JPH01201062A - セラミックス系超電導材料の製造方法 - Google Patents

セラミックス系超電導材料の製造方法

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JPH01201062A
JPH01201062A JP63252166A JP25216688A JPH01201062A JP H01201062 A JPH01201062 A JP H01201062A JP 63252166 A JP63252166 A JP 63252166A JP 25216688 A JP25216688 A JP 25216688A JP H01201062 A JPH01201062 A JP H01201062A
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JP
Japan
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superconducting material
sintering
powder
superconducting
oxide
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JP63252166A
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English (en)
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Takayuki Inuzuka
孝之 犬塚
Toshinori Ando
安藤 敏範
Kiyoshi Sawano
清志 澤野
Hiroshi Tanemoto
種本 啓
Hiroshi Kubo
紘 久保
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Nippon Steel Corp
Original Assignee
Nippon Steel Corp
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    • Y02EREDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
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    • Y02E40/60Superconducting electric elements or equipment; Power systems integrating superconducting elements or equipment

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  • Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
  • Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
  • Superconductors And Manufacturing Methods Therefor (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は酸化物系高温超電導材料等を製造する方法に関
するもので、この発明によって臨界電流密度が大きい超
電導材料の製造が容易となる。
[従来の技術] 最近、Y、Ba2C:u30.−、 (Xは酸素欠損度
)の組成に代表される各種の酸化物系セラミックスが超
電導臨界温度(Tc)か液体窒素温度を越すところのい
わゆる高温超電導物質として発見され、その実用化への
研究・開発が各方面で推進されている。そしてこれを磁
気浮上列車、核磁気共鳴断層撮影装置、超電導推進船等
への応用を図る場合には、単位断面積あたりの回通電流
量の大きい導体(例えば線材、テープ)すなわち臨界電
流密度(Jc)の大きい超電導材料か必須のものとして
製造技術確立が要請される。
しかしながら、これら酸化物系セラミックスの超電導特
性に関して、Tcについては90に以上の高温領域とな
し得ることが基礎物質すなわち該種セラミックスの粉体
等において確認されているものの大きなJcの達成は困
難性大とされており、実用化の研究開発の実績の蓄積が
ないこともあり、Jc改善のための有効かつ具体的な提
案等はほとんど報告されていない。
[発明が解決しようとする課題] Y1Ba2Cu3O7−Xやこれと類似の形態の酸化物
等のセラミックス系超電導材料の製造は、 La2O3
゜Y2O3,SrCO3,BaC0,、、CuOなとの
原料粉末を超電導物質組成となる所定の割合で配合し、
これを仮焼して炭酸等の目的外の成分の揮発除去を図り
、ついで粉砕していったん中間材料としてのセラミック
ス系超電導物質の粉体とし、この粉体を加圧成形して所
望の材料の形状としたあと熱処理(仕上げ焼結)すると
いう方法によって行うことが一般的である。
ところで、セラミツスス系超電導物質の粉体は、粒度が
小さく、かつ分散性が高いほど緻密かつ成分的に均一な
焼結体すなわち超電導材料が得られる。超電導材料が緻
密であれば粒界の影響が小さくなるため臨界温度Tc、
臨界電流密度Jcおよび臨界磁場しは高くなる。これに
より、電気機器の高性能かつ小型化を図ることができる
。また微細かつ複雑な加工が可能となり電子デバイスに
応用することが可能となる。したがって、超電導材料の
緻密化が電気機器および電子デバイスの性能向上にもた
らす効果は極めて大きい。
しかるに上記従来の製造方法において得られるセラミッ
クス系超電導物質粉は、La2O3,Y2O3゜5rC
O,、、BaCO3,CuO等の形態の複数種の成分原
料をポットミル等で機械的に粉砕・分散しているだけで
あるので粒度は数JJmから数101Jmにわたり分布
する。このような粉体を加圧成形したものは、複数種の
組成の、かつ粗粒細粒が入り混った状態を呈するので、
部分的(セミマクロ的)な成分の不均一はさけかたく、
その上、CuO(融点: 1026℃)のような低融点
物質とY2O3(融点: 2410℃)のような高融点
物質の混合物であるため上記のようなセミマクロ的な成
分の不均一がある場合には仕上げ焼結による成分の均一
拡散の達成は極めて難かしい。すなわち、従来法では均
質で緻密な焼結体から形成される超電導材料(バルク)
がなかなか得られない。これが臨界温度Tc、臨界電流
密度Jcおよび臨界磁場■。の向上に対して製造技術面
での大きな障害となっている。すなわち、別の角度から
言うならば、極めて微細なセラミックス系超電導物質の
粉体が工業的に製造入手できれば、セラミックス系超電
導材料の実用特性(例えばTC,Jc)の向上・安定に
供するところ甚大ということになり、その実現か要請さ
れていた。
[課題を解決するための手段] 本発明は超電導物質組成に配合した酸化物系超電導物質
の原料から混練−仮焼一粉砕一成形一焼結の工程により
超電導材料を製造する方法において、粉砕および焼結を
適切な方法で行うことによって均一緻密な焼結体とする
もので、その要旨は仮焼−粉砕工程の最終粉砕で無水有
機分散媒中でホールミル処理し、或いはまた窒素気流中
にのせてジットミル処理し、平均粒径1ミクロン以下の
Mi電導物質の微粉とし、かつ、成形後の焼結を900
℃〜970℃で2〜100時間の処理として焼結体の平
均結晶粒径3ミクロン以下の超電導材料とすることであ
る。上記の「成形」とは、超電導物質粉を加圧成形して
直接に所望の最終的形状とするもののほか、これに限ら
ず、加圧成形後に別の塑性加工等を付与して所望の形状
とするものを含む。
また、本発明を一層有効ならしめるため、成形後の焼結
を実質的に純酸素雰囲気下で行うことが好適である。
ここで最終粉砕時に用いる無水有機分散媒としては1価
アルコール(例えばエタノール)、1価ケトン(例えば
アセトン)その他各種のものが適用可能である。この選
択は各製造場の諸条件(例えば、ボールミルの強度、処
理時間)と分散媒物質の特性(例えば沸点)その他を勘
案して決定すればよい。
なお、焼結の条件(温度、時間)は焼結前(−最終粉砕
後)の微粉の粒度に応じて、具体的には粒径か小さくか
つ均一であれば低温側もしくは短時間側の条件が選択で
きる。
[作用] 酸化物系超電導材料の臨界温度Tc、臨界電流密度Jc
、臨界磁場■。などの超電導特性に密接に関連するもの
として、焼結体(超電導材料バルク)の結晶粒の均一性
、緻密度がある。これらに支配的な影響を与えるのか、
原料となる超電導物質粉体の平均粒径と粒度分布である
。平均粒径が細かく粒度分布幅の狭いもの程焼結体の結
晶粒の均一性、緻密度を向上させることができる。
この発明では、超電導物質の微細粉化の方策として、超
′1「導組成となるように配合した各酸化物粉体を超電
導物質の単相になるまで仮焼−粉砕を繰り返し、そして
最終粉砕を無水有機分散媒中で湿式ボールミル、あるい
はジェットミルにより粉砕して平均粒径1ミクロン以下
の超電導物質の微粉とする。従来法に対して末法によっ
て得られる平均粒径は1ミクロン以下、粒度分布として
は最大粒径5ミクロン以下の良好な徴砕粉が得られる。
第1図に従来法による粉砕粉と、末法のうち湿式ホール
ミルによる粉砕粉の粒度分布のヒストグラムを示す。従
来法のものには数lOミクロン程度の未粉砕粉も残り、
平均粒径約3ミクロンと大きいものになっている。
具体的なボールミル処理条件として、ボールの材質とし
て高純度Al2O3またはzr02を使用し直径はI 
Ommφ〜lromゆである。無水有機分散媒としては
アセトン、メタノール、エタノールなどが好適なものと
して使用できる。比重が大きいZrO□ボールで粒径が
小さいものを用いる程微細粉化には効果がある。無水有
機分散媒としては、粉砕後の乾燥の際にはアセトンが有
利であるか、長時間の運転を行うような場合は、アセト
ンは沸点が低いので気化して内圧が急増する危険も考え
られ、エタノール、メタノールの使用が望ましい。また
水の使用はこの超電導物質は吸水し分解するので使用で
きない。
次にジェットミルにより粉砕する方法について説明する
。ジェットミルはAl2O3などで内部をライニングし
たものが粉体衝突時の摩耗による粉体の汚染が少ないの
で好ましい。また粉体を搬送する気体は圧縮空気でも良
いが水分を含まない乾燥空気あるいは窒素の方が望まし
い。ジェットミルの粉砕条件はその装置にもよるが、1
μm以下にするような条件を選定すればよく、従来の一
般的な粉砕条件でよい。
成形は基本的には従来の一般的な手段によればよい。な
かでもCIP (冷間等方圧縮加工)は成形体の緻密度
向上に対して効果がある。
焼結条件の選択目的は焼結体の結晶粒を均一、緻密に制
御することである。具体的には平均結晶粒径3ミクロン
以下(かつ最大結晶粒径5ミクロン以下)、好ましくは
平均結晶粒径2ミクロン以下(かつ最大結晶粒径5ミク
ロン以下)を達成目標とする。平均結晶粒径が3ミクロ
ンより大きいときは、均一緻密性が充分とならず、高い
Jcは達成できない。この目標達成のためには、平均粒
径1ミクロン以下(かつ最大粒径5ミクロン以下)の粉
体を900℃〜970℃で2〜100時間の焼結をする
ことが適当である。焼結のより詳細な条件としては、焼
結前の微粉の粒度に応じてその粒径か小さくかつ均一で
あれば上記の範囲のうちより低温側を選択しなければな
らない。高温側による過度(長時間)の焼結は、結晶粒
の異常粒成長をもたらし粒子の異方性が大きいことから
、粒界に応力が集中しクラックか生成してJcの著しい
低下が起こるからである。
また低温側の焼結では、焼結時間を長時間にできること
から焼結体の緻密化、結晶粒どうしの結合力の強化も可
能となる。しかし900℃未満では焼結が不充分となり
、Jcはまた著しく低下する。
焼結は実質的に純酸素雰囲気下で行うべきである。PO
2は焼結後冷却の際に超電導相の形成に影響を及ぼし、
Po2増大雰囲気が有利である。酸素分圧としてfat
…以上が望ましい。
[実施例コ 実施例l Y2O3,BaCO3,CuO粉末を原子数比でY:B
a:Cu =1=2・3の割合となるように配合してポ
ットミルに人わてエタノール中で1δhr混練した。こ
れを真空乾燥し950℃x8hの仮焼とボールミルによ
る粉砕混合を2回繰り返し、超電導物質(組成:YBa
2Cu307−x)単相にした。そして、最終粉砕とし
てZrO,ボール10mmφを使用しエタノール中で2
4hrのボールミル粉砕を行い、とり出して真空乾燥し
た。得られた粉体は平均粒径0.8ミクロン、最大粒径
4ミクロンであった。これを20mmφ厚さ2ffII
11のベレットにCIP 7t/cm2の成形を行い、
純酸素雰囲気中で各種条件により焼結を行った。これを
四端子法により臨界温度Tcと臨界電流密度Jcを測定
した。臨界温度Tcは全て90 Kを超えていた。第−
表にJcの測定結果を示す。比較のため、従来法により
得られた平均粒径3ミクロン、最大粒径30ミクロンの
粉体を使用し、同様な焼結を行ったものの結果を同表中
に合わせて示す。その結果、本発明による平均粒径1ミ
クロン以下の超電導粉体を用い900℃〜970℃で適
切な時間焼結したものは焼結体の平均結晶粒径か3ミク
ロン以下となり良好なJcを示した。特に、平均結晶粒
径が2ミクロ以下の焼結体のJcは大きい。焼結時の雰
囲気を02富化とすると著効のあることも同しく第1表
から明らかである。また、第1表金体から、900〜9
70℃で2〜100時間の焼結が好適であることが認め
られる。
実施例2 Y2O3,口act3. CuO粉末を原子数比でY:
Ba:Cu =1:2:3の割合となるように、配合し
てポットミルに入れてエタノール中で16hr混線した
。こわを真空乾燥し、925℃X 8hrの仮焼とボー
ルミルによる乾式粉砕を2回繰り返し超電導物質単相(
YBa2Cu307−X)の粉末を得た。この時点でこ
の粉末の粒度分布は第2図に示すようであり、粒度の中
間値は1.6μmであった。この粉末をジェットミルを
用いて乾式粉砕を行なった。粉砕後の粒度分布は第3図
に示すごとく、中間値は0.9μmであり51以上の粒
子は検出できなかった。これを20mmφ厚さ2 mm
のベレットにCIP 2t/cm2の条件で成形し、純
酸素気流中で各種条件で焼結した。この焼成体の臨界温
度Tcと臨界電流密度Jcを四端子法により測定した。
臨界温度Tcは全て90にを越えていた。第4図にJC
の測定結果と焼成温度の関係を示す。焼成時間は8時間
であり、Jc最大値は100OA/cm2を越えている
。従来法でのJcの値は実施例工にも示しであるが、最
大250A/Cl112であり、末法によりJCが向上
したことが明らかである。
[発明の効果] 本発明によれば均質で結晶粒径の細い緻密なセラミック
系超電導物質の焼結体が得られ、その結果として臨界電
流密度の高い超電導材料を製造することが可能となった
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明によるセラミックス超電導材料と通常の
乾式ホールミルで粉砕したセラミック超電導材料の粒度
分布を示す図、第2図は通常の乾式ボールミル2回粉砕
したセラミック、8電導材料の粒度分布を示す図、第3
図は第2図に示した超電導材料の粉末をジェットミルで
粉砕した後の粒度分布を示す図、および第4図はジェッ
トミルで粉砕した超電導材料の粉末を各種温度で焼成し
た超電導体の臨界電流密度Jcと相対密度の関係を示し
た図である。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 1.超電導物質組成となるように配合した酸化物系超電
    導物質の原料を混練し、ついで仮焼−粉砕を1回以上行
    って超電導物質の粉体とし、この粉体を成形−焼結して
    超電導材料を製造する方法において、仮焼−粉砕工程の
    最終粉砕で無水有機分散媒中でボールミル処理して、平
    均粒径1ミクロン以下の超電導物質の微粉とし、該微粉
    を成形し、900℃〜970℃で2〜100時間の焼結
    を行い、焼結体の平均結晶粒径3ミクロン以下の超電導
    材料とすることを特徴とする酸化物系超電導材料の製造
    方法。
  2. 2.超電導物質組成となるように配合した酸化物系超電
    導物質の原料を混練し、ついで仮焼−粉砕を1回以上行
    って超電導物質の粉体とし、この粉体を成形−焼結して
    超電導材料を製造する方法において、仮焼−粉砕工程の
    最終粉砕で窒素気流中に前記超電導物質の粉体をのせて
    ジェットミル処理して、平均粒径1ミクロン以下の超電
    導物質の微粉とし、該微粉を成形し、900℃〜970
    ℃で2〜100時間の焼結を行い、焼結体の平均結晶粒
    径3ミクロン以下の超電導材料とすることを特徴とする
    酸化物系超電導材料の製造方法。
  3. 3.成形後の焼結を実質的に純酸素雰囲気下で行うこと
    を特徴とする請求項1または2記載の酸化物系超電導材
    料の製造方法。
JP63252166A 1987-10-07 1988-10-07 セラミックス系超電導材料の製造方法 Pending JPH01201062A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007070157A (ja) * 2005-09-06 2007-03-22 Kengo Ebina 超伝導セラミックス薄膜の形成方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007070157A (ja) * 2005-09-06 2007-03-22 Kengo Ebina 超伝導セラミックス薄膜の形成方法

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