JPH0119985Y2 - - Google Patents

Description

【考案の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本考案は、基盤の裏面と遊技盤裏面との間に所
定寸法の空隙を有する機構盤を形成し、該機構盤
の表面側に、入出用力の信号線を集約した中継部
と、賞球を貯留する貯留タンクと、貯留タンクの
賞球を導出する賞球導出樋と、賞球導出樋より導
出された所定数の賞球を排出する賞球排出装置
と、賞球排出装置からの賞球を誘導する賞球導出
装置とで構成される賞球処理手段を備えたパチン
コ機に関するものであつて、詳しくは、機構盤の
基盤への表面に於る信号線の配線処理に関する。

（従来技術の問題点） 最近のパチンコ機は、打球発射装置や入賞装置
が電動式となり、遊技状態を表示するランプや検
出器等も多数配設されている。このため、これら
の装置や機器を結ぶ入出力用の信号線の数が増し
て、多数の信号線が無秩序に錯綜した状態で配線
されている。

特に機構盤では、その基盤の表面側に上辺から
下辺にわたつて縦断する賞球処理手段が装着され
るため、各種の信号線は、この賞球処理手段を構
成する装置や機器を跨がせたり、迂回させたりし
て配線しなければならず、配線作業が煩雑で著し
く手間が掛つていた。

又、配線が錯綜しているため、各種装置や機器
の取付け、或いは交換作業の邪魔になつて、作業
に手間が掛つていた。

本考案は、上記不都合に鑑み、基盤の表面側に
於て、賞球処理手段の装着位置に制約されること
なく任意の位置に自由に配線できるパチンコ機の
機構盤の提供を目的とすると共に、併せて機構盤
の補強を目的とするものである。

尚、機構盤の配線処理に関しては、機構盤の内
面側に配線溝を設ける構成（実公昭54−8866号）
が提案されているが、この構成では、入賞球が流
下する遊技盤裏面側に向つて配線溝が開放し、そ
の溝が全長にわたつて開口されているため、溝に
納められた配線が、はみ出て入賞球の流下を妨げ
る虞れがあるし、何よりもまた、遊技盤裏面を覆
うように取付けられる機構盤の内面側の入賞球が
流下する所謂セーフ玉集合部が狭くなつてしまう
という最近のパチンコ機に対して実用的でないも
のであつた。

（問題を解決する手段） 本考案は、これらの目的を達成するため、基盤
２の裏面と遊技盤５７裏面との間に所定寸法の空
隙を有する機構盤１を形成し、該機構盤１の表面
側に、入出力用の信号線５を集約した中継部９
と、賞球を貯留する貯留タンク５２と、貯留タン
ク５２の賞球を導出する賞球導出樋５３と、賞球
導出樋５３より導出された所定数の賞球を排出す
る賞球排出装置５４と、賞球排出装置５４からの
賞球を誘導する賞球導出装置５６とで構成される
賞球処理手段５２，５３，５４，５６を備えたパ
チンコ機に於て、上記機構盤１の基盤２表面側か
ら裏面側に窪ませて配線方向に延びる溝状の配線
処理室３を形成し、該配線処理室３の開口４に
は、当該開口４を横切るように係止部材７を複数
突設させ、該係止部材７の先端とこれに相対する
開口壁面との間は、少なくとも、上記信号線５を
嵌込み可能な間隙を設け、上記配線処理室３と基
盤２と賞球処理手段５２，５３，５４，５６とを
積層重合的に構成し、上記中継部９より延出する
信号線５を配線処理室３に収納して、上記係止部
材７で係止することによつて配線処理室３からの
はみ出しを防止するとともに、上記賞球処理手段
５２，５３，５４，５６の基盤２上への装着に制
約されることなく任意の位置に配線できるよう構
成したものである。

（実施例） 以下、本考案を実施の一例に基づいて説明す
る。

第１図及び第２図に於て、図中の符号の１は遊
技盤５７の裏面側を覆うように取付られる機構盤
である。機構盤１は、当該機構盤１の基盤２の裏
面と遊技盤５７の裏面との間に、入賞球が流下す
るに十分な所定寸法の空隙が空くように、その基
盤２が形成されている。

符号３は機構盤１の基盤２に形成された配線処
理室、９は機構盤１の基盤の表面側に形成された
入出力用の信号線を集約する中継部、５は中継部
９から延在する入出力用の信号線である。信号線
５は駆動表示ランプ１０、賞球表示ランプ１１、
球不足検出器１２、賞球排出検出器１３及び遊技
の進行を制御するコントローラ（図示せず）、或
いは、打球発射装置（図示せず）等の各種装置や
機器に接続している。

前記機構盤１の基盤２の裏面側には、即ち遊技
盤５７に向いた基盤２の面側には、当該基盤２の
周縁を遊技盤５７方向へ起立させて（第３図）、
当該基盤２の裏面と遊技盤５７の裏面との間が所
定の間隔で隔離された集合樋部５８が形成されて
いる。この集合樋部５８は遊技盤５７の正面側に
設けられている各種入賞口から遊技盤５７の裏面
に流出した入賞球を集めるためのものである。従
つて、上記した基盤２と遊技盤５７との間の所定
の間隔は、少なくとも、入賞球の径より大きく、
入賞球が楽に流下できる間隔であることが必要で
ある（実際には17〜19mmの間隔となつている）。

又、前記機構盤１の基盤２の表面側には、打球
の入賞に応じて所定数の賞球を排出制御する賞球
処理手段が配設されている。賞球処理手段は、賞
球を貯留する貯留タンク５２と、貯留タンク５２
内の賞球を導出する賞球導出樋５３と、賞球導出
樋５３で整流された賞球を入賞に応じて所定数宛
排出する賞球排出装置５４と、賞球排出装置５４
によつて排出された賞球を遊技盤５７の下辺側に
穿つた導出口５５に誘導する賞球導出装置５６等
で構成されている。一般に、この種の賞球処理手
段は、第１図に示す通り、基盤２の上辺から下辺
にわたつて基盤２の表面を縦断するように配設さ
れる。

尚、図中の符号５９は集合樋５８内の入賞を必
要に応じて随時抜取るための入賞球抜取装置であ
り、６０は入賞球の落下を利用して賞球排出装置
５４を駆動するため遊技盤５７の裏面に装着され
た入賞球処理機構である。

第３図に於て、配線処理室３は、基盤２表面に
沿つて配線される各種の信号線５を納めるための
細長い室であつて、機構盤の基盤２に、当該基盤
２の表面から裏面側（遊技盤５７側）に断面凹状
に、配線方向に亘つて窪ませて形成している。従
つて、配線処理室３の長さ方向に沿つた基盤２の
表面側には、ほぼ全長に亘る開口４があり、信号
線５はこの開口４から楽に、嵌め込むことができ
る。そして、この開口４には、嵌め込まれた信号
線５がはみ出して来るのを阻止するため、当該開
口４を横切る方向に、係止部材としての係止片７
を適当に突設してある（第４図、第５図）。

実施例に示す配線処理室３は、第１図に示すよ
うに、機構盤１の基盤２の表面の右上端に設置さ
れた中継部９から、左端側のパチコ機枠或いは遊
技盤５７に配設された駆動表示ランプ１０、賞球
表示ランプ１１や、賞球処理手段に付設した玉不
足検出器１２、賞球排出検出器１３、及び遊技盤
５７裏面の左下部に設ける打球発射装置（図示せ
ず）等に接続するための各信号線５の処理例を示
すものであつて、賞球処理手段の構成要素である
賞球導出樋５３の取付位置の下をくぐるよう、基
盤２を水平方向に横断するように形成してある。

開口４は基盤２の表面側に、配線処理室３の延
在方向のほぼ全長にわたつて形成されている。開
口４の一方の開口壁面側（図では上縁側）６Ａと
他方の開口壁面側（図では下縁側）６Ｂには、係
止部材としての係止片７が適宜間隔を保つて一方
から他方の開口壁面６に向つて突設してある。突
設される係止片７の先端と相対する他方の開口壁
面６との間には、少なくとも、信号線５の嵌め込
みができる大きさの間隙８を設けてある。係止片
７は、配線処理室３に収納された信号線５が当該
処理室３から外へはみ出さないように抑えるため
のものであるから、その形状は実施例に示す係止
片７に限らず、信号線５のはみ出しを阻止できる
形態であればよい。

信号線５の挿入は、開口４に沿つて予め信号線
５を当て、指先で押し当てながら指を移行させる
ことによつて、極めて迅速且つ容易に挿入するこ
とができる。尚、信号線５の抜取りは、開口４か
ら当該信号線５を摘み出し、当該信号線５と開口
４間に指先を差し入れたまま指を開口４に沿つて
移動させるのみで、所望の信号線５のみを極めて
迅速且つ容易に抜取ることができる。

このように、配線処理室３を形成すると、従来
多用されていたコードバインダが不用となり、配
線処理作業や配線や信号線の取替作業が迅速且つ
容易となるだけでなく、信号線５が窪みに収納さ
れて保護されるため、各種の装置や機器等の取
付・交換作業の邪魔になることもなく、断線事故
なども少なくて済む。又、配線処理室３の溝を比
較的に浅く形成して、この溝の下方部分に入賞球
が流下可能とすることにより、セーフ玉集合部が
狭くなることがない。

上記実施例に示す配線処理室３は、賞球処理手
段を構成する１部材たる賞球導出樋５３の取付位
置の下を横断してくぐり抜けるように形成してあ
るが、これに限らず、基盤２の表面側に配設され
る１又は２以上の装置や部材の取付位置の下を通
るように形成してもよい。

特に、上記実施例のように、配線処理室３を賞
球処理手段の取付位置と重なる基盤２部分に形成
することにより、配線処理室３と基盤２と賞球処
理手段とが基盤２を挟持する積層重合的な構造と
することができるので、機構盤１の強度をより高
くすることができる。

又、中継部９より延出する信号線５は、賞球処
理手段の装着位置に制約されることなく、基盤２
の任意の位置に配線することができる。

上記実施例では、配線処理室３を機構盤１の盤
面２と一体成形してあるが、必ずしも一体成形と
する必要はなく、別部材で成形して機構盤１に組
付てもよい。又、配線処理室３の断面形状も
「コ」字型に限るものではない。

尚、上記の中継部９は、第２図に示すように、
入力信号線であるところの電源用コード１４に接
続され、該電源用コード１４と機構盤１の各装置
に配線される信号線５との接続機能を果すもので
ある。実施例の中継部９には入賞装置駆動用コネ
クタ１５、入賞装置照明用コネクタ１６、及びそ
の他の接続具１７等が付設されている。

（考案の効果） 本考案は叙上の如く、機構盤の基盤表面側から
裏面側に窪ませて配線方向に延びる溝状の配線処
理室を形成してあるから、配線処理室の底面は閉
ざされており、そこに嵌め込まれた信号線は、基
盤の裏面側から遊技盤裏面側へはみ出すことがな
くなり、従つて、遊技盤裏面を流下する入賞球の
流路に支障を来たすこともない。

又、基盤の表面側から裏面側への溝（配線処理
室）の深さを入賞球の流下に支障のない深さとす
ることによつて、基盤の表面の何れの方向へも自
由に配線処理室を設けることができるから、配線
作業が仕易いように自由に配線処理室を設計でき
る。

又、配線処理室は基盤の表面からその裏面側へ
窪ませた溝状としているから、基盤表面に装着さ
れる賞球処理手段等の各種の装置や機器と同一平
面で交差することがなく、これら装置や機器の設
定位置の制約を受けることなく、配線処理室を設
けることができる。

例えば、これらの設定位置を横切る方向に配線
処理室を設けることになつても、各種の装置や機
器は基盤表面上に構築されるから、配線処理室は
基盤表面の水平面より低いその下を通り抜け、両
者は立体交差となる。

このような立体交差に構成すると、基盤を中央
にして、その上下に賞球処理手段等の装置や機器
と配線処理室とが積層重合的に形成されるから、
機構盤自身が補強されて堅牢となる。

又、配線作業に当つては、広い作業空間が得ら
れる機構盤の表側から、信号線を指先で配線処理
室に押えつけながら移動させるだけで嵌め込んで
行くだけで済むから、作業が極めて容易で著しく
作業能率が高められる。

更に又、本考案では、配線処理室の開口に、当
該開口を横切るように係止部材を複数突設させ、
該係止部材の先端とこれに相対する開口壁面との
間には、少なくとも、上記信号線を嵌め込み可能
な間隙を設けているので、配線処理室からの信号
線のはみ出し（基盤の表面側へのはみ出し）を防
止することができる。従つて、従来のように、信
号線を束にするためのバインダ等を用いる必要が
ない。

【図面の簡単な説明】

図面は本考案の一実施例を示すものにして、第
１図は機構盤の一部省略正面図、第２図はパチン
コ機の一部省略正面図、第３図は第１図の一部拡
大斜視図、第４図は第３図のＡ−Ａ断面図、第５
図は第３図のＢ−Ｂ断面図、第６図は第３図のＣ
断面図である。 １……機構盤、２……基盤、３……配線処理
室、４……開口、５……信号線、７……係止片
（係止部材）、９……中継部、５２……貯留タンク
（賞球処理手段）、５３……賞球導出樋（賞球処理
手段）、５４……賞球排出装置（賞球処理手段）、
５６……賞球導出装置（賞球処理手段）、５７…
…遊技盤、５８……集合樋部。

Claims (1)

1. 【実用新案登録請求の範囲】 基盤の裏面と遊技盤裏面との間に所定寸法の空
   隙を有する機構盤を形成し、該機構盤の表面側
   に、入出力用の信号線を集約した中継部と、賞球
   を貯留する貯留タンクと、貯留タンクの賞球を導
   出する賞球導出樋と、賞球導出樋より導出された
   所定数の賞球を排出する賞球排出装置と、賞球排
   出装置からの賞球を誘導する賞球導出装置とで構
   成される賞球処理手段を備えたパチンコ機に於
   て、 上記機構盤の基盤表面側から裏面側に窪ませて
   配線方向に延びる溝状の配線処理室を形成し、該
   配線処理室の開口には、当該開口を横切るように
   係止部材を複数突設させ、該係止部材の先端とこ
   れに相対する開口壁面との間は、少なくとも、上
   記信号線を嵌込み可能な間隙を設け、 上記配線処理室と基盤と賞球処理手段とを積層
   重合的に構成し、 上記中継部より延出する信号線を配線処理室に
   収納して、上記係止部材で係止することによつて
   配線処理室からのはみ出しを防止するとともに、
   上記賞球処理手段の基盤上への装着に制約される
   ことなく任意の位置に配線可能としたことを特徴
   とするパチンコ機の機構盤。