JPH01224792A - 表示装置の製造方法 - Google Patents
表示装置の製造方法Info
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- JPH01224792A JPH01224792A JP4963888A JP4963888A JPH01224792A JP H01224792 A JPH01224792 A JP H01224792A JP 4963888 A JP4963888 A JP 4963888A JP 4963888 A JP4963888 A JP 4963888A JP H01224792 A JPH01224792 A JP H01224792A
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- thin film
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- reflectance
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- Formation Of Various Coating Films On Cathode Ray Tubes And Lamps (AREA)
- Vessels, Lead-In Wires, Accessory Apparatuses For Cathode-Ray Tubes (AREA)
- Transforming Electric Information Into Light Information (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
ｒ発明の目的〕
（産業上の利用分野）
本発明は表示装置に係り、特にその表示面の反射防止膜
並びにその製造方法に関するものである。
並びにその製造方法に関するものである。
（従来の技術）
表示装置、例えば陰極線管の表示面外表面は、通常平滑
な鏡面であり外光が表示面に反射して見にくくなってい
た。このような不都合を防止するために特公昭５６−４
６２２９号公報には所定の光学定数を有する膜を少なく
とも１つの構成膜とする多層反射防止膜を表示面の外表
面に備える技術が示されている。又、特公報昭５４−２
８２０号公報には表示装置の表示面に導電性酸化インジ
ウム膜および低屈折率透明膜を積層しかつ反射率が１％
以下の反射防止膜を形成する技術が示されている。
な鏡面であり外光が表示面に反射して見にくくなってい
た。このような不都合を防止するために特公昭５６−４
６２２９号公報には所定の光学定数を有する膜を少なく
とも１つの構成膜とする多層反射防止膜を表示面の外表
面に備える技術が示されている。又、特公報昭５４−２
８２０号公報には表示装置の表示面に導電性酸化インジ
ウム膜および低屈折率透明膜を積層しかつ反射率が１％
以下の反射防止膜を形成する技術が示されている。
しかし上述した様な技術では光学上、理論的には可能で
あっても、極めて薄い膜を表示面全面にわたって均一に
積層形成することは極めて困難であり、又、膨大なコス
トを要するため未だ実用化に至っていない。
あっても、極めて薄い膜を表示面全面にわたって均一に
積層形成することは極めて困難であり、又、膨大なコス
トを要するため未だ実用化に至っていない。
（発明が解決しようとする課題）
上述した様に表示面に形成された従来の多層反射防止膜
ではその製造が極めて困難であり、又コスト的にも膨大
になってしまう問題がある。
ではその製造が極めて困難であり、又コスト的にも膨大
になってしまう問題がある。
本発明は上記問題を解決するためになされたもので、表
示面上に形成された薄膜の屈折率をより低下させること
により良好な単層反射防止膜を有する表示装置及びその
製造方法を提供することを目的とする。
示面上に形成された薄膜の屈折率をより低下させること
により良好な単層反射防止膜を有する表示装置及びその
製造方法を提供することを目的とする。
（課題を解決するための手段）
本発明は５ｕｎ２を主成分とする薄膜を表示面の外表面
に備えた表示装置において、前記薄膜の入射光に対する
反射光の強度が波長５５０ｎｍで、４５０ｎｍに対して
９０％以下で、且つその反射率が薄膜を有しない表示装
置の表示面に比べ７０乃至１０％にすることによって、
優れた反射防止効果を有する表示装置を得ることができ
る。
に備えた表示装置において、前記薄膜の入射光に対する
反射光の強度が波長５５０ｎｍで、４５０ｎｍに対して
９０％以下で、且つその反射率が薄膜を有しない表示装
置の表示面に比べ７０乃至１０％にすることによって、
優れた反射防止効果を有する表示装置を得ることができ
る。
又、上記表示装置の製造方法として、Ｓｉのアルコレー
ト溶液を塗布、乾燥して表示装置の表示面の外表面に８
１０．を主成分とする薄膜を形成する表示装置の製造方
法において、前記Ｓｉのアルコレート溶液に水又は有機
溶剤に可溶な物質を予め添加しておき、前記薄膜を形成
する工程と、前記外表面を水又は有機溶剤にて処理する
ことにより前記水又は有機溶剤に可溶な物質を除去する
工程とを少なくとも有することで、容易に上記表示装置
を得ることができる。
ト溶液を塗布、乾燥して表示装置の表示面の外表面に８
１０．を主成分とする薄膜を形成する表示装置の製造方
法において、前記Ｓｉのアルコレート溶液に水又は有機
溶剤に可溶な物質を予め添加しておき、前記薄膜を形成
する工程と、前記外表面を水又は有機溶剤にて処理する
ことにより前記水又は有機溶剤に可溶な物質を除去する
工程とを少なくとも有することで、容易に上記表示装置
を得ることができる。
（作 用）
本発明は、Ｓｉアルコレートが主成分のアルコール液に
あらかじめ、水又は有機溶剤に可溶な物質を添加してお
き、薄膜形成層、その一部を水又は有機溶剤にて処理す
ることにより薄膜より湧出させ除去することにより、薄
膜屈折率が大幅に低下し反射防止効果を著しく高めるこ
とができることを見い出したものである。
あらかじめ、水又は有機溶剤に可溶な物質を添加してお
き、薄膜形成層、その一部を水又は有機溶剤にて処理す
ることにより薄膜より湧出させ除去することにより、薄
膜屈折率が大幅に低下し反射防止効果を著しく高めるこ
とができることを見い出したものである。
上記物質の除去により残った微細な孔が屈折率の低下を
もたらしているものと考えられる。
もたらしているものと考えられる。
（実施例１）
次に本発明の第１の実施例を説明する。
まず表示装置としての陰極線管のフェースプレート外表
面にスピン法、即ち陰極線管を管軸を中心に回転させな
がら第１表の組成からなる塗布液を供給し、約１１００
ｒｐで塗布液をふりきり、その後乾燥してほぼ均一な薄
膜を形成した。
面にスピン法、即ち陰極線管を管軸を中心に回転させな
がら第１表の組成からなる塗布液を供給し、約１１００
ｒｐで塗布液をふりきり、その後乾燥してほぼ均一な薄
膜を形成した。
表１表
エチルシリケート ２．５ ｖｔ％塩化リチウ
ム ０．６ ｗｔ％水
７ｗｔ％ 塩 酸 ０．９ ｖｔ％イソプロ
ピルアルコール ８９ ｗｔ％次にこの薄膜の形成さ
れた陰極線管の外表面を約１００℃の熱風で１０分間焼
成した後、冷却する。
ム ０．６ ｗｔ％水
７ｗｔ％ 塩 酸 ０．９ ｖｔ％イソプロ
ピルアルコール ８９ ｗｔ％次にこの薄膜の形成さ
れた陰極線管の外表面を約１００℃の熱風で１０分間焼
成した後、冷却する。
その後、フェースレート表面に水を２０秒間スプレーし
、厚さ約１２００人の薄膜が得られた。
、厚さ約１２００人の薄膜が得られた。
陰極線管のフェースプレート外表面に形成されたこの薄
膜は昼光色蛍光ランプ下で青色を帯びており、入射光に
対する反射光の波長λ＝５５０ｎｍにおける強度が、λ
＝ ４５０ｎｍにおける強度に対して約５５％と大幅に
低下した。又、塩化リチウムを含まず水処理をしていな
い同一厚さの膜の反射率が８５％であるのに対し、４０
％と優れた反射防止効果が得られた。
膜は昼光色蛍光ランプ下で青色を帯びており、入射光に
対する反射光の波長λ＝５５０ｎｍにおける強度が、λ
＝ ４５０ｎｍにおける強度に対して約５５％と大幅に
低下した。又、塩化リチウムを含まず水処理をしていな
い同一厚さの膜の反射率が８５％であるのに対し、４０
％と優れた反射防止効果が得られた。
本実施例では添加物質として塩化リチウムを用いたが、
好適な添加物質としては、まず、第一に水又はアルコー
ルに充分可溶であること、第二に薄膜形成時の加熱程度
の温度では飛散しないこと、即ち薄膜の定着まで薄膜内
に存在することが必要である。
好適な添加物質としては、まず、第一に水又はアルコー
ルに充分可溶であること、第二に薄膜形成時の加熱程度
の温度では飛散しないこと、即ち薄膜の定着まで薄膜内
に存在することが必要である。
具体的には例えばアルカリ金属、アルカリ土類金属等が
好適である。
好適である。
又、添加物質の添加量は各物質により異なるが、おおむ
ねＳｉＯ□比にて０．０５〜２０、より好ましくは０．
１〜５である。添加量が多すぎると薄膜の強度劣化や白
濁を生じ、少なすぎると反射防止効果が劣化してしまう
。
ねＳｉＯ□比にて０．０５〜２０、より好ましくは０．
１〜５である。添加量が多すぎると薄膜の強度劣化や白
濁を生じ、少なすぎると反射防止効果が劣化してしまう
。
通常、薄膜形成後の水処理又はアルコール処理により、
これら添加物質の大半が除去され、最終的に薄膜中に残
留するのは多くて５０％、通常１０％以下であり、はと
んど残留しない場合もある。
これら添加物質の大半が除去され、最終的に薄膜中に残
留するのは多くて５０％、通常１０％以下であり、はと
んど残留しない場合もある。
次に添加物質として硝酸リチウムを使用した場合の添加
量と反射率との関係について説明する。
量と反射率との関係について説明する。
第１図は硝酸リチウムの添加量と反射率を示す特性図で
ある。
ある。
反射率の測定は陰極線管のスクリーン面を垂直に固定し
、管軸より上方１５度の角度線上に昼光色蛍光ランプを
置き、下方約１５度の線上に置いたスポット輝度計にて
スクリーン面に写っている蛍光ランプの反射光の強度を
測定する方法で行なった。
、管軸より上方１５度の角度線上に昼光色蛍光ランプを
置き、下方約１５度の線上に置いたスポット輝度計にて
スクリーン面に写っている蛍光ランプの反射光の強度を
測定する方法で行なった。
又、反射率は薄膜を形成していない陰極線管のスクリー
ンの反射率に対するピーク値の相対比較（％）にて表わ
した。
ンの反射率に対するピーク値の相対比較（％）にて表わ
した。
反射率は薄膜の膜厚により異なり、反射光が青乃至紫色
即ち入射光に対する反射光の強度がλ＝５５０ｎｍの付
近で最も低くなる場合が低く黄色即ちλ＝６００ｎｌｌ
Ｉ＋及びλ＝４５０ｎｍ付近が低く、λ＝ ５５０ｎｍ
付近が高い時、比較的高くなる。コントラスト向上から
考えると前者の反射光域が好ましいが、ｒＰｉの耐久性
、帯電防止性等の面からより高い膜厚（反射光が黄色味
を帯びる）が必要となる場合でも本発明の効果は顕著で
ある。
即ち入射光に対する反射光の強度がλ＝５５０ｎｍの付
近で最も低くなる場合が低く黄色即ちλ＝６００ｎｌｌ
Ｉ＋及びλ＝４５０ｎｍ付近が低く、λ＝ ５５０ｎｍ
付近が高い時、比較的高くなる。コントラスト向上から
考えると前者の反射光域が好ましいが、ｒＰｉの耐久性
、帯電防止性等の面からより高い膜厚（反射光が黄色味
を帯びる）が必要となる場合でも本発明の効果は顕著で
ある。
第１図（ａ）は最も反射率が低く得られる膜厚（約１０
００人）であり反射光が青色〜紫色の場合の添加物質と
反射率の関係を示しており、添加量３１％位まで急激に
反射率の低下が見られる。第１図（ｂ）は最も高い反射
率となる膜厚（約１２００人）であり、反射光色が黄色
の場合の添加物質と反射率の関係を示している。
００人）であり反射光が青色〜紫色の場合の添加物質と
反射率の関係を示しており、添加量３１％位まで急激に
反射率の低下が見られる。第１図（ｂ）は最も高い反射
率となる膜厚（約１２００人）であり、反射光色が黄色
の場合の添加物質と反射率の関係を示している。
反射光の色が青乃至紫色の薄膜の場合、薄膜束コート品
に対する反射率は７０％〜１０％、黄色の薄膜の場合、
同じ＜９５％〜７０％に設定することが好ましい。
に対する反射率は７０％〜１０％、黄色の薄膜の場合、
同じ＜９５％〜７０％に設定することが好ましい。
（実施例２）
次に本発明の第２の実施例を説明する。
まず、実施例１と同様な塗布液を用いて、スプレー法に
て予め６０℃に予熱した陰極線管の表示面の外表面に薄
膜を形成する。その後、約１００℃の熱風を３０分間あ
てて焼成し、陰極線管の表示面を６０℃付近まで冷却す
る。そしてこの約６０℃に冷却された陰極線管の表示面
に約５０℃の温水を２０秒間スプレーした。その後乾燥
し、微小な凹凸を有する薄膜が得られた。塩化リチウム
を含まない薄膜を表示面に形成した陰極線管の表示面の
反射率が６０％であるのに対し１本発明品は３０％と良
好な反射防止効果が得られた。
て予め６０℃に予熱した陰極線管の表示面の外表面に薄
膜を形成する。その後、約１００℃の熱風を３０分間あ
てて焼成し、陰極線管の表示面を６０℃付近まで冷却す
る。そしてこの約６０℃に冷却された陰極線管の表示面
に約５０℃の温水を２０秒間スプレーした。その後乾燥
し、微小な凹凸を有する薄膜が得られた。塩化リチウム
を含まない薄膜を表示面に形成した陰極線管の表示面の
反射率が６０％であるのに対し１本発明品は３０％と良
好な反射防止効果が得られた。
以上、陰極線管にて実施例を説明したが、液晶等地の表
示装置や太陽電池等安価で効率の良い反射防止膜が必要
とされる場合に適用できる。又、陰極線管のスクリーン
内側、即ち蛍光体層と接触するガラス面に適用しても、
散乱光が少なく輝度が明るいスクリーンが得られる。又
、Ｚｒ、Ｔｉ等のアルコレートを膜強度向上等の目的で
添加しても良い。
示装置や太陽電池等安価で効率の良い反射防止膜が必要
とされる場合に適用できる。又、陰極線管のスクリーン
内側、即ち蛍光体層と接触するガラス面に適用しても、
散乱光が少なく輝度が明るいスクリーンが得られる。又
、Ｚｒ、Ｔｉ等のアルコレートを膜強度向上等の目的で
添加しても良い。
被膜形成の方法はスプレー法やフローコート法等種々の
方法を用いることができる。
方法を用いることができる。
被膜形成后、焼成を行うが、必要とする膜硬度によって
任意に焼成条件を決めれば良い。通常５０〜１５０℃の
熱風で５〜３０分間程度である。場合によっては風乾の
みとし、水洗（又はアルコール）処理終了層、焼成を行
っても良い。水洗処理（又はアルコール処理）は通常ス
プレーによって吹きつける方法、デイツプ法、又は単に
液を含ませた布でふきとる方法等いずれも有用である。
任意に焼成条件を決めれば良い。通常５０〜１５０℃の
熱風で５〜３０分間程度である。場合によっては風乾の
みとし、水洗（又はアルコール）処理終了層、焼成を行
っても良い。水洗処理（又はアルコール処理）は通常ス
プレーによって吹きつける方法、デイツプ法、又は単に
液を含ませた布でふきとる方法等いずれも有用である。
又、ガラス温度が高い場合、ヒートショックをさけるた
め温水を用いても良い。このあと自然乾燥又は風乾又は
焼成にて仕上げを行えば良い。
め温水を用いても良い。このあと自然乾燥又は風乾又は
焼成にて仕上げを行えば良い。
上述した様に本発明によれば、優れた反射防止膜を有す
る表示装置を提供することができる。又、本発明の製造
方法によれば極めて簡単に表示装置の表示面上の反射防
止膜を製造することが可能となる。
る表示装置を提供することができる。又、本発明の製造
方法によれば極めて簡単に表示装置の表示面上の反射防
止膜を製造することが可能となる。
第１図（ａ）及び第１図（ｂ）は本発明の反射防止膜の
膜厚の違いによる、添加物質と反射率の関係を示す特性
図である。 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 同 竹 花 喜久男 Ｌａｗθ３／Ｓｉ ０２ Ｌ４／を勢 ρ、グ ／ ２ ３乙；Ａ／（
７３／Ｓン０２１ｈｔ ％ 第１図
膜厚の違いによる、添加物質と反射率の関係を示す特性
図である。 代理人 弁理士 則 近 憲 佑 同 竹 花 喜久男 Ｌａｗθ３／Ｓｉ ０２ Ｌ４／を勢 ρ、グ ／ ２ ３乙；Ａ／（
７３／Ｓン０２１ｈｔ ％ 第１図
Claims (3)
- （１）ＳｉＯ＿２を主成分とする薄膜を表示面の外表面
に備えた表示装置において、前記薄膜の入射光に対する
反射光の強度が波長５５０ｎｍで、４５０ｎｍに対して
９０％以下で、且つその反射率が薄膜を有しない表示装
置の表示面に比べ７０乃至１０％であることを特徴とす
る表示装置。 - （２）前記入射光に対する反射光の強度が波長６００ｎ
ｍで、５５０ｎｍに対して９０％以下で、且つ薄膜を有
しない表示装置の表示面に比べ９５乃至７０％であるこ
とを特徴とする請求項１記載の表示装置。 - （３）Ｓｉのアルコレート溶液を塗布、乾燥して表示装
置の表示面の外表面にＳｉＯ＿２を主成分とする薄膜を
形成する表示装置の製造方法において、前記Ｓｉのアル
コレート溶液に水又は有機溶剤に可溶な物質を予め添加
しておき、前記薄膜を形成する工程と、前記外表面を水
又は有機溶剤にて処理することにより前記水又は有機溶
剤に可溶な物質を除去する工程とを少なくとも有するこ
とを特徴とする表示装置の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63049638A JP2735214B2 (ja) | 1988-03-04 | 1988-03-04 | 表示装置の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63049638A JP2735214B2 (ja) | 1988-03-04 | 1988-03-04 | 表示装置の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01224792A true JPH01224792A (ja) | 1989-09-07 |
| JP2735214B2 JP2735214B2 (ja) | 1998-04-02 |
Family
ID=12836754
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63049638A Expired - Fee Related JP2735214B2 (ja) | 1988-03-04 | 1988-03-04 | 表示装置の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2735214B2 (ja) |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6077150A (ja) * | 1983-10-05 | 1985-05-01 | Hitachi Ltd | ディスプレイの製造方法及びそれに用いるガラス板の製造方法 |
| JPS61118932A (ja) * | 1984-11-14 | 1986-06-06 | Hitachi Ltd | ブラウン管の製造方法 |
| JPS63193101A (ja) * | 1987-02-06 | 1988-08-10 | Hitachi Ltd | 反射防止膜 |
-
1988
- 1988-03-04 JP JP63049638A patent/JP2735214B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6077150A (ja) * | 1983-10-05 | 1985-05-01 | Hitachi Ltd | ディスプレイの製造方法及びそれに用いるガラス板の製造方法 |
| JPS61118932A (ja) * | 1984-11-14 | 1986-06-06 | Hitachi Ltd | ブラウン管の製造方法 |
| JPS63193101A (ja) * | 1987-02-06 | 1988-08-10 | Hitachi Ltd | 反射防止膜 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2735214B2 (ja) | 1998-04-02 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |