JPH01176594A - 平版印刷版支持体の製造方法 - Google Patents
平版印刷版支持体の製造方法Info
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- JPH01176594A JPH01176594A JP33560487A JP33560487A JPH01176594A JP H01176594 A JPH01176594 A JP H01176594A JP 33560487 A JP33560487 A JP 33560487A JP 33560487 A JP33560487 A JP 33560487A JP H01176594 A JPH01176594 A JP H01176594A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- aluminum
- printing plate
- etching
- support
- sulfuric acid
- Prior art date
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、印刷版支持体の製造方法に関するものであり
、特に平版印刷版に適する粗面化されたマンガンを含有
するアルミニウム支持体からなる印刷版用支持体の製造
方法に関するものである。
、特に平版印刷版に適する粗面化されたマンガンを含有
するアルミニウム支持体からなる印刷版用支持体の製造
方法に関するものである。
(従来の技術]
印刷版支持体、特に平版印刷版用支持体としては、アル
ミニウム板が用いられ、ユーザーの多様化から、アルミ
ニウム板も、純アルミニウムに近いものから、マンガン
を添加し、強度を上げたものまで多様化している。
ミニウム板が用いられ、ユーザーの多様化から、アルミ
ニウム板も、純アルミニウムに近いものから、マンガン
を添加し、強度を上げたものまで多様化している。
そしてその様なアルミニウム板を、平版印刷版用支持体
として使用するためには、感光材との適度な接着性と保
水性を有していることが必要である。
として使用するためには、感光材との適度な接着性と保
水性を有していることが必要である。
このためには、アルミニウム板の表面を、均一かつ繊密
な砂目を有する様に粗面化しなければならない。この粗
面化処理は、実際に印刷を行ったとき、版材の汚れ性能
などの印刷性能に著しい影響を及ぼすので、その良否は
版材製造上重要な要素となっている。
な砂目を有する様に粗面化しなければならない。この粗
面化処理は、実際に印刷を行ったとき、版材の汚れ性能
などの印刷性能に著しい影響を及ぼすので、その良否は
版材製造上重要な要素となっている。
印刷版用アルミニウム支持体の粗面化方法としては、交
流電解粗面化法が一般的に採用されている。その中で、
特開昭58−207400号公報には、周波数0.3〜
15Hzという低周波数で粗面化行うことが、均一な表
面を得るのに良いこととして開示されている。
流電解粗面化法が一般的に採用されている。その中で、
特開昭58−207400号公報には、周波数0.3〜
15Hzという低周波数で粗面化行うことが、均一な表
面を得るのに良いこととして開示されている。
しかしながら、低周波数で均一な表面が得られても、今
日の様に高速で製造を行わなくてはならない時代には生
産性が悪く、又低周波数で粗面化したものは、最近の品
質上の期待からして周波数ピッチで発生するムラが目立
ち外観が悪く、印刷版としても更に均一性が望まれてき
た。
日の様に高速で製造を行わなくてはならない時代には生
産性が悪く、又低周波数で粗面化したものは、最近の品
質上の期待からして周波数ピッチで発生するムラが目立
ち外観が悪く、印刷版としても更に均一性が望まれてき
た。
本発明は、上記の様な問題点を解決し、ムラをなくし、
高品質の平版印刷版を生産性が高く製造出来る平版印刷
版支持体の製造方法を提供するものである。
高品質の平版印刷版を生産性が高く製造出来る平版印刷
版支持体の製造方法を提供するものである。
〔問題点を解決するための手段及び作用〕本発明者らは
周波数ピッチで発生するムラの解決方法、並びに、高い
周波数でも均一に粗面化可能な粗面化工程の前処理方式
を検討した結果、本発明を提案するに至った。
周波数ピッチで発生するムラの解決方法、並びに、高い
周波数でも均一に粗面化可能な粗面化工程の前処理方式
を検討した結果、本発明を提案するに至った。
即ち、本発明の上記目的はアルミニウム支持体を、0.
01 g/n(〜1. Og/rdアルカ171
ッチング処理した後、硫酸主体の水溶液中で化学エツチ
ングし、30〜60Hzの範囲内の周波数を有する交流
を用い酸性電解液中で電解粗面化処理を行うことを特徴
とする平版印刷版支持体の製造方法によって達成される
。
01 g/n(〜1. Og/rdアルカ171
ッチング処理した後、硫酸主体の水溶液中で化学エツチ
ングし、30〜60Hzの範囲内の周波数を有する交流
を用い酸性電解液中で電解粗面化処理を行うことを特徴
とする平版印刷版支持体の製造方法によって達成される
。
本発明においてアルカリエツチングで用いられる好まし
いアルカリ剤は、カセイソーダ、メタ珪酸ソーダ、炭酸
ソーダ、アルミン酸ソーダ、グルコン酸ソーダ等である
。
いアルカリ剤は、カセイソーダ、メタ珪酸ソーダ、炭酸
ソーダ、アルミン酸ソーダ、グルコン酸ソーダ等である
。
アルカリ剤による処理条件として、濃度0.01%〜2
0%、温度は20〜90°C5時間は5秒〜5分間の範
囲から選択されるのが適当であり、エツチング量として
は、0.01g/ボ〜1.0g/ボの範囲に入れること
が重要である。
0%、温度は20〜90°C5時間は5秒〜5分間の範
囲から選択されるのが適当であり、エツチング量として
は、0.01g/ボ〜1.0g/ボの範囲に入れること
が重要である。
この様なアルカリエツチングをした後、硫酸を主体とし
た液で化学エツチング処理することで、アルカリエツチ
ングで出来た析出物、並びにマンガンなどとの金属間化
合物で支持体表面層付近のものを溶出させる。濃度は1
〜40%、温度は20〜60°Cが好ましく、時間は適
時選択され好ましいアルミニウムのエツチング量として
は、0.001〜1.0g/ボである。
た液で化学エツチング処理することで、アルカリエツチ
ングで出来た析出物、並びにマンガンなどとの金属間化
合物で支持体表面層付近のものを溶出させる。濃度は1
〜40%、温度は20〜60°Cが好ましく、時間は適
時選択され好ましいアルミニウムのエツチング量として
は、0.001〜1.0g/ボである。
引き続き、アルミニウム板の表面は、酸性電解液中で、
電解粗面化される。この時の電解液は、塩酸、硝酸また
は、その混合液が望ましいが、硝酸を主体にした電解液
がより好ましい。濃度は0.05〜10wt%、より好
ましくは0.3〜3wt%の溶液中で、交流電解エツチ
ングを行う。
電解粗面化される。この時の電解液は、塩酸、硝酸また
は、その混合液が望ましいが、硝酸を主体にした電解液
がより好ましい。濃度は0.05〜10wt%、より好
ましくは0.3〜3wt%の溶液中で、交流電解エツチ
ングを行う。
その場合交流周波数が重要な条件であり、20〜70H
zの範囲であり、より好ましくは、30〜5 Q Hz
である。この場合周波数については、砂目の均一性とい
う点から、30Hz以上が外観も含めて適当である。ま
た、電源波形は、求める砂目の形により適時選択される
が、好ましいのは矩形波である。
zの範囲であり、より好ましくは、30〜5 Q Hz
である。この場合周波数については、砂目の均一性とい
う点から、30Hz以上が外観も含めて適当である。ま
た、電源波形は、求める砂目の形により適時選択される
が、好ましいのは矩形波である。
電解に使用する電気量によって表面に1次相面が形成さ
れる。1次相面のピット深さは0.1〜10μ、ピット
径は、1μ〜20μ、より好ましくはピット深さ2〜4
μ、ピット径5〜15μである。このようなピット径を
形成させるには、特公昭56−19280号、特公昭5
5−19191号各公報定記載の特殊交番波形を用いる
のがより好ましい。
れる。1次相面のピット深さは0.1〜10μ、ピット
径は、1μ〜20μ、より好ましくはピット深さ2〜4
μ、ピット径5〜15μである。このようなピット径を
形成させるには、特公昭56−19280号、特公昭5
5−19191号各公報定記載の特殊交番波形を用いる
のがより好ましい。
次に1次砂目を形成したアルミニウムは、引続き、酸又
はアルカリ溶液で処理されることが好ましい。具体的に
は特公昭56−11316号公報に記載されている硫酸
の他に、リン酸またはリン酸とクロム酸の混液が用いら
れる。また、特公昭48−28123号公報に記載され
ているような苛性ソーダなどのアルカリ性溶液で軽くエ
ツチング処理を行って、表面に付着しているスマットを
除去する。アルカリ溶液で付着したスマットを除去する
場合、アルミニウム表面をエツチングするので、アルカ
リに不溶成分が残存する。それ故に、酸性溶液(硫酸、
リン酸、クロム酸等)により再度デスマットする必要が
ある。
はアルカリ溶液で処理されることが好ましい。具体的に
は特公昭56−11316号公報に記載されている硫酸
の他に、リン酸またはリン酸とクロム酸の混液が用いら
れる。また、特公昭48−28123号公報に記載され
ているような苛性ソーダなどのアルカリ性溶液で軽くエ
ツチング処理を行って、表面に付着しているスマットを
除去する。アルカリ溶液で付着したスマットを除去する
場合、アルミニウム表面をエツチングするので、アルカ
リに不溶成分が残存する。それ故に、酸性溶液(硫酸、
リン酸、クロム酸等)により再度デスマットする必要が
ある。
この後、必要に応じて1次砂目の生成と同様な方法で2
次砂目を重ねても良い。2次砂目のピット深さは0.1
〜1μ、ビット径は0.1〜5μ。
次砂目を重ねても良い。2次砂目のピット深さは0.1
〜1μ、ビット径は0.1〜5μ。
より好ましくは、ピット深さが0.1〜0.8μ。
ピット径0.1〜3μである。
2次砂目を形成したアルミニウムは、引続き、酸又はア
ルカリ溶液で処理されることが好ましい。
ルカリ溶液で処理されることが好ましい。
具体的には特公昭56−11316号公報に記載されて
いる硫酸の他に、リン酸またはリン酸とクロム酸の混合
が用いられる。また、特公昭48−28123号公報に
記載されているような苛性ソーダなどのアルカリ性溶液
で軽くエツチング処理を行って、表面に付着しているス
マットを除去するアルカリ溶液で付着したスマットを除
去する場合、アルミニウム表面をエツチングするので、
アルカリに不溶成分が残存する。それ故に、酸性溶液(
硫酸、リン酸、クロム酸等)により再度デスマットする
必要がある。
いる硫酸の他に、リン酸またはリン酸とクロム酸の混合
が用いられる。また、特公昭48−28123号公報に
記載されているような苛性ソーダなどのアルカリ性溶液
で軽くエツチング処理を行って、表面に付着しているス
マットを除去するアルカリ溶液で付着したスマットを除
去する場合、アルミニウム表面をエツチングするので、
アルカリに不溶成分が残存する。それ故に、酸性溶液(
硫酸、リン酸、クロム酸等)により再度デスマットする
必要がある。
次に陽極酸化皮膜は0.1〜10g/r+(、より好ま
しくは0.3〜5g/rrf表面に形成するのが良い。
しくは0.3〜5g/rrf表面に形成するのが良い。
陽極酸化処理する前にアルカリエツチング、デスマット
処理するのが好ましい。
処理するのが好ましい。
陽極酸化の処理条件は、使用される電解液によって種々
変化するので一概には決定されないが一般的には、電解
液の濃度が1〜80重量%:液温5〜70°C1電流密
度0.5〜60A/dボ、電圧1〜100v、電解時間
10秒〜5分の範囲が適当である。
変化するので一概には決定されないが一般的には、電解
液の濃度が1〜80重量%:液温5〜70°C1電流密
度0.5〜60A/dボ、電圧1〜100v、電解時間
10秒〜5分の範囲が適当である。
この様にして得られた陽極酸化皮膜を持つ砂目のアルミ
ニウム板はそれ自身安定で親水性に優れたものであるか
ら、直ちに感光性塗膜を上に設ける事も出来るが、必要
により更に表面処理を施す事が出来る。たとえば、先に
記載したアルカリ金属珪酸塩によるシリケート層あるい
は、親水性高分子化合物よりなる下塗層を設けることが
出来る。
ニウム板はそれ自身安定で親水性に優れたものであるか
ら、直ちに感光性塗膜を上に設ける事も出来るが、必要
により更に表面処理を施す事が出来る。たとえば、先に
記載したアルカリ金属珪酸塩によるシリケート層あるい
は、親水性高分子化合物よりなる下塗層を設けることが
出来る。
下塗層の塗布量は5〜150mg/rrfが好ましい。
次に、このように処理したアルミニウム支持体上に感光
性塗膜を設け、画像露光、現像して製版した後に、印刷
機にセットし、印刷を開始する。
性塗膜を設け、画像露光、現像して製版した後に、印刷
機にセットし、印刷を開始する。
実施例−1
1,2%のマンガンを含有するJIS3003材のアル
ミニウム支持体で、8%苛性ソーダ水溶液を、45°C
に温めた溶液中に浸漬し、アルミニウム溶解量がQ、I
g/nfになる様にエツチングし、水洗後、35%硫酸
水溶液を60°Cに温め、浸漬してアルカリエツチング
で出来た析出物並びにマンガンなどアルミ以外の成分で
支持体表面層付近のものを溶出させた。この場合アルミ
ニウムの溶解量は0.02g/%であった。水洗後、1
.5%硝酸水溶液中で、40 Hzの周波数にて、矩形
波を用い、陽極特電気量が400クローン/drrfと
なる様電気化学的に通板速度20 m /+sinにて
粗面化した。表面のスマットを除した後、電顕写真で観
察すると、10μ程度の大きなピットと、1μ程度の細
いピットが均一に生成し、外観も均一であった。
ミニウム支持体で、8%苛性ソーダ水溶液を、45°C
に温めた溶液中に浸漬し、アルミニウム溶解量がQ、I
g/nfになる様にエツチングし、水洗後、35%硫酸
水溶液を60°Cに温め、浸漬してアルカリエツチング
で出来た析出物並びにマンガンなどアルミ以外の成分で
支持体表面層付近のものを溶出させた。この場合アルミ
ニウムの溶解量は0.02g/%であった。水洗後、1
.5%硝酸水溶液中で、40 Hzの周波数にて、矩形
波を用い、陽極特電気量が400クローン/drrfと
なる様電気化学的に通板速度20 m /+sinにて
粗面化した。表面のスマットを除した後、電顕写真で観
察すると、10μ程度の大きなピットと、1μ程度の細
いピットが均一に生成し、外観も均一であった。
この支持体に、20%硫酸中で陽極酸化皮膜2.1g/
n?設け、水洗し、乾燥した。これを基板(A)とする
。
n?設け、水洗し、乾燥した。これを基板(A)とする
。
比較例−1
実施例−1と同様なアルミニウム支持体に同様な条件で
苛性ソーダ次いで硫酸で処理を行い、粗面化の周波数を
10Hzにて行った。電顕写真で観察すると、10μ程
度のピットが生成しているが、約17++m+毎にライ
ン進行方向に外観上ムラが発生していた。この支持体に
、20%硫酸中で陽極酸化皮膜2.1g/n?設は水洗
し、乾燥した。
苛性ソーダ次いで硫酸で処理を行い、粗面化の周波数を
10Hzにて行った。電顕写真で観察すると、10μ程
度のピットが生成しているが、約17++m+毎にライ
ン進行方向に外観上ムラが発生していた。この支持体に
、20%硫酸中で陽極酸化皮膜2.1g/n?設は水洗
し、乾燥した。
これを、基板CB)とする。
比較例−2
1,2%のマンガンを含有するJIS3003材のアル
ミニウム支持体を、8%苛性ソーダ水溶液60°Cに温
めた溶液中に浸漬し、アルミニウム溶解量が5g/mに
なる様にエツチングし、水洗後、35%硫酸水溶液を6
0°Cに温め、浸漬して、アルカリエツチングで出来た
析出物並びにマンガンなどアルミ以外の成分で支持体表
面層付近のものを溶出させた。その場合、アルミニウム
溶解量は0.02g/ボであった。
ミニウム支持体を、8%苛性ソーダ水溶液60°Cに温
めた溶液中に浸漬し、アルミニウム溶解量が5g/mに
なる様にエツチングし、水洗後、35%硫酸水溶液を6
0°Cに温め、浸漬して、アルカリエツチングで出来た
析出物並びにマンガンなどアルミ以外の成分で支持体表
面層付近のものを溶出させた。その場合、アルミニウム
溶解量は0.02g/ボであった。
水洗後、実施例−1と同じ様な方法で粗面化し、表面の
スマットを除した後、電顕写真で観察すると、10μ〜
30μの粗大ピットが発生し不均一であった。
スマットを除した後、電顕写真で観察すると、10μ〜
30μの粗大ピットが発生し不均一であった。
この支持体に、20%硫酸中で陽極酸化皮膜2.1g/
rrf設け、水洗し、乾燥した。これを基板[C]とす
る。
rrf設け、水洗し、乾燥した。これを基板[C]とす
る。
比較例−3
1,2%のマンガンを含有するJI33003材のアル
ミニウム支持体を、8%苛性ソーダ水溶液45°Cに温
めた溶液中に浸漬し、アルミニウム溶解量が0.02g
/n(になる様にエツチングし、水洗後5%硝酸水溶液
にてデスマットした。水洗後実施例−1と同様な方法で
粗面化し、表面のスマットを除した後、電顕写真で観察
すると、10g程度の大きなピットと、1μ程度の細い
ピントが生成したが、実施例に比べやや未エツチング部
分が多かった。外観は均一であった。
ミニウム支持体を、8%苛性ソーダ水溶液45°Cに温
めた溶液中に浸漬し、アルミニウム溶解量が0.02g
/n(になる様にエツチングし、水洗後5%硝酸水溶液
にてデスマットした。水洗後実施例−1と同様な方法で
粗面化し、表面のスマットを除した後、電顕写真で観察
すると、10g程度の大きなピットと、1μ程度の細い
ピントが生成したが、実施例に比べやや未エツチング部
分が多かった。外観は均一であった。
この支持体に20%硫酸中で陽極酸化皮膜2.1g/r
ri設け、水洗し乾燥し、これを基板〔D]とする。
ri設け、水洗し乾燥し、これを基板〔D]とする。
比較例−4
1,2%のマンガンを含有するJIS3003材のアル
ミニウム支持体を実施例−1と同様な条件で苛性ソーダ
、次いで硫酸で処理を行い、粗面化周波数l Q Hz
にて行ったところ比較例−1で発生した外観上のムラが
通板速度4m/minにて目立たなくなった。4m/m
inにて粗面化を行い、20%硫酸中で陽極酸化皮膜2
.1g/rl(を設け、水洗し、乾燥した。これを基板
[E)とする。
ミニウム支持体を実施例−1と同様な条件で苛性ソーダ
、次いで硫酸で処理を行い、粗面化周波数l Q Hz
にて行ったところ比較例−1で発生した外観上のムラが
通板速度4m/minにて目立たなくなった。4m/m
inにて粗面化を行い、20%硫酸中で陽極酸化皮膜2
.1g/rl(を設け、水洗し、乾燥した。これを基板
[E)とする。
この様に作成した基板(A)〜(E)に、下記組成物を
、乾燥後の塗布重量が1.9g/n(になる様に塗布し
て感光層を設けた。
、乾燥後の塗布重量が1.9g/n(になる様に塗布し
て感光層を設けた。
ナフトキノン−1,2−ジア
ジド−5−スルホニルフロラ
イドとピロガロール、アセト
ン樹脂とのエステル化合物
(米国特許3,635.70
9号明細書実施例1記載の
もの) ・・・・・・0.75gクレゾールノ
ボラック樹脂・・2.OOgオイルブルー#603 (オリエント化学製)・・・・0.04gエチレンジク
ロライド・・・・・・16g2−メトキシエチルアセテ ート ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・1
2gこの様にして作られた感光性平板印刷版を、真空焼
枠中で、透明ポジティブフィルムを通して1mの距離か
ら3KWのメタルハライドランプにより、50秒間露光
を行なったのち、S+0□/Na2Oのモル比が1.7
4の珪酸ナトラムの5.26%水溶液(pH=12.7
)で現像したのち、常法の手順で印刷した。
ボラック樹脂・・2.OOgオイルブルー#603 (オリエント化学製)・・・・0.04gエチレンジク
ロライド・・・・・・16g2−メトキシエチルアセテ ート ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・ ・1
2gこの様にして作られた感光性平板印刷版を、真空焼
枠中で、透明ポジティブフィルムを通して1mの距離か
ら3KWのメタルハライドランプにより、50秒間露光
を行なったのち、S+0□/Na2Oのモル比が1.7
4の珪酸ナトラムの5.26%水溶液(pH=12.7
)で現像したのち、常法の手順で印刷した。
尚印刷機はスプリント25(小森印刷機社製)を使用し
た。
た。
第 1 表
第1表に見られる様に基板(A)の本発明の実施例−1
は耐刷性、汚れにくさに優れ外観もよいものが得られた
が 基板CB)の比較例−1の条件で作ったものは、粗面化
の周波数10Hzによって発生したライン進行方向での
約17nun枚のムラで外観不良である。
は耐刷性、汚れにくさに優れ外観もよいものが得られた
が 基板CB)の比較例−1の条件で作ったものは、粗面化
の周波数10Hzによって発生したライン進行方向での
約17nun枚のムラで外観不良である。
又耐剛性、汚れにくさも基板(A)に比較して劣る。
基板(C)の比較例−2の条件で作ったものは、アルカ
リエンチング処理が5 g / rr’tと多かったた
め、耐刷性も比較的低く、粗大ピット発生により汚れに
くさは不良、又外観も好ましくなかった。
リエンチング処理が5 g / rr’tと多かったた
め、耐刷性も比較的低く、粗大ピット発生により汚れに
くさは不良、又外観も好ましくなかった。
基板[D〕の比較例−3の条件で作ったものは、耐刷新
性も優れ、汚れにくさもまあまあであるが、アルカリエ
ツチングの次の表面のマンガン溶出処理が不充分なため
未エツチング部分がありそれによって外観かや!好まし
くない状況を示している。
性も優れ、汚れにくさもまあまあであるが、アルカリエ
ツチングの次の表面のマンガン溶出処理が不充分なため
未エツチング部分がありそれによって外観かや!好まし
くない状況を示している。
基板(E)は生産性が非常に悪く、工業生産には向かな
いことを示している。
いことを示している。
[発明の効果〕
本発明はアルミニウム支持体を、0.01g/ボ〜1.
0g/rfアルカリエツチング処理した後、硫酸主体の
水溶液中で化学エツチングし、30〜5 Q Hzの範
囲内の周波数を有する交流を用い酸性電解液中で電解粗
面化処理を行うことを特徴とする平版印刷版支持体の製
造方法により平版印刷版として高品質の平版印刷版を生
産性高く製造することが可能になった。
0g/rfアルカリエツチング処理した後、硫酸主体の
水溶液中で化学エツチングし、30〜5 Q Hzの範
囲内の周波数を有する交流を用い酸性電解液中で電解粗
面化処理を行うことを特徴とする平版印刷版支持体の製
造方法により平版印刷版として高品質の平版印刷版を生
産性高く製造することが可能になった。
Claims (4)
- (1)アルミニウム支持体を、0.01g/m^2〜1
.0g/m^2アルカリエッチング処理した後、硫酸主
体の水溶液中で化学エッチングし、30〜60Hzの範
囲内の周波数を有する交流を用い酸性電解液中で電解粗
面化処理を行うことを特徴とする平版印刷版支持体の製
造方法。 - (2)前記粗面化酸性電解液が、硝酸を主体であること
を特徴とする特許請求の範囲第1項記載の平版印刷版支
持体の製造方法。 - (3)前記アルミニウム支持体の中に、0.3%以上マ
ンガンが含有されていることを特徴とする特許請求の範
囲第1項又は第2項記載の平版印刷版支持体の製造方法
。 - (4)前記交流の波形が矩形波であることを特徴とする
特許請求の範囲第1、2、又は第3項記載の平版印刷版
支持体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33560487A JPH01176594A (ja) | 1987-12-29 | 1987-12-29 | 平版印刷版支持体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP33560487A JPH01176594A (ja) | 1987-12-29 | 1987-12-29 | 平版印刷版支持体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01176594A true JPH01176594A (ja) | 1989-07-12 |
Family
ID=18290439
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP33560487A Pending JPH01176594A (ja) | 1987-12-29 | 1987-12-29 | 平版印刷版支持体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01176594A (ja) |
-
1987
- 1987-12-29 JP JP33560487A patent/JPH01176594A/ja active Pending
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