップ本体
、18・・・ペレット、19・・・ボンディング層、2
0・・・ワイヤ、21・・・気密封止パッケージ、22
・・・封着層、31・・・はんだめっき処理装置、32
・・・めっき液、33・・・はんだ槽、34・・・めっ
き電源、40・・・リード切断成形装置、41・・・フ
ィーダ、42・・・ローダ、43・・・リード切断装置
、44・・・リード成形装置、45・・・ハンドラ、4
6・・・アンローダ、47・・・MSPC・IC部(中
間製品)、48・・・外枠部(残渣部)、50.60.
70.80・・・取付板、51.61.71.81・・
・ホルダ、52.62.72.82・・・押さえ型、5
3.63.73.83・・・押さえ部、54・・・パン
チ、66・・・剪断ダイ、56・・・剪断刃、57・・
・外枠押さえ、58.7日・・・ガイド、59.79・
・・スプリング、74・・・成形ロール、84・・・成
形グイ、90・・・MSPG・IC(半導体装置)、9
1・・・プリント配線基板、92・・・ランド、93・
・・はんだ盛り層。 代理人 弁理士 梶 原 辰 也第3[ZI 第4図 14 15a 第6図 17 13b 1λb 第80 ]1 ]l 第10図 ? 第11図 第131!1 第16図 第17図 第22図 1ii23図 (a) 1′2 (b) 、!5A 15B 蚕固ま固更コ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、複数本のリードを備えた単位リードフレームが複数
並設されており、各リードフレームにおいてはリード群
を互いに結合した結合部材が外枠の支持部に接続されて
いるとともに、この支持部にはスリットが開設されてい
る多連リードフレームが準備される工程と、半導体ペレ
ットを組み付けられたベースと、このベースを被覆する
キャップとが互いに合わされた状態で、前記多連リード
フレームの各単位リードフレームにそれぞれ接合され、
このベースとキャップとの合わせ面間に低融点ガラスか
らなる封着層が形成されて前記ペレットを気密封止する
パッケージが形成される工程とを備えており、前記パッ
ケージ形成工程において、多連リードフレームに作用す
る不正な応力が前記スリットの変形により吸収されるよ
うにしたことを特徴とする半導体装置の製造方法。 2、単位リードフレームの支持部が、斜めに切り欠かれ
ているとともに、この支持部の傾斜辺に一対の結合部材
が互いに直交する方向に配されてそれぞれ接続されてお
り、スリットが両結合部材の内側において傾斜辺に沿う
ように開設されていることを特徴とする特許請求の範囲
第1項記載の半導体装置の製造方法。 3、リード群の先端が、開放されていることを特徴とす
る特許請求の範囲第1項記載の半導体装置の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62333944A JPH01175759A (ja) | 1987-12-29 | 1987-12-29 | 半導体装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62333944A JPH01175759A (ja) | 1987-12-29 | 1987-12-29 | 半導体装置の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01175759A true JPH01175759A (ja) | 1989-07-12 |
Family
ID=18271720
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62333944A Pending JPH01175759A (ja) | 1987-12-29 | 1987-12-29 | 半導体装置の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01175759A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0395664U (ja) * | 1990-01-11 | 1991-09-30 | ||
| US5361490A (en) * | 1991-08-16 | 1994-11-08 | Motorola, Inc. | Method for making tape automated bonding (TAB) semiconductor device |
-
1987
- 1987-12-29 JP JP62333944A patent/JPH01175759A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0395664U (ja) * | 1990-01-11 | 1991-09-30 | ||
| US5361490A (en) * | 1991-08-16 | 1994-11-08 | Motorola, Inc. | Method for making tape automated bonding (TAB) semiconductor device |
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