JPS5888068A - 薄膜塗布装置 - Google Patents
薄膜塗布装置Info
- Publication number
- JPS5888068A JPS5888068A JP18619481A JP18619481A JPS5888068A JP S5888068 A JPS5888068 A JP S5888068A JP 18619481 A JP18619481 A JP 18619481A JP 18619481 A JP18619481 A JP 18619481A JP S5888068 A JPS5888068 A JP S5888068A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- thin film
- photoresist
- coated
- resist
- Prior art date
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- Pending
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- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（１） 発明の技術分野
本発明は、螢光膜や各檜フォトレジスト膜の塗布に用い
る同転式薄膜塗布装置の改良に関するものである。
る同転式薄膜塗布装置の改良に関するものである。
（２） 技術の背景
紫外線励起による螢光発光を利用したプラズマ・ディス
プレイ・パネルの螢光膜の形成あるいは半導体装置の製
造及び半導体装置の製造に用いられるフォトマスクの製
造等には、フォトレジストと螢光体の混合物あるいはフ
ォトレジストの均一な薄膜が必要とされ、従来よりかか
る薄膜を得る方法とし【浸漬法、スプレー法及びスピン
ナー法等があるが、中でも装置の構成が簡単でかつ比較
的均一に塗着することが可能なスピンナー法、即ち回転
式塗布装置が広く用いられている。
プレイ・パネルの螢光膜の形成あるいは半導体装置の製
造及び半導体装置の製造に用いられるフォトマスクの製
造等には、フォトレジストと螢光体の混合物あるいはフ
ォトレジストの均一な薄膜が必要とされ、従来よりかか
る薄膜を得る方法とし【浸漬法、スプレー法及びスピン
ナー法等があるが、中でも装置の構成が簡単でかつ比較
的均一に塗着することが可能なスピンナー法、即ち回転
式塗布装置が広く用いられている。
（３） 従来技術と問題点
ところで、従来の回転式塗布装置によってフォトレジス
トを塗布する瘉こは、中心に回転軸を有する円盤上の中
心に塗布すべき基板を載置し、該基板上にフォトレジス
トを滴下したのち、前記円盤の回転軸に連結された回転
部動機構によって前記基板を適当な回転速度で回転する
こと番こまって基板中心部よりその周縁端部に向けてフ
ォトレジストを広がらせ、基板表面上に一様な厚さのフ
ォトレジスト膜を形成している。ところがかかる装置に
よって塗布されたフォトレジスト膜３にあっては、同転
塗布時の遠心力の作用によって第１図に示すように回転
円板１上に載置された基板２表面の中心部で薄く、その
周縁部に向かって厚くなるといった傾向がある。
トを塗布する瘉こは、中心に回転軸を有する円盤上の中
心に塗布すべき基板を載置し、該基板上にフォトレジス
トを滴下したのち、前記円盤の回転軸に連結された回転
部動機構によって前記基板を適当な回転速度で回転する
こと番こまって基板中心部よりその周縁端部に向けてフ
ォトレジストを広がらせ、基板表面上に一様な厚さのフ
ォトレジスト膜を形成している。ところがかかる装置に
よって塗布されたフォトレジスト膜３にあっては、同転
塗布時の遠心力の作用によって第１図に示すように回転
円板１上に載置された基板２表面の中心部で薄く、その
周縁部に向かって厚くなるといった傾向がある。
そこで、かかる厚さの不均一になる傾向を解消するため
に、第２図に示すように基板２を、該基板２よりも大き
な直径を有する同転円盤２１上の中心軸Ａよりはずれた
周辺部に図示の如く配置し、前記円盤１の中心軸Ａを回
転輪として回転し、前記基板２全面に対してほぼ同一方
向に均一な大きさの遠心力が作用するようにして均一に
フォトレジスト膜２３を塗着することが試みられている
。かかる塗布方法によって塗着されたフォトレジスト膜
２３の厚さのバラツキは、当初の従来例をこ比べてｌ／
程度に大幅をこ低減されるが、なお図示のように基板２
の２ａ端より２ｂ端に向かってフォトレジスト膜２３の
厚さが不均一に塗布されるといった欠点があった。
に、第２図に示すように基板２を、該基板２よりも大き
な直径を有する同転円盤２１上の中心軸Ａよりはずれた
周辺部に図示の如く配置し、前記円盤１の中心軸Ａを回
転輪として回転し、前記基板２全面に対してほぼ同一方
向に均一な大きさの遠心力が作用するようにして均一に
フォトレジスト膜２３を塗着することが試みられている
。かかる塗布方法によって塗着されたフォトレジスト膜
２３の厚さのバラツキは、当初の従来例をこ比べてｌ／
程度に大幅をこ低減されるが、なお図示のように基板２
の２ａ端より２ｂ端に向かってフォトレジスト膜２３の
厚さが不均一に塗布されるといった欠点があった。
（４） 発明の目的
本発明は上記した従来の欠点を排除するために、回転円
盤上に載置する基板の配置構造を副回転式にすることに
よって、均一に＃膜を塗着し得る新規な＃ｌ［塗布装置
を提供することを目的とするものである。
盤上に載置する基板の配置構造を副回転式にすることに
よって、均一に＃膜を塗着し得る新規な＃ｌ［塗布装置
を提供することを目的とするものである。
（５） 発明の構成
上記目的を達成するために本発明においては、中心に回
転軸を有し、かつ水平に同転可能な回転台上の周辺部に
、薄膜を塗布すべき基板を載１ｄする羽根付き回転盤を
回転自在に配設した構成を特徴としている。
転軸を有し、かつ水平に同転可能な回転台上の周辺部に
、薄膜を塗布すべき基板を載１ｄする羽根付き回転盤を
回転自在に配設した構成を特徴としている。
（６） 発明の実施例
以下図面を用いて本発明の実施例について詳、ｍ番こ説
明する。
明する。
第３図及び第４図は本発明に係る薄膜塗布装置台こおけ
る回転台上の基板配置構造の一実施例な示す平面図及び
その断面図である。これら両図（こおいて３１は中心に
回転軸３２を有する大径の回転台であり、該回転台３１
の周辺部には、薄膜を塗布すべき基板３５を載置する保
持盤３３が回転自在番こ配設されている。該保持盤３３
の外周側部には桟数個の羽根調が図示のように取付けら
れている。そして前記回転台３１をｕ転軸３２と連結さ
れた図示しない回転駆動ｍ４ＩＩによって矢印３６の方
向（こ回転することにより、前記羽根３４付き保持盤３
３は、回転台３１の回転方向に移動すると共に、その回
転時の風圧を前記複数個の羽根３４が受けて回転台３１
の回転方向とは逆方向に自転するようになっている。よ
って前記保持盤３３上に例えば螢光発光を利用したプラ
ズマ・ディスプレイ・パネル用の表示バネ／Ｌ／基板３
７を図示しないホルダ一番こよって固定し、該基板３７
上に、フォトレジストと螢光体とをｌＯ：１の重量比で
混合したレジスト液を適量滴下し、前記回転台３１を所
定速度で回転させれば、該レジスト液は、前記基板３７
全面に対してほぼ同一方向に均一な大きさの遠心力が作
用して、はぼ同一方向に飛散されるのと、前記保持盤３
３の自転によって均一な厚さにレジスト膜３７が塗着さ
れる。
る回転台上の基板配置構造の一実施例な示す平面図及び
その断面図である。これら両図（こおいて３１は中心に
回転軸３２を有する大径の回転台であり、該回転台３１
の周辺部には、薄膜を塗布すべき基板３５を載置する保
持盤３３が回転自在番こ配設されている。該保持盤３３
の外周側部には桟数個の羽根調が図示のように取付けら
れている。そして前記回転台３１をｕ転軸３２と連結さ
れた図示しない回転駆動ｍ４ＩＩによって矢印３６の方
向（こ回転することにより、前記羽根３４付き保持盤３
３は、回転台３１の回転方向に移動すると共に、その回
転時の風圧を前記複数個の羽根３４が受けて回転台３１
の回転方向とは逆方向に自転するようになっている。よ
って前記保持盤３３上に例えば螢光発光を利用したプラ
ズマ・ディスプレイ・パネル用の表示バネ／Ｌ／基板３
７を図示しないホルダ一番こよって固定し、該基板３７
上に、フォトレジストと螢光体とをｌＯ：１の重量比で
混合したレジスト液を適量滴下し、前記回転台３１を所
定速度で回転させれば、該レジスト液は、前記基板３７
全面に対してほぼ同一方向に均一な大きさの遠心力が作
用して、はぼ同一方向に飛散されるのと、前記保持盤３
３の自転によって均一な厚さにレジスト膜３７が塗着さ
れる。
なお第５図は、螢光発光を利用したプラズマ・ディスプ
レイ・パネル用のバネ／Ｉ／基板表面番二対するレジス
トｐｍ＜フォトレジストと螢光体とを１０ ： １の重
量比で混合したもの）の厚さ分布の関係を示すグラフで
あり、ａは同転盤の中心部にパネル基板を配設する従来
装置によって塗層されたレジスト膜の厚さ分布曲線、ｂ
は回転盤の周辺部にパネル基板を単をこ配設する従来装
置−によって塗着されたレジスト膜の厚さ分布曲線、Ｃ
は本発明の装置によってパネル基板表面に塗着されたレ
ジスト膜の厚さ分布曲線であり、かかるグラフによって
本発明の装置がレジスト塗布の均一化に優位であること
を示している。
レイ・パネル用のバネ／Ｉ／基板表面番二対するレジス
トｐｍ＜フォトレジストと螢光体とを１０ ： １の重
量比で混合したもの）の厚さ分布の関係を示すグラフで
あり、ａは同転盤の中心部にパネル基板を配設する従来
装置によって塗層されたレジスト膜の厚さ分布曲線、ｂ
は回転盤の周辺部にパネル基板を単をこ配設する従来装
置−によって塗着されたレジスト膜の厚さ分布曲線、Ｃ
は本発明の装置によってパネル基板表面に塗着されたレ
ジスト膜の厚さ分布曲線であり、かかるグラフによって
本発明の装置がレジスト塗布の均一化に優位であること
を示している。
（７） 発明の効果
以上の説明から明らかなように本発明による薄膜Ｙ布装
置昏こあっては、塗布液を塗布すべき基板を、中心・こ
回転軸を有する大径の主回転台−Ｅの周辺部（こ回転自
在に配設された副回転盤上台こ配置する構成となってい
るので、均一に薄膜を塗着できる利点を有し、螢光体を
混合したレジストに限らす各櫨レジスト膜やその他のコ
ーティング剤の塗布に適用して極めて有利である。
置昏こあっては、塗布液を塗布すべき基板を、中心・こ
回転軸を有する大径の主回転台−Ｅの周辺部（こ回転自
在に配設された副回転盤上台こ配置する構成となってい
るので、均一に薄膜を塗着できる利点を有し、螢光体を
混合したレジストに限らす各櫨レジスト膜やその他のコ
ーティング剤の塗布に適用して極めて有利である。
第１図及び第２図は、従来の薄膜塗布装置を説明する要
部断面図、第３図及び第４図は本発明に係る薄膜塗布装
置における一転台上の基板配置構造の一実施例を示す平
面図及びその要部断面図、第５図は、本発明の詳細な説
明する基板表面に対するレジスト膜の厚さ分布図である
。 図番こおいて、３１は大径の回転台、３２は一転軸、３
３は保持盤、３４は羽根、３５は基板、３７はレジスト
族を示す。 第１図 第３図 第５図 ４０ ３０ ２０ １０ ０ １０ ２０ ３０ ４０
鴫−ｍ−・−ｍ−→−
部断面図、第３図及び第４図は本発明に係る薄膜塗布装
置における一転台上の基板配置構造の一実施例を示す平
面図及びその要部断面図、第５図は、本発明の詳細な説
明する基板表面に対するレジスト膜の厚さ分布図である
。 図番こおいて、３１は大径の回転台、３２は一転軸、３
３は保持盤、３４は羽根、３５は基板、３７はレジスト
族を示す。 第１図 第３図 第５図 ４０ ３０ ２０ １０ ０ １０ ２０ ３０ ４０
鴫−ｍ−・−ｍ−→−
Claims (1)
- 中心部こ回転軸を有し、かつ水平に回転可能な回転台上
の周辺部をこ、薄膜を塗布すべき基板を載置する羽根付
夛保持盤を回転自在に配設してな・ることを特徴とする
薄膜塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18619481A JPS5888068A (ja) | 1981-11-19 | 1981-11-19 | 薄膜塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP18619481A JPS5888068A (ja) | 1981-11-19 | 1981-11-19 | 薄膜塗布装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5888068A true JPS5888068A (ja) | 1983-05-26 |
Family
ID=16184024
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP18619481A Pending JPS5888068A (ja) | 1981-11-19 | 1981-11-19 | 薄膜塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5888068A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60248259A (ja) * | 1984-05-23 | 1985-12-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 樹脂膜形成方法 |
-
1981
- 1981-11-19 JP JP18619481A patent/JPS5888068A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS60248259A (ja) * | 1984-05-23 | 1985-12-07 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 樹脂膜形成方法 |
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