JPH01180964A - 真空蒸着用Ir金属 - Google Patents

真空蒸着用Ir金属

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JPH01180964A
JPH01180964A JP217388A JP217388A JPH01180964A JP H01180964 A JPH01180964 A JP H01180964A JP 217388 A JP217388 A JP 217388A JP 217388 A JP217388 A JP 217388A JP H01180964 A JPH01180964 A JP H01180964A
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JP
Japan
Prior art keywords
1ppm
less
ppm
elements
vacuum deposition
Prior art date
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Pending
Application number
JP217388A
Other languages
English (en)
Inventor
Toshiya Yamamoto
俊哉 山本
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tanaka Kikinzoku Kogyo KK
Original Assignee
Tanaka Kikinzoku Kogyo KK
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、リードスイッチ用接点材料などに使用される
真空蒸着用Ir金属に関する。
(従来の技術とその問題点) 従来よりIrは、通常99.95%のものが純Irとし
て、真空蒸着材料に使用されている。
ところで、このIrの真空蒸着材料の中には不純物とし
て多数の元素が微量存在しているので、真空蒸着時に溶
融状態のIrか突沸したり、飛散したりして、溶融Ir
が基板に付着し、平滑な膜が得られないものである。
これはIrの融点が2280℃であるが、不純物として
微量存在する多数の元素の沸点は殆んどそれ以下である
為、溶融Ir中ではそれらの元素が選択的にしかも突沸
的に蒸発するからである。
(発明の目的) 本発明は、上記問題点を解決すべくなされたもので、不
純物として存在する多数の元素の含有量を少なくして、
真空蒸着時それらの元素の蒸発を少なくし、溶融Irが
突沸したり、飛散したりするのを減少するようにした真
空蒸着用Ir金属を提供することを目的とするものであ
る。
(問題点を解決するための手段) 上記問題点を解決するための本発明の真空蒸着用Ir金
属は、重量比で、Cdが1PPM以下、Asが1PPM
以下、Naが1PPM以下、Kが1PPM以下、Znが
1PPM以下、Mgが3PPM以下、Srが1PPM以
下、Caが3PPM以下、Biが1PPM以下、Sbが
1PPM以下、Baが1PPM以下、Pbが1PPM以
下、Affiが20PPM以下、Inが1PPM以下、
Mnが1PPM以下、Agが1PPM以下、Slが10
PPM以下、Snが1PPM以下で、これら元素の総量
が30PPM以下であり、且つIrの純度が重量比で9
9.98%以上であることを特徴どするものである。
また、本発明の真空蒸着用Ir金属は、沸点が1000
℃以下のCd、As、Na、K、Znの元素が総量で重
量比3PPM以下であることも特徴である。
さらに本発明の真空蒸着用Ir金属は、沸点が1000
℃〜2000℃のMg、、Sr、Ca、、B 1XSb
Ba、Pbの元素が総量で重量比7PPM以下であるこ
とも特徴である。
さらにまた本発明の真空蒸着用Ir金属は、沸点が20
00℃を超えるAl、In、Mn、Ag、Si、Snの
元素が総量で重量比20PPM以下であることも特徴で
ある。
本発明の真空蒸着用Ir金属に於いて、各元素の重量比
の上限を前述の如く限定した理由は、各元素の重量比が
上限を超えると、真空蒸着時各元素が突沸的に蒸発する
為である。また各元素の総量を30PPM以下に限定し
た理由は、30PPMを超えると真空蒸着時含有する元
素の蒸発が極端に増加するからである。
沸点が1000℃以下の蒸気圧の高いCd、As、Na
、K、Znの元素の総量を重量比で3PPM以下にした
理由は、真空蒸着時それらの元素の蒸発をなくし、溶融
Irの突沸を減少するためである。
沸点が1000℃〜2000℃の蒸気圧の低いMg、S
r、Ca、Bi、Sb、Ba、Pbの元素の総量を重量
比で7PPM以下にした理由は、真空蒸着時それらの元
素の蒸発を少なくし、溶融Irの突沸を減少する為であ
る。
沸点が2000″Cを超える蒸気圧の極めて低いAl、
I n、Mn、Ag、S i、Snの元素の総量を重量
比で20PPM以下にした理由は、真空蒸着時それらの
元素の蒸発を少なくし、溶融Irの突沸を減少する為で
ある。
Irを重量比で99.98%としたのは、Irの純度を
より高める為である。
(実施例) 本発明による真空蒸着用Ir金属の実施例及び比較例に
ついて説明する。不純物として多数の元素を含有するI
rを予めアーク溶解炉や電子ビーム溶解炉で5分以上溶
解して、Irより蒸気圧の高い各元素を選択的に蒸発さ
せて、下記の表に示す成分組成の実施例1〜8及び比較
例1〜4の真空蒸着用Ir金属を得た。
これら実施例及び比較例の真空蒸着用Ir金属を基板に
真空蒸着した処、当初の1分間で下記の表の右端欄に示
すような回数の突沸かあった。
(以下余白) 上記の表で明らかなように比較例1〜4の真空蒸着用I
r金属は、真空蒸着時の微量に含有する元素の蒸発によ
る溶融Irの突沸回数が3〜5回と多いのに対し、実施
例1〜8の真空蒸着用Ir金属は、真空蒸着時の微量に
含有する元素の蒸発による溶融Irの突沸回数が0〜1
回と極めて少ないことが判る。これはひとえにIr中に
含有するCd、As、Na、K、Znの各々が1PPM
以下で、Mg、Caが3PPM以下、Sr、Bi、Sb
、Ba、Pbの各々が1PPM以下で、A!20PPM
以下、SSi10PP、I n、Mn、Ag、Snの各
々が1PPMであり、これら元素の総量が30PPM以
下であるからである。
そして沸点1000’C以下の元素の総量が3PPM以
下、沸点1000〜2000℃の元素の総量が7PPM
以下、沸点2000℃以上の元素の総量が20PPM以
下であるからである。
(発明の効果) 以上の説明で判るように本発明の真空蒸着用Ir金属は
、不純物として存在する多数の元素の含有量を少なくし
であるので、真空蒸着時それら元素の蒸発が少なく、溶
融Irの突沸や飛散が著しく減少し、平滑な膜を形成で
きるという効果がある。
出願人  田中貴金属工業株式会社

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)重量比で、Cdが1PPM以下、Asが1PPM
    以下、Naが1PPM以下、Kが1PPM以下、Znが
    1PPM以下、Mgが3PPM以下、Srが1PPM以
    下、Caが3PPM以下、Biが1PPM以下、Sbが
    1PPM以下、Baが1PPM以下、Pbが1PPM以
    下、Alが20PPM以下、Inが1PPM以下、Mn
    が1PPM以下、Agが1PPM以下、Siが10PP
    M以下、Snが1PPM以下で、これら元素の総量が3
    0PPM以下であり、且つIrの純度が重量比で99.
    98%以上であることを特徴とする真空蒸着用Ir金属
  2. (2)重量比で、沸点が1000℃以下のCd、As、
    Na、K、Znの元素が総量で3PPM以下であること
    を特徴とする特許請求の範囲第1項記載の真空蒸着用I
    r金属。
  3. (3)重量比で、沸点が1000℃〜2000℃のMg
    、Sr、Ca、Bi、Sb、Ba、Pbの元素が総量で
    7PPM以下であることを特徴とする特許請求の範囲第
    1項記載の真空蒸着用Ir金属。
  4. (4)重量比で、沸点が2000℃を超えるAl、In
    、Mn、Ag、Si、Snの元素が総量で20PPM以
    下であることを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
    真空蒸着用Ir金属。
JP217388A 1988-01-08 1988-01-08 真空蒸着用Ir金属 Pending JPH01180964A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009107289A1 (ja) * 2008-02-27 2009-09-03 田中貴金属工業株式会社 硬度、加工性、並びに、防汚特性に優れたイリジウム合金

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2009107289A1 (ja) * 2008-02-27 2009-09-03 田中貴金属工業株式会社 硬度、加工性、並びに、防汚特性に優れたイリジウム合金
US9063173B2 (en) 2008-02-27 2015-06-23 Tanaka Kikinzoku Kogyo K.K. Iridium alloy excellent in hardness, workability and anti-contamination properties

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