JPH01178392A - レーザマーキング装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 （産業上の利用分野） 本発明は、レーザ光をマスクを通して被マーキング物の
表面に照射し、その表面にマークを施すレーザマーキン
グ装置に関するものである。

（従来の技術） 従来、この種のレーザマーキング装置は、特開昭６２−
５００９７Ｑ公報に示されるように、レーザ光を発振す
るレーザ発振器と、このレーザ発振器から照射されるレ
ーザ光を直角に曲げる全反射ミラーと、このレーザ光を
集束するシリンドリカルレンズと、このシリンドリカル
レンズからの集束光を受けるマークパターンを有したマ
スクと、このマークパターンを通過した集束光を被マー
キング物の表面に集光する集光レンズとによって構成さ
れている。

この従来のレーザマーキング装置は、マスク表面で反射
する光から光学系を守るために、マスクを光軸に対し、
ある一定の角度で傾けである。

（発明が解決しようとする課題） しかし、前記マスクの光軸に対する傾斜角度は一定に固
定されているため、マスクが変形したとき、または光学
系の縮小率が変化したときなどに、このマスクからの反
射光の角度が変わり、マスフから反射したレーザ光が光
学系に当り、光学系を傷めるとともに、マーキングの品
質を劣化させる問題がある。

本発明は、上記の問題点を解決すべくなされたもので、
その目的とするところは、マスクによる反射光から光学
系を保護するとともに、マーキングの品質を常に一定に
維持することが可能なレーザマーキング装置を提供しよ
うとするものである。

〔発明の構成〕

（１題を解決するための手段） 本発明は、レーザ光学系にマスク１６が光軸に対し斜め
に設けられ、このマスク１６に穿設されたマークパター
ンを透過したレーザ光１９により、被マーキング物１８
の表面にマーキングがなされるレーザマーキング装置に
おいて、マスク１６からの反射光１９ａを感知するセン
サ２１または２２がレーザ光学系の側部に設けられ、こ
のセンサからの光感知信号によりマスク１６の角度を変
えてマスクからの反射光１９ａをレーザ光学系から遠ざ
ける方向に修正するマスク角度制御機構２３がマスク１
６に対して設けられたものである。

（作用） 本発明は、光学系に設けられたセンサ２１または２２に
よって、マスク１６からの反射光１９ａの熱量が測定さ
れ、この測定熱量がある一定値より大きくなると、その
熱量によってレーザ光学系を損うおそれがあるので、セ
ンサ２１または２２の信号によりマスク角度制ｗＪ機構
２３が駆動され、マスク１６の傾き角度が最適に調整さ
れ、反射光１９ａが光学系に当らないとともに、マスク
１６が過度に傾斜されることもない。

（実施例） 以下、本発明を図面に示される実施例を参照して詳細に
説明する。

レーザ光学系が、レーザ発振器１１、全反射ミラー１２
．１３．１４、シリンドリカルレンズ１５、マスク１６
および集光レンズ１７によって構成されている。

１８は、被マーキング物であり、この被マーキング物１
８の表面に、レーザ発振器１１から発振されマスク１６
に穿設されたマークパターンを透過したレーザ光１９が
照射され、マスク１６のマークパターンが被マーキング
物１８の表面に転写される。

前記マスク１６は光軸に対し斜めに設けられ、このマス
ク１６の表面で反射された反射光１９ａが、光学系を構
成する部材に当らないように工夫されている。

また、このマスク１６からの反射光１９ａの熱量を測定
するセンサ２１．２２がレーザ光学系の側部に設けられ
ている。すなわちセンサ２１は、シリンドリカルレンズ
１５のホルダに取付けられ、また、センサ２２は、全反
射ミラー１４のホルダに取付けられている。

さらに、このセンサ２１．２２からの熱量感知信号によ
りマスク１６の角度を変えてマスクからの反射光１９ａ
をレーザ光学系から遠ざける方向に修正するマスク角度
制御１ｍ構２３がマスク１６に対して設けられている。

このマスク角度制御機構２３としては、パルスモータま
たはサーボモータ等があり、これらのモータの回転軸に
マスク１６の一側部が一体的に設けられている。センサ
２１またはセンサ２２からの信号は、増幅器２４によっ
て増幅され、前記モータに駆動電流として与えられる。

そうして、縮小率を変えるために各光学系ユニットが移
動されたり、マスク１６が変形されたりすると、マスク
１６からの反射光１９ａの光路が変わり、その光路が光
学系に近付いて、前記ミラーホルダやレンズホルダの側
部に設けられた熱量測定センサ２１または２２に当るこ
とがある。この場合、センサ２１．２２が反応し、この
センサからの光感知信号に基づきマスク角度制ｔｏ１機
構２３がマスク１６を少しずつ回動し、マスクの傾斜角
度を大きくしていく。そして、傾斜角度が増大し、反射
光１９ａがセンサ２１または２２に当らなくなると、前
記機構２３によるマスク回動が停止し、マスク１６の傾
斜角度が一定に保たれる。次に、再び縮小率を変えたり
、マスク１６を交換したときは、マスクの傾斜角度を初
期角度に戻す。そして、センサ２１．２２が反応するよ
うであればマスク１６が回動され、反応しないようであ
ればそのままの角度が保たれる。

このようにして、反射光１９ａは光学系に照射されない
ので、光学系が反射光１９ａにより損傷することがなく
、マーキングの品質を一定に保つことが可能となる。

なお、センサ２１．２２をレーザ光学系の側部に設ける
場所としては、実施例のようなミラー、レンズのホルダ
に限定されるものではなく、主光路の反射光側の近傍に
熱り測定センサを独立的に設けるようにしても良い。

〔発明の効果〕

本発明によれば、マスクからの反射光を感知するセンサ
がレーザ光学系の側部に設けられ、このセンサからの光
感知信号によりマスクの角度を変えてマスクからの反射
光をレーザ光学系から遠ざける方向に修正するマスク角
度制御機構がマスクに対して設けられたから、光学系に
マスクからの反射光が照射されないようにマスクの傾斜
角度が常に調整され、マスクによる反射光から光学系を
保護できるとともに、マーキングの品質を常に一定に維
持することができる。

【図面の簡単な説明】

図は本発明のレーザマーキング装置の一実施例を示す側
面図である。 １６・・マスク、１８・・被マーキング物、１９・・レ
ーザ光、１９ａ　・・反射光、２１．２２・・センサ、
２３・・マスク角度制御機構。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）レーザ光学系にマスクが光軸に対し斜めに設けら
   れ、このマスクに穿設されたマークパターンを透過した
   レーザ光により、被マーキング物の表面にマーキングが
   なされるレーザマーキング装置において、マスクからの
   反射光を感知するセンサがレーザ光学系の側部に設けら
   れ、このセンサからの光感知信号によりマスクの角度を
   変えてマスクからの反射光をレーザ光学系から遠ざける
   方向に修正するマスク角度制御機構がマスクに対して設
   けられたことを特徴とするレーザマーキング装置。