JPH01184641A - 情報記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の分野］ 本発明は、高エネルギー密度のレーザービームにより情
報の書き込みおよび／または読み取りかでさる記録層を
有する情報記録媒体に関するものである。

［発明の技術的背景］ 近年において、レーザー光等の高エネルギー密度のビー
ムを用いる情報記録媒体が開発され、実用化されている
。この情報記録媒体は光ディスクと称され、ビデオ・デ
ィスク、オーディオ・ディスク、更には大容量静止画像
ファイル、大容量コンピュータ用ディスク・メモリー、
あるいは光カード、マイクロ画像記録媒体、超マイクロ
画像記録媒体、マイクロファクシミリ、写真植字用原版
などに応用されている。

情報記録媒体は基本的に、プラスチック、ガラス等から
なる透明基板と、この上に設けられた記録層とから構成
される。記録層の材料としては。

Ｂｉ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｔｅ等の金属または半金属：および
シアニン系、金属錯体系、キノン系等の色素が知られて
いる。

情報記録媒体への情報の書き込みは、たとえばレーザー
ビームをこの記録媒体に照射することなどにより行なわ
れ、記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に温度
上昇する結果、物理的あるいは化学的な変化を生じてそ
の光学的特性を変えることにより情報が記録される。記
録媒体からの情報の読み取りもまた、レーザービームを
記録媒体に照射することなどにより行なわれ、記録層の
光学的特性の変化に応じた反射光または透過光を検出す
ることにより情報が再生される。

通常、記録層の物理的な変化は孔（ピット）を設けるこ
とにより行なわれているが、その際に溶融した記録層材
料の一部はピットの周囲に残ってリッジを形成するため
に、読み取り時にこのリッジ部分でレーザー光が散乱し
てＣ／Ｎ比（キャリアー／ノイズ比）を低下させるとの
欠点がある。

また、ピット形成部分と未形成部分における反射率もし
くは透過率の差異によって情報が読み取られているが、
その差異が十分ではない場合にはＣ／Ｎ比の低下をもた
らす。

［発明の要旨］ 本発明は、情報の再生時におけるＣ／Ｎ比の向上した情
報記録媒体を提供することをその目的とするものである
。

また、本発明は、照射されたレーザー光の繕波長（第二
高調波）の光を検出することにより情報の再生が可能な
情報記録媒体を提供することもその目的とするものであ
る。

上記の目的は、 ［１１基板上に、レーザーによる情報の書き込みおよび
／または読み取りが可能な記録層が設けられてなる情報
記録媒体において、該記録層に隣　　。

接する層に非線形光学材料が含有されていることを特徴
とする本発明の情報記録媒体；および［２１基板上に、
レーザーによる情報の書き込みおよび／または読み取り
が可能な記録層が設けられてなる情報記録媒体において
、該記録層に非線形光学材料が含有されていることを特
徴とする本発明の情報記録媒体； により達成することができる。

上記本発明の情報記録媒体の好ましい態様は以下の通り
である。

（１）上記非線形光学材料が第二高調波を発生しうるも
のであることを特徴とする上記［１１の情報記録媒体。

（２）上記非線形光学材料が、読み取りレーザー光の第
二高調波に対して１０％以上の光透過率を有することを
特徴とする上記［１］の情報記録媒体。

（３）上記記録層が光吸収性物質からなることを特徴と
する上記［１］の情報記録媒体。

（４）上記基板と記録層との間に、実質的に非線形光学
材料からなる層が設けられていることを特徴とする上記
［１１の情報記録媒体。

（５）上記非線形光学材料が第二高調波を発生しうるち
のであることを特徴とする上記［２］の情報記録媒体。

（６）上記非線形光学材料が、読み取りレーザー光の第
二高調波に対して１０％以上の光透過率を有することを
特徴とする上記［２１の情報記録媒体。

（７）上記記録層に光吸収性物質が含有されていること
を特徴とする上記［２１の情報記録媒体。

本発明は、非線形光学材料を情報記録媒体の記録層もし
くは記録層に隣接する別層に混合含有させることにより
、該非線形光学材料によって再生用のレーザー光の波長
を変換し、この変換された光に基づいて信号の読み取り
を行なうことにより再生時のＣ／Ｎ比を顕著に高めるこ
とができる。

本発明において非線形光学材料とは、レーザー光のよう
な強い光電界を与えたときに光の電場と分極との間に非
線形性（ＩＰ線形光学効果）を発現しうる物質をいう、
非線形光学効果は物質と光の相互作用によって生じ、主
として光周波数における電気分極の線形性からのずれ、
すなわち非線形分極が問題となる。具体的に非線形光学
効果には、二次の効果（二次の非線形分極）として第二
高調波発生、光混合、パラメトリック発振、光整流、ポ
ッケルス効果などがあり、三次の効果（三次の非線形分
極）として第三高調波発生、カー効果、光双安定、光混
合などがあり、更に高次の効果もある０本発明において
は、非線形光学材料が示すこれらの効果のうち波長変換
に関わる第二高調波発生、光混合、パラメトリック発振
および第三高調波発生が重要であり、該材料は例えば赤
外領域の波長を有する半導体レーザー光を可視領域の波
長に変換する目的で使用される。

すなわち、非線形光学材料を含有する層（これを１非線
形光学層１と呼ぶ）が別層として設けられている第一の
情報記録媒体においては、再生用レーザー光は数層によ
り第二高調波（３４波長）などに波長変換され、この波
長変換された光の量が記録層のピット形成部分と未形成
部分とで異なることに基づいて情報が読み取られる。こ
の際に、非線形光学層は記録層よりも光の屈折率が大き
く、波長変換された光は屈折率の大きい層から小さい層
に進んだ後検出されるために、ピット周辺にリッジがあ
っても散乱の影響が小さくなり、高いＣ／Ｎ比を得るこ
とができる。

また、第二の情報記録媒体においては、非線形光学材料
が記録層に混合含有されているから再生用レーザー光の
波長変換はピット未形成部分でのみ行なわれ、波長変換
された光の有無（検出、未検出）に基づいて情報を読み
取ることができる。

従って、再生用レーザー光の反射率の差異に基づ〈従来
の読み取りの場合よりも高いＣ／Ｎ比で情報を読み取る
ことができる。

〔発明の４１ｍ］ 本発明の情報記録媒体の代表的な例を第１図および第２
図に示す、第１図および第２図はそれぞれ、情報記録媒
体の層構成の例を示す断面図ｔある。

第１図において、記録媒体は基板ｌ、その片面に設けら
れた非線形光学層２および記録層３からａＩＩｔ、され
る、また、第２図において、記録媒体は基板ｌと記録層
３°とから構成される。記録層３°には非線形光学材料
が含有されている。

ただし１本発明の情報記録媒体はこれらの態様に限定さ
れるものではなく、非線形光学材料が記録層中に混合含
有されているか、もしくは独立の層として記録層に隣接
されている限り、任意の構成をとることができる。

上記構成を有する情報記録媒体は、たとえば以下に述べ
るような方法により製造することができる。

本発明において使用する基板は、従来の情報記録媒体の
基板として用いられている各種の材料から任意に選択す
ることができる。基板の光学的特性、平面性、加工性、
取扱い性、経時安定性および製造コストなどの点から、
基板材料の例としてはソーダ石灰ガラス等のガラス；セ
ルキャストポリメチルメタクリレート、射出成形ポリメ
チルメタクリレート等のアクリル樹脂；ポリ塩化ビニル
、塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂；エポキシ
樹脂；およびポリカーボネートを挙げることができる。

これらのうちで寸度安定性、透明性および平面性などの
点から、好ましいものはポリメチルメタクリレート、ポ
リカーボネート、エポキシ樹脂およびガラスである。

記録層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善、
接着力の向上および記録層の変質の防止の目的で、下塗
層が設けられていてもよい、下塗層の材料としては、た
とえば、ポリメチルメタクリレート、アクリル酸・メタ
クリル酸共重合体、ニトロセルロース、ポリエチレン、
ボリプａピレン、ポリカーボネート等の高分子物質；シ
ランカップリング剤などの有機物質；および無機酸化物
（ＳｉＯ２、Ａ文２０３等）、無機弗化物（ＭｇＦ２）
などの無機物質を挙げることができる。

ガラス基板の場合は、基板から遊離するアルカリ金属イ
オンおよびアルカリ土類金属イオンによる記録層への悪
影響を防止するために、スチレンｅ無水マレイン酸共重
合体などの親木性基および／または無水マレイン酸基を
有するポリマーからなる下塗層が設けられているのが望
ましい。

下塗層は、たとえば上記物質を適当な溶剤に溶解または
分散したのち、この塗布液をスピンコード、デイツプコ
ート、エクストルージョンコートなどの塗布法により基
板表面に塗布することにより形成することができる。

また、基板上にはトラッキング用溝またはアドレス信号
等の情報を表わす凹凸の形成の目的で、プレグルーブ層
が設けられてもよい、プレグルーブ層の材料としては、
アクリル酸のモノエステル、ジエステル、トリエステル
およびテトラエステルのうちの少なくとも一種のモノマ
ー（またはオリゴマー）と光重合開始剤との混合物を用
いることができる。

プレグルーブ層の形成は、まず精密に作られた母型（ス
タンパ−）上に上記のアクリル酸エステルおよび重合開
始剤からなる混合液を塗布し、さらにこの塗布液層上に
基板を載せたのち、基板または母型を介して紫外線の照
射により液層を硬化させて基板と液相とを固着させる０
次いで、基板を母型から剥離することにより、プレグル
ーブ層の設けられた基板が得られる。プレグルーブ層の
層厚は、一般に０．０５〜１１００ＩＬの範囲にあり、
好ましくは０．１〜５０＃Ｌｍの範囲にある。

また、プラスチック基板の場合は直接基板表面にプレグ
ルーブを設けてもよい。

次に、基板（または下塗層、プレグルーブ層）上には記
録層が形成される。

記録層の材料としては、たとえば色素などのレーザー光
を吸収しうる物質が用いられ、従来より情報記録媒体の
記録材料として知られている任意の色素を用いることが
できる。その例としては。

銅フタロシアニンなどの７タロシアニン系色素。

シアニン系色素、ピリリウム系・チオピリリウム系色素
、アズレニウム系色素、スクワリリウム系色素、Ｎｉ、
Ｏｒなどの金属錯塩系色素、ナフトキノン系ｅアントラ
キノン系色素、インドフェノール系色素、インドアニリ
ン系色素、トリフェニルメタン系色素、トリアリルメタ
ン系色素、アミニウム系番ジインモニウム系色素および
ニトロソ化合物を挙げることができる。これらのうちで
も記録再生用レーザーとして近赤外光を発振する半導体
レーザーの利用が実用化されている点から、光吸収性物
質としては７００〜９００ｎｍの近赤外領域の光に対す
る吸収率が高い色素が好ましい。

また、光吸収性物質として金属または半金属を用いても
よい、これらは単独で使用してもよく、組成物として併
用してもよい、また、金属または半金属と、それらの酸
化物、ハロゲン化物、硫化物とを併用してもよい。

金属および半金属の例としてはＭｇ、Ｓｅ、Ｙ、Ｔｉ、
Ｚｒ、Ｈｆ、■、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ。

Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ。

Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉ　ｒ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、
Ｚｎ、Ｃｄ、Ａ１．Ｇａ、Ｉ　ｎ、Ｓ　ｉ、Ｇｅ、Ｔｅ
、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉなどの金属および半金属を挙
げることができる。これらのうちで好ましいものはＳｎ
、ＢｉおよびＩｎである。これらの物質は単独で用いて
もよいし、あるいは二種以上の組合せでまたは合金とし
て用いてもよい。

以１ζ余臼 本発明の特徴的な要件である非線形光学材料が記録層に
含有される場合に、非線形光学材料としてはたとえば、
ニオブ酸リチウム（ＬｉＮｂＯコ）、リン酸二水素カリ
ウム（Ｋ　Ｈ２Ｐ　Ｏａ、略してＫＤＰ）、ヨウ素酸リ
チウム（ＬｉＩＯ３）、メタホウ酸バリウム（Ｂ　ａ　
Ｂ　２０　ｍ　）などに代表される無機化合物；および
尿素誘導体、ニトロアニリン誘導体［例えば、２−メチ
ル−４−ニトロアニリン（ＭＮＡ）、２−Ｎ、Ｎ−ジメ
チルアミノ−５−ニトロアセトアニリド（ＤＡＮ）、メ
タニトロアニリン、Ｌ−Ｎ−（４−ニトロフェニル）−
２−（ヒドロキシメチル）ピロリジン１、ニトロピリジ
ン−Ｎ−オキシド誘導体［例えば、３−メチル−４−二
トロピリジン−１−オキシド（ＰＯＭ）］なとの有機化
合物を挙げることができる。

ニトロアニリン誘導体としては更に、 ｉ）本出願人による特願昭６１−２９９９９号明細書に
記載されている一般式（Ｉ）で表わされる化合物二 ＲＩ　　　Ｒ２ ＼／ Ｏ２ （ただし　）１１およびＲ２はそれぞれ水素原子または
置換されていてもよいアルキル基であって、互いに同一
であってもよく、また１ｌｉｌとＲ２によって環を形成
していてもよく；Ｒ３は水素原子、置換されていてもよ
いアルキル基または置換されていてもよいアリール基で
ある） 上記一般式（Ｉ）において、アルキル基の例としては、
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル
基、オクチル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、トコシ
ル基、２−ヒドロキシエチル基、メトキシカルボニルメ
チル基、２−メタンスルホニルアミノエチル基、２−メ
トキシエチル基、２−７セチルオキシエチル基、ベンジ
ル基、２−フェニルエチル基およびテトラヒドロフルフ
リル基が挙げられる。Ｒ１とＲ２によって形成される環
の例としては、ピロリジノ環、２−ヒドロキシメチルピ
ロリジノ環、モルホリノ環およびピペリジノ環が挙げら
れる。また、アリール基の例としては、フェニル基、４
−メチルフェニル基。

ｌ−ナフチル基および２−ナフチル基が挙げられる。

具体例としては、下記構造式を有する化合物が挙げられ
る。

以下余白 ｉｉ）特願昭６１−５３４６２号明細書に記載されてい
る一般式（■）で表わされる化合物およびその酸付加物
： ＼ ＮＯ？ （ただし、ＺｌおよびＺ２はそれぞれ窒素原子またはＣ
Ｒ５基であって、互いに同一でも異なっていてもよいが
少なくとも一方は窒素原子であり；Ｘはアルキル基、ア
リール基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキ
シ基、アシルアミノ基、カルバモイル基、スルファモイ
ル基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アリ
ールオキシカルボニル基、アルコキシスルホニル基、ア
リールオキシスルホニル基、アルキルチオ基、アリール
チオ基、ヒドロキシ基、チオール基、カルボキシ基、ウ
レイド基、シアノ基、アルキルスルホニル基、アリール
スルホニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスル
フィニル基またはニトロ基であって、アルキル基および
アリール基は置換されていてもよく；Ｒ４は水素原子、
置換されていてもよいアルキル基、ｉｉ換されていても
よいアリール基またはアシル基であり；Ｒ５は水素原子
、置換されていてもよいアルキル基または置換されてい
てもよいアリール基であり；ｎは０〜３の範囲の整数で
ある） 上記一般式（■）において、アルキル基の例としては、
メチル基、エチル基、イソプロピル基、ブチル基、ｔ−
ブチル基、オクチル基、ｔ−オクチル基、デシル基、ヘ
キサデシル基、トコシル基、２−ヒドロキシエチル基、
カルボキシメチル基、シアノメチル基、２−メトキシエ
チル基、ベンジル基、２−フェニルエチル基、トリフル
オロメチル基および３−（２−ベンゾイミダゾリル）プ
ロピル基が挙げられる。７リール基の例としては、フェ
ニル基、４−メチルフェニル基、３−メトキシフェニル
基および４−クロロフェニル基が挙げられる。ハロゲン
原子としては弗素原子、塩素原子、臭素原子および沃素
原子が挙げられる。

アルコキシ基の例としては、メトキシ基、ブトキシ基、
２−メトキシエトキシ基、ベンジルオキシ基および２−
フェニルエトキシ基が挙げられる。

アリールオキシ基の例としては、フェノキシ基、４−ｔ
−ブチルフェノキシ基および４−クロロフェノキシ基が
挙げられる。アシルアミノ基の例としては、アセチルア
ミノ基、メタンスルホニルアミノ基、ベンゾイルアミノ
基および４−メチルベンゼンスルホニルアミノ基が挙げ
られる。カルバモイル基の例としては、カルバモイル基
、Ｎ−メチルカルバモイル およびＮ−フェニルカルバモイル基が挙げられる．スル
ファモイル基の例としては、スルファモイル基、Ｎ−メ
チルスルファモイル基およびＮ−フェニルスルファモイ
ル基が挙げられる．アシルオキシ基の例としては，アセ
チルオキシ基，ピバロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ
基およびベンゼンスルホニルオキシ基が挙げられる．ウ
レイド基の例としては、メチルウレイド基、エチルウレ
イド基およびフェニルウレイド基が挙げられる。

また、一般式（ｎ）で表わされる化合物のうちで好まし
いものとして、一般式（■）：＼ Ｏ２ （ただし　Ｚ３およびＺ４はＺｌおよびＺｌと同義であ
り，Ｒ６はＲ４と同義である）で表わされる化合物およ
びその酸付加物が挙げられる。

さらに、一般式（ｍ）で表わされる化合物のうちで好ま
しいものとして、一般式（■）：Ｏ２ （ただし、Ｒ１はＲ４と同義であり：Ｒ８はＲ５と同義
であり；そしてＮＯ２基は５位または６位に置換されて
いる）、 一般式（Ｖ）： ＼ Ｎ（ｈ （ただし、Ｒ９はＲ４と同義であり；Ｒ１０はＲ５と同
義であり；そしてＮＯ２基は５位または６位に置換され
ている） で表わされる化合物およびこれらの酸付加物がで表わさ
れる化合物およびこれらの酸付加物が挙げられる。

上記の酸付加物とは、一般式（ｎ）、（ｍ）、（ＩＶ）
および（Ｖ）で表わされる化合物に、カルボン酸、スル
ホン酸などの有機酸；または硫酸。

塩酸、硝酸，リン酸などの無機酸が付加（通常は１分子
）された化合物である。

具体例としては、下記構造式を有する化合物が挙げられ
る。

以下余白 １ｉｉ）特願昭６１−５３８８４号明細書に記載されて
いる一般式（Ｖｌ）で表わされる化合物およびその酸付
加物： ・Ｚ６、 （ただし、Ｚ５は少なくとも一つのニトロ基をｌ換基と
して有する五乃至六員芳香族環を形成するのに必要な原
子群であり；２６は置換および縮環されていてもよい、
ビロール環、イミダゾール環、ピラゾール環、トリアゾ
ール環またはテトラゾール環を形成するのに必要な原子
群である）上記一般式（Ｖｌ）において　Ｚ５によって
形成される五乃至六員芳香族環の例としては、チアゾー
ル類、オキサゾール類、イミダゾール類、ピリジン類、
ピリミジン類およびベンゼン類が挙げられ、これらの環
は下記の基で置換されていたり、縮環されていてもよい
、２２換基の例としては、アルキル基、アリール基、ハ
ロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル
アミノ基、カルバモイル基、スルファモイル基、アシル
オキシ基、アルキルオキシカルボニル基、アリールオキ
シカルボニル基、アルキルオキシスルホニル基、アリー
ルオキシスルホニル基、アルキルチオ基、アリールチオ
基、ヒドロキシ基、チオール基、カルボキシ基、ウレイ
ド基、シアノ基、アルキルスルホニル基、アリールスル
ホニル基、アルキルスルフィニル基、アリールスルフィ
ニル基およびニトロ基が挙げられる。また、アルキル基
の例としては、メチル基、エチル基、イソプロピル基、
ブチル基、ｔ−ブチル基、オクチル基、ｔ−オクチル基
、テシル基、ヘキサデシル基、トコシル基、２−ヒドロ
キシエチル基、カルボキシメチル基、シアノメチル基、
２−メトキシエチル基、ベンジル基、２−フェニルエチ
ル基、トリフルオロメチル基および３−（２−ベンゾイ
ミダゾリル）プロピル基が挙げられる。アリール基の例
としては、フェニル基、４−メチルフェニル基、３−メ
トキジフェニル基および４−クロロフェニル基が挙げら
れる。ハロゲン原子としては弗素原子、塩素原子、臭素
原子および沃素原子が挙げられる。アルコキシ基の例と
しては、メトキシ基、ブトキシ基、２−メトキシエトキ
シ基、ベンジルオキシ基および２−フェニルエトキシ基
が挙げられる。アリールオキシ基の例としては、フェノ
キシ基、４−ｔ−ブチルフェノキシ基および４−クロロ
フェノキシ基が挙げられる。アシルアミノ基の例として
は、アセチルアミノ基、メタンスルホニルアミ７基、ベ
ンゾイルアミノ基および４−メチルベンゼンスルホニル
アミノ基が挙げられる。カルバモイル基の例としては、
カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイルｌ、Ｎ−エチ
ルカルバモイル基およびＮ−フェニルカルバモイル基が
挙げられる。

スルファモイル基の例としては、スルファモイル基、Ｎ
−メチルスルファモイル基およびＮ−フェニルスルファ
モイル基が挙げられる。アシルオキシ基の例としては、
アセチルオキシ基、ピパロイルオキシ基、ベンゾイルオ
キシ基およびベンゼンスルホニルオキシ基が挙げられる
。ウレイド基の例としては、メチルウレイド基、エチル
ウレイド基およびフェニルウレイド基が挙げられる。

Ｚ６によって形成されるピロール環の例としては、ピロ
ール、インドール、２−メチルインドール、５−メトキ
シインドール、５−ヒドロキシインドール、Ｌ−）リプ
トファン力ルバゾール、３−カルボキシインドールおよ
び２，５−ジメチルビロールが挙げられる。イミダゾー
ル環の例としては、イミダゾール、２−メチルイミダゾ
ール、２−エチルイミダゾール、２−ウンデシルイミダ
ゾール、２−フェニルイミダゾール、２，４−ジメチル
イミダゾール、２−エチル−４−メチルイミダゾール、
Ｌ−ヒスチジン、４．５−ジフェニルイミダゾール、２
，４．５−）リアェニルイミダゾール、ベンゾイミダゾ
ール、２−メチルベンゾイミダゾール、２−メチル−５
−クロロベンゾイミダゾール、２−メチル−５，６−ジ
クロロベンゾイミダゾール、２−メチル−５−クロロ−
６−ジアツベンゾイミダゾールおよび２−メルカプトベ
ンゾイミダゾールが挙げられる。ピラゾール環の例とし
ては、ピラゾール、３．５−ジメチルピラゾール、３．
５−ジフェニルピラゾール、４−ブロモ−３，５−ジメ
チルピラゾール、３−メチルピラゾールおよびインダゾ
ールが挙げられる。トリアゾール環の例としては、１，
３．４−トリアゾール、１，２．４−）リアゾール、２
−クロロ−１，３，４−）リアゾール、２．５−ジメチ
ル−１，３，４−）リアゾール、３．５−ジフェニル−
１，２，４−）リアゾールおよびベンゾトリアゾールが
挙げられる。テトラゾール環の例としては、テトラゾー
ルおよび５−フェニルテトラゾールが挙げられる。

また、Ｚ６によって形成される環には−Ｓ−などの二量
体となリラる置換基が含まれていてもよい。

具体例としては、下記構造式を有する化合物が挙げられ
る。

さらに、特開昭５６−４３２２０号公報に記載されてい
るジアセチレン誘導体、特開昭６１−７８７４８号公報
に記載されているジオレフィン化合物、特開昭６１−１
５２６４７号公報に記載されているジアゾ化合物、およ
び特開昭６１−６０６３８号、特開昭６１−１３７１３
６号、特開昭６１−１４７２３８号、特開昭６１−１４
８４３３号、特開昭６１−１６７９３０号の各公報に記
載されている有機化合物：並びに”Ｎｏｎ１ｉｎｅａｒ
Ｏｐｔｉｃａｌ　　Ｐｒｏｐｅｒｔｉｅｓ　　ｏｆ　　
Ｏｒｇａｎｉｃ　　ａｎｄ　　ＰｏｌｙｍｅｒｉｃＭａ
ｔｅｒｉａｌｓ″ＡＣＳ　ＳＹＭＰＯＳＩＵＭ　５ＥＲ
ＩＥＳ　２３３．　ＤａｖｉｄＪ、　　Ｗｉｌｌｉａｍ
ｓ　　編　（Ａｍｅｒｉｃａｎ　　Ｃｈｅｍｉｃａｌ　
　５ｏｃｉｅｔｙ。

１９８３年刊）および「有機非線形光学材料」加藤政雄
、中西へ部監修（シー・エム・シー社、１９８５年刊）
に記載されている有機化合物を用いることができる。

これらの化合物のうち、青色光に対する透過率が高いＫ
ＤＰ、ニオブ酸リチウム、ヨウ素酸リチウム、メタホウ
酸バリウム、尿素、ＰＯＭ、上記一般式（ＩＩ　）で表
わされる化合物（特願昭６１−５３４６２号記載）およ
び上記一般式（Ｖｌ）で表わされる化合物（＃願昭６１
−５３８８４号記載）が好ましい、なお、読み取りレー
ザー光の第二高調波、例えば４００〜５００ｎｍの波長
領域の青色光に対する透過率は１０５以上であるのが好
ましい。

特に、再生用レーザーとして一般に７００〜９００ｎｍ
の近赤外領域に発振波長を有する半導体レーザーが用い
られており、その第二高調波を検出波長とする場合には
、第二高調波発生（ＳＲＧ）の比率が高くかつ青色光に
対する透過率が高いＰＯＭ、一般式（ＩＩ）および（Ｖ
ｌ）で表わされφ化合物が好ましい。

なお、これらの非線形光学材料は単独で、もしくは二種
以上の組合せで用いることができる。

記録層は、たとえば上記の光吸収性物質および場合によ
り非線形光学材料、さらに所望により結合剤を適当な溶
剤に溶解もしくは分散させて塗布液を調製し、次いでこ
の塗布液を基板表面に塗布して塗膜を形成した後乾燥す
ることにより形成することができる。

そのよ□うな溶剤の例としては、弗素化アルコールなど
の弗素置換有機化合物、トルエン、キシレン、酢酸エチ
ル、酢酸ブチル、セロソルブアセテート、メチルエチル
ケトン、ジクロルメタン、１．２−ジクロルエタン、ク
ロロホルム、ジメチルホルムアミド、メチルイソブチル
ケトン、シクロヘキサノン、シクロヘキサン、テトラヒ
ドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン、エタノール
、ｎ−プロパツール、イソプロパツール、　　ｎ　−ブ
タノールなどの色素を溶解しうる溶剤を挙げることがで
きる。

結合剤としては、たとえばゼラチン、セルロース誘導体
、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機高分子物
質；およびポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレ
ン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ塩化ビ
ニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ酢酸
ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル酸メチ
ル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリビ
ニルアルコール、塩素化ポリエチレン、エポキシ樹脂、
ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホルムアル
デヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物などの合成有
機高分子物質を挙げることができる。

塗布液中にはさらに酸化防止剤、Ｕｖ吸収剤、可塑剤、
滑剤など各種の添加剤を目的に応じて添加してもよい。

塗布方法としては、スプレー法、スピンコード法、デイ
ツプ法、ロールコート法、ブレードコート法、ドクター
ロール法、スクリーン印刷法などを挙げることができる
。

記録層に非線形光学材料を含有させる場合に、塗布液中
における光吸収性物質と非線形光学材料との混合比は、
一般にはｌＯ：ｏ、５〜１：１０（重量比）の範囲にあ
り、好ましくは１０：１〜２：５の範囲にある。また、
結合剤を併用する場合に、結合剤に対する色素の比率は
一般に０．０１〜９９％（重量比）の範囲にあり、好ま
しくは１．０〜９５％（重量比）の範囲にある。

記録層は単層でも重層でもよいが、その層厚は一般にｏ
、ｏｉ〜１０ｐｍの範囲にあり、好ましくは０．０２〜
ｌｐｍの範囲にある。また、記録層は基板の片面のみな
らず両面に設けられていてもよい。

また記録層は、光吸収性物質および場合により非線形光
学材料を基板表面に蒸着、スパッタリングあるいはイオ
ンブレーティングすることによっても形成することがで
きる。記録層の層厚は光情報記録に要求される光学濃度
の点から一般に１００−１５００又の範囲にあり、好ま
しくは１５０〜１００ＯＸの範囲にある。

あるいは、非線形光学材料は記録層に隣接する層に含有
されていてもよく、その場合に非線形光学材料を含有す
る層（非線形光学層）は実質的に該材料のみからなる層
であってもよいし、あるいは該材料を分散含有する結合
剤からなる層であつってもよい。

非線形光学層は、前記非線形光学材、料および所望によ
り結合剤を適当な溶剤に溶解もしくは分散させて塗布液
を調製し、次いでこの塗布液を基板表面または記録層表
面に塗布して塗膜を形成した後乾燥することにより形成
することができる。この非線形光学層は記録層に接して
いる限り、記録層のどちら側に設けられていてもよい。

溶剤および結合剤としては、前記の記録層に用いられう
る溶剤および結合剤の中から選択して用いることができ
る。また、結合剤を併用する場合に、結合剤に対する非
線形光学材料の比率は一般に１０〜５００％（重量比）
の範囲にあり、好ましくは５０〜３００％（重量比）の
範囲にある。

非線形光学層の層厚は一般に０．０１〜３０ｐｍの範囲
にあり、好ましくは０．０２〜５ｐｍの範囲にある。

なお、非線形光学材料は記録層および非線形光学層の両
方に含有されていてもよい。

記録層（または非線形光学層）の上には、記録層などを
物理的および化学的に保護する目的で保護層が設けられ
てもよい、この保護層は、基板の記録層が設けられてい
ない側にも耐傷性、耐湿性を高める目的で設けられても
よい。

保護層に用いられる材料の例としては、５ｉＯ１Ｓ　ｉ
　Ｏ２、Ｍ　ｇ　Ｆ　２．５ｎ０２等の無機物質；熱可
塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化性樹脂等の有機物質
を挙げることができる。　保護層は、たとえばプラスチ
ックの押出加工で得られたフィルムを接着層を介して記
録層（または銀塩層あるいは反射層）上および／または
基板上にラミネートすることにより形成することができ
る。あるいは真空蒸着、スパッタリング、塗布等の方法
により設けられてもよい、また、熱可塑性樹脂、熱硬化
性樹脂の場合には、これらを適当な溶剤に溶解して塗布
液を調製したのち、この塗布液を塗布し、乾燥すること
によっても形成することができる。ＵＶ硬化性樹脂の場
合には、そのままもしくは適当な溶剤に溶解して塗布液
を調製したのちこの塗布液を塗布し、ＵＶ光を照射して
硬化させることによっても形成することができる。これ
らの塗布液中には、更に帯電防止剤、酸化防止剤、ＵＶ
吸収剤等の各種添加剤を目的に応じて添加してもよい。

保護層の層厚は一般には０．１１−１Ｏ０ｐの範囲にあ
る。

本発明において、情報記録媒体は上述した構成からなる
単板であってもよいが、あるいは上記構成を有する二枚
の基板を記録層が内側となるように向い合わせ、接着剤
等を用いて接合することにより得られる貼合せタイプの
記録媒体であってもよい、あるいはまた、二枚の円盤状
基板のうちの少なくとも一方に上記構成を有する基板を
用いて、リング状内側スペーサとリング状外側スペーサ
とを介して接合することにより得られるエアーサンドイ
ッチタイプの記録媒体であってもよい。

なお１本発明の情報記録媒体への情報の書き込みは、Ｇ
ａ−Ａｓレーザー等の近赤外光を発振する半導体レーザ
ーのビームを記録層表面に照射して、記録層にピットを
形成することにより行なうことができる。非線形光学層
が設けられている場合には、レーザービームの照射はそ
れとは反対側から行なうことができる。

記録媒体からの情報の読み取りに際しては、まず同様の
レーザービームを記録層表面に照射する。非線形光学層
が設けられている場合には、レーザービームの照射はそ
れとは反対側から行なうことができる。照射されたレー
ザービームは、記録層もしくは非線形光学層中の非線形
光学材料により第二高調波（３４波長）などに波長変換
される０次いで、この波長変換された光を検出器で検出
することにより情報を読み取ることができる。

尚、非線形光学層と同じ側からレーザー光を入射、記録
そして再生させることも同様に効果的である。

このとき、非線形光学材料が別層として含まれている場
合には、ピット形成部分と未形成部分とで検出される光
量が異なることに基づいて情報信号を得ることができる
。また、非線形光学材料が記録層に含まれている場合に
は、ピット形成部分および未形成部分において波長変換
された光が検出されるか否かに基づいて情報信号を得る
ことができる。すなわち、後者の場合には従来の再生方
法と異なり、検出光の有無（ｏｎ−ｏｆｆ）により情報
の再生を行なうことができる。

以下に本発明の実施例および比較例を記載する。ただし
、これらの各側は本発明を制限するものではない。

［実施例１］ 円盤状のガラス基板（外径：１３０ｍｍ、内径：１５ｍ
ｍ、厚さ：１．２ｍｍ）上に、３−メチル−４−ニトロ
ピリジン−１−オキシド（非線形光学材料）のメチルエ
チルケトン溶液（濃度＝５重琶％）をスピンコード法に
より塗布して、層厚が２＃Ｌｍの非線形光学層を形成し
た。

、次に、非線形光学層上に銅フタロシアニンを真空蒸着
させて、層厚が２５０Ａの記録層を形成した。

このようにして、順に基板、非線形光学層および記録層
からなる情報記録媒体を製造した（第１図）。

［比較例１］ 実施例１において、非線形光学層を設けないこと以外は
実施例１の方法と同様の操作を行なうことにより、基板
および記録層からなる情報記録媒体を製造した。

【実施例２］ 円盤状のガラス基板（外径：１３０ｍｍ、内径：１５ｍ
ｍ、厚さ：　１．２ｍｍ）上に、銅フタロシアニンおよ
び非線形光学材料（構造式：をｌ：５（色素：非線形光
学材料、重量比）の比率で真空蒸着法により共蒸着させ
て、層厚が１００ＯＡの記録層を形成した。

このようにして、基板および非線形光学材料を含む記録
層からなる情報記録媒体を製造した（第２図）。

［比較例２］ 実施例２において、銅フタロシアニンのみを真こと以外
は実施例２の方法と同様の操作を行なうことにより、基
板および記録層からなる情報記録媒体を製造した。

［情報記録媒体の評価］ 得られた各情報記録媒体に、半導体レーザー光（波長：
８３０ｎｍ、照射パワー：８ｍＷ、ビーム径：１＃Ｌｍ
）を記録層側から照射した０回転数１８０　Ｏｒｐｍお
よび記録半径３０　ｍ　ｍの条件で、レーザー光を変調
して２　ＭＨｚの記録信号により。

ｄｕｔｙ比５０第５０％を記録した。

次に、上記半導体レーザー光（照射パワー＝１ｍ　Ｗ　
）を記録媒体に記録層側から照射して情報の読み取りを
行なった。このとき、実施例の記録媒体については読み
取り用受光器の前に５００ｎｍ以上の波長の光をカット
する光学フィルターを設けておき、第二高調波のみが受
光器に達するように設定した。また、比較例の記録媒体
については受光器の前に光学フィルターを設けないで、
レーザー光の反射光を受光器で検出した。キャリアーと
ノイズの出力レベルの比率（Ｃ／Ｎ比）を測定した。

得られた結果を第１表に示す。

第１表 実施例！　　比較例１ Ｃ／Ｎ比（ｄＢ）　　　　５４　　　　４７実施例２　
　比較例２ Ｃ／Ｎ比（ｄＢ）　　　　５１　　　　４６第１表に示
した結果から明らかなように、非線形光学層を有する本
発明の情報記録媒体（実施例１）、および記録層に非線
形光学材料が含まれている本発明の情報記録媒体（実施
例？）はいずれも、非線形光学材料が含まれていない従
来の情報記録媒体（比較例１．２）と比較して、読み取
り時のＣ／Ｎ比が顕著に高かった。

【図面の簡単な説明】

第１図および第２図はそれぞれ１本発明の情報記録媒体
の構成例を示す断面図である。 に基板、２：非線形光学層、３：記録層、３′：非線形
光学材料を含む記録層

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、基板上に、レーザーによる情報の書き込みおよび／
   または読み取りが可能な記録層が設けられてなる情報記
   録媒体において、該記録層に隣接する層に非線形光学材
   料が含有されていることを特徴とする情報記録媒体。 ２、基板上に、レーザーによる情報の書き込みおよび／
   または読み取りが可能な記録層が設けられてなる情報記
   録媒体において、該記録層に非線形光学材料が含有され
   ていることを特徴とする情報記録媒体。