JPH01196754A - 光磁気記録媒体 - Google Patents

光磁気記録媒体

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Publication number
JPH01196754A
JPH01196754A JP63020520A JP2052088A JPH01196754A JP H01196754 A JPH01196754 A JP H01196754A JP 63020520 A JP63020520 A JP 63020520A JP 2052088 A JP2052088 A JP 2052088A JP H01196754 A JPH01196754 A JP H01196754A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
magneto
film
optical recording
thin film
metal nitride
Prior art date
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Pending
Application number
JP63020520A
Other languages
English (en)
Inventor
Kiyoshi Uchida
清 内田
Masahiro Orukawa
正博 尾留川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP63020520A priority Critical patent/JPH01196754A/ja
Publication of JPH01196754A publication Critical patent/JPH01196754A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は光熱磁気記録再生装置に用いられる光磁気記録
媒体に関するものである。
従来の技術 近年、大容量メモリの1つとして、光ディスクの開発、
商品化が活発である。その中でも書き換え可能な光磁気
ディスクの開発が精力的に行われている。
以下に、図面全参照しながら従来の光磁気記録媒体につ
いて説明する。
最近の光磁気ディスクの例を第4図に示す(例えば第8
回日本応用磁気学会学術講演概要集1984年11月P
224)。
第4図において、1は同志円状又はスパイラル状に溝又
はピットが形成された樹脂又はガラスの円環状基板、2
はZnSやSiO2+ A/N、 5i3u4等の透明
誘電体薄膜、3は垂直磁化容易軸を有するTbFeCo
、 TbFe、 TbCo、 DyFe、 DyFeC
o 等の光磁気記録膜、5はA/Nヤ5i02. Si
3N4等の誘W体保護膜である。
以上のように構成された従来の光磁気記録媒体について
、以下その機能について説明する。
光磁気記録媒体の基板1の材料として (1)−殻内に記録・再生用レーザー光は基板1側から
光磁気記録媒体に照射されるため、透明かつ複屈折が少
ないこと、 (2)高速ランダムアクセスに必要な溝及びビットを設
けるため、加工性・成形性が優れていること、 等の理由から、ガラス板上に紫外線硬化型樹脂を塗布し
たガラス2P基板やPMMム、pc、エポキシ等の透明
樹脂材料を使用する。
光磁気記録膜3は垂直磁化膜であり、非晶質希土類遷移
金属薄膜が開発研究の中心である。
光磁気記録媒体は、光磁気記録膜3の酸化による特性劣
化の改善、カー回転角又はファラデー回転角の増大等の
理由で、光磁気記録膜3に屈折率の高い透明誘電体薄膜
2を隣接し、見掛は上のカー回転角を増大するカーエン
−・ンスの構成や、誘電体保護膜6を隣接し、光磁気記
録膜3の酸化劣化を防止するサンドインチ構成をとって
いる。
ところで、情報記憶装置の性能は、記憶容量、アクセス
速度、データ転送速度等の特性により決定される。光磁
気記録媒体を情報記憶装置の記録媒体として使用する場
合、記憶容量の点では充分な特性が得られている。
発明が解決しようとする課題 しかしながら、光磁気ディスクの記録はヒートモード記
録であるため、磁気ディスクに比べ感度−が悪く、市販
の大パワー半導体レーザー(4omw)を用いてもデー
タ転送速度が高々1Mバイト/秒と遅いという問題点を
有していた。
本発明は上記問題点に鑑み、光磁気記録媒体の記録感度
が高くなり、データ転送速度を向上することができる光
磁気記録媒体を提供するものである。
課題を解決するための手段 この目的を達成するために本発明の光磁気記録媒体は光
磁気記録膜に隣接して、例えばポリテトラフルオルエチ
レン、ポリイミド等の有機物とSiN、  人/N、T
ie、HfN、TaN、BN、ZrN、TiN、UN。
ThN、 BeN、 NbN、 VN等の窒化金属のい
ずれか1種以上とを混合して形成した有機物−窒化金属
混合薄膜を設けた構成となっている。
作用 この構成によって、有機物薄膜の熱伝導率が誘電体薄膜
の10分の1以下であるため、光磁気記録膜から有機物
−窒化金属混合薄膜への熱拡散が防止でき、光磁気記録
膜の熱保存性が向上する。
また、有機物に窒化金属を混合することにより記録、消
去に伴う光磁気記録膜の熱に対する耐熱性を確保し、繰
り返し記録、消去時の有機物−窒化金属混合薄膜の劣化
を防止している。
これらにより、レーザー光照射時の光磁気記録膜の上昇
温度が高くなり、従って光磁気記録媒体の熱的感度が上
がり、データ転送速度が向上することとなる。
実施例 以下、本発明の一実施例について図面を参照しながら説
明する。
第1図は本発明の一実施例における光磁気記録媒体の断
面模式図を示す。第1図において、4はポリテトラフル
オルエチレン薄膜にSi3N4を60%(体積チ)程度
混入した有機物−窒化金属混合薄膜で、光磁気記録膜の
非光照射面側に設けられている。なお、1は基板、2は
透明誘電体薄膜、3は光磁気記録膜、5は誘電体保護膜
であり、これらは従来例の構成と同じものである。
以上のように構成された光磁気記録媒体について、以下
その機能について説明する。
透明誘電体薄膜2、光磁気記録膜3及び誘電体保護膜5
は従来例の構成と同じ機能を有する。すなわち、光磁気
記録膜3は非晶質希土類−遷移金属薄膜であり、透明誘
電体薄膜2はカーエンハンス機能を、誘電体保護膜6は
保護機能をそれぞれ有している。
本実施例では光磁気記録膜3としてTbFeCoを、透
明誘電体薄膜2としてZnSを、誘電体保護膜5として
5i5N4を用いた。膜厚はそれぞれ880人。
1000A、1000Aである。
ポリテトラフルオルエチレンは断熱機能を有する。ポリ
テトラフルオルエチレンの熱伝導率は、0−25 (J
/m−5−k)であり、誘電体保護5の構成材料である
5i3N4(7) 20〜60 (J/m−5−k)に
比べ100分の1程度になっている。これはポリテトラ
フルオルエチレンが515H4に比べ十分な断熱効果を
もたらすことを示している。
有機物としてポリテトラフルオルエチレンを、窒化金属
として5i5N4を採用した有機物−窒化金属混合薄膜
4の断熱機能はポリテトラフルオルエチレンとほぼ同等
であり、有機物−窒化金属混合薄膜4の膜厚を600X
以上とすることで十分な断熱効果があることが実験的に
確認できている。
第2図に光磁気記録媒体の記録感度及びS/Nの有機物
−窒化金属混合薄膜4の膜厚依存性を示す。有機物−窒
化金属混合薄膜4の膜厚が600A以上で記録感度が4
.o mw (線速e m / s )となっており、
有機物−窒化金属混合薄膜4の膜厚が0の場合(従来例
の構成による光磁気記録媒体の場合)のe、o m w
 (線速am/s)に対し約30%記録窓度が向上して
いる。また、S/Nは有機物−窒化金属混合薄膜4の膜
厚に対する依存性が無く、従来例の構成による光磁気記
録媒体と同様な特性が得られる。
ところで、一般に光磁気記録媒体はディスクとして利用
されるが、角速度一定で記録を行う場合、記録領域の内
周部と外周部では、同一強度のレーザー出力を用いた場
合、ディスク上で投入パワー密度が1.5〜2倍異なる
。このため、過剰パワーで書かれた場合の温度上昇によ
る劣化を防止しなければならない。
本実施例の有機物−窒化金属混合薄膜4は過剰パワー加
熱時の熱的安定性が窒化金属の混合により有機物本来の
ものより向上しており、過剰パワーで記録した場合にも
安定な断熱特性を示した。
第3図に過剰パワー記録を繰り返した場合の記録感度変
化を示す。第3図は過剰パワー記録、消去、正常パワー
記録、を繰り返した場合の記録パワーの変化を示したも
のである。過剰パワーは通常パワーの約2倍のパワーで
ある。繰シ返し過剰パワー投入を行った場合、記録感度
の変化はほとんどなかった。
以上のように本実施例によれば、光磁気記録膜3に隣接
して有機物−窒化金属混合薄膜4を配置することにより
記録感度を3o%以上向上させることができる。さらに
有機物−窒化金属混合膜4の窒化金属として5i5N4
を採用することにより、オーバーパワー記録時にも安定
した断熱特性を示した。
なお本実施例では有機物−窒化金属混合薄膜4  ・の
有機物としてポリテトラフルオルエチレンヲ使用したが
、これはポリイミドでもよく、この場合、オーバーパワ
ーに対する耐久性がより向上するという効果が得られる
また、本実施例では有機物−窒化金属混合薄膜4の窒化
金属として5i5N4を用いたが、有機物−窒化金属混
合薄膜4の窒化金属はム/N、 Tie、 HfN。
TaN、 BN、 ZrN、 UN、 ThN、 Be
N、 NbN、 VNのいずれかでも同様な効果が得ら
れる。
発明の効果 本発明は光磁気記録膜に隣接して有機物−窒化金属混合
薄膜を設け、有機物−窒化金属混合薄膜の有機物として
ポリテトラフルオルエチレン又ハポリイミドとすること
により記録感度を向上することができ、さらに有機物に
窒化金属を混合させて有機物−窒化金属混合物とするこ
とにより、記録、消去時のオーバーパワーに対する耐熱
性が向上するという効果を得ることができる優れた光磁
気記録媒体を実現できるものである。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例における光磁気記録媒体の断
面模式図、第2図は本発明の一実施例における光磁気記
録媒体の記録感度・S/Hの有機物−窒化金属混合薄膜
膜厚依存性を示す特性図、第3図は本発明の一実施例に
おける光磁気記録媒体に過剰パワー記録を繰り返した場
合の記録感度変化を示す特性図、第4図は従来の光磁気
記録媒体の断面模式図である。 1・・・・・・基板、2・・・・・・透明誘電体薄膜、
3・・・・・・光磁気記録膜、4・・・・・・有機物−
窒化金属混合薄膜、5・・・・・・誘電体保護膜。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 ほか1名1−
−一幕  扶 2−遣明誘電体真履 3−光砥気叱録膜 第2図 有a仲−窒化金属混合薄WL腫1(ズ→第3図 OTOO200、?00 遥?jパワー投入口抜− 第4図

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)光磁気記録膜と前記光磁気記録膜に接し、有機物
    と窒化金属とが混合されて形成された有機物−窒化金属
    混合薄膜を備えたことを特徴とする光磁気記録媒体。
  2. (2)有機物がポリテトラフルオルエチレン又はポリイ
    ミドであること、及び窒化金属がSiN、AlN、Ti
    N、HfN、TaN、BN、ZrN、UN、ThN、B
    eN、NbN、VNのいずれか1種以上を含むことを特
    徴とする特許請求の範囲第1項記載の光磁気記録媒体。
JP63020520A 1988-01-29 1988-01-29 光磁気記録媒体 Pending JPH01196754A (ja)

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JP63020520A JPH01196754A (ja) 1988-01-29 1988-01-29 光磁気記録媒体

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JP63020520A JPH01196754A (ja) 1988-01-29 1988-01-29 光磁気記録媒体

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JPH01196754A true JPH01196754A (ja) 1989-08-08

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JP (1) JPH01196754A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110387040A (zh) * 2019-07-17 2019-10-29 中国科学院上海硅酸盐研究所 一种黑色聚酰亚胺膜
US10854554B2 (en) * 2018-01-23 2020-12-01 Ferro Corporation Carbide, nitride and silicide enhancers for laser absorption

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US10854554B2 (en) * 2018-01-23 2020-12-01 Ferro Corporation Carbide, nitride and silicide enhancers for laser absorption
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