JPH03180814A - 液晶表示素子の配向処理方法 - Google Patents
液晶表示素子の配向処理方法Info
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- JPH03180814A JPH03180814A JP1320179A JP32017989A JPH03180814A JP H03180814 A JPH03180814 A JP H03180814A JP 1320179 A JP1320179 A JP 1320179A JP 32017989 A JP32017989 A JP 32017989A JP H03180814 A JPH03180814 A JP H03180814A
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1337—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers
- G02F1/13378—Surface-induced orientation of the liquid crystal molecules, e.g. by alignment layers by treatment of the surface, e.g. embossing, rubbing or light irradiation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
- C09K2323/00—Functional layers of liquid crystal optical display excluding electroactive liquid crystal layer characterised by chemical composition
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
この発明は、液晶表示素子の基板面の配向処理方法、特
にラビング法による配向処理方法に関するものである。
にラビング法による配向処理方法に関するものである。
[従来の技術]
第3図には、例えば特開昭63−96630号公報に開
示された、従来の液晶表示素子の基板面の配向処理方法
を示す。第3図に示す排気用ダクト(3)を有するキャ
ビネット(4)内において、テーブル〈6)上に固定さ
れたガラス基板(5)上の配向膜(特に図示せず)に向
かって、細かく粉砕された氷片(7)がブラスト・ノズ
ル(2)によって噴射される。ブラスト・ノズル(2)
は圧縮空気あるいは高圧窒素である高圧ガス(1)の力
によって、氷片(7)を高圧で噴射する。噴射された氷
片(7)はホッパ(8)で受けられ、再びブラスト・ノ
ズル(2)に供給される。
示された、従来の液晶表示素子の基板面の配向処理方法
を示す。第3図に示す排気用ダクト(3)を有するキャ
ビネット(4)内において、テーブル〈6)上に固定さ
れたガラス基板(5)上の配向膜(特に図示せず)に向
かって、細かく粉砕された氷片(7)がブラスト・ノズ
ル(2)によって噴射される。ブラスト・ノズル(2)
は圧縮空気あるいは高圧窒素である高圧ガス(1)の力
によって、氷片(7)を高圧で噴射する。噴射された氷
片(7)はホッパ(8)で受けられ、再びブラスト・ノ
ズル(2)に供給される。
[発明が解決しようとする課題]
従来のラビング法による液晶基板面の配向処理は以上の
ように行われていたので、大きな氷の塊を作り、この氷
の塊を小さい木片に粉砕するという効率の悪い作業を行
っていた。さらに氷を粉砕する機械部分を設けた場合に
、この機械部分を冷却した状態に維持しておく必要があ
り、運転コストが高くなる。また、機械的な粉砕によっ
て均一な粒径の氷片を得ることは非常に難しく、しかも
粉砕工程において、木片にごみが混じる等の問題があっ
た。
ように行われていたので、大きな氷の塊を作り、この氷
の塊を小さい木片に粉砕するという効率の悪い作業を行
っていた。さらに氷を粉砕する機械部分を設けた場合に
、この機械部分を冷却した状態に維持しておく必要があ
り、運転コストが高くなる。また、機械的な粉砕によっ
て均一な粒径の氷片を得ることは非常に難しく、しかも
粉砕工程において、木片にごみが混じる等の問題があっ
た。
この発明は上記のような問題を解決することを課題とし
てなされたもので、液晶表示素子のガラス基板の表面の
ラビングを、均一な粒径の氷片により行うことができる
とともに、この氷片の製造工程において、ごみが混じる
ことがなく、しかも低コストの配向処理方法を得ること
を目的とする。
てなされたもので、液晶表示素子のガラス基板の表面の
ラビングを、均一な粒径の氷片により行うことができる
とともに、この氷片の製造工程において、ごみが混じる
ことがなく、しかも低コストの配向処理方法を得ること
を目的とする。
[課題を解決するための手段]
上記目的に鑑み、この発明は、ラビング法により液体表
示素子の基板面に配向処理を施す方法であって、被凍結
液を噴霧することにより所望の大きさの粒子に微細化す
る工程と、被凍結液のv&綱化された粒子を冷媒との熱
交換によって凍結させて所望の粒径の微粒氷を生成する
工程と、これらの微粒氷を基板面に向けて所望の角度で
噴射する工程と、を備えた液晶表示素子の配向処理方法
にある。
示素子の基板面に配向処理を施す方法であって、被凍結
液を噴霧することにより所望の大きさの粒子に微細化す
る工程と、被凍結液のv&綱化された粒子を冷媒との熱
交換によって凍結させて所望の粒径の微粒氷を生成する
工程と、これらの微粒氷を基板面に向けて所望の角度で
噴射する工程と、を備えた液晶表示素子の配向処理方法
にある。
[作用コ
この発明においては、被凍結液をスプレィ・ノズルある
いは蒸発させることによって均一でしがち微細な水滴に
して噴霧し、その噴霧された微細水滴を液体窒素等の冷
媒と熱交換させて凍結させ、この微細凍結粒子を基板上
の配向面に噴射するようにして配向処理を行う。
いは蒸発させることによって均一でしがち微細な水滴に
して噴霧し、その噴霧された微細水滴を液体窒素等の冷
媒と熱交換させて凍結させ、この微細凍結粒子を基板上
の配向面に噴射するようにして配向処理を行う。
[実施例]
以下、この発明の一実施例を図について説明する。第1
図はこの発明の一実施例による配向処理方法を示す概略
図である。貯蔵タンク(10)には被凍結液である超純
水(11〉が貯蔵されている。
図はこの発明の一実施例による配向処理方法を示す概略
図である。貯蔵タンク(10)には被凍結液である超純
水(11〉が貯蔵されている。
断熱容器(40)は冷媒、例えば液化窒素(13)によ
って容器全体が冷却される。そして超純水(11)を高
圧ガス、例えば窒素ガス(12)の圧力によりスプレー
ノズル(20)によって断熱容器(40)内に噴霧する
と、液化窒素(13)との熱交換により超純水(11)
の凍結粒子(17〉が生成される。例えば、超純水(1
1)に対して10倍程度の窒素ガス(13)を供給すれ
ば、超純水(13)の微細化が可能である。凍結粒子(
17)の粒径は、スプレーノズル(20)に供給される
超純水(11)と窒素ガス(12)との比率を変えるこ
とによって変化する。この方法では、5m111ないし
20pm程度の粒径の凍結粒子(17)が得られる。ブ
ラスト・ノズル(30)にはスプレーノズル(20)と
同じ窒素ガス(12)が供給されており、このようにし
て得られた凍結粒子〈17)はブラスト・ノズル(30
)に吸引されると同時に、ブラスト・ノズル(20)か
らテーブル(6)上に固定された液晶表示素子の基板(
5)上の配向面(特に図示せず)の表面に噴射される。
って容器全体が冷却される。そして超純水(11)を高
圧ガス、例えば窒素ガス(12)の圧力によりスプレー
ノズル(20)によって断熱容器(40)内に噴霧する
と、液化窒素(13)との熱交換により超純水(11)
の凍結粒子(17〉が生成される。例えば、超純水(1
1)に対して10倍程度の窒素ガス(13)を供給すれ
ば、超純水(13)の微細化が可能である。凍結粒子(
17)の粒径は、スプレーノズル(20)に供給される
超純水(11)と窒素ガス(12)との比率を変えるこ
とによって変化する。この方法では、5m111ないし
20pm程度の粒径の凍結粒子(17)が得られる。ブ
ラスト・ノズル(30)にはスプレーノズル(20)と
同じ窒素ガス(12)が供給されており、このようにし
て得られた凍結粒子〈17)はブラスト・ノズル(30
)に吸引されると同時に、ブラスト・ノズル(20)か
らテーブル(6)上に固定された液晶表示素子の基板(
5)上の配向面(特に図示せず)の表面に噴射される。
また第2図には、この発明の他の実施例の配向処理方法
を示す概略図が示されている。この実施例においては、
被凍結液である超純水(13)が加圧タンク(50)内
に貯蔵されている。そして加熱手段であるし−タ(60
)によって加熱して、超純水〈13)を蒸発させ、蒸気
(lla)を断熱容H(40)内に送り込んで直接冷却
する。このようにクラスタ状態の水を冷却することによ
って、20pm以下の超々微細な凍結粒子を得ることが
できる。
を示す概略図が示されている。この実施例においては、
被凍結液である超純水(13)が加圧タンク(50)内
に貯蔵されている。そして加熱手段であるし−タ(60
)によって加熱して、超純水〈13)を蒸発させ、蒸気
(lla)を断熱容H(40)内に送り込んで直接冷却
する。このようにクラスタ状態の水を冷却することによ
って、20pm以下の超々微細な凍結粒子を得ることが
できる。
このように、この発明の方法では超純水をスプレーノズ
ル等により予め微細な形状にした後、製氷するので、大
きな氷片を機械的に粉砕するようなエネルギのロスが無
い。また、ごみが凍結粒子に混ざることも無く、均一な
粒径の氷粒子が得られるので、配向を均一に行うことが
でき、クリーンな処理が行える。しかも従来、粒径が数
ミリ程度のものしか得られなかったが、この発明の方法
では粒径が5am以下の微細な粒子が得られるので、配
向が密に行える。さらに、基板上を洗浄する効果も得ら
れる。
ル等により予め微細な形状にした後、製氷するので、大
きな氷片を機械的に粉砕するようなエネルギのロスが無
い。また、ごみが凍結粒子に混ざることも無く、均一な
粒径の氷粒子が得られるので、配向を均一に行うことが
でき、クリーンな処理が行える。しかも従来、粒径が数
ミリ程度のものしか得られなかったが、この発明の方法
では粒径が5am以下の微細な粒子が得られるので、配
向が密に行える。さらに、基板上を洗浄する効果も得ら
れる。
なお、上記実施例においては、超純水の噴霧および凍結
粒子の噴射のための高圧ガスとして窒素ガスを使用した
が、これに限られるものではなく、例えば、圧縮空気で
あってもよい。また、高圧ガスを使用せずに、超純水に
直接圧力をかけるようにして噴霧してもよい。また、被
凍結液等も上記実施例に限定されるものではない。
粒子の噴射のための高圧ガスとして窒素ガスを使用した
が、これに限られるものではなく、例えば、圧縮空気で
あってもよい。また、高圧ガスを使用せずに、超純水に
直接圧力をかけるようにして噴霧してもよい。また、被
凍結液等も上記実施例に限定されるものではない。
[発明の効果]
以上のようにこの発明によれば、液晶表示素子の基板面
の配向処理を、微細で均一でしかもクリーンな氷粒子を
基板面に噴射して行うようにしたので、清浄度が高く、
均一な配向を実施することができるという効果が得られ
る。
の配向処理を、微細で均一でしかもクリーンな氷粒子を
基板面に噴射して行うようにしたので、清浄度が高く、
均一な配向を実施することができるという効果が得られ
る。
第1図はこの発明の一実施例による液晶表示素子の配向
処理方法を示す概略図、第2図はこの発明の他の実施例
による配向処理方法を示す概略図、第3図は従来の配向
処理方法を示す概略図である。 図において、(5)は基板、(10)は貯蔵タンク、(
11)は超純水、(lla)は蒸気、(12)は窒素ガ
ス、(13)は液化窒素、(17)は凍結粒子、(20
)はスプレーノズル、(30)はプラスト ノズル、(
40)は断熱容器、(50〉は加圧タンク、(60)は
ヒータである。 尚、図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。
処理方法を示す概略図、第2図はこの発明の他の実施例
による配向処理方法を示す概略図、第3図は従来の配向
処理方法を示す概略図である。 図において、(5)は基板、(10)は貯蔵タンク、(
11)は超純水、(lla)は蒸気、(12)は窒素ガ
ス、(13)は液化窒素、(17)は凍結粒子、(20
)はスプレーノズル、(30)はプラスト ノズル、(
40)は断熱容器、(50〉は加圧タンク、(60)は
ヒータである。 尚、図中、同一符号は同−又は相当部分を示す。
Claims (4)
- (1)ラビング法により液体表示素子の基板面に配向処
理を施す方法であって、 被凍結液を噴霧することにより所望の大きさの水滴に微
細化する工程と、 被凍結液の微細化された上記水滴を冷媒との熱交換によ
って凍結させて所望の粒径の凍結粒子を生成する工程と
、 これらの凍結粒子を上記基板面に向けて所望の角度で噴
射する工程と、 を備えた液晶表示素子の配向処理方法。 - (2)上記被凍結液を微細化する工程において、スプレ
ーノズルを使用して被凍結液を高圧ガスの圧力によって
噴霧して、被凍結液を微細な水滴にする特許請求の範囲
第1項に記載の液晶表示素子の配向処理方法。 - (3)上記スプレーノズルに供給される上記被凍結液と
高圧ガスとの比率を変えることにより、5mmないし2
0μmの所望の粒径の凍結粒子を生成する特許請求の範
囲第2項に記載の液晶表示素子の配向処理方法。 - (4)上記被凍結液を微細化する工程において、加圧タ
ンクに収納された上記被凍結液を加熱手段を用いて加熱
し被凍結液をクラスター状態にして噴霧し、上記微粒氷
生成工程においてクラスター状態の被凍結液を直接凍結
させて、20μm以下の粒径の凍結粒子を生成する特許
請求の範囲第1項に記載の液晶表示素子の配向処理方法
。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1320179A JPH03180814A (ja) | 1989-12-08 | 1989-12-08 | 液晶表示素子の配向処理方法 |
| US07/647,478 US5114748A (en) | 1989-12-08 | 1990-11-29 | Method of preparing or rubbing a substrate to be used in a lcd device by spraying it with uniformly sized droplets or frozen water |
| DE4039004A DE4039004A1 (de) | 1989-12-08 | 1990-12-06 | Verfahren zur orientierungsbehandlung einer fluessigkristallanzeige-einrichtung |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1320179A JPH03180814A (ja) | 1989-12-08 | 1989-12-08 | 液晶表示素子の配向処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH03180814A true JPH03180814A (ja) | 1991-08-06 |
Family
ID=18118577
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1320179A Pending JPH03180814A (ja) | 1989-12-08 | 1989-12-08 | 液晶表示素子の配向処理方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5114748A (ja) |
| JP (1) | JPH03180814A (ja) |
| DE (1) | DE4039004A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05281542A (ja) * | 1992-03-31 | 1993-10-29 | Nec Corp | 液晶配向処理方法及び装置 |
Families Citing this family (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5477358A (en) * | 1993-06-21 | 1995-12-19 | Case Western Reserve University | Chiral nematic liquid crystal display with homeotropic alignment and negative dielectric anisotropy |
| US5403617A (en) * | 1993-09-15 | 1995-04-04 | Mobium Enterprises Corporation | Hybrid pulsed valve for thin film coating and method |
| US5736195A (en) * | 1993-09-15 | 1998-04-07 | Mobium Enterprises Corporation | Method of coating a thin film on a substrate |
| JP3200528B2 (ja) * | 1995-01-19 | 2001-08-20 | 三菱電機株式会社 | ドライエッチングの後処理方法 |
| JP3517585B2 (ja) * | 1998-04-23 | 2004-04-12 | 株式会社アドバンスト・ディスプレイ | 液晶表示パネルの製造方法およびこれに用いられる洗浄装置 |
| DE19963835C2 (de) * | 1999-12-30 | 2002-03-28 | Sca Hygiene Prod Gmbh | Verfahren zur Applikation von Behandlungschemikalien auf flächige Erzeugnisse auf Faserbasis, insbesondere Tissue, und damit hergestellte Produkte |
| PT102595A (pt) * | 2001-04-06 | 2003-01-31 | Univ Pasteur | Processo para a preparacao de camadas de alinhamento, com propriedades de ancoragem azimutal predeterminadas para serem utilizadas em dispositivos de cristais liquidos |
| US9603301B2 (en) * | 2007-08-10 | 2017-03-28 | Orlando Jerez | Weed trimming apparatus, weed trimmer head, and trimmer line retention device |
| CN111890230B (zh) * | 2019-12-31 | 2022-01-04 | 南通仁隆科研仪器有限公司 | 一种物理除锈设备 |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0690378B2 (ja) * | 1986-10-13 | 1994-11-14 | 松下電器産業株式会社 | 液晶表示素子の製法 |
| DE3844648C2 (ja) * | 1987-06-23 | 1992-02-20 | Taiyo Sanso Co. Ltd., Osaka, Jp | |
| JPH02130921A (ja) * | 1988-11-11 | 1990-05-18 | Taiyo Sanso Co Ltd | 固体表面洗浄装置 |
-
1989
- 1989-12-08 JP JP1320179A patent/JPH03180814A/ja active Pending
-
1990
- 1990-11-29 US US07/647,478 patent/US5114748A/en not_active Expired - Fee Related
- 1990-12-06 DE DE4039004A patent/DE4039004A1/de active Granted
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH05281542A (ja) * | 1992-03-31 | 1993-10-29 | Nec Corp | 液晶配向処理方法及び装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE4039004C2 (ja) | 1992-09-24 |
| US5114748A (en) | 1992-05-19 |
| DE4039004A1 (de) | 1991-06-13 |
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