JPH0120169B2 - - Google Patents
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- JPH0120169B2 JPH0120169B2 JP55115317A JP11531780A JPH0120169B2 JP H0120169 B2 JPH0120169 B2 JP H0120169B2 JP 55115317 A JP55115317 A JP 55115317A JP 11531780 A JP11531780 A JP 11531780A JP H0120169 B2 JPH0120169 B2 JP H0120169B2
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- glycidyl
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- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
- C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
- C08G73/18—Polybenzimidazoles
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
- C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
- C08G73/20—Pyrrones
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
- G03F7/0387—Polyamides or polyimides
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- Y10T428/31511—Of epoxy ether
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
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- Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
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- Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
Description
本発明は一般式：
又は
〔式中ｎは２〜約100の整数を表し、ＲはＨ又
はCH3を表す〕で示されるポリイミダゾール及び
ポリイミダゾピロロンのオリゴマー及び／又はポ
リマー前駆物質並びにこれらの前駆物質の製造方
法に関する。 ポリマーの前駆物質は例えば特開昭49−115541
号公報から公知である。これらのポリマー前駆物
質は多官能性の炭素環状又は複素環状で、放射線
に敏感な基を有する化合物とジアミン、ジイソシ
アネート、ビス酸塩化物又はジカルボン酸とのポ
リ付加生成物又はポリ縮合生成物である。放射線
に敏感な基を有する化合物は付加反応又は縮合反
応に適したカルボキシル基、カルボン酸クロリド
基、アミノ基、イソシアネート基又はヒドロキシ
ル基、及び部分的にオルト位又はペリ位でエステ
ル様にカルボキシル基に結合している放射線反応
性の基を２個含み、これらの化合物と反応可能の
ジアミン、ジイソシアネート、ビス酸塩化物及び
ジカルボン酸は少なくとも１個の環状構造単位を
有する。 これら公知のポリマー前駆物質は、露光により
また場合によつては引続き熱処理することにより
変化する高い熱安定性のポリマーから保護層及び
絶縁層並びにレリーフ構造体を製造するのに使用
される。この場合特に次の物質群、すなわちポリ
イミド、ポリアミドイミド、ポリエステルイミ
ド、ポリ―１，３―キナゾリン―２，６―ジオ
ン、ポリイソインドールキナゾリンジオン、ポリ
―１，３―オキサジン―６―オン、及びポリベン
ゾ―１，３―オキサジン―２，４―ジオンのポリ
マーが得られる。 本発明の目的は、レリーフ構造体或いは保護層
及び絶縁層を製造するための出発物質の範囲を拡
大した新規ポリマー前駆物質を製造することにあ
る。特に放射線反応性のポリイミダゾール及びポ
リイミダゾピロロンの前駆物質が開発されるべき
である。 この目的は本発明によれば、これらの前駆物質
が (a) ジアミノベンジジンとイソフタル酸エステル
又はイソフタル酸クロリドとのアミノ基含有ポ
リ縮合生成物への、或いは (b) ジアミノベンジジンとピロメリツト酸二無水
物とから成るアミノ基含有ポリ付加生成物へ
の、 グリシジルアクリレート又はグリシジルメタク
リレートの付加生成物から成ることによつて達成
される。 放射線反応性のポリイミダゾール及びポリイミ
ダゾピロロンの前駆物質は従来未だ知られていな
い。本発明による化合物はこれらの特性を有して
いる。すなわちこれらの化合物は放射線によつて
網状化可能であり、その際優れた特性を有する高
い熱安定性のポリマーに変化することができる。
本発明による前駆物質はフオト構造化の他に、有
機溶剤に可溶でありまた部分的に水―アルカリ性
媒体にも可溶であることによつて更に特徴づけら
れる。 本発明によるポリイミダゾール及びポリイミダ
ゾピロロンのオリゴマー及び／又はポリマーの前
駆物質は次の一般式(a)又は(b)を有する。 Ｘ，Ｙ及びＺは 又は
はCH3を表す〕で示されるポリイミダゾール及び
ポリイミダゾピロロンのオリゴマー及び／又はポ
リマー前駆物質並びにこれらの前駆物質の製造方
法に関する。 ポリマーの前駆物質は例えば特開昭49−115541
号公報から公知である。これらのポリマー前駆物
質は多官能性の炭素環状又は複素環状で、放射線
に敏感な基を有する化合物とジアミン、ジイソシ
アネート、ビス酸塩化物又はジカルボン酸とのポ
リ付加生成物又はポリ縮合生成物である。放射線
に敏感な基を有する化合物は付加反応又は縮合反
応に適したカルボキシル基、カルボン酸クロリド
基、アミノ基、イソシアネート基又はヒドロキシ
ル基、及び部分的にオルト位又はペリ位でエステ
ル様にカルボキシル基に結合している放射線反応
性の基を２個含み、これらの化合物と反応可能の
ジアミン、ジイソシアネート、ビス酸塩化物及び
ジカルボン酸は少なくとも１個の環状構造単位を
有する。 これら公知のポリマー前駆物質は、露光により
また場合によつては引続き熱処理することにより
変化する高い熱安定性のポリマーから保護層及び
絶縁層並びにレリーフ構造体を製造するのに使用
される。この場合特に次の物質群、すなわちポリ
イミド、ポリアミドイミド、ポリエステルイミ
ド、ポリ―１，３―キナゾリン―２，６―ジオ
ン、ポリイソインドールキナゾリンジオン、ポリ
―１，３―オキサジン―６―オン、及びポリベン
ゾ―１，３―オキサジン―２，４―ジオンのポリ
マーが得られる。 本発明の目的は、レリーフ構造体或いは保護層
及び絶縁層を製造するための出発物質の範囲を拡
大した新規ポリマー前駆物質を製造することにあ
る。特に放射線反応性のポリイミダゾール及びポ
リイミダゾピロロンの前駆物質が開発されるべき
である。 この目的は本発明によれば、これらの前駆物質
が (a) ジアミノベンジジンとイソフタル酸エステル
又はイソフタル酸クロリドとのアミノ基含有ポ
リ縮合生成物への、或いは (b) ジアミノベンジジンとピロメリツト酸二無水
物とから成るアミノ基含有ポリ付加生成物へ
の、 グリシジルアクリレート又はグリシジルメタク
リレートの付加生成物から成ることによつて達成
される。 放射線反応性のポリイミダゾール及びポリイミ
ダゾピロロンの前駆物質は従来未だ知られていな
い。本発明による化合物はこれらの特性を有して
いる。すなわちこれらの化合物は放射線によつて
網状化可能であり、その際優れた特性を有する高
い熱安定性のポリマーに変化することができる。
本発明による前駆物質はフオト構造化の他に、有
機溶剤に可溶でありまた部分的に水―アルカリ性
媒体にも可溶であることによつて更に特徴づけら
れる。 本発明によるポリイミダゾール及びポリイミダ
ゾピロロンのオリゴマー及び／又はポリマーの前
駆物質は次の一般式(a)又は(b)を有する。 Ｘ，Ｙ及びＺは 又は
【式】であり、かつ、
Ｘ，Ｙ及びＺのいずれか二つは
である。
X′，Y′及びZ′は
又は
【式】であり、かつ
X′，Y′及びZ′のいずれか二つは
（但し、いずれの場合もＲはＨ又はCH3を表
し、ｎは２ないし約100の整数を表す） である。 次式の(1)及び(2)により本発明による前駆物質の
構造を例示的に明らかにすることができる。 （式中ＲはＨ又はCH3を表し、ｎは２ないし約
100の整数を表す） この場合(1)式には放射線反応性ポリイミダゾー
ル前駆物質、すなわちジアミノベンジジンとイソ
フタル酸ジメチルエステルとのポリ縮合生成物へ
の、グリシジルメタクリレートの付加生成物が示
されている。(2)式はジアミノベンジジンとピロメ
リツト酸二無水物とのポリ付加生成物へのグリシ
ジルメタクリレートの付加生成物、すなわちポリ
イミダゾピロロン前駆物質を示す。 本発明による前駆物質は基本構造体として有利
には芳香族アミノ化合物を有し、従つて熱処理に
際して次の構造単位(3)又は(4)を有するポリマーが
生じる。 本発明によるポリイミダゾール及びポリイミダ
ゾピロロン前駆物質は、ジアミノベンジジンをイ
ソフタル酸エステル又はイソフタル酸クロリドと
か、或いはピロメリツト酸二無水物と反応させて
アミノ基含有反応生成物を生ぜしめ、この反応生
成物を室温又は約100℃までの温度で有機溶剤中
においてグリシジルアクリレート又はグリシジル
メタクリレートと反応させることによつて有利に
製造される。 この方法は試験的に容易に実施することがで
き、この場合一般に反応温度は約50〜60℃、すな
わち前駆物質が不溶性の環化生成物に末だ変化し
ない温度で十分である。最終生成物は純粋な状態
で生じ、この場合反応時に前駆物質が早期に熱網
状化しないことは予想外であつた。 ジアミノベンジジンとピロメリツト酸二無水物
とからなるポリ付加生成物とグリシジルアクリレ
ート又はグリシジルメタクリレートとの反応に際
して、過剰量の前記グリシジル（メタ）アクリレ
ートを使用した場合、水―アルカリ性溶液に不溶
性のポリイミダゾピロロン前駆物質が生じる。す
なわちこの場合プレポリマーの遊離カルボキシル
基もグリシジル（メタ）アクリレートと反応す
る。しかし少量のグリシジル（メタ）アクリレー
ト、すなわち過剰量のポリ付加生成物を使用する
のが有利である。この場合前駆物質は、存在する
カルボキシル基により、水―アルカリ性溶液に可
溶性である。 フオトレジストとして使用する場合また保護層
及び絶縁層を製造する場合（この場合構造化が生
じる）の外に、本発明による前駆物質は一般に、
構造化されていない形で保護及び絶縁被膜を製造
するために使用することができる。この場合これ
らの前駆物質は光波導管の光導電性繊維用合成樹
脂被膜を製造するのに特に有利に使用することが
できる。次に実施例により本発明を更に詳述す
る。 例 １ 放射性反応性ポリベンズイミダゾール前駆物質
の製造 ３，3′―ジアミノベンジジン10.7重量部をＮ―
メチルピロリドン95容量部に溶かし、イソフタル
酸ジメチルエステル9.7重量部と一緒に150〜175
℃の温度で８時間、引続き約185℃で２日間加熱
する。この溶液にグリシジルメタクリレート20容
量部を加える。室温で48時間また約50〜60℃で４
時間反応させた後、前駆物質をイソプロパノール
800容量部で沈澱させ、エタノールで洗浄し、真
空中で乾燥する。得られた黄褐色の生成物はIR
―スペクトル（フイルム）でメタクリレート基を
表すバンドを950及び1290cm-1で示す。 例 ２ 水―アルカリ溶液に可溶性のポリイミダゾピロ
ロン前駆物質の製造 窒素で洗浄した反応フラスコ内に、ジメチルア
セトアミド190容量部中のジアミノベンジジン
21.4重量部（0.1モル）の溶液を配置する。この
溶液にまず激しく撹拌しながらジメチルアセトア
ミド195容量部中のピロメリツト酸二無水物21.8
重量部（0.1モル）の溶液190容量部を急速に加え
る。得られるプレポリマー溶液を約30分間徐々に
撹拌し、その際これを室温に冷却する。その後残
りのピロメリツト酸二無水物溶液を滴加する。溶
液を添加し終つた後ストロー様の黄色のプレポリ
マー溶液は僅かに粘性になる。この場合、純粋な
出発物質及び溶剤を使用することが重要である。 先に記載した方法で得られたプレポリマー溶液
44容量部に室温で撹拌下にグリシジルメタクリレ
ート15重量部（0.1モル）を滴加する。約30分後
に反応溶液を約50〜60℃で12時間加熱し、その後
室温に冷却し、48時間放置する。引続き溶液を激
しく撹拌しながらイソプロパノール1000容量部に
滴加する。その際黄褐色の物質が析出し、これを
真空中で乾燥する。こうして得られたポリイミダ
ゾピロロン前駆物質は水―アルカリ性溶剤及び極
性有機溶剤例えばジメチルアセトアミド、ジメチ
ルホルムアミド及びＮ―メチルピロリドンに可溶
性である。 フイルムで測定したIR―スペクトルは典型的
なバンドを950及び1290cm-1（メタクリレートバン
ド）、1720cm-1（エステルバンド）及び1670cm-1
（２級アミドの吸収バンド）で示す。カルボキシ
ル基が存在することは特に水―アルカリ性溶剤中
への可溶性により明らかである。 例 ３ 水―アルカリ性溶液に不溶のポリイミダゾピロ
ロン前駆物質の製造 例２によるプレポリマー溶液45容量部に室温で
激しく撹拌しながらグリシジルメタクリレート50
重量部（0.35モル）を滴加する。２時間反応させ
た後約90〜100℃の温度で３時間加熱する。その
後過し、樹脂をエタノール500容量部から沈澱
させる。真空中で乾燥させた後、褐色の粉末が得
られ、これは水―アルカリ性溶液にもはや不溶で
ある。この事実は、実際に遊離のカルボキシル基
はもはや存在せず、むしろこの基がグリシジルメ
タクリレートを大きな過剰量で使用することから
エステル化されたことを意味する。 例２によるポリイミダゾピロロンのIR―スペ
クトルと比較した場合、本例の生成物は3000及び
3300cm-1の範囲内で強い吸収減少を示す（カルボ
キシル基不存在）。明白なバンドは、OH基に書
き替えることのできる3400cm-1に存在する。反応
生成物の構造は、メタクリレート基に属する950
及び1290cm-1で吸収バンドを、また1720cm-1でエ
ステルバンドを示す。前記のバンドは相応するプ
レポリマーのIR―スペクトルには存在しない。
し、ｎは２ないし約100の整数を表す） である。 次式の(1)及び(2)により本発明による前駆物質の
構造を例示的に明らかにすることができる。 （式中ＲはＨ又はCH3を表し、ｎは２ないし約
100の整数を表す） この場合(1)式には放射線反応性ポリイミダゾー
ル前駆物質、すなわちジアミノベンジジンとイソ
フタル酸ジメチルエステルとのポリ縮合生成物へ
の、グリシジルメタクリレートの付加生成物が示
されている。(2)式はジアミノベンジジンとピロメ
リツト酸二無水物とのポリ付加生成物へのグリシ
ジルメタクリレートの付加生成物、すなわちポリ
イミダゾピロロン前駆物質を示す。 本発明による前駆物質は基本構造体として有利
には芳香族アミノ化合物を有し、従つて熱処理に
際して次の構造単位(3)又は(4)を有するポリマーが
生じる。 本発明によるポリイミダゾール及びポリイミダ
ゾピロロン前駆物質は、ジアミノベンジジンをイ
ソフタル酸エステル又はイソフタル酸クロリドと
か、或いはピロメリツト酸二無水物と反応させて
アミノ基含有反応生成物を生ぜしめ、この反応生
成物を室温又は約100℃までの温度で有機溶剤中
においてグリシジルアクリレート又はグリシジル
メタクリレートと反応させることによつて有利に
製造される。 この方法は試験的に容易に実施することがで
き、この場合一般に反応温度は約50〜60℃、すな
わち前駆物質が不溶性の環化生成物に末だ変化し
ない温度で十分である。最終生成物は純粋な状態
で生じ、この場合反応時に前駆物質が早期に熱網
状化しないことは予想外であつた。 ジアミノベンジジンとピロメリツト酸二無水物
とからなるポリ付加生成物とグリシジルアクリレ
ート又はグリシジルメタクリレートとの反応に際
して、過剰量の前記グリシジル（メタ）アクリレ
ートを使用した場合、水―アルカリ性溶液に不溶
性のポリイミダゾピロロン前駆物質が生じる。す
なわちこの場合プレポリマーの遊離カルボキシル
基もグリシジル（メタ）アクリレートと反応す
る。しかし少量のグリシジル（メタ）アクリレー
ト、すなわち過剰量のポリ付加生成物を使用する
のが有利である。この場合前駆物質は、存在する
カルボキシル基により、水―アルカリ性溶液に可
溶性である。 フオトレジストとして使用する場合また保護層
及び絶縁層を製造する場合（この場合構造化が生
じる）の外に、本発明による前駆物質は一般に、
構造化されていない形で保護及び絶縁被膜を製造
するために使用することができる。この場合これ
らの前駆物質は光波導管の光導電性繊維用合成樹
脂被膜を製造するのに特に有利に使用することが
できる。次に実施例により本発明を更に詳述す
る。 例 １ 放射性反応性ポリベンズイミダゾール前駆物質
の製造 ３，3′―ジアミノベンジジン10.7重量部をＮ―
メチルピロリドン95容量部に溶かし、イソフタル
酸ジメチルエステル9.7重量部と一緒に150〜175
℃の温度で８時間、引続き約185℃で２日間加熱
する。この溶液にグリシジルメタクリレート20容
量部を加える。室温で48時間また約50〜60℃で４
時間反応させた後、前駆物質をイソプロパノール
800容量部で沈澱させ、エタノールで洗浄し、真
空中で乾燥する。得られた黄褐色の生成物はIR
―スペクトル（フイルム）でメタクリレート基を
表すバンドを950及び1290cm-1で示す。 例 ２ 水―アルカリ溶液に可溶性のポリイミダゾピロ
ロン前駆物質の製造 窒素で洗浄した反応フラスコ内に、ジメチルア
セトアミド190容量部中のジアミノベンジジン
21.4重量部（0.1モル）の溶液を配置する。この
溶液にまず激しく撹拌しながらジメチルアセトア
ミド195容量部中のピロメリツト酸二無水物21.8
重量部（0.1モル）の溶液190容量部を急速に加え
る。得られるプレポリマー溶液を約30分間徐々に
撹拌し、その際これを室温に冷却する。その後残
りのピロメリツト酸二無水物溶液を滴加する。溶
液を添加し終つた後ストロー様の黄色のプレポリ
マー溶液は僅かに粘性になる。この場合、純粋な
出発物質及び溶剤を使用することが重要である。 先に記載した方法で得られたプレポリマー溶液
44容量部に室温で撹拌下にグリシジルメタクリレ
ート15重量部（0.1モル）を滴加する。約30分後
に反応溶液を約50〜60℃で12時間加熱し、その後
室温に冷却し、48時間放置する。引続き溶液を激
しく撹拌しながらイソプロパノール1000容量部に
滴加する。その際黄褐色の物質が析出し、これを
真空中で乾燥する。こうして得られたポリイミダ
ゾピロロン前駆物質は水―アルカリ性溶剤及び極
性有機溶剤例えばジメチルアセトアミド、ジメチ
ルホルムアミド及びＮ―メチルピロリドンに可溶
性である。 フイルムで測定したIR―スペクトルは典型的
なバンドを950及び1290cm-1（メタクリレートバン
ド）、1720cm-1（エステルバンド）及び1670cm-1
（２級アミドの吸収バンド）で示す。カルボキシ
ル基が存在することは特に水―アルカリ性溶剤中
への可溶性により明らかである。 例 ３ 水―アルカリ性溶液に不溶のポリイミダゾピロ
ロン前駆物質の製造 例２によるプレポリマー溶液45容量部に室温で
激しく撹拌しながらグリシジルメタクリレート50
重量部（0.35モル）を滴加する。２時間反応させ
た後約90〜100℃の温度で３時間加熱する。その
後過し、樹脂をエタノール500容量部から沈澱
させる。真空中で乾燥させた後、褐色の粉末が得
られ、これは水―アルカリ性溶液にもはや不溶で
ある。この事実は、実際に遊離のカルボキシル基
はもはや存在せず、むしろこの基がグリシジルメ
タクリレートを大きな過剰量で使用することから
エステル化されたことを意味する。 例２によるポリイミダゾピロロンのIR―スペ
クトルと比較した場合、本例の生成物は3000及び
3300cm-1の範囲内で強い吸収減少を示す（カルボ
キシル基不存在）。明白なバンドは、OH基に書
き替えることのできる3400cm-1に存在する。反応
生成物の構造は、メタクリレート基に属する950
及び1290cm-1で吸収バンドを、また1720cm-1でエ
ステルバンドを示す。前記のバンドは相応するプ
レポリマーのIR―スペクトルには存在しない。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ (a) ジアミノベンジジンとイソフタル酸エス
テル又はイソフタル酸クロリドとのアミノ基含
有ポリ縮合生成物への、或いは、 (b) ジアミノベンジジンとピロメリツト酸二無水
物とから成るアミノ基含有ポリ付加生成物へ
の、グリシジルアクリレート又はグリシジルメ
タクリレートの付加生成物から成ることを特徴
とする、一般式： において、 Ｘ，Ｙ及びＺは 又は【式】であり、かつ、 Ｘ，Ｙ及びＺのいずれか二つは であり、 又は式 において、 X′，Y′及びZ′は 又は【式】であり、かつ X′，Y′及びZ′のいずれか二つは （但し、いずれの場合もＲはＨ又はCH3を表
し、ｎは２ないし約100の整数を表す）で示さ
れる。 ポリイミダゾール及びポリイミダゾピロロン
のオリゴマー及び／又はポリマーの前駆物質。 ２ 一般式 において、 Ｘ，Ｙ及びＺは 又は【式】であり、かつ、 Ｘ，Ｙ及びＺのいずれか二つは であり、 又は式 において、 X′，Y′及びZ′は 又は【式】であり、かつ X′，Y′及びZ′のいずれか二つは （但し、いずれの場合もＲはＨ又はCH3を表
し、ｎは２ないし約100の整数を表す）で示され
るポリイミダゾール及びポリイミダゾピロロン前
駆物質を製造する方法において、ジアミノベンジ
ジンを、イソフタル酸エステル又はイソフタル酸
クロリドと反応させるか、或いはピロメリツト酸
二無水物と反応させてアミノ基含有反応生成物に
し、この反応生成物を室温又は約100℃までの温
度で有機溶剤中においてグリシジルアクリレート
又はグリシジルメタルクリレートと反応させるこ
とを特徴とするポリイミダゾール及びポリイミダ
ゾピロロン前駆物質の製造方法。 ３ ジアミノベンジジンとピロメリツト酸二無水
物とからの反応生成物を、グリシジルアクリレー
ト又はグリシジルメタクリレートとの反応に際し
て過剰量で使用することを特徴とする特許請求の
範囲第２項記載の方法。
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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