JPH01228927A - γ−フルオロアルコールおよびその製造法 - Google Patents
γ−フルオロアルコールおよびその製造法Info
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- JPH01228927A JPH01228927A JP5688588A JP5688588A JPH01228927A JP H01228927 A JPH01228927 A JP H01228927A JP 5688588 A JP5688588 A JP 5688588A JP 5688588 A JP5688588 A JP 5688588A JP H01228927 A JPH01228927 A JP H01228927A
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- JP
- Japan
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- hydrogen atom
- fluoroalcohol
- group
- general formula
- represent
- Prior art date
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、新規なT−フルオロアルコールおよびその製
造法に関する。
造法に関する。
高い歪を持つオキシラン類、オキセタン類に対する求核
反応は、その位置および立体選択性について多くの研究
がなされている。しかし、フッ素を求核剤とする環開裂
の例は少なく、特にオキセタンの開通フッ素化について
は全く報告されていない。本発明者らは先に、オキシラ
ンに四フッ化ケイ素を反応させて開環し、立体選択的に
フルオロヒドリンを合成する方法を開発した(特願昭6
2−238369号明細書)。
反応は、その位置および立体選択性について多くの研究
がなされている。しかし、フッ素を求核剤とする環開裂
の例は少なく、特にオキセタンの開通フッ素化について
は全く報告されていない。本発明者らは先に、オキシラ
ンに四フッ化ケイ素を反応させて開環し、立体選択的に
フルオロヒドリンを合成する方法を開発した(特願昭6
2−238369号明細書)。
本発明者は更に研究を進め、オキセタンに四フッ化ケイ
素を反応させてこれを開環し、立体選択的にT−フルオ
ロアルコールを合成しうろことを見出し本発明を完成す
るに至った。
素を反応させてこれを開環し、立体選択的にT−フルオ
ロアルコールを合成しうろことを見出し本発明を完成す
るに至った。
本発明の目的は、新規なT−フルオロアルコールおよび
その製造法を提供することである。
その製造法を提供することである。
本発明は、下記の一般式(I)で表されるr −フルオ
ロアルコールに関する。
ロアルコールに関する。
1゛
R2−1−CH2CH20H(I ’)(式中、R’お
よびR2は同一でも異なっていてもよく、水素原子、フ
ェニル基、炭素原子数1〜5のアルキル基、またはシク
ロプロピル基を示す。但しR1およびR2が同時に水素
原子を示すことはない。) また本発明は、下記の一般式(■): (式中、R3およびR4は同一でも異なっていてもよく
、水素原子、アリール基、アルキル基またはシクロアル
キル基を示す。但し R3およびR4が同時に水素原子
を示すことはない。)で表されるオキセタン化合物を、
添加剤の存在下、四フッ化ケイ素と反応させることを特
徴とする、一般式(■): 1゜ R4−冒CH2CH20)1 (I[[)で
表されるT−フルオロアルコールの製造法に関する。
よびR2は同一でも異なっていてもよく、水素原子、フ
ェニル基、炭素原子数1〜5のアルキル基、またはシク
ロプロピル基を示す。但しR1およびR2が同時に水素
原子を示すことはない。) また本発明は、下記の一般式(■): (式中、R3およびR4は同一でも異なっていてもよく
、水素原子、アリール基、アルキル基またはシクロアル
キル基を示す。但し R3およびR4が同時に水素原子
を示すことはない。)で表されるオキセタン化合物を、
添加剤の存在下、四フッ化ケイ素と反応させることを特
徴とする、一般式(■): 1゜ R4−冒CH2CH20)1 (I[[)で
表されるT−フルオロアルコールの製造法に関する。
以下、本発明を更に詳細に説明する。
i)原料
一般式(I[)で表されるオキセタン化合物としては、
次のようなものを例示することができる。
次のようなものを例示することができる。
li)反応条件
イ)添加剤
本発明においては、式(II)のオキセタン化合物に四
フッ化珪素を反応させるに際して、添加剤を用いる。添
加剤の例としては、次のようなものを挙げることが出来
る。
フッ化珪素を反応させるに際して、添加剤を用いる。添
加剤の例としては、次のようなものを挙げることが出来
る。
アルキル又はアリール基を有するスルフィド化合物とし
て、ジメチルスルフィド、ジベンジルスルフィド、ジフ
ェニルスルフィド;ホスフィンとして、メチルホスフィ
ン、エチルホスフィン、プロピルホスフィン、イソプロ
ピルホスフィン、イソブチルホスフィン、フェニルホス
フィン、ジメチルホスフィン、ジエチルホスフィン、ジ
イソプロピルホスフィン、ジイソブチルホスフィン、ジ
フェニルホスフィン、トリメチルホスフィン、トリエチ
ルホスフィン、トリフェニルホスフィン、メチルジフェ
ニルホスフィン、ジメチルフェニルホスフィン; 嵩高三級アミンとして、ジイソプロピルエチルアミン、
ジイソプロピルヘキシルアミン、トリシクロヘキシルア
ミン; 四級アンモニウムフルオリドとして、テトラ(n−ブチ
ル)アンモニウムフルオリド、ベンジルトリメチルアン
モニウムフルオリド、テトラエチルアンモニウムフルオ
リド;その他、ピリジン、DMF等を挙げることができ
る。
て、ジメチルスルフィド、ジベンジルスルフィド、ジフ
ェニルスルフィド;ホスフィンとして、メチルホスフィ
ン、エチルホスフィン、プロピルホスフィン、イソプロ
ピルホスフィン、イソブチルホスフィン、フェニルホス
フィン、ジメチルホスフィン、ジエチルホスフィン、ジ
イソプロピルホスフィン、ジイソブチルホスフィン、ジ
フェニルホスフィン、トリメチルホスフィン、トリエチ
ルホスフィン、トリフェニルホスフィン、メチルジフェ
ニルホスフィン、ジメチルフェニルホスフィン; 嵩高三級アミンとして、ジイソプロピルエチルアミン、
ジイソプロピルヘキシルアミン、トリシクロヘキシルア
ミン; 四級アンモニウムフルオリドとして、テトラ(n−ブチ
ル)アンモニウムフルオリド、ベンジルトリメチルアン
モニウムフルオリド、テトラエチルアンモニウムフルオ
リド;その他、ピリジン、DMF等を挙げることができ
る。
O)溶 媒
溶媒としては、ジクロロエタン、エーテル、ジクロロメ
タン、クロロホルム、ジオキサン等を用いることが出来
る。
タン、クロロホルム、ジオキサン等を用いることが出来
る。
ハ)温 度
反応温度は、−78〜25℃特に−10〜0℃が好まし
い。
い。
二)時 間
反応時間は、5〜30分間でよい。
本発明によって、従来知られていなかったオキセタンの
開環フッ素化を、高い収率で行うことができる。
開環フッ素化を、高い収率で行うことができる。
本発明により製造されるT−フルオロアルコールは、医
薬、農薬等の合成中間体として有用である。
薬、農薬等の合成中間体として有用である。
以下、実施例により、本発明を更に具体的に説明する。
実施例1
窒素雰囲気下、乾燥スリ付ナスフラスコ中、フッ化テト
ラブチルアンモニウム(200mg0.63mmol)
、モレキュラーシーブス4A(1,0g)を入れ、エ
ーテル(3,Omj’)を加え0℃30分撹拌の後、S
iF、入り風船を付けさらに15分撹拌した。
ラブチルアンモニウム(200mg0.63mmol)
、モレキュラーシーブス4A(1,0g)を入れ、エ
ーテル(3,Omj’)を加え0℃30分撹拌の後、S
iF、入り風船を付けさらに15分撹拌した。
ジイソプロピルエチルアミン(259mg2.0mmo
l)を加え5分撹拌したのち、2−メチル−2−フェニ
ルオキセクン〔化合物(1)] (30mg 0.2
mmol)をエーテル(2,0mlりの溶液として加
えた。5分後TLCにより原料の消失を確認したのち、
系をエーテルで希釈し、KF−水溶液を加え反応を停止
した。
l)を加え5分撹拌したのち、2−メチル−2−フェニ
ルオキセクン〔化合物(1)] (30mg 0.2
mmol)をエーテル(2,0mlりの溶液として加
えた。5分後TLCにより原料の消失を確認したのち、
系をエーテルで希釈し、KF−水溶液を加え反応を停止
した。
エーテル抽出、飽和食塩水洗浄の後、乾燥、濃縮し、薄
層クロマトグラフィーによる分離精製を行すい、3−フ
ルオロ−3−フェニル−1−ブタノール〔化合物(6)
〕を収率63%で得た。
層クロマトグラフィーによる分離精製を行すい、3−フ
ルオロ−3−フェニル−1−ブタノール〔化合物(6)
〕を収率63%で得た。
NMR[:化合物(社)〕
3−フルオロ−3−フェニル−1−/タノール19Fδ
= 149.5 6=1.69 3H,d、J=22.7δ=2.09
2HSdt、 J=6.8.2.9δ=2.35 2H
,tSJ=6.8 δ=3.63 3HSt、bs、J=6.8δ=7.2
−7.4 5H,m 実施例2 乾燥スリ付ナスフラスコにエーテル(1,0m1)ジメ
チルスルフィド(’3.7 mg 0.6 mrnol
)を加え、更にSiF、入り風船を付け0℃にて15
分撹拌した。2.2−ジペンチルオキセクン〔化合物(
2)〕(40mg、 0.2mmol)のエーテル溶液
(1,0−)を加えた。5分後TLCにより原料の消失
を確認したのち、系をエーテルで希釈し、実施例1と同
様の後処理により3−フルオロ−3−ペンチルー1−オ
クタツール〔化合物側〕を収率68%で得た。
= 149.5 6=1.69 3H,d、J=22.7δ=2.09
2HSdt、 J=6.8.2.9δ=2.35 2H
,tSJ=6.8 δ=3.63 3HSt、bs、J=6.8δ=7.2
−7.4 5H,m 実施例2 乾燥スリ付ナスフラスコにエーテル(1,0m1)ジメ
チルスルフィド(’3.7 mg 0.6 mrnol
)を加え、更にSiF、入り風船を付け0℃にて15
分撹拌した。2.2−ジペンチルオキセクン〔化合物(
2)〕(40mg、 0.2mmol)のエーテル溶液
(1,0−)を加えた。5分後TLCにより原料の消失
を確認したのち、系をエーテルで希釈し、実施例1と同
様の後処理により3−フルオロ−3−ペンチルー1−オ
クタツール〔化合物側〕を収率68%で得た。
NMRC化合物(2)〕
3−フルオロ−3−ペンチル−1−オクタツール
19Fδ= 150.7
δ=0.90 6H,t、J=5.8 δ=1.1−1.7 15HSm δ=1.89 2HSdt、J=21.2.6.56=
3.6−3.9 2H,m 実施例3〜10 実施例1と同様の方法で実施例3及び実施例4を、実施
例2と同様の方法で実施例5〜10を、溶媒及び添加剤
を種々に変化させて行った。
19Fδ= 150.7
δ=0.90 6H,t、J=5.8 δ=1.1−1.7 15HSm δ=1.89 2HSdt、J=21.2.6.56=
3.6−3.9 2H,m 実施例3〜10 実施例1と同様の方法で実施例3及び実施例4を、実施
例2と同様の方法で実施例5〜10を、溶媒及び添加剤
を種々に変化させて行った。
結果を第1表に示す。
NMRC化合物αつ〕
1−シクロプロピル−1−フルオロ−1−フェニル−3
−プロパツール +9Fδ=168.06=0.2−
0.8 4H,m δ=1.1−1.3 1H,m δ=1.72 28.t、J=5.8 δ=3.32 18.bs δ=3.68 2H,t、J=5.8 δ=7.0−7.5 5H,m NMR(化合物0荀〕 ■−フルオロー1−フェニルー3−7’ロバ/−ル
19Fδ=179.4
δ=1.59 1H,bs δ=1.8−2.4 2H,m δ=3.80 28.t、J=5.4 δ= 5.38 0.5 Hldd、J=3.9.7.
96=5.92 0.5H,dd、J=6.12.7,
9δ=7.2−7.4 5H,m
−プロパツール +9Fδ=168.06=0.2−
0.8 4H,m δ=1.1−1.3 1H,m δ=1.72 28.t、J=5.8 δ=3.32 18.bs δ=3.68 2H,t、J=5.8 δ=7.0−7.5 5H,m NMR(化合物0荀〕 ■−フルオロー1−フェニルー3−7’ロバ/−ル
19Fδ=179.4
δ=1.59 1H,bs δ=1.8−2.4 2H,m δ=3.80 28.t、J=5.4 δ= 5.38 0.5 Hldd、J=3.9.7.
96=5.92 0.5H,dd、J=6.12.7,
9δ=7.2−7.4 5H,m
Claims (2)
- (1)下記の一般式( I )で表されるγ−フルオロア
ルコール。 ▲数式、化学式、表等があります▼( I ) (式中、R^1およびR^2は同一でも異なっていても
よく、水素原子、フェニル基、炭素原子数1〜5のアル
キル基、またはシクロプロピル基を示す。但しR^1お
よびR^2が同時に水素原子を示すことはない。) - (2)下記の一般式(II): ▲数式、化学式、表等があります▼(II) (式中、R^3およびR^4は同一でも異なっていても
よく、水素原子、アリール基、アルキル基またはシクロ
アルキル基を示す。但し、R^3およびR^4が同時に
水素原子を示すことはない。) で表されるオキセタン化合物を、添加剤の存在下、四フ
ッ化ケイ素と反応させることを特徴とする、一般式(I
II): ▲数式、化学式、表等があります▼(III) で表されるγ−フルオロアルコールの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5688588A JPH01228927A (ja) | 1988-03-10 | 1988-03-10 | γ−フルオロアルコールおよびその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5688588A JPH01228927A (ja) | 1988-03-10 | 1988-03-10 | γ−フルオロアルコールおよびその製造法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01228927A true JPH01228927A (ja) | 1989-09-12 |
Family
ID=13039878
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5688588A Pending JPH01228927A (ja) | 1988-03-10 | 1988-03-10 | γ−フルオロアルコールおよびその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01228927A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005085171A1 (ja) * | 2004-03-04 | 2005-09-15 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | 光学活性フルオロ化合物の製造方法 |
-
1988
- 1988-03-10 JP JP5688588A patent/JPH01228927A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005085171A1 (ja) * | 2004-03-04 | 2005-09-15 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | 光学活性フルオロ化合物の製造方法 |
| US7307185B2 (en) | 2004-03-04 | 2007-12-11 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Process for producing optically active fluorochemical |
| JP4752759B2 (ja) * | 2004-03-04 | 2011-08-17 | 三菱瓦斯化学株式会社 | 光学活性フルオロ化合物の製造方法 |
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