JPH01189014A - 薄膜磁気ヘッド - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は薄膜磁気ヘッドに関し、更に詳述すれば、磁性
層上に積層される保護層が改良された薄膜磁気ヘッドに
関する。

〔従来技術〕

薄膜磁気ヘッドは、フェライト或いはサファイア等の耐
摩耗性材料より成る基板上に、センダスト、アモルファ
ス等により形成した複数の磁性層、導電性金属から成る
コイル導体層及び絶縁層等を順次成膜及びエツチングを
繰返して所定の形状にバターニングし、最後に記録媒体
の走行による摩耗等から前記磁性層を保護する目的で保
護層を形成して設けられている。

処で、上記のような構成において、保護層が磁性層に較
べて充分に硬いと、記録媒体の走行による摩耗が磁性層
側に早く及び、磁性層に偏摩耗が生じてスペーシング・
ロスを発生することは良く知られている。

一方、前記保護層は軟らか過ぎると全体の摩耗が早くな
り、ヘッド寿命を短かくする。従って、保護層の硬度は
磁性層と路間しか、これよりも幾分低い硬さに設けられ
ていることが望ましい。

例えば、磁性層のビッカース硬度がＨｖ　＝６００〜６
５０ｋｇ／ｍｍ２　のとき、保護層はＨｖ　＝４００〜
６００ｋｇ／ｍｍ”　の範囲に設定されていることが望
ましい。

また、前記保護層の厚みは、記録媒体の摺動性、耐偏摩
耗の点から２０〜４０μｍ程度以上を必要とする。しか
しこの程度の厚みになると、通常、累積された内部応力
により保護層が剥離又は保護層に亀裂を生じる。このた
め内部応力を極力小さくする必要がある。この問題を解
決する１つの有効手段は、ヘッドを構成する各材料の熱
膨張係数を合わせることである。しかしながら、一般に
従来は金属磁性材料と保護層の熱膨張係数を合わせるこ
とは難しかった。

特開昭６２−１６２１８号公報には、偏摩耗の発生を効
果的に抑制できる保護層としてＭｇＯと５ｉｎ２の混合
物が開示されている。更に、ＭｇＯと５ｉＯｚ　の組成
比をＳｉＣ２を濃度にして１０〜７０％とすることによ
り、適度な硬さ（Ｈｖ＝４５０〜８５０）と所望の熱膨
張係数が得られることが記載されている。

〔発明が解決しようとする課題〕

しかしながら、本発明者が種々実験を重ねたところ、上
記ＭｇＯ−３ｉＯ□系では硬度及び応力の自由度は大き
いが、耐水性に劣り実用上大きな欠点があることが分か
った。すなわち、望ましいビッカース硬度範囲（５５０
ｋｇ／ｍｍ”以上）は、ＭｇＯの組成比が７０モル％以
上であり、この場合は耐水性が著しく悪く実用に適さな
い。一方、ＭｇＯの組成を７０モル％以下にすると、耐
水性は向上し一応満足できる程度にはなるが、軟らか（
なり過ぎ、すなわちビッカース硬度が不適当な範囲とな
り、この場合も実用に適さないことを見出した。

本発明の目的は、上記事情に鑑みなされたもので、偏摩
耗を生じさせないでかつ耐水性に優れた保護層を形成し
た薄膜磁気ヘッドを提供することにある。

〔課題を解決するための手段〕

すなわち、本発明の上記目的は、基板上に磁性層、コイ
ル導体層及び絶縁層を形成し、保護層を前記磁性層上に
積層した構成から成る薄膜磁気ヘッドにおいて、前記保
護層の組成がＮｉＯとＳｉＯ□　とから成ることを特徴
とする薄膜磁気ヘッドにより達成される。

〔実施例〕

以下、図面を参照して本発明の詳細な説明する。

第１図の１実施例は、本発明の薄膜磁気ヘッドの構造を
示す断面図であり、製造プロセスに基づいて説明する。

図において、フェライト基板１０上にスパッタ法により
Ｃｏ−Ｎｂ−Ｚｒ合金の強磁性体を１０μｍ付着し、下
部磁性層１１を形成する。次に下部磁性層１１上にＳｉ
ｎ、等よりなる非磁性絶縁層１２及びＣｕ、Ａ１等より
なるコイル導体層１３を適宜形成した後、略台形状にイ
オンミリングにより加工し、フロントギャップ部１７及
び図示しないリアギャップ部で下部磁性層１１を露出せ
しめ、ギャップ層１４を形成する。前記非磁性絶縁層１
２上に下部磁性層１１とフロントギャップ部及びリアギ
ャップ部で磁気的に接合するようにＣｏ−Ｎｂ−Ｚｒ合
金の金属磁性材料をスパッタ法で１５μｍ付着し、上部
磁性層１５を形成する。

次に、本発明の要部である保護層１６を上部磁性層１５
の上に形成する。

なお、保護層は電子ビーム蒸着（真空度＝゛１ｘＩＱ−
２Ｐａ、基板温度＝２００℃、付着速度＝１００ＯＡ／
分）により、３０μｍ厚に成膜した。

上述のようにして保護層１６が形成された後、従来と同
様、前記保護層１６を平坦化し、接着剤層１８を介して
保護板１９と貼着して製作される。

第２図にＮｉＯのモル％とビッカース硬度の関係を示す
。ビッカース硬度Ｈｖ＝４００〜６００ｋｇ／ｍｍ’　
の硬度範囲に対して、ＮｉＯのモル％は４５％〜７５％
で得られることがわかる。

前記の通りに構成した薄膜磁気ヘッド面に対して記録媒
体を、１０００時間走行させて偏摩耗を観察した。偏摩
耗はオプティカルフラットにより干渉縞を観察し、磁性
層と保護層との段差を調べることにより行った。その結
果、上記組成範囲の保護層で、段差は認められなかった
。

又、上記組成範囲の保護層の内部応力は０．１×１０’
　　ｄｙｎ／ｃｒＩ〜３．９Ｘ　１０’　　ｄｙｎ／ｃ
ａｔでＳｉＯ２単体に比べて、凡そ１桁小さい事がわか
った。

さらに、純水浸漬試験の結果、何ら変化は認められず、
耐水性上、何ら問題がないことが確認された。

〔発明の効果〕

以上記載したとおり、本発明によれば、磁性層に積層さ
れる保護層の硬度を適当としたことにより、記録媒体の
走行による偏摩耗の発生が好適に阻止され、かつ耐水性
の良好な薄膜磁気ヘッドを得ることができ、前記従来技
術の欠点を除いて優れた性能を有する薄膜磁気ヘッドを
提供することができる。

なお、Ｎ　ｉ　Ｏと８１０２以外の第３物質を少量添加
しても本発明の効果が損われることはない。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に基づいて構成される薄膜磁気ヘッドの
断面図、第２図はＮｉＯのモル％とビッカース硬度の関
係を示した図である。 １０　フェライト基板、１１　下部磁性層、１２　非磁
性絶縁層、１３　コイル導体層、１４　ギャップ層、１
５　上部磁性層、１６−保護層、１７　フロントギャッ
プ部、１８　接着剤層、１９−・保護板

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 基板上に少なくとも磁性層、コイル導体層及び絶縁層を
   形成し、保護層を前記磁性層上に積層した構成から成る
   薄膜磁気ヘッドにおいて、前記保護層の組成がＮｉＯと
   ＳｉＯ＿２から成ることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。