JPH0119475B2 - - Google Patents
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- JPH0119475B2 JPH0119475B2 JP3604585A JP3604585A JPH0119475B2 JP H0119475 B2 JPH0119475 B2 JP H0119475B2 JP 3604585 A JP3604585 A JP 3604585A JP 3604585 A JP3604585 A JP 3604585A JP H0119475 B2 JPH0119475 B2 JP H0119475B2
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- Electroplating Methods And Accessories (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
<産業上の利用分野>
本発明は、液流下式めつき方法、特にめつき液
の流速を調整できる液流下式めつき方法に関する
ものである。
の流速を調整できる液流下式めつき方法に関する
ものである。
<従来の技術>
従来、帯状導体などの全面めつき又はストライ
プ状部分めつきでは被めつき処理物をほとんどめ
つき槽中を浸漬走行させてめつきする方法や、液
をわずかに噴流させてめつきする方法が行われて
いるが、それでもめつき速度の向上には限界があ
る。めつき速度を上げようとしてめつき電流密度
を増加していくと、それがある値以上になるとめ
つき品質が劣化し実用できず、限界電流密度が存
在する。
プ状部分めつきでは被めつき処理物をほとんどめ
つき槽中を浸漬走行させてめつきする方法や、液
をわずかに噴流させてめつきする方法が行われて
いるが、それでもめつき速度の向上には限界があ
る。めつき速度を上げようとしてめつき電流密度
を増加していくと、それがある値以上になるとめ
つき品質が劣化し実用できず、限界電流密度が存
在する。
この限界電流密度を向上する1つの方法として
被めつき面にめつき液を高速で吹き付けて攪拌す
る方法があるが、ある程度以上広いめつき面にな
るとめつき液を全面均一に攪拌することが困難と
なり、めつきむらを生じたり、部分的に品質不良
個所を生じたりする。
被めつき面にめつき液を高速で吹き付けて攪拌す
る方法があるが、ある程度以上広いめつき面にな
るとめつき液を全面均一に攪拌することが困難と
なり、めつきむらを生じたり、部分的に品質不良
個所を生じたりする。
この問題を解決するため、めつき面積が広くな
つてもめつき液を全面均一に攪拌でき、めつきむ
らを生せず限界電流密度を向上することができる
高速めつき法として、本出願人によつて液流下式
めつき方法が出願されている(昭和59年6月8日
出願特願昭59−118682号)。
つてもめつき液を全面均一に攪拌でき、めつきむ
らを生せず限界電流密度を向上することができる
高速めつき法として、本出願人によつて液流下式
めつき方法が出願されている(昭和59年6月8日
出願特願昭59−118682号)。
しかし、この液流下式めつき方法では、上部め
つき液槽と、下部めつき液槽とのめつき液面の高
度差(ヘツド差)によつてめつき液流速度が決定
されるので、ある程度のヘツド差の調節ができる
ものの、めつき工程中で被めつき材やめつき条件
に応じてめつき液流速度が微調整できれば最適な
流速速度でめつきすることができ、しかも工程途
中でも流速速度を変えることができるので最適な
めつき液流を必要に応じて使用することができる
ようになる。このような方法の開発が望まれてい
る。
つき液槽と、下部めつき液槽とのめつき液面の高
度差(ヘツド差)によつてめつき液流速度が決定
されるので、ある程度のヘツド差の調節ができる
ものの、めつき工程中で被めつき材やめつき条件
に応じてめつき液流速度が微調整できれば最適な
流速速度でめつきすることができ、しかも工程途
中でも流速速度を変えることができるので最適な
めつき液流を必要に応じて使用することができる
ようになる。このような方法の開発が望まれてい
る。
<発明が解決しようとする問題点>
本発明の目的は、前記した従来技術の欠点を解
消し、めつき中におけるめつき液流下時の流速を
コントロールすることができる新規な液流下式め
つき方法を提供することにある。
消し、めつき中におけるめつき液流下時の流速を
コントロールすることができる新規な液流下式め
つき方法を提供することにある。
<問題点を解決するための手段>
すなわち、本発明は液面がある一定の高さに保
たれた状態で自由表面を有する上部めつき液槽
と、液面が前記上部めつき液槽よりも低いある一
定の高さに保たれた状態で自由表面を有する下部
めつき液槽と、これら両めつき液槽中のめつき液
を連通し、めつき液で充満された状態の液管路と
を有し、これら両めつき液槽の液面の高低差によ
りめつき液が流れ落るときに生じるめつき液の流
れの中に被めつき処理物を配置してめつきを行う
に際し、 液管路を流れ落るめつき液の流速を制御するこ
とを特徴とする液流下式めつき方法である。
たれた状態で自由表面を有する上部めつき液槽
と、液面が前記上部めつき液槽よりも低いある一
定の高さに保たれた状態で自由表面を有する下部
めつき液槽と、これら両めつき液槽中のめつき液
を連通し、めつき液で充満された状態の液管路と
を有し、これら両めつき液槽の液面の高低差によ
りめつき液が流れ落るときに生じるめつき液の流
れの中に被めつき処理物を配置してめつきを行う
に際し、 液管路を流れ落るめつき液の流速を制御するこ
とを特徴とする液流下式めつき方法である。
ここで、前記めつき液の流速制御は、前記液管
路に設けられた調整板により行う液管路であるこ
とが望ましい。
路に設けられた調整板により行う液管路であるこ
とが望ましい。
また、被めつき処理物がその広幅面をほぼ垂直
状態に維持しながら長手方向に移動する帯状体で
あることがよい。
状態に維持しながら長手方向に移動する帯状体で
あることがよい。
さらに、めつき液中に陽極電極を被めつき処理
物に対向して配置して電気めつきを行うことが好
ましい。
物に対向して配置して電気めつきを行うことが好
ましい。
<発明の構成>
本発明の液流下式めつき方法を図面を参照しつ
つ詳細に説明する。
つ詳細に説明する。
第1図において、1はめつき液、2は上部めつ
き液槽、3は下部めつき液槽、4は上部めつき液
面、5は下部めつき液面、6は陽極電極、7は被
めつき処理物、8は液管路、9はめつき液下部流
出量調整板、10はめつき液下部流出口、11は
ポンプである。
き液槽、3は下部めつき液槽、4は上部めつき液
面、5は下部めつき液面、6は陽極電極、7は被
めつき処理物、8は液管路、9はめつき液下部流
出量調整板、10はめつき液下部流出口、11は
ポンプである。
第1図は被めつき処理物7を液管路8の高速流
の中に配置した例を示したものであるが、この例
では帯状導体からなる被めつき処理物7を陰極と
して、陽極電極6,6間に配置し、そしてこの被
めつき処理物7を紙面垂直方向に走行移動させ
て、電気めつきを行う概要図を示したものであ
る。
の中に配置した例を示したものであるが、この例
では帯状導体からなる被めつき処理物7を陰極と
して、陽極電極6,6間に配置し、そしてこの被
めつき処理物7を紙面垂直方向に走行移動させ
て、電気めつきを行う概要図を示したものであ
る。
液管路8を流下するめつき液の流速は、上下め
つき液面4,5の高低差(ヘツド差)を利用した
流れによつて高速流を得ている。この場合、液管
路の下部に設けためつき液下部流出量調整板9を
矢印12の方向に移動させて流出口10を完全に
閉じた場合には、めつき液の流下による高速流は
得られず、めつき液は、上部めつき液槽2よりオ
ーバーフローされる。逆にめつき液流出量調整板
9を矢印と反対の方向に移動させて、めつき液下
部流出口10を開いた場合には、めつき液はヘツ
ド差による流下のため、高低差と流出口面積に見
合つた流速を生じ、流出口10より、下部めつき
液構内に排出される。従つて、この流出量調整板
9の開閉により流速を任意に調整することができ
る。
つき液面4,5の高低差(ヘツド差)を利用した
流れによつて高速流を得ている。この場合、液管
路の下部に設けためつき液下部流出量調整板9を
矢印12の方向に移動させて流出口10を完全に
閉じた場合には、めつき液の流下による高速流は
得られず、めつき液は、上部めつき液槽2よりオ
ーバーフローされる。逆にめつき液流出量調整板
9を矢印と反対の方向に移動させて、めつき液下
部流出口10を開いた場合には、めつき液はヘツ
ド差による流下のため、高低差と流出口面積に見
合つた流速を生じ、流出口10より、下部めつき
液構内に排出される。従つて、この流出量調整板
9の開閉により流速を任意に調整することができ
る。
第1図では、流管路を流れ落るめつき液の流速
を変えるのに、図示のようなめつき液下部流出口
10の開口調整法としてスライド方式を図示した
が、本発明はこれに限定されることなく液管路を
流れ落るめつき液の流速を任意に変えられるもの
であれば、いかなる手段を用いてもよい。めつき
液上部流入口13の開口部調整手段を用いてもよ
いし、開口調整法としてスライド方式のみなら
ず、バルブを用いてもよいし、スクリユー等の回
転体の回転速度をかえることによつて開口面積を
調整してもよい。
を変えるのに、図示のようなめつき液下部流出口
10の開口調整法としてスライド方式を図示した
が、本発明はこれに限定されることなく液管路を
流れ落るめつき液の流速を任意に変えられるもの
であれば、いかなる手段を用いてもよい。めつき
液上部流入口13の開口部調整手段を用いてもよ
いし、開口調整法としてスライド方式のみなら
ず、バルブを用いてもよいし、スクリユー等の回
転体の回転速度をかえることによつて開口面積を
調整してもよい。
本発明においては、被めつき処理物としては特
に限定はなく、帯状体、線、棒、単品物など何れ
も用いることができる。特に被めつき処理物が第
1図7で示すように、その広幅面をほぼ垂直状態
に維持しながら長手方向に移動する帯状体である
場合に本発明の方法が効果的である。
に限定はなく、帯状体、線、棒、単品物など何れ
も用いることができる。特に被めつき処理物が第
1図7で示すように、その広幅面をほぼ垂直状態
に維持しながら長手方向に移動する帯状体である
場合に本発明の方法が効果的である。
本発明のめつき液流下は、上部めつき液面4、
下部めつき液面5を、それぞれポンプ11により
一定の高さに保持し自由表面を有するように構成
する。上部めつき液面4と下部めつき液面5の高
度差をヘツド差をいう。
下部めつき液面5を、それぞれポンプ11により
一定の高さに保持し自由表面を有するように構成
する。上部めつき液面4と下部めつき液面5の高
度差をヘツド差をいう。
液管路8は上部めつき液槽2と下部めつき液槽
3を連通し、上記ヘツド差により流下するめつき
液1の流路を構成する。
3を連通し、上記ヘツド差により流下するめつき
液1の流路を構成する。
ここで重要なことは液管路8の下端を下部めつ
き液槽3のめつき液中に浸漬することであり、こ
れにより下部めつき液面5を得てめつき液中に空
気が侵入するのを防止し、もつて液管路8を流下
するめつき液の流れを高速であつてもむらのない
安定な流れとすることができる。
き液槽3のめつき液中に浸漬することであり、こ
れにより下部めつき液面5を得てめつき液中に空
気が侵入するのを防止し、もつて液管路8を流下
するめつき液の流れを高速であつてもむらのない
安定な流れとすることができる。
第1図は被めつき処理物7を液管路8の高速流
の中に配置した例を示すものである。この例では
帯状導体からなる被めつき処理物7を陰極として
陽極電極6,6間に配置し、そしてこの被めつき
処理物7を紙面垂直方向に走行移動させて電気め
つきを行う。
の中に配置した例を示すものである。この例では
帯状導体からなる被めつき処理物7を陰極として
陽極電極6,6間に配置し、そしてこの被めつき
処理物7を紙面垂直方向に走行移動させて電気め
つきを行う。
第2図は被めつき処理物7を上部めつき液槽2
の流れの中に配置した例を示すものである。この
例ではかかる被めつき処理物7の上記配置に関係
して液管路8を延長する如く壁材19を設けてお
り、この壁材19により被めつき処理物7に対す
るめつき液の左右からの流れを抑制し、もつて上
下方向の流れを速くすることにより被めつき面に
対するめつき液流速を向上させ、さらに、めつき
液下部流出口10の開口調整法として流出量調整
板9を設け、この流出量調整板9の開閉により流
速を任意に調整することができる。
の流れの中に配置した例を示すものである。この
例ではかかる被めつき処理物7の上記配置に関係
して液管路8を延長する如く壁材19を設けてお
り、この壁材19により被めつき処理物7に対す
るめつき液の左右からの流れを抑制し、もつて上
下方向の流れを速くすることにより被めつき面に
対するめつき液流速を向上させ、さらに、めつき
液下部流出口10の開口調整法として流出量調整
板9を設け、この流出量調整板9の開閉により流
速を任意に調整することができる。
壁材19に微細なスリツトを設けたのは、めつ
きに必要な通電状態を確保するためである。この
壁材19については、第7図のように側面に波形
あるいは凹凸を設けることにより、液下流の流れ
を乱し、液の攪拌効果を上げることができる。な
お、第6図は第2図を横からみた部分断面図であ
る。
きに必要な通電状態を確保するためである。この
壁材19については、第7図のように側面に波形
あるいは凹凸を設けることにより、液下流の流れ
を乱し、液の攪拌効果を上げることができる。な
お、第6図は第2図を横からみた部分断面図であ
る。
第1図および第2図においては、それぞれポン
プ11によつて上部めつき液槽2および下部めつ
き液槽3のめつき液1を循環し、同時にめつき液
面4,5の高さ調整を行つているが、このめつき
液面4,5の高さ調整を簡単に行う方法として
は、例えば第3図のようにめつき液1をオーバー
フローさせてやる方法がある。
プ11によつて上部めつき液槽2および下部めつ
き液槽3のめつき液1を循環し、同時にめつき液
面4,5の高さ調整を行つているが、このめつき
液面4,5の高さ調整を簡単に行う方法として
は、例えば第3図のようにめつき液1をオーバー
フローさせてやる方法がある。
第4図および第5図は、それぞれ被めつき処理
物7としてICリードフレームのような帯状導体
を用いた例であり、特に帯状導体の広幅面にスト
ライプ状部分めつき14を設ける場合のマスキン
グ方法について示している。すなわち、この場合
は被めつき処理物7の両側にマスキングテープ1
5を貼り付け、部分めつき11部分を露出させた
状態で液管路を流下するめつき液の流れを、高速
であつてもむらのない安定な流れとし、しかもめ
つき液下部流出口の開口を調整して流速を任意に
制御する方法によりめつきを行う。第4図および
第5図は、いずれも片面部分めつきの例である
が、両面部分めつきの場合においても上記と同様
のめつき方法が適用できることは勿論である。
物7としてICリードフレームのような帯状導体
を用いた例であり、特に帯状導体の広幅面にスト
ライプ状部分めつき14を設ける場合のマスキン
グ方法について示している。すなわち、この場合
は被めつき処理物7の両側にマスキングテープ1
5を貼り付け、部分めつき11部分を露出させた
状態で液管路を流下するめつき液の流れを、高速
であつてもむらのない安定な流れとし、しかもめ
つき液下部流出口の開口を調整して流速を任意に
制御する方法によりめつきを行う。第4図および
第5図は、いずれも片面部分めつきの例である
が、両面部分めつきの場合においても上記と同様
のめつき方法が適用できることは勿論である。
第6図では帯状体からなる被めつき処理物7を
その広幅面を垂直状態に維持しながらその長手方
向、つまりここでは水平方向に移動させている
が、これに対し、第8図のように少なくともめつ
き領域ではその広幅面を垂直状態に維持しながら
被めつき処理物7を上下方向に移動させることも
可能である。第8図によれば被めつき処理物7は
ガイドロール16により上下方向どちらかから移
動してもよく、陽極電極6の長さは被めつき処理
物7の移動速度、めつき時間等の条件を考慮して
設定される。また、第8図のようなめつき方式で
は、めつき槽の構造を第9図のように改良し、上
部めつき液槽2、下部めつき液槽3および液管路
8を一体化した簡単な構造とし、さらにめつき液
下部流出口の開口を流出量調整板9で調整して流
速を任意に制御する。
その広幅面を垂直状態に維持しながらその長手方
向、つまりここでは水平方向に移動させている
が、これに対し、第8図のように少なくともめつ
き領域ではその広幅面を垂直状態に維持しながら
被めつき処理物7を上下方向に移動させることも
可能である。第8図によれば被めつき処理物7は
ガイドロール16により上下方向どちらかから移
動してもよく、陽極電極6の長さは被めつき処理
物7の移動速度、めつき時間等の条件を考慮して
設定される。また、第8図のようなめつき方式で
は、めつき槽の構造を第9図のように改良し、上
部めつき液槽2、下部めつき液槽3および液管路
8を一体化した簡単な構造とし、さらにめつき液
下部流出口の開口を流出量調整板9で調整して流
速を任意に制御する。
第10図は液管路8の形状を下方に末広がり状
にし、液下流の液体抵抗(圧力損失)を少なくす
ることによつて高速流を得ることができ、めつき
液下部流出口の開口を流出量調整板9で調整して
流速を任意に制御するめつき方法の例を示すもの
である。この方法は上記各実施例に応用すること
が可能である。
にし、液下流の液体抵抗(圧力損失)を少なくす
ることによつて高速流を得ることができ、めつき
液下部流出口の開口を流出量調整板9で調整して
流速を任意に制御するめつき方法の例を示すもの
である。この方法は上記各実施例に応用すること
が可能である。
第12図は上部めつき液面4および下部めつき
液面5の存在により所定のヘツド差を確保しなが
ら、液管路8の主要部を水平方向に延長し、この
液管路8の主要部に比較的長い陽極電極6を配置
して、帯状導体からなる被めつき処理物7を水平
方向に移動するめつき方向の例を示し、めつき液
下部流出口10の開口を、流出量調整板9で調整
して流速を任意に制御するものである。17はシ
ール装置である。この方法によれば陽極電極6の
長さを長くすることができるから、液管路8内に
おいてめつき時間を充分とることができるため被
めつき処理物7の移動速度を向上させることがで
きる。
液面5の存在により所定のヘツド差を確保しなが
ら、液管路8の主要部を水平方向に延長し、この
液管路8の主要部に比較的長い陽極電極6を配置
して、帯状導体からなる被めつき処理物7を水平
方向に移動するめつき方向の例を示し、めつき液
下部流出口10の開口を、流出量調整板9で調整
して流速を任意に制御するものである。17はシ
ール装置である。この方法によれば陽極電極6の
長さを長くすることができるから、液管路8内に
おいてめつき時間を充分とることができるため被
めつき処理物7の移動速度を向上させることがで
きる。
従つて、この方法は大量生産に向き、工業的に
非常に有利な方法である。
非常に有利な方法である。
本発明のめつき方法は、めつき槽以外の前処理
槽および後処理槽においても適用可能である。
槽および後処理槽においても適用可能である。
<実施例>
第1図に示す装置を用いて帯状の銅材を銀めつ
きした。
きした。
めつき面近傍のめつき液流速はヘツド差0.8m
の場合で3m/s〜0.2m/sまで任意に可変す
ることができる。
の場合で3m/s〜0.2m/sまで任意に可変す
ることができる。
これにより、液の攪拌効果が最適なめつき条件
を設定することができ、限界電流密度も従来法の
2〜3倍に向上した。
を設定することができ、限界電流密度も従来法の
2〜3倍に向上した。
<発明の効果>
本発明方法によれば、下部めつき槽を設けて下
部めつき液面を形成し、これにより空気の浸入を
防止すると共に、上下液面の高低差(ヘツド差)
を利用した流れによつて高速流を得、安定して均
一な高速液流が広い範囲に亘つて得られるので、
広いめつき面積においてもめつき液の均一かつ効
果的な攪拌が可能となり、これにより限界電流密
度を向上することができ、めつきの高速化が可能
となる。
部めつき液面を形成し、これにより空気の浸入を
防止すると共に、上下液面の高低差(ヘツド差)
を利用した流れによつて高速流を得、安定して均
一な高速液流が広い範囲に亘つて得られるので、
広いめつき面積においてもめつき液の均一かつ効
果的な攪拌が可能となり、これにより限界電流密
度を向上することができ、めつきの高速化が可能
となる。
しかも、めつき液流の速度を任意に変えること
ができ、被めつき材やめつき条件に応じて最適な
めつき液流速度を選択することができる。従つて
めつき液の攪拌の強弱が制御でき、品質にあつた
めつき条件の設定ができる。
ができ、被めつき材やめつき条件に応じて最適な
めつき液流速度を選択することができる。従つて
めつき液の攪拌の強弱が制御でき、品質にあつた
めつき条件の設定ができる。
めつき液流の速度調整を調整板のスライド方式
で行えば液流調整が簡単な手段で容易に行うこと
ができ、めつき工程途中でも行うことができるの
で作業性が向上する。
で行えば液流調整が簡単な手段で容易に行うこと
ができ、めつき工程途中でも行うことができるの
で作業性が向上する。
第1図は本発明の1実施例に係る液流下式めつ
き方法の説明図、第2図および第3図はそれぞれ
本発明の他の実施例に係る説明図、第4図および
第5図はそれぞれ被めつき処理物を部分めつきす
る場合のマスキング状況説明図、第6図は第2図
を横方向からみた部分断面図、第7図は壁材の断
面構造図、第8図、第9図および第10図はそれ
ぞれ本発明の他の実施例に係る説明図、第11図
は液流下めつき方法の参考例に係る説明図、第1
2図は本発明の他の実施例に係る説明図、第13
図は第12図中A−A′断面図である。 符号の説明、1……めつき液、2……上部めつ
き液槽、3……下部めつき液槽、4……上部めつ
き液面、5……下部めつき液面、6……陽極電
極、7……被めつき処理物、8……液管路、9…
…流出量調整板、10……めつき液下部流出口、
11……ポンプ、12……めつき液下部流出量調
整板の運動方向、13……めつき液上部流入口、
14……ストライプ状部分めつき、15……マス
キングテープ、16……ガイドロール、17……
シール装置、19……壁材。
き方法の説明図、第2図および第3図はそれぞれ
本発明の他の実施例に係る説明図、第4図および
第5図はそれぞれ被めつき処理物を部分めつきす
る場合のマスキング状況説明図、第6図は第2図
を横方向からみた部分断面図、第7図は壁材の断
面構造図、第8図、第9図および第10図はそれ
ぞれ本発明の他の実施例に係る説明図、第11図
は液流下めつき方法の参考例に係る説明図、第1
2図は本発明の他の実施例に係る説明図、第13
図は第12図中A−A′断面図である。 符号の説明、1……めつき液、2……上部めつ
き液槽、3……下部めつき液槽、4……上部めつ
き液面、5……下部めつき液面、6……陽極電
極、7……被めつき処理物、8……液管路、9…
…流出量調整板、10……めつき液下部流出口、
11……ポンプ、12……めつき液下部流出量調
整板の運動方向、13……めつき液上部流入口、
14……ストライプ状部分めつき、15……マス
キングテープ、16……ガイドロール、17……
シール装置、19……壁材。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 液面がある一定の高さに保たれた状態で自由
表面を有する上部めつき液槽と、液面が前記上部
めつき液槽よりも低いある一定の高さに保たれた
状態で自由表面を有する下部めつき液槽と、これ
ら両めつき液槽中のめつき液を連通し、めつき液
で充満された状態の液管路とを有し、これら両め
つき液槽の液面の高低差によりめつき液が流れ落
るときに生じるめつき液の流れの中に被めつき処
理物を配置してめつきを行うに際し、 液管路を流れ落るめつき液の流速を制御するこ
とを特徴とする液流下式めつき方法。 2 前記めつき液の流速制御は、前記液管路に設
けられた調整板により行う液管路である特許請求
の範囲第1項に記載の液流下式めつき方法。 3 被めつき処理物がその広幅面をほぼ垂直状態
に維持しながら長手方向に移動する帯状体である
ことを特徴とする特許請求の範囲第1項または第
2項記載の液流下式めつき方法。 4 めつき液中に陽極電極を被めつき処理物に対
向して配置して電気めつきを行うことを特徴とす
る特許請求の範囲第1項ないし第3項のいずれか
に記載の液流下式めつき方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3604585A JPS61195995A (ja) | 1985-02-25 | 1985-02-25 | 液流下式めつき方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3604585A JPS61195995A (ja) | 1985-02-25 | 1985-02-25 | 液流下式めつき方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61195995A JPS61195995A (ja) | 1986-08-30 |
| JPH0119475B2 true JPH0119475B2 (ja) | 1989-04-11 |
Family
ID=12458737
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3604585A Granted JPS61195995A (ja) | 1985-02-25 | 1985-02-25 | 液流下式めつき方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS61195995A (ja) |
-
1985
- 1985-02-25 JP JP3604585A patent/JPS61195995A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61195995A (ja) | 1986-08-30 |
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