JPH01194360A - 電荷結合素子 - Google Patents
電荷結合素子Info
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- JPH01194360A JPH01194360A JP63018110A JP1811088A JPH01194360A JP H01194360 A JPH01194360 A JP H01194360A JP 63018110 A JP63018110 A JP 63018110A JP 1811088 A JP1811088 A JP 1811088A JP H01194360 A JPH01194360 A JP H01194360A
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- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 12
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 7
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 7
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 6
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 9
- 238000001444 catalytic combustion detection Methods 0.000 description 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 2
- 238000005513 bias potential Methods 0.000 description 1
- 230000033228 biological regulation Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
- Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)
- Facsimile Scanning Arrangements (AREA)
- Networks Using Active Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は電荷結合素子であるCOD (チャージカップ
ルド デバイス)に係り、イメージセンサ、デレーライ
ン、フィルタ等に使用されるアナログシフトレジスタに
関するものである。
ルド デバイス)に係り、イメージセンサ、デレーライ
ン、フィルタ等に使用されるアナログシフトレジスタに
関するものである。
本発明はアナログ信号を順次転送するCODにおいて、
第1項に記述した如くすることによってCODの駆動電
圧を下げ、低電圧化(5v)を計ったものである。
第1項に記述した如くすることによってCODの駆動電
圧を下げ、低電圧化(5v)を計ったものである。
電荷結合素子であるCCDは、イメージセンサ、遅延線
、フィルタ等、極めて広い分野で使用されている。これ
等の応用分野で最も多く採用されているCODの電荷検
出方式はFDA (Noatinu Diffusio
n Au1ifier)法で、埋め込みチャンネル型C
ODである。説明の簡単化のなめ、CCDの駆動方式は
4相駆動力式、転送される電荷は電子として説明するが
駆動方式の違い(例えば2相及び3相駆動方式)及び転
送される電荷が正孔の場合でも、本発明が有効であるの
はいうまでもない。
、フィルタ等、極めて広い分野で使用されている。これ
等の応用分野で最も多く採用されているCODの電荷検
出方式はFDA (Noatinu Diffusio
n Au1ifier)法で、埋め込みチャンネル型C
ODである。説明の簡単化のなめ、CCDの駆動方式は
4相駆動力式、転送される電荷は電子として説明するが
駆動方式の違い(例えば2相及び3相駆動方式)及び転
送される電荷が正孔の場合でも、本発明が有効であるの
はいうまでもない。
第5図は従来のCODの構造図を示す、P型半導体基板
11の主平面に、埋め込みチャンネルを形成するn型不
純物層12、CODの出力部を形成するn型拡散N10
.14を形成し、P型半導体基板11の主表面には、絶
縁膜15を介し転送電極群16〜20が配置され、出力
ゲート21、リセットゲート22が形成されている。
11の主平面に、埋め込みチャンネルを形成するn型不
純物層12、CODの出力部を形成するn型拡散N10
.14を形成し、P型半導体基板11の主表面には、絶
縁膜15を介し転送電極群16〜20が配置され、出力
ゲート21、リセットゲート22が形成されている。
第2図は動作を説明するためのタイミングチャートであ
る。φ、〜φ、が4相の転送りロック波形であり、転送
型f!16〜20に印加される。φRQはCODの出力
部を構成するリセット電極22に印加されるリセットパ
ルスであり、■。吋はフローティングデイフュージョン
23で信号電荷を電圧に変換された出力波形である。
る。φ、〜φ、が4相の転送りロック波形であり、転送
型f!16〜20に印加される。φRQはCODの出力
部を構成するリセット電極22に印加されるリセットパ
ルスであり、■。吋はフローティングデイフュージョン
23で信号電荷を電圧に変換された出力波形である。
第3図にCODの動作を説明するための、ポテンシャル
図を示す、第2図のタイミングチャートで示す時間t、
〜し5のポテンシャル分布を第3図に示している。
図を示す、第2図のタイミングチャートで示す時間t、
〜し5のポテンシャル分布を第3図に示している。
1+の時間の時、φ1及びφ2はLowが印加されてお
り、φ、及びφ、はHighが印加されているため、φ
1及びφ4が印加されている電極の直下のポテンシャル
は、φ1及びφ2が印加されている電極直下のポテンシ
ャルより大きく、信号電荷である電子31は、φ、及び
φ4が印加されている電極直下に蓄積される。また信号
な荷32はフローティングデイフュージョンに蓄積され
ており、出力電圧V。IJTとして出力されている4t
2の時間の時は前記の説明と同様になり、φ、及びφ4
が印加される電極に信号電荷31が蓄積される。すなわ
ち信号電荷31はφ、とφ、の電極直下から、φ4とφ
、の電極直下へ移動されている。
り、φ、及びφ、はHighが印加されているため、φ
1及びφ4が印加されている電極の直下のポテンシャル
は、φ1及びφ2が印加されている電極直下のポテンシ
ャルより大きく、信号電荷である電子31は、φ、及び
φ4が印加されている電極直下に蓄積される。また信号
な荷32はフローティングデイフュージョンに蓄積され
ており、出力電圧V。IJTとして出力されている4t
2の時間の時は前記の説明と同様になり、φ、及びφ4
が印加される電極に信号電荷31が蓄積される。すなわ
ち信号電荷31はφ、とφ、の電極直下から、φ4とφ
、の電極直下へ移動されている。
次にし、の時間において、信号な荷31はφ1の電極直
下のみに蓄積される。前bitの信号電荷32は、φR
OがHighになることによって、リセット電極直下の
ポテンシャルが、Voo(リセットバイアス電位)の電
位を越えるため、フローティングデイフュージョンの電
位はVooの電位にセラ1〜されると同時に信号電荷3
2がリセットされる。1<の時間においてφROがLo
wになり、リセット電極直下のポテンシャルが下がり、
フローティングデイフュージョンは、VODと同等の電
位でV。。端子と切り離され、フローティングとなる。
下のみに蓄積される。前bitの信号電荷32は、φR
OがHighになることによって、リセット電極直下の
ポテンシャルが、Voo(リセットバイアス電位)の電
位を越えるため、フローティングデイフュージョンの電
位はVooの電位にセラ1〜されると同時に信号電荷3
2がリセットされる。1<の時間においてφROがLo
wになり、リセット電極直下のポテンシャルが下がり、
フローティングデイフュージョンは、VODと同等の電
位でV。。端子と切り離され、フローティングとなる。
次にt、の時間の時φ1はLow状態になるときに信号
電荷31は出力ゲートを通りフローティングデイフュー
ジョンへ読み出される。信号電荷31の電荷量をqとし
、フローティングデイフュージョンの容量をCpoとす
るとV。u7は次式となる。
電荷31は出力ゲートを通りフローティングデイフュー
ジョンへ読み出される。信号電荷31の電荷量をqとし
、フローティングデイフュージョンの容量をCpoとす
るとV。u7は次式となる。
すなわちFDA法は、信号電荷qをフローティングの容
量に読み出し、その容量の電位変化を出力する0通常こ
のV。IJTをMOSトランジスタで構成したソースホ
ロアAMPで増幅して出力される。
量に読み出し、その容量の電位変化を出力する0通常こ
のV。IJTをMOSトランジスタで構成したソースホ
ロアAMPで増幅して出力される。
しかし以下の欠点を有しているため実用化が、はばまれ
る。
る。
第4図に、電極に印加されるゲート電圧■。に対する、
電極直下のポテンシャルVCPの関係を示す、VCPは
次式で現わされる。
電極直下のポテンシャルVCPの関係を示す、VCPは
次式で現わされる。
Vcp(Va )=aVo +Vcp(Va =ov)
・・・(2) 但しa<1であり、酸化膜厚1200人、酸化膜の比誘
電率3.8とするとaξ0.8となる。
・・・(2) 但しa<1であり、酸化膜厚1200人、酸化膜の比誘
電率3.8とするとaξ0.8となる。
Vcp (Va =OV )の値はn型不純’lII層
12の濃度で決定される。
12の濃度で決定される。
CODの出力部での各電極の直下のポテンシャルの相対
条件は次の様になる。
条件は次の様になる。
例えば■。o=i2v、タロツク電圧の振幅を12■と
すると、具体的な値は下記の様になる。
すると、具体的な値は下記の様になる。
これ等を満足する様な(2)式のVcp(Va”’0)
の条件は、次の様になる。
の条件は、次の様になる。
・リセット電極部
VcP(VQ=o)ン2.4V
Vcp(Vo−=Oi <9V −(5)・
転送電極部 V、p(V、=0)<0.4V VCP(V(1=O) <7V =−(6)よ
って■。p(Va =ov)の条件はリセット電極部、
転送電極部両方を満足する2、4V〜7Vとなる。
転送電極部 V、p(V、=0)<0.4V VCP(V(1=O) <7V =−(6)よ
って■。p(Va =ov)の条件はリセット電極部、
転送電極部両方を満足する2、4V〜7Vとなる。
現在実用化されているCCDのほとんどが12vt源、
12Vの駆動パルス及びクロックであるなめ以下の2点
の問題を有している。
12Vの駆動パルス及びクロックであるなめ以下の2点
の問題を有している。
まず第1にタロツクの振幅が大きいためにタロツク雑音
が発生ずる。そのため情報機器等に適用されているVC
CI規制値を満足することが几しい、第2にCODの駆
動ドライバーの設計が鉗しい等の欠点を有している。そ
こでクロック電圧を現在多くの機器で使用されている5
Vにすることが有力な手段となる。よって前記の通り5
V&iUのクロックにした場合の出力部の条件は下記の
通りとなる。
が発生ずる。そのため情報機器等に適用されているVC
CI規制値を満足することが几しい、第2にCODの駆
動ドライバーの設計が鉗しい等の欠点を有している。そ
こでクロック電圧を現在多くの機器で使用されている5
Vにすることが有力な手段となる。よって前記の通り5
V&iUのクロックにした場合の出力部の条件は下記の
通りとなる。
・リセット電極部
Vcp(Va =0 ) >8V
Vcp(Vo=O)<9V −(7)・転送
電極部 Vcp(Vo =O) >6V Vcp(Va =Q ) <7V −(8)
よってVC,(V、=O)の榮件は成り立たなくなり、
タロツク電圧5V化の実用化がはばまれている。そこで
本発明は、クロック電柱5Vを実現することを目的とす
る。
電極部 Vcp(Vo =O) >6V Vcp(Va =Q ) <7V −(8)
よってVC,(V、=O)の榮件は成り立たなくなり、
タロツク電圧5V化の実用化がはばまれている。そこで
本発明は、クロック電柱5Vを実現することを目的とす
る。
本発明の電荷結合素子は、第一導電型の半導体基板と、
該半導体基板の1主表面に絶縁膜を介して設けられた多
数の転送電極と、前記転送電極の最終段の電極直下部に
少なくとも隣接する反対導電型領域を含む電荷検出部と
、前記電荷検出部の信号電荷をリセットするために設け
られたリセット・電極と、前記リセット電極直下部に少
なくとも隣接する反対導電型領域を含むリセット部と、
から成る電荷結合素子において、前記リセット電極直下
の反対導電型領域の不純物層の濃度が、前記転送電極の
最終段の電極直下の反対導電型領域の不純物層の濃度よ
り、少なくとも1,1倍の濃度を有した前記リセット電
極直下の反対導電型領域を形成したことを特徴とする。
該半導体基板の1主表面に絶縁膜を介して設けられた多
数の転送電極と、前記転送電極の最終段の電極直下部に
少なくとも隣接する反対導電型領域を含む電荷検出部と
、前記電荷検出部の信号電荷をリセットするために設け
られたリセット・電極と、前記リセット電極直下部に少
なくとも隣接する反対導電型領域を含むリセット部と、
から成る電荷結合素子において、前記リセット電極直下
の反対導電型領域の不純物層の濃度が、前記転送電極の
最終段の電極直下の反対導電型領域の不純物層の濃度よ
り、少なくとも1,1倍の濃度を有した前記リセット電
極直下の反対導電型領域を形成したことを特徴とする。
本発明の上記の構造にすることによって、次の作用を得
る。
る。
CCDの駆動クロックの低電圧化が可能となりクロック
雑音の低減、駆動ドライバーの設計が容易になる。
雑音の低減、駆動ドライバーの設計が容易になる。
本発明の電荷結合素子の実施例を第1図に示す。
従来の第5図の電荷結合素子と比較して異なる点は、従
来の構造は転送電極直下とリセット電極直下のn型不純
物層が12に示す様に同じ濃度であるのに対して本発明
は、転送電極直下のn型不純01層12とリセット電極
直下の不純物層13の濃度が異なっている点である。
来の構造は転送電極直下とリセット電極直下のn型不純
物層が12に示す様に同じ濃度であるのに対して本発明
は、転送電極直下のn型不純01層12とリセット電極
直下の不純物層13の濃度が異なっている点である。
第4図にゲート電圧■。とゲート電極直下のポテンシャ
ルVcPの関係を示す、1の直線が転送電極直下の■c
P−■。特性を示し、2の直線が、リセット電極直下の
Vc、V。特性を示す。
ルVcPの関係を示す、1の直線が転送電極直下の■c
P−■。特性を示し、2の直線が、リセット電極直下の
Vc、V。特性を示す。
クロック電圧の低電圧化、例えば5■化を実現するには
、前記の式(7)、(8)を満足しなくてはいけない、
リセット電極部のVcp (Va ”” O)の条件は
8■〜9■の範囲であり、第4図2の直線となる。転送
電極部のVC,(V、=O)の条件は6V〜7vとなり
、第4図の1の直線となる。
、前記の式(7)、(8)を満足しなくてはいけない、
リセット電極部のVcp (Va ”” O)の条件は
8■〜9■の範囲であり、第4図2の直線となる。転送
電極部のVC,(V、=O)の条件は6V〜7vとなり
、第4図の1の直線となる。
この様に本発明は、転送電極直下のチャンネルポテンシ
ャルと、リセット電極直下のチャンネルポテンシャルを
変えるために、t [i直下のn型不純物層の濃度を転
送電極よりリセット電極の方が少なくとも1゜1倍の濃
度を有しなn型不純物層を備えることによって、CCD
を5■電圧のクロックで駆動することが、可能となった
。
ャルと、リセット電極直下のチャンネルポテンシャルを
変えるために、t [i直下のn型不純物層の濃度を転
送電極よりリセット電極の方が少なくとも1゜1倍の濃
度を有しなn型不純物層を備えることによって、CCD
を5■電圧のクロックで駆動することが、可能となった
。
本発明は、リセット電極と転送電極直下のn型不純物層
の濃度に対し、リセット電極直下の濃度を少なくとも1
.1倍にいすることによって、チャンネルポテンシャル
を大きくすることが可能になり、信号電荷を完全にリセ
ット可能となったため、CCDの5VISIK動が実現
でき、クロック雑音の低減及びCODドライバーの簡単
化、消費電力の低減か可能となる効果が得られる。
の濃度に対し、リセット電極直下の濃度を少なくとも1
.1倍にいすることによって、チャンネルポテンシャル
を大きくすることが可能になり、信号電荷を完全にリセ
ット可能となったため、CCDの5VISIK動が実現
でき、クロック雑音の低減及びCODドライバーの簡単
化、消費電力の低減か可能となる効果が得られる。
第1図は本発明による電荷結合素子の構造図であり、第
2図は駆動状態のタイミングチャートであり、第3図は
駆動状態のポテンシャル関係図であり、第4図はゲート
電圧に対する電極直下のポテンシャル図である。第5図
は従来の電荷結合素子のjrf4造図である。 1・・・転送電極直下の■cP−Vo特性2・・・リセ
ット電極直下のVcp Va特性11・・・P型半導
体基板 12・・・n型不純物層 13・・・n型不純物層 10.14・・n型拡散層 15・・・絶縁膜 16〜22・・電極(Poly 5i)23・・・フ
ローティング デイフュージョン25・・・アウトプッ
ト ソース電圧 (リセット電圧) 31.32・・信号電荷 以上 出願人 セイコーエプソン株式会社 代理人 弁理士 最 上 務(fl!!1名)あl固 −ψ;)G ” 、“ 。 11 12 t3t4 15 舅2M 3 φl φ2φ3−φI 向−φ局−3EJ 5m
2図は駆動状態のタイミングチャートであり、第3図は
駆動状態のポテンシャル関係図であり、第4図はゲート
電圧に対する電極直下のポテンシャル図である。第5図
は従来の電荷結合素子のjrf4造図である。 1・・・転送電極直下の■cP−Vo特性2・・・リセ
ット電極直下のVcp Va特性11・・・P型半導
体基板 12・・・n型不純物層 13・・・n型不純物層 10.14・・n型拡散層 15・・・絶縁膜 16〜22・・電極(Poly 5i)23・・・フ
ローティング デイフュージョン25・・・アウトプッ
ト ソース電圧 (リセット電圧) 31.32・・信号電荷 以上 出願人 セイコーエプソン株式会社 代理人 弁理士 最 上 務(fl!!1名)あl固 −ψ;)G ” 、“ 。 11 12 t3t4 15 舅2M 3 φl φ2φ3−φI 向−φ局−3EJ 5m
Claims (1)
- 第一導電型の半導体基板と、該半導体基板の1主表面
に絶縁膜を介して設けられた多数の転送電極と、前記転
送電極の最終段の電極直下部に少くとも隣接する反対導
電型領域を含む電荷検出部と、前記電荷検出部の信号電
荷をリセットするために設けられたリセット電極と、前
記リセット電極直下部に少くとも隣接する反対導電型領
域を含むリセット部と、から成る電荷結合素子において
、前記リセット電極直下の反対導電型領域の不純物層の
濃度が、前記転送電極の最終段の電極直下の反対導電型
領域の不純物層の濃度より、少なくとも1.1倍の濃度
を有した前記リセット電極直下の反対導電型領域を形成
したことを特徴とする電荷結合素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63018110A JPH01194360A (ja) | 1988-01-28 | 1988-01-28 | 電荷結合素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63018110A JPH01194360A (ja) | 1988-01-28 | 1988-01-28 | 電荷結合素子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01194360A true JPH01194360A (ja) | 1989-08-04 |
Family
ID=11962475
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63018110A Pending JPH01194360A (ja) | 1988-01-28 | 1988-01-28 | 電荷結合素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01194360A (ja) |
-
1988
- 1988-01-28 JP JP63018110A patent/JPH01194360A/ja active Pending
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