JPH01207922A - 超音波振動型シリコン・ソース気化装置 - Google Patents
超音波振動型シリコン・ソース気化装置Info
- Publication number
- JPH01207922A JPH01207922A JP3182688A JP3182688A JPH01207922A JP H01207922 A JPH01207922 A JP H01207922A JP 3182688 A JP3182688 A JP 3182688A JP 3182688 A JP3182688 A JP 3182688A JP H01207922 A JPH01207922 A JP H01207922A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- vaporization
- silicon source
- frequency
- flow
- ultrasonic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、半導体製造工程で使用されるシリコン・ソー
スの気化装置に関する。
スの気化装置に関する。
［従来の技術］
半導体製造工程で使用されるシリコン・ソースは気化し
難い上、大気に漏れないように保全するとともにエピタ
キシャルに用いる時の気体濃度を定常にコントロールし
、必要な量を能率良く供給出来るように気化を促進しな
ければならない。
難い上、大気に漏れないように保全するとともにエピタ
キシャルに用いる時の気体濃度を定常にコントロールし
、必要な量を能率良く供給出来るように気化を促進しな
ければならない。
従来は、タンク内に貯蔵した液体シリコン・ソースにキ
ャリアガスを吹込み、バブリングによりシリコン・ソー
スの気化ガスを発生させていた。
ャリアガスを吹込み、バブリングによりシリコン・ソー
スの気化ガスを発生させていた。
シリコン・ソースの気泡中への揮発効率は高くないから
、タンク・バブリングによる大量の気化には限界があり
、また気化熱による液温の低下の影響を受けて所要の気
化流量を安定に長時間確保することが難しい。シリコン
・ソースの気化ガス供給量に制限がある為、半導体製造
工程の生産性向上のネックとなっているのが現状である
。
、タンク・バブリングによる大量の気化には限界があり
、また気化熱による液温の低下の影響を受けて所要の気
化流量を安定に長時間確保することが難しい。シリコン
・ソースの気化ガス供給量に制限がある為、半導体製造
工程の生産性向上のネックとなっているのが現状である
。
［発明が解決しようとする問題点］
タンク・バブリングによるシリコン・ソースの気化・供
給方式は、気化熱による液温低下の影響が低効率の原因
となって、最大気化量３０ｇ／分、供給時間３０分程度
に留っていたこれまでの水準を打破し、気化量の安定化
と気化流量の最大値を引上げる。
給方式は、気化熱による液温低下の影響が低効率の原因
となって、最大気化量３０ｇ／分、供給時間３０分程度
に留っていたこれまでの水準を打破し、気化量の安定化
と気化流量の最大値を引上げる。
［問題を解決するための手段］
本発明は、単一ないし複数の周波数超音波により液体シ
リコン・ソースを気化させることを特徴とする超音波振
動型シリコン・ソース気化装置であり、シリコン・ソー
ス分子に直接気化エネルギーを与えて気化を安定に促進
させ気化効率の低下要因を排除して、気化の安定を高め
るとともに気化流量を大幅に増大する。
リコン・ソースを気化させることを特徴とする超音波振
動型シリコン・ソース気化装置であり、シリコン・ソー
ス分子に直接気化エネルギーを与えて気化を安定に促進
させ気化効率の低下要因を排除して、気化の安定を高め
るとともに気化流量を大幅に増大する。
［作用及び実施例］
第１図の本発明の一実施例において気化装置のタンクｌ
内に備えた超音波振動子２に、発振器３を接続する。発
生させる音波は超音波領域の周波数のものであって超音
波周波数を持てば液体シリコン・ソース４の分子に気化
エネルギーを有効に与えることができる。周波数は単一
に留まらず、複数の周波数を持っていても必要な気化効
果を取り出すことができる。
内に備えた超音波振動子２に、発振器３を接続する。発
生させる音波は超音波領域の周波数のものであって超音
波周波数を持てば液体シリコン・ソース４の分子に気化
エネルギーを有効に与えることができる。周波数は単一
に留まらず、複数の周波数を持っていても必要な気化効
果を取り出すことができる。
気化シリコン・ソース発生口５をタンク１上部に備える
。液体シリコン・ソースは、５ｉＣ１４，５ｉｆｌＣ１
３，加圧状態の５ｉＨ２ＣＩ２等が使える。液相中のシ
リコン・ソース分子は超音波周波数の振動を受けて気化
エネルギーを保有し、安定した気化蒸発を始める。ガス
発生量は安定していて、この安定を崩す要因がない振動
系全体は、気化流量を変更する時のレスポンスも良くガ
ス流量の制御が素早いと同時に、大流量を送出できる。
。液体シリコン・ソースは、５ｉＣ１４，５ｉｆｌＣ１
３，加圧状態の５ｉＨ２ＣＩ２等が使える。液相中のシ
リコン・ソース分子は超音波周波数の振動を受けて気化
エネルギーを保有し、安定した気化蒸発を始める。ガス
発生量は安定していて、この安定を崩す要因がない振動
系全体は、気化流量を変更する時のレスポンスも良くガ
ス流量の制御が素早いと同時に、大流量を送出できる。
又、シリコン・ソースの純度に左右されずに純度の高い
気化ガスを発生させることができる。
気化ガスを発生させることができる。
本発明装置のシリコン・ソースガス供給能力は、供給時
間９０分の間、１１００ｇ／分の気化量を供給でき、気
化量２００ｇ／分の実施は容易である。
間９０分の間、１１００ｇ／分の気化量を供給でき、気
化量２００ｇ／分の実施は容易である。
［発明の効果コ
本発明は、液相中のシリコン・ソース分子に超音波周波
数の振動を与えて気化エネルギーを保有させ、安定した
気化蒸発を始めることができ、この安定を崩す要因がな
い振動系全体は、気化流量を変更する時のレスポンスも
良くガス流量の制御が素早いと同時に従来以上の大流量
を送出できる上に、シリコン・ソースの純度に左右され
ずに純度の高い気化ガスを発生・供給することができる
。
数の振動を与えて気化エネルギーを保有させ、安定した
気化蒸発を始めることができ、この安定を崩す要因がな
い振動系全体は、気化流量を変更する時のレスポンスも
良くガス流量の制御が素早いと同時に従来以上の大流量
を送出できる上に、シリコン・ソースの純度に左右され
ずに純度の高い気化ガスを発生・供給することができる
。
第１図は本発明の一実施例を示す気化装置の概要説明図
である。 １：気化装置タンク ２：超音波振動子３：発振器 ４
＝液体シリコン・ソース５：気化シリコン・ソース発生
口 出願人 東芝セラミックス株式会社
である。 １：気化装置タンク ２：超音波振動子３：発振器 ４
＝液体シリコン・ソース５：気化シリコン・ソース発生
口 出願人 東芝セラミックス株式会社
Claims (1)
- （１）単一ないし複数の周波数超音波により液体シリコ
ン・ソースを気化させることを特徴とする超音波振動型
シリコン・ソース気化装置
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3182688A JPH01207922A (ja) | 1988-02-16 | 1988-02-16 | 超音波振動型シリコン・ソース気化装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3182688A JPH01207922A (ja) | 1988-02-16 | 1988-02-16 | 超音波振動型シリコン・ソース気化装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01207922A true JPH01207922A (ja) | 1989-08-21 |
Family
ID=12341882
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3182688A Pending JPH01207922A (ja) | 1988-02-16 | 1988-02-16 | 超音波振動型シリコン・ソース気化装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01207922A (ja) |
-
1988
- 1988-02-16 JP JP3182688A patent/JPH01207922A/ja active Pending
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