JPS6348610A - 磁気記録体 - Google Patents

磁気記録体

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JPS6348610A
JPS6348610A JP19138486A JP19138486A JPS6348610A JP S6348610 A JPS6348610 A JP S6348610A JP 19138486 A JP19138486 A JP 19138486A JP 19138486 A JP19138486 A JP 19138486A JP S6348610 A JPS6348610 A JP S6348610A
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JP
Japan
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magnetic
film
soft magnetic
recording
substrate
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JP19138486A
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Masamichi Tagami
勝通 田上
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NEC Corp
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、磁気記録装置に用いられる磁気記録体に関す
る。
(従来の技術) 磁気記録装置の記録密度の向上は、斯界の変わらぬ趨勢
であり、従来の長手(面内方向)磁化音用いる磁気記録
方式にかわり近年原理的に高密度記録の可能な方式とし
て垂直磁化を用いる磁気記録方式が提案されている。
ここで用いられる磁気記暮体には、基板上に直接または
下地層を介して垂直磁気異方性膜を形成した単層媒体及
び基板上に軟磁性膜を形成し、その後直接または下地層
全弁して垂直磁気異7i註膜を形成した1ハわゆる2考
課体がある。
(発明が解決しようとする問題点) これらの磁気記録体としては、プラスチックフィルムを
基板として用いるフレキシブル記録体及びA4合金にN
iPメッキ甘たせアルマイト灸覆した基板またはガラス
、セラミック等O硬質基板を用いるリジットの記録体が
ある。近迫、特;Cリジット記録体においてディスク基
板に同心円状に凹凸の微小な溝(ミゾ)を形成しこのミ
ゾ方向ンで磁性膜の磁気的異方性全付与し、磁気特性の
改善及び磁気ヘッドと記録体表面との吸着の防止を9っ
ている。
しかしながら、軟磁性膜と垂直磁気異方性膜からなる2
層媒体を同心円状に凹凸のミゾを有する基板上に形成し
た場合、通常用いられる磁歪を低減した軟磁性膜におい
てはミゾ方向全容易軸とする磁気異方性が発生し、この
2層媒体に記録再生を行った結果、軟磁性膜のトラック
長手方向の高周波の透磁率が低下し、配弁周波数特性が
著しく劣化する問題が生じた。
従来例として、第3図(aJ 、 (blに示すように
、ディスク基板1には、アルミ合金基板にN1Piメツ
キして鏡面研摩加工時にディスク円板の円周方向に、研
摩による凹凸のミゾ2を形成した。このミゾ構造の形状
は、第4図に示すような傾斜した凹凸の金型で成型され
たプラスチ、り基板でもよい。
この従来例として、ミゾ粗さくRa)200Aのアルミ
谷金基板を用い、軟磁性膜には、NiFe合金(8Qw
tチN4)をターゲットとしてスパッタ装置により成膜
したつこのときの内部応力(σ)、磁歪定数(λ)及び
面内の磁気異方性定数(Ku)iはそれぞれ+I X 
1 (j0dyne/f:n?、 +2X10 、1刈
0’erg/ccとなる。この場合にはスジ方向と平行
の磁気異方性が生じていた。
本発明の目的は、このような問題点を解決し、高周波特
性を改善し、記録密度全高めた磁気記録体を提供するこ
とにある。
(問題点を解決するための手段) 本発明の磁気記録体の構成は、溝の粗さが500A以下
の凹凸が同心円状に形成されている基板上に、軟磁性膜
力;形成され、この軟磁性膜上に磁気異方性方向が前記
凹凸の溝方向と直角である垂直磁気異方性膜が形成され
たことを特徴とする。
(作用) 本発明の磁気記録体は、軟磁性膜に凹凸のミゾ方向と直
角に容易軸をなす磁気異方性を発現させることにより、
記録トラック長手方向で軟磁性膜の透磁率の周波数特性
を向上させ、記録・再生特性が太きく改善できる。
〔実施例〕
次に本発明について図面を参照して説明する。
第1図、第2図はそれぞれ本発明の第1および第2の実
施例のディスク基板の一部分断面図である。
本実施例の基板1には、アルミ合金基板にNiP金メッ
キして鏡面りI摩加工時にディスク円板の円周方向に、
第3図(a) 、 (blの如く研摩により凹凸のミゾ
を形成した基板を用いた。このミゾ構造の形状は、第4
図に示すような、金型によって成型されたプラスチック
基板でも同様の効果がある。
第1の実施例(第1図)のディスク基板1としては、ミ
ゾの粗さRa(平均の粗ざ)は200Xと30OAのも
のを用い、比較例としてミゾ粗さ500Aの基板を用い
た。これらの基板を用いた記録体をそれぞれ記録体I、
■、Iとする。
軟磁性膜の作製には、NiFe合金(85wt%Ni)
を用い、マグネトロンスパッタ装置を用いて0.4μm
形成した。
第5図は形成時のアルゴン圧力PArK対するNiFe
合金膜の膜の内部応力の関係を示す特性崗である。図の
如く、本実施例番で用いたスパッタ装置においては、P
A、〜2m Torrを境に引張シ応力(符号歪)と圧
縮応力(符号負)に応力が変化し、アルゴン圧力を変え
て内部応力を制御した。本実施例では、PA r−6m
To r rでスパッタを行々っだが、それぞれの基板
上に形成した膜の内部応力と膜の磁歪定数はそ11ぞれ
2XI Q10dyne/crn’と−tsxxo’で
あ、:、た。
軟磁性膜を形成した記録体r、n、xの面内具カ性を磁
気トル7計で測定した結果を第1表に示す。
第1表 −゛可 磁気異方性定数Kuにおいて負の符号はミゾ方向と直角
方向に容易@を有し、正の符号はミゾ方向と平行に容易
軸を有する。
軟磁性膜を形成した記録体には、PAr/mTorrニ
オイテ、CoCr合金(22at%Cr)  ターゲッ
トを用いてマグネトロンスパッタによpCoCr膜を0
.2μmそれぞれ形成した。形成された膜の垂直方向の
保磁力は5000eでちった。
第2の実施例を示す第2図において、ディスク基板とし
て第4図に示す形状の基板を用い、ミゾの粗さ■モ、ば
200Aであった。軟磁性膜の作製には、NiF”ec
r合金(N’60 Fe50 Cr1O)ターゲットを
用い、マグネトロンスパッタ装置を用いて0.4pm形
成した。スバ、り圧力PArはQ、BmTorで、この
ときの軟磁性、@ (N i F e Cr )の内部
応力は圧縮圧カー1..9X 10”dyne 7cm
2で、磁歪定数は一!−20X10  であった。
軟磁性層全形成した記録体■の市内具7+注を磁気トル
ク計で測定した結果を第1表に示す。磁気異方性定数K
uは−1,5X10  erg/ccでミゾ方向(て直
角に異方性が生じた。
この軟磁性膜形成後、第1の実月例と同様のC。
Cr合金ターゲットを用い、CoCr膜をQ、2μm形
成した。膿の垂直方向の9磁カは5500e であった
これら実月例、比較及び従来例の記録体I−Vを用い、
リターンバスを有する薄7摸型の主磁事急磁の磁気ヘッ
ドで記録再生を行ないその記録密度特性を調べた。主磁
極膜厚は0.3岸mである。
第2表にそnぞれの記録密度を表わすD5゜(孤立波出
力のSとなる出力での密度)を示した。
第2表 この表より、本実施例の記録体1.fl、Vの記録密展
Dsa ’rlぞれぞi90,75,80に−EIPI
 で、十分高い密度特性が得られ次。−力、比較例及び
従来例の記録体ff、IVでは、D、。はそれぞれ50
゜60に−BPIで実施例より劣った。
(発明の効果) 以上説明したように1本発明によれば、記録密度の高い
磁気記録体を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1ス、第2図は本発明の第1および第2の実施例の部
分断面図、第3図(al 、 Q))けディスク基板の
平面図とその部分断面図、第4図は金型によりディスク
基板を作製した部分断面図、第5図ばNiFe合金、模
形成時のスパッタ圧力と膜の内部応力の関係を示す特性
図である。 1・・・・−・ディスク基板、2・・・・・・ミゾ、3
・・・・・・基板断面、4・・・・・・基板断面形状、
5・・・・・・基板、6・・・・・・帛I図 郷2 ロ 牟4 図 崇5 図

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)溝の粗さが500Å以下の凹凸が同心円状に形成
    されている基板上に、軟磁性膜が形成され、この軟磁性
    膜上に磁気異方性方向が前記凹凸の溝方向と直角である
    垂直磁気異方性膜が形成されたことを特徴とする磁気記
    録体。
  2. (2)軟磁性膜は、その磁歪定数が負の値であり膜の内
    部応力が引張り応力である特許請求の範囲第1項記載の
    磁気記録体。
  3. (3)軟磁性膜は、その磁歪定数が正の値であり膜の内
    部応力が圧縮応力である特許請求の範囲第1項記載の磁
    気記録体。
JP61191384A 1986-08-15 1986-08-15 磁気記録体 Expired - Lifetime JPH0664730B2 (ja)

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JPS6348610A true JPS6348610A (ja) 1988-03-01
JPH0664730B2 JPH0664730B2 (ja) 1994-08-22

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JPH0664730B2 (ja) 1994-08-22

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