JPH01189488A - 焼塊冷却装置の制御法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は焼塊冷却装置に係り、特に焼塊の冷却について
の最適な制御法に関するものである。

〔従来の技術〕

従来の焼塊冷却装置の例を第３図に示す。即ちロータリ
キルン１から落ちた焼塊４は、多数の通気孔を有するグ
レート５０前後運動により移送され、これらの大きな焼
塊４はハンヤープレーカ７により適当な大きさにし、排
出コンベヤ１５を経て次段のプロセスに移送される。

又、グレート５の上に乗った焼塊４は、グレート５の下
部の冷却空気室９から吹き上げる冷却空気により冷却さ
れる。

これらの冷却空気は、キルン１用のバーナ３への二次空
気１３及び排気１０として排気ファン１２より排出され
る。

従来用いられている焼塊冷却装置の制御法の例としては
、第２図に示す通りである。即ち、第１冷却空気室９の
圧力を圧力伝送器１６、圧力調節計１７によって一定に
なる様に本体駆動装置６ａの速度を調節する。二段目の
ステージ用の本体駆動装置６ｂには、比率設定器１８に
より一定比率をかけた速度となる様に調節される。

更Ｋ、冷却空気室９に供給する空気量が一定となる様に
、冷却空気量を差圧発生器１９で測定し、差圧伝送器２
０％流量調節計２１７通して冷却ファン８の風量なダン
パ操作器２２により行っている。

しかし従来技術に於いては、焼塊の冷却を目的としてい
ながら焼塊の温度による制御は行われていす、時々グレ
ート上の焼塊の表面を輻射温度計により確認する程度で
あった。

また焼塊冷却装置特有のキルンの回転により分級され断
面方向でみた場合、キルンの回転方向側。

に細粒が落下し、いわゆる赤い河ができる結果となる。

なお、第２図、第３図において、２はキルンフッド、８
は冷却ファン、１１は集塵装置、１２は排気ファン、１
４は抽気である。

〔発明が解決しようとする課題〕

上記従来技術は、冷却された後の焼塊の温度など冷却効
果についての配慮がされておらず、制御法に問題があっ
た。

本発明の目的は、従来技術の欠点をなくし、より効果的
な焼塊の表面温度による制御法の提供にある。

〔課題を解決するための手段〕

上記目的は、焼塊の表面温度を温度検出器により連続的
に検出し、従来のグレート速度制御及び冷却媒体流量制
御に対してカスケードループ制御を行うことによって達
成される。

〔作　用〕

焼塊の表面温度による制御を行うと第４図及び第５図に
示す如く目標とする表面温度となる様にグレート速度と
冷却空気流量による定位制御を行うため、第６図及び第
７図に示す従来制御方式での過渡的なオーバーシュート
又はアンダーシュートなどの現象も解消される。

第６図、第７図をさらに説明すると、いまキルンからの
落下量が増卯し層厚が大きくなると、圧力が上昇するの
でグレート速度が大きくなる。層の抵抗増加のため風量
が減少するので、ダンパ開度が大きくなる。そのため圧
力がさらに大きくなり、グレート速度はさらに速くなる
。このように、温度に関係なくオーバシュートする。

第４図、第５図から、上記の過程で表面温度が目標値を
下まわれば、グレート速度、ダンパ開１ｆを小さくする
ようにカスケード制御が働くので、上記のオーバシュー
トを抑制することができる。

〔発明の実施例〕

本発明の実施例について図と共に説明する。

第１図に示す例は、本発明の制御法である。即ち従来の
第１室圧力によるグレート速度制御及び冷却空気流量に
よるダンパ開度の制御に対して、温度検出器２３により
焼塊の表面温度を検出し、温度伝送器２４を経由し、温
度調節計２５へ入力する。

この温度調節計２５は、焼塊の表面温度が第１室９出口
付近で目標値（約１０００℃）となる様に設定しておき
、この偏差分の信号を演算器２６ａ。

２６ｂにより定数などの演算処理した後、従来システム
の制御系の圧力調節計１７及び流量調節計２１の設定信
号として入力し、カスケード制御ループを構成する様に
する。

２６の演算器では、グレート速度制御並びに風量制御ル
ープでの応答遅れの演算処理及び各々の圧力と流量との
制御特性の差異分などの演算処理を行う様にする。

尚、表面温度の検出には、連続式輻射温度計など直接焼
塊などに接触しない検出器が好ましい。

また一方においては、キルン１の回転により分級されて
出来る１赤い河ＩＫついて、これを防止する意味からも
１赤い河１側の表面温度を主として温度調節に取り込む
ことにすると最適な効果が得られる。

なお、赤い河防止のための制御法については、例えば特
願昭５５−５４８７４号に示している。

本発明の制御法によれば、第−室圧力によるグレート速
度制御、冷却空気量によるダンパ開度制御と各々が独立
した制御系であったものが、これらの制御結果による、
焼塊の表面温度によりカスケード制御ループとすること
により、より制御精度が向上し、真の焼塊の冷却という
目的を達成できることＫなる。

本発明の他の実施例について説明する。第１図に示した
例では、第１室圧力制御と冷却空気流量制御の二つの制
御要案を同時にカスケード制御する様にしているが、焼
塊冷却装置の容量（大きさ）ニヨッては、冷却空気流量
の入カスケード制御とした方が効果が大きい場合が考え
られ、この場合には圧力調節計１７へは、温度調節計２
５からの調節信号音数つ込まず、通常の定置制御ループ
とする。

又、これらの制御ループは、制御用計算機などを使用し
たＤＤＣ（ディジタル直接制御）とすることでより、精
度を向上させることができろ。

〔発明の効果〕

本発明によれば、前述せる如く、焼塊の冷却という本来
目的の冷却効果を連続的に焼塊の表面温度により確認し
ながら制御することになり、安定した品質の焼塊（クリ
ンカなど）が提供できることになる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施例による焼塊冷却装置の制御系統
図、第２図は従来技術による焼塊冷却装置制御法の系統
図、第３図は焼塊冷却装置の機能説明図、第４図ならび
に第５図は本発明による表面温度とグレート速度との関
係を表す図ならびに表面温度とダンパ開度との関係図を
表す図、Ｗ、６図は従来制御法による圧力とグレート速
度との関係図、第７図は同様に風量とダンパ開度の関係
図である。 第４図　　　　第５図 第６図　　　　第７図

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 多数の通気孔を有するグレート上に焼塊を乗せて移送す
   るとともに、グレート下部より送入された冷却媒体によ
   り焼塊を冷却する焼塊冷却装置において、前記焼塊の表
   面温度を検出し、その検出信号をグレート速度制御およ
   び冷却媒体流量制御のカスケード設定信号として用い、
   焼塊の表面温度を目標値となるようにカスケードループ
   制御を行なうことを特徴とする焼塊冷却装置の制御法。