JPH01191147A - フォトレジスト塗布装置 - Google Patents
フォトレジスト塗布装置Info
- Publication number
- JPH01191147A JPH01191147A JP1617488A JP1617488A JPH01191147A JP H01191147 A JPH01191147 A JP H01191147A JP 1617488 A JP1617488 A JP 1617488A JP 1617488 A JP1617488 A JP 1617488A JP H01191147 A JPH01191147 A JP H01191147A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chamber
- photoresist
- solvent
- substrate
- film thickness
- Prior art date
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- Pending
Links
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- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 17
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- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract description 5
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、フォトレジスト塗布装置、特に、高い膜厚再
現性が要求されるフォトレジスト塗布装置に関する。
現性が要求されるフォトレジスト塗布装置に関する。
従来のフォトレジスト塗布装置は、フォトレジスト液を
基板上から滴下させ、基板を回転させることにより遠心
力で基板全面に塗り広げるものである。
基板上から滴下させ、基板を回転させることにより遠心
力で基板全面に塗り広げるものである。
次に、従来例について、図面を参照して詳細に説明する
。
。
第３図は従来の一例を示す模式図である。
第３図に示すフォトレジスト塗布装置は、回転モータ１
と、前記回転モータ１により駆動される回転台２とを含
んでいる。
と、前記回転モータ１により駆動される回転台２とを含
んでいる。
フォトレジスト膜を形成しようとする基板３の上には、
フォトレジスト液を滴下するためのフォトレジスト滴下
ノズル４があり、これらは塗布が行われるチャンバー５
内に収容されている。また、前記チャンバー５内を排気
するための排気口６と、この排気口６の開閉を行う電磁
バルブ７とを含んでいる。
フォトレジスト液を滴下するためのフォトレジスト滴下
ノズル４があり、これらは塗布が行われるチャンバー５
内に収容されている。また、前記チャンバー５内を排気
するための排気口６と、この排気口６の開閉を行う電磁
バルブ７とを含んでいる。
このようなフォトレジスト塗布装置について、作用動作
を説明する。
を説明する。
まず、回転台２に真空チャッキングなどにより基板３が
固定された後、電磁バルブ７の開閉により、排気口６か
ら一定時間排気が行われる。
固定された後、電磁バルブ７の開閉により、排気口６か
ら一定時間排気が行われる。
次に、フォトレジスト滴下ノズル４よりフォトレジスト
液が基板３上に滴下される。滴下後、基板３を回転台２
を介して所定の回転数で回転させるとフォトレジスト液
は遠心力により基板３全面に広がり、回転数に応じたフ
ォトレジスト膜厚が得られる。
液が基板３上に滴下される。滴下後、基板３を回転台２
を介して所定の回転数で回転させるとフォトレジスト液
は遠心力により基板３全面に広がり、回転数に応じたフ
ォトレジスト膜厚が得られる。
しかしながら、このような上述した従来のフォトレジス
ト塗布装置は、排気口より一定時間排気が行われた後、
塗布が行われる構成となっており、排気量や滴下後基板
周囲に飛散したフォトレジスト液からの溶剤蒸発量の微
妙な変化によりチャンバー内の溶剤蒸気圧が変動し、そ
れに伴って基板上に残ったフォトレジスト液中の溶剤の
揮発速度が影響され、得ようとするフォトレジスト膜厚
の再現性が損なわれるという欠点があった。
ト塗布装置は、排気口より一定時間排気が行われた後、
塗布が行われる構成となっており、排気量や滴下後基板
周囲に飛散したフォトレジスト液からの溶剤蒸発量の微
妙な変化によりチャンバー内の溶剤蒸気圧が変動し、そ
れに伴って基板上に残ったフォトレジスト液中の溶剤の
揮発速度が影響され、得ようとするフォトレジスト膜厚
の再現性が損なわれるという欠点があった。
本発明のフォトレジスト塗布装置は、塗布が行われるチ
ャンバー内に溶剤を供給する供給手段と、前記溶剤から
発生する蒸気を前記チャンバー内に均一に攪拌するため
の攪拌手段とを含んで構成される。
ャンバー内に溶剤を供給する供給手段と、前記溶剤から
発生する蒸気を前記チャンバー内に均一に攪拌するため
の攪拌手段とを含んで構成される。
次に、本発明の実施例について、図面を参照して説明す
る。
る。
第１図は本発明の一実施例を示す模式図である。
第１図に示すフォトレジスト塗布装置は、回転モータ１
によって駆動される回転台２の上にフォトレジスト膜を
形成しようとする基板３が真空チャッキングにより固定
され、基板３の上部にはフォトレジスト滴下用ノズル４
が配置され、塗布が行われる毎にチャンバー５内が常に
高い濃度の溶剤雰囲気が作られるよう溶剤供給ノズル８
と攪拌治具９とを含んで構成されている。
によって駆動される回転台２の上にフォトレジスト膜を
形成しようとする基板３が真空チャッキングにより固定
され、基板３の上部にはフォトレジスト滴下用ノズル４
が配置され、塗布が行われる毎にチャンバー５内が常に
高い濃度の溶剤雰囲気が作られるよう溶剤供給ノズル８
と攪拌治具９とを含んで構成されている。
次に、第１図に示す実施例の作用動作について、説明す
る。
る。
まず、回転台２に塗布しようとする基板３が固定された
後、電磁弁７が開いて、排気口６より排気が行われる。
後、電磁弁７が開いて、排気口６より排気が行われる。
一定時間の排気後、電磁弁７が閉じ、溶剤供給ノズル８
より一定量の溶剤がチャンバー５内に供給される。
より一定量の溶剤がチャンバー５内に供給される。
そこで、回転モータ１により回転台２に取り付けられた
基板３を高速回転数で一定時間回転させる。これと、同
時に回転機構部に取り付けられた攪拌治具８も回転され
ることになる。これによりチャンバー５内に供給された
溶剤の蒸発が促進され、高濃度の溶剤蒸気がチャンバー
５内に作られる。
基板３を高速回転数で一定時間回転させる。これと、同
時に回転機構部に取り付けられた攪拌治具８も回転され
ることになる。これによりチャンバー５内に供給された
溶剤の蒸発が促進され、高濃度の溶剤蒸気がチャンバー
５内に作られる。
次に、基板３を低速で回転させながら、フォトレジスト
滴下ノズル４より一定量のフォトレジスト液が滴下され
た後、所定の回転数で一定時間回転させることにより基
板３上に所望の厚さの７オトレジスト膜が形成される。
滴下ノズル４より一定量のフォトレジスト液が滴下され
た後、所定の回転数で一定時間回転させることにより基
板３上に所望の厚さの７オトレジスト膜が形成される。
このとき常に高い溶剤蒸気雰囲気中で膜形成が行われる
ことになるので基板３表面上に塗り広げられたフォトレ
ジスト液からの溶剤の蒸発が抑制され、膜厚再現性が長
幼になり同時にストリエーションの発生も防止できる。
ことになるので基板３表面上に塗り広げられたフォトレ
ジスト液からの溶剤の蒸発が抑制され、膜厚再現性が長
幼になり同時にストリエーションの発生も防止できる。
第２図は第１図に示す実施例の塗布前の高速回転時間（
高速回転数一定）と得られたフォトレジスト膜厚の関係
を示したグラフであり、このグラフから時間が短いとチ
ャンバー５内の溶剤蒸気がまだ高濃度に達せず、得られ
るフォトレジスト膜厚が厚くなるが、一定時間以上回転
させれば膜厚は安定することが分かる。
高速回転数一定）と得られたフォトレジスト膜厚の関係
を示したグラフであり、このグラフから時間が短いとチ
ャンバー５内の溶剤蒸気がまだ高濃度に達せず、得られ
るフォトレジスト膜厚が厚くなるが、一定時間以上回転
させれば膜厚は安定することが分かる。
このような結果から塗布前の高速回転数−時間を１００
０ｒｐｍ−６０ｓｅｃに設定し、フォトレジスト塗布を
試みたところ所望膜厚１２００人に対し、従来では日に
よる変動が±３０人であったが、±１０Å以下に小さく
なり、同時に一枚の基板内での膜厚差も従来値の約６０
人から３０人へと減少した。
０ｒｐｍ−６０ｓｅｃに設定し、フォトレジスト塗布を
試みたところ所望膜厚１２００人に対し、従来では日に
よる変動が±３０人であったが、±１０Å以下に小さく
なり、同時に一枚の基板内での膜厚差も従来値の約６０
人から３０人へと減少した。
本発明のフォトレジスト塗布装置は、塗布が行われるチ
ャンバー内に溶剤を供給する供給手段と供給された溶剤
から発生する蒸気をチャンバー内に均一に攪拌するため
の攪拌手段とを追加することにより、常に高い溶剤蒸気
雰囲気中で膜形成が行われるため、フォトレジストの膜
厚に高い再現性が得られるという効果がある。
ャンバー内に溶剤を供給する供給手段と供給された溶剤
から発生する蒸気をチャンバー内に均一に攪拌するため
の攪拌手段とを追加することにより、常に高い溶剤蒸気
雰囲気中で膜形成が行われるため、フォトレジストの膜
厚に高い再現性が得られるという効果がある。
第１図は本発明の一実施例を示す模式図、第２図は第１
図に示す実施例における塗布前の高速回転時間（高速回
転数一定）と得られたフォトレジスト膜厚の関係を示す
グラフ、第３図は従来の一例を示す模式図である。 １・・・・・・回転モータ、２・・・・・・回転台、３
・・・・・・基板、４・・・・・・フォトレジスト滴下
ノズル、５・・・・・・チャンバニ、６・・・・・・排
気口、７・・・・・・電磁弁、８・・・・・・溶剤供給
ノズル、９・・・・・・攪拌治具。 代理人 弁理士 内 原 音 ４７オ）Ｌン”スト膚丁ノスール 猶１図 ０ ３０ Δθ り０ ／２
θ西速団転峙間（Ｓｅｃ） （高速回転数にθθｒ７＝ｙｙｔ ｇ）第２回 ４、フｆｌｌヅストＪ７”ノス）し ￥； ３１３丁
図に示す実施例における塗布前の高速回転時間（高速回
転数一定）と得られたフォトレジスト膜厚の関係を示す
グラフ、第３図は従来の一例を示す模式図である。 １・・・・・・回転モータ、２・・・・・・回転台、３
・・・・・・基板、４・・・・・・フォトレジスト滴下
ノズル、５・・・・・・チャンバニ、６・・・・・・排
気口、７・・・・・・電磁弁、８・・・・・・溶剤供給
ノズル、９・・・・・・攪拌治具。 代理人 弁理士 内 原 音 ４７オ）Ｌン”スト膚丁ノスール 猶１図 ０ ３０ Δθ り０ ／２
θ西速団転峙間（Ｓｅｃ） （高速回転数にθθｒ７＝ｙｙｔ ｇ）第２回 ４、フｆｌｌヅストＪ７”ノス）し ￥； ３１３丁
Claims (1)
- 基板を載置するための回転台と、前記回転台を回転させ
るための回転モーターと、前記基板を回転台とともに収
容するチャンバーと、フォトレジスト液を前記基板上に
滴下させて塗布が行われるチャンバー内に溶剤を供給す
る供給手段と、前記溶剤から発生する蒸気を前記チャン
バー内で均一に撹拌するための攪拌手段とを含むことを
特徴とするフォトレジスト塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1617488A JPH01191147A (ja) | 1988-01-26 | 1988-01-26 | フォトレジスト塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1617488A JPH01191147A (ja) | 1988-01-26 | 1988-01-26 | フォトレジスト塗布装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01191147A true JPH01191147A (ja) | 1989-08-01 |
Family
ID=11909145
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1617488A Pending JPH01191147A (ja) | 1988-01-26 | 1988-01-26 | フォトレジスト塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01191147A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2017008261A1 (zh) * | 2015-07-10 | 2017-01-19 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种光阻汲取装置 |
-
1988
- 1988-01-26 JP JP1617488A patent/JPH01191147A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2017008261A1 (zh) * | 2015-07-10 | 2017-01-19 | 深圳市华星光电技术有限公司 | 一种光阻汲取装置 |
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