JPH01230048A - スチレンとエチルアクリレートのコポリマーを含有する像形成部材 - Google Patents
スチレンとエチルアクリレートのコポリマーを含有する像形成部材Info
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G13/00—Electrographic processes using a charge pattern
- G03G13/22—Processes involving a combination of more than one step according to groups G03G13/02 - G03G13/20
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G17/00—Electrographic processes using patterns other than charge patterns, e.g. an electric conductivity pattern; Processes involving a migration, e.g. photoelectrophoresis, photoelectrosolography; Processes involving a selective transfer, e.g. electrophoto-adhesive processes; Apparatus essentially involving a single such process
- G03G17/08—Electrographic processes using patterns other than charge patterns, e.g. an electric conductivity pattern; Processes involving a migration, e.g. photoelectrophoresis, photoelectrosolography; Processes involving a selective transfer, e.g. electrophoto-adhesive processes; Apparatus essentially involving a single such process using an electrophoto-adhesive process, e.g. manifold imaging
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- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Electrochemistry (AREA)
- Molecular Biology (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は一般にマイグレーション(移行)像形成に関し
、さらに詳細には、改良されたマイグレーション像形成
部材およびこの改良されたマイグレーション像形成部材
を用いる方法に関する。
、さらに詳細には、改良されたマイグレーション像形成
部材およびこの改良されたマイグレーション像形成部材
を用いる方法に関する。
乾式マイグレーション像形成部材は、特許文献、例えば
、米国特許筒3,909,262号および第3,975
.195号において開示されている。マイグレーション
像形成法の典型的な態様においては、基体、軟化性材料
層、および感光性マーキング材料層とを含むマイグレー
ション像形成部材を、該部材を帯電させて帯電させた部
材を光のような活性化用電磁照射像に露光させることに
より潜像を先ず形成させることによって像形成させる。
、米国特許筒3,909,262号および第3,975
.195号において開示されている。マイグレーション
像形成法の典型的な態様においては、基体、軟化性材料
層、および感光性マーキング材料層とを含むマイグレー
ション像形成部材を、該部材を帯電させて帯電させた部
材を光のような活性化用電磁照射像に露光させることに
より潜像を先ず形成させることによって像形成させる。
上記の感光性マーキング材料が、本質的に上記軟化性層
の上部表面と連続する破壊性層の形である場合、上記部
材の露光領域内のマーキング粒子は、部材を上記軟化性
層を軟化することによって現像するとき、基体に向って
深部に移行する。
の上部表面と連続する破壊性層の形である場合、上記部
材の露光領域内のマーキング粒子は、部材を上記軟化性
層を軟化することによって現像するとき、基体に向って
深部に移行する。
本明細書で“軟化性”なる表現はより透過性とすること
ができそれによって粒子をその嵩を通して移行させ得る
任意の材料を意味するものとする。
ができそれによって粒子をその嵩を通して移行させ得る
任意の材料を意味するものとする。
通常、そのような材料の透過性を変化させあるいはマイ
グレーションマーキング材料の移行(マイグレーション
)に対する抵抗を低減させるのは、例えば、熱、水蒸気
、部分溶媒、溶媒蒸気、溶媒およびこれらの組合せとの
接触のような方法による溶解、膨潤化、熔融または軟質
化によって、あるいは上記軟化性材料の粘度を任意の適
当な手段によって低減させることによって行う。
グレーションマーキング材料の移行(マイグレーション
)に対する抵抗を低減させるのは、例えば、熱、水蒸気
、部分溶媒、溶媒蒸気、溶媒およびこれらの組合せとの
接触のような方法による溶解、膨潤化、熔融または軟質
化によって、あるいは上記軟化性材料の粘度を任意の適
当な手段によって低減させることによって行う。
本明細書で“破壊性”層または材料なる用語は現像中に
破壊し得それによってこの層の一部を基体に移行せしめ
るかさもなくば除去せしめ得る任意の層または材料を意
味するものとする。この破壊性層は本発明のマイグレー
ション像形成部材の種々の実施態様において粒状で半連
続性、すなわち、顕微鏡的に不連続であり得る。マーキ
ング粒子のそのような破壊性層は、典型的には、基体が
ら離れている軟化性層表面に連続しており、またそのよ
うな破壊性層は本発明装置の像形成部材の種々の実施態
様において軟化性層中に実質的にあるいは全体的に埋込
み得る。
破壊し得それによってこの層の一部を基体に移行せしめ
るかさもなくば除去せしめ得る任意の層または材料を意
味するものとする。この破壊性層は本発明のマイグレー
ション像形成部材の種々の実施態様において粒状で半連
続性、すなわち、顕微鏡的に不連続であり得る。マーキ
ング粒子のそのような破壊性層は、典型的には、基体が
ら離れている軟化性層表面に連続しており、またそのよ
うな破壊性層は本発明装置の像形成部材の種々の実施態
様において軟化性層中に実質的にあるいは全体的に埋込
み得る。
本明細書で“連続”なる表現は、実際に接触しているこ
と;軽く接触していること;接触してないけれども接近
していること;および隣接していることを意味するもの
とし、軟化性層中のマーキング材料の破壊性層の基体か
ら離れている転化性層表面に対する関係を包括的に述べ
るものとする。
と;軽く接触していること;接触してないけれども接近
していること;および隣接していることを意味するもの
とし、軟化性層中のマーキング材料の破壊性層の基体か
ら離れている転化性層表面に対する関係を包括的に述べ
るものとする。
本明細書で“隣接”なる用語は実際に接触していること
;軽(接触していること;接触していないが近接してい
ること;および隣接していることを意味するものとし、
基体表面上の1以上の層の関係を包括的に述べるものと
する。
;軽(接触していること;接触していないが近接してい
ること;および隣接していることを意味するものとし、
基体表面上の1以上の層の関係を包括的に述べるものと
する。
本明細書で“光学的に符号保持(opLicallys
ign−retained) ”なる表現はマイグレー
ション像形成部材上に形成された可視像の暗(高光学密
度)および明(低光学密度)領域が使用した任意の原紙
上の像の暗および明領域に相応することを意味するもの
とする。
ign−retained) ”なる表現はマイグレー
ション像形成部材上に形成された可視像の暗(高光学密
度)および明(低光学密度)領域が使用した任意の原紙
上の像の暗および明領域に相応することを意味するもの
とする。
本明細書で“光学的に符号逆転(opticallys
ign−renersed)”なる表現はマイグレーシ
ョン像形成部材上に形成された暗領域が原紙上の像の明
領域に相応し、マイグレーション像形成部材上に形成さ
れた明領域が使用した原紙上の像の暗領域に相応するこ
とを意味するものとする。
ign−renersed)”なる表現はマイグレーシ
ョン像形成部材上に形成された暗領域が原紙上の像の明
領域に相応し、マイグレーション像形成部材上に形成さ
れた明領域が使用した原紙上の像の暗領域に相応するこ
とを意味するものとする。
本明細書で“光学対比密度”なる表現は像の最高光学密
度(D max)と最小光学密度(D m1n)との差
を意味するものとする。光学密度は、本発明の目的にお
いては、青色ラソトン(Wratten)Th 94フ
イルターを有する拡散密度計で測定する。本明細書で“
光学密度”なる表現は“透過光学密度”を意味するもの
とし、次式: %式%) (式中、■は透過光強度であり、■0は照射光強度であ
る)で示される。本発明の目的において、本発明で使用
する透過光学密度の値は約0.2の基体密度を包含し、
これは金属処理ポリエステル基体の典型的な密度である
。対比密度は本発明においては拡散密度計で測定するけ
れども、正密度計による測定も実質的に同様な結果を与
えることに留意すべきである。
度(D max)と最小光学密度(D m1n)との差
を意味するものとする。光学密度は、本発明の目的にお
いては、青色ラソトン(Wratten)Th 94フ
イルターを有する拡散密度計で測定する。本明細書で“
光学密度”なる表現は“透過光学密度”を意味するもの
とし、次式: %式%) (式中、■は透過光強度であり、■0は照射光強度であ
る)で示される。本発明の目的において、本発明で使用
する透過光学密度の値は約0.2の基体密度を包含し、
これは金属処理ポリエステル基体の典型的な密度である
。対比密度は本発明においては拡散密度計で測定するけ
れども、正密度計による測定も実質的に同様な結果を与
えることに留意すべきである。
非感光性または不活性マーキング粒子を上記の破壊性層
中に配列させあるいは軟化性層中に分散させてなる他の
そのような像形成系も、前記各米国特許に記載されてい
るように、存在しており、またこれらの米国特許はマイ
グレーション像形成部材上に潜像を形成するのに使用で
きる種々の方法も開示している。
中に配列させあるいは軟化性層中に分散させてなる他の
そのような像形成系も、前記各米国特許に記載されてい
るように、存在しており、またこれらの米国特許はマイ
グレーション像形成部材上に潜像を形成するのに使用で
きる種々の方法も開示している。
種々の潜像現像手段がマイグレーション像形成系におい
て使用できる。これらの現像法には、溶媒洗出法、溶媒
蒸気軟化法、熱軟化法、およびこれら方法の組合せ、並
びに粒状マーキング材料の軟化性層への移行に対する軟
化性材料の抵抗性を変化させ基体へ向かって深部の粒子
の像形成的移行を可能にする他の任意の方法がある。溶
媒洗出法即ち負(マイナス)現像法においては、光照射
領域のマイグレーションマーキング粒子が軟化し溶解さ
れた軟化性層を通って基体に移行し、単分子層(mon
olayer)形状に再充填する。透明基体に支持され
たマイグレーション像形成性フィルムにおいては、この
領域が未処理フィルムの初期光学密度と同じ高最高光学
密度を示す。一方、未露光’6M 域のマイグレーショ
ンマーキング粒子は実質的に洗浄除去されて、この領域
は本質的に基体単独の光学光度である最小光学密度を示
す。従って、現像の検感は光学的に符号逆転、即ち、正
対負またはその逆となる。種々の方法、材料およびその
組合せが、従来からそのような未定着マイグレーション
像の定着に使用されている。他の従来の加速または蒸気
現像法においては、軟化性層は現像後実質的にそのまま
残存し、像はマーキング材料粒子が軟化性層内に捕捉さ
れているので自己定着する。加熱または蒸気軟化現像方
式においては、光照射領域内のマイグレーションマーキ
ング材料は現像後軟化性層の深部に分散し、この領域が
典型的には 0.6〜0.7の範囲にあるDminを示
す。
て使用できる。これらの現像法には、溶媒洗出法、溶媒
蒸気軟化法、熱軟化法、およびこれら方法の組合せ、並
びに粒状マーキング材料の軟化性層への移行に対する軟
化性材料の抵抗性を変化させ基体へ向かって深部の粒子
の像形成的移行を可能にする他の任意の方法がある。溶
媒洗出法即ち負(マイナス)現像法においては、光照射
領域のマイグレーションマーキング粒子が軟化し溶解さ
れた軟化性層を通って基体に移行し、単分子層(mon
olayer)形状に再充填する。透明基体に支持され
たマイグレーション像形成性フィルムにおいては、この
領域が未処理フィルムの初期光学密度と同じ高最高光学
密度を示す。一方、未露光’6M 域のマイグレーショ
ンマーキング粒子は実質的に洗浄除去されて、この領域
は本質的に基体単独の光学光度である最小光学密度を示
す。従って、現像の検感は光学的に符号逆転、即ち、正
対負またはその逆となる。種々の方法、材料およびその
組合せが、従来からそのような未定着マイグレーション
像の定着に使用されている。他の従来の加速または蒸気
現像法においては、軟化性層は現像後実質的にそのまま
残存し、像はマーキング材料粒子が軟化性層内に捕捉さ
れているので自己定着する。加熱または蒸気軟化現像方
式においては、光照射領域内のマイグレーションマーキ
ング材料は現像後軟化性層の深部に分散し、この領域が
典型的には 0.6〜0.7の範囲にあるDminを示
す。
この比較的高いDminは他方の未変化マイグレーショ
ンマーキング材料の深部分散の直接的結果である。一方
、未露光領域内のマイグレーションマーキング粒子は移
行せずに原形状で、即ち、単分子層中に実質的に残存す
る。かくして、この領域は最高光学密度(Dmax)を
示す。従って、加熱または蒸気現像像の検感は光学的に
符号保持性、即ち、正対正または負対負である。
ンマーキング材料の深部分散の直接的結果である。一方
、未露光領域内のマイグレーションマーキング粒子は移
行せずに原形状で、即ち、単分子層中に実質的に残存す
る。かくして、この領域は最高光学密度(Dmax)を
示す。従って、加熱または蒸気現像像の検感は光学的に
符号保持性、即ち、正対正または負対負である。
蒸気現像により光学的に符号逆転像形成を行う方法は考
案されているが、これらの技術は一般に複雑であり、臨
海的に調整されたプロセス条件を必要とする。そのよう
な技術は、例えば、米国特許第3,795,512号に
記載されている。
案されているが、これらの技術は一般に複雑であり、臨
海的に調整されたプロセス条件を必要とする。そのよう
な技術は、例えば、米国特許第3,795,512号に
記載されている。
ある普通のマイグレーション像形成部材は軟化性層を有
する金属処理プラスチック基体を含む。
する金属処理プラスチック基体を含む。
成る要求の多い商業的用途においては、本質的に、マイ
グレーション像形成部材の構造的一体性および像形成特
性がすべての実際的使用条件下で確立されなければなら
ない。多くの従来技術マイグレーション像形成部材は軟
化性層の貧弱な機械的特性のためにこれらの要求を満し
得ていない。例えば、軟化性層中に80:20モル比の
スチレン−ヘキシルメタクリレートコポリマーを含有す
る部材の如き多くのマイグレーション像形成部材はこれ
ら部材を使用中厳しく取扱うとき軟化性層が基体からは
く離するという貧弱な接着性を示す。さらにこれら部材
は昇温および加圧条件下では、例えば、部材を製造中、
貯蔵中または使用中にロールに強く巻き付ける場合にブ
ロッキングが起るような不十分な耐ブロンキング性を有
している。さらにまた、数種の従来技術軟化性材料は、
不適当な粘弾性故に、特に、加熱のみを用いてマイグレ
ーション像形成部材を現像するときに、劣った像形成特
性を与える。
グレーション像形成部材の構造的一体性および像形成特
性がすべての実際的使用条件下で確立されなければなら
ない。多くの従来技術マイグレーション像形成部材は軟
化性層の貧弱な機械的特性のためにこれらの要求を満し
得ていない。例えば、軟化性層中に80:20モル比の
スチレン−ヘキシルメタクリレートコポリマーを含有す
る部材の如き多くのマイグレーション像形成部材はこれ
ら部材を使用中厳しく取扱うとき軟化性層が基体からは
く離するという貧弱な接着性を示す。さらにこれら部材
は昇温および加圧条件下では、例えば、部材を製造中、
貯蔵中または使用中にロールに強く巻き付ける場合にブ
ロッキングが起るような不十分な耐ブロンキング性を有
している。さらにまた、数種の従来技術軟化性材料は、
不適当な粘弾性故に、特に、加熱のみを用いてマイグレ
ーション像形成部材を現像するときに、劣った像形成特
性を与える。
静電印刷マスタープレートはマイグレーション像形成部
材からこれら部材を均一にコロナ帯電させ、像形成的に
露光し次いで加熱することによって作製できる。得られ
た像形成マイグレーション像形成部材はその後、静電印
刷用マスターとして使用できる。静電印刷は静電印刷用
マスターを均一にコロナ帯電させ活性代用電磁線に均一
に露光させることによって行い;これによりマスター上
に静電潜像を形成し;この静電像をトナー付し;トナー
像を紙に転写し定着させてプリントを生成させる。均一
帯電、均一露光、トナー付け、転写および定着の各工程
は繰返して多数のプリントを得ることができる。静電印
刷用マスターとして使用できるためには、マイグレーシ
ョン像形成部材の軟化性層が多数回の像形成サイクルに
亘って該軟化性層中に電荷移送物質、例えば、トメニッ
クS、 Ngに付与された米国特許第4,536,45
8号およびマンC,タムに付与された米国特許第4,5
36,457号に記載されているような電荷移送物質を
保持して静電印刷マスターに像形成的光放電および電荷
移送能力を与えることが必要である。カラープルーフィ
ングおよびカラー印刷におけるような高品質および高解
像力を必要とするいくつかの商業的印刷用途においては
、静電複写液体トナーが一般的に好ましい現像剤材料で
ある。何故ならば、その小さいトナー粒度が比較的大粒
度のドライトナーに較べて優れた解像力のプリントを与
えるからである。通常の静電複写液体現像剤は、典型的
には、マーキング粒子を分散させた液体キャリヤーを含
む。しかしながら、従来技術のマイグレーション像形成
部材、例えば、軟化性層中に80:20モル比スチレン
ーへキシルメタクリレートコポリマーとN、N’−ジフ
ェニル−N、N’−ビス(3#−メチルフェニル)−(
1,1’−ビフェニル)−4,4’−ジアミン電荷移送
分子とを含有する部材から作製した静電印刷用マスター
はそのような液体現像剤と接触させたときその電荷移送
特性の重大を減損をこうむる。これは電荷移送分子が液
体現像剤の液体キャリヤー成分と接触するとき軟化性層
からリーチング(滲み出る)するからである。これは液
体現像剤の汚染をもたらすだけでなく電荷移送特性の急
速低下および現実的なサイクル操作中の静電印刷用マス
ターの静電印刷能力の急速低下をもたらすさらに、適切
な光学密度の高品質プリントを得るためには、静電対比
電位は現像可能な静電潜像を与えるに十分に高くなけれ
ばならない。高静電対比電位条件は像形成部材中で比較
的厚い軟化性層の使用を必要とする。しかしながら、マ
イグレーション像形成部材用の他の面では優れている多
くの軟化性材料のアルミニウム処理ポリエステルのよう
な伝導性基体に対するむしろ貧弱な接着性のために、軟
化性層の厚さを増大させて十分な静電対比電位を得んと
する試みは、多くの場合、製造中、貯蔵中または使用中
のいずれかでフィルムのはがれが生じている。
材からこれら部材を均一にコロナ帯電させ、像形成的に
露光し次いで加熱することによって作製できる。得られ
た像形成マイグレーション像形成部材はその後、静電印
刷用マスターとして使用できる。静電印刷は静電印刷用
マスターを均一にコロナ帯電させ活性代用電磁線に均一
に露光させることによって行い;これによりマスター上
に静電潜像を形成し;この静電像をトナー付し;トナー
像を紙に転写し定着させてプリントを生成させる。均一
帯電、均一露光、トナー付け、転写および定着の各工程
は繰返して多数のプリントを得ることができる。静電印
刷用マスターとして使用できるためには、マイグレーシ
ョン像形成部材の軟化性層が多数回の像形成サイクルに
亘って該軟化性層中に電荷移送物質、例えば、トメニッ
クS、 Ngに付与された米国特許第4,536,45
8号およびマンC,タムに付与された米国特許第4,5
36,457号に記載されているような電荷移送物質を
保持して静電印刷マスターに像形成的光放電および電荷
移送能力を与えることが必要である。カラープルーフィ
ングおよびカラー印刷におけるような高品質および高解
像力を必要とするいくつかの商業的印刷用途においては
、静電複写液体トナーが一般的に好ましい現像剤材料で
ある。何故ならば、その小さいトナー粒度が比較的大粒
度のドライトナーに較べて優れた解像力のプリントを与
えるからである。通常の静電複写液体現像剤は、典型的
には、マーキング粒子を分散させた液体キャリヤーを含
む。しかしながら、従来技術のマイグレーション像形成
部材、例えば、軟化性層中に80:20モル比スチレン
ーへキシルメタクリレートコポリマーとN、N’−ジフ
ェニル−N、N’−ビス(3#−メチルフェニル)−(
1,1’−ビフェニル)−4,4’−ジアミン電荷移送
分子とを含有する部材から作製した静電印刷用マスター
はそのような液体現像剤と接触させたときその電荷移送
特性の重大を減損をこうむる。これは電荷移送分子が液
体現像剤の液体キャリヤー成分と接触するとき軟化性層
からリーチング(滲み出る)するからである。これは液
体現像剤の汚染をもたらすだけでなく電荷移送特性の急
速低下および現実的なサイクル操作中の静電印刷用マス
ターの静電印刷能力の急速低下をもたらすさらに、適切
な光学密度の高品質プリントを得るためには、静電対比
電位は現像可能な静電潜像を与えるに十分に高くなけれ
ばならない。高静電対比電位条件は像形成部材中で比較
的厚い軟化性層の使用を必要とする。しかしながら、マ
イグレーション像形成部材用の他の面では優れている多
くの軟化性材料のアルミニウム処理ポリエステルのよう
な伝導性基体に対するむしろ貧弱な接着性のために、軟
化性層の厚さを増大させて十分な静電対比電位を得んと
する試みは、多くの場合、製造中、貯蔵中または使用中
のいずれかでフィルムのはがれが生じている。
1985年8月20付でトメニックS、 Ngに付与さ
れた米国特許第4,536,458号は基体と該基体上
の電気絶縁性軟化性層とを含み、この軟化性層が基体か
ら離れて置かれた軟化性層の少なくとも表面または表面
近くに存在させたマイグレーションマーキング粒子と電
荷移送層とを含むマイグレーション像形成部材を開示し
ている。軟化性層はスチレンアクリレートコポリマー、
ポリスチレン、アルキッド置換ポリスチレン、スチレン
−オレフィンコポリマー、スチレンーコーn−へキシル
メタクリレート、固有粘度0.179 d17gmを有
するスチレンとへキシルメタクリレートの特注(即ち特
別注文)合成80/20モル%コポリマー、スチレンと
へキシルメタクリレートの他のコポリマー、スチレン−
ビニルトルエンコポリマー、およびこれらの混合物また
はコポリマーを含み得る。
れた米国特許第4,536,458号は基体と該基体上
の電気絶縁性軟化性層とを含み、この軟化性層が基体か
ら離れて置かれた軟化性層の少なくとも表面または表面
近くに存在させたマイグレーションマーキング粒子と電
荷移送層とを含むマイグレーション像形成部材を開示し
ている。軟化性層はスチレンアクリレートコポリマー、
ポリスチレン、アルキッド置換ポリスチレン、スチレン
−オレフィンコポリマー、スチレンーコーn−へキシル
メタクリレート、固有粘度0.179 d17gmを有
するスチレンとへキシルメタクリレートの特注(即ち特
別注文)合成80/20モル%コポリマー、スチレンと
へキシルメタクリレートの他のコポリマー、スチレン−
ビニルトルエンコポリマー、およびこれらの混合物また
はコポリマーを含み得る。
該マイグレーション像形成部材は静電的に帯電させ、像
形成的に活性化用照射に露光し、軟化性層深部のマーキ
ング材料の移行に対する抵抗性を、少なくともマーキン
グ粒子の移行を可能にしそれによってマーキング材料が
像形状で基体に向けて移行するのに十分な程度に、低減
させることによって現像する。
形成的に活性化用照射に露光し、軟化性層深部のマーキ
ング材料の移行に対する抵抗性を、少なくともマーキン
グ粒子の移行を可能にしそれによってマーキング材料が
像形状で基体に向けて移行するのに十分な程度に、低減
させることによって現像する。
1985年8月20日付でマンタムに付与された米国特
許第4,536,457号は基体と該基体上の電気絶縁
性軟化性層を含み、該軟化性層が該基体から離れた該軟
化性層の少なくとも表面または表面近くに存在させたマ
イグレーションマーキング材料および電荷移送分子とを
含むマイグレーション像形成部材(例えば、米国特許第
4,536,458号に記載されている像形成部材)を
均一に帯電させ像形成的に活性化用照射に露光させた方
法を開示している。軟化性層中のマーキング材料の移行
に対する抵抗は、その後、マーキング材料の基体に向っ
て深部での像形状でのわずかな移行を可能にするように
十分に低下させ、さらに、軟化性層中のマーキング材料
の移行に対する抵抗を非移行マーキング材料を凝集させ
るように十分に低下させる。
許第4,536,457号は基体と該基体上の電気絶縁
性軟化性層を含み、該軟化性層が該基体から離れた該軟
化性層の少なくとも表面または表面近くに存在させたマ
イグレーションマーキング材料および電荷移送分子とを
含むマイグレーション像形成部材(例えば、米国特許第
4,536,458号に記載されている像形成部材)を
均一に帯電させ像形成的に活性化用照射に露光させた方
法を開示している。軟化性層中のマーキング材料の移行
に対する抵抗は、その後、マーキング材料の基体に向っ
て深部での像形状でのわずかな移行を可能にするように
十分に低下させ、さらに、軟化性層中のマーキング材料
の移行に対する抵抗を非移行マーキング材料を凝集させ
るように十分に低下させる。
上記軟化性層はスチレンアクリレートコポリマー、ポリ
スチレン、アルキッド置換ポリスチレン、スチレン−オ
レフィンコポリマー、スチレンーコーn−へキシルメタ
クリレート、固有粘度0.179dl/gmを有するス
チレンとへキシルメタクリレートの特注合成80/20
モルパーセントコポリマー、スチレンとへキシルメタク
リレートの他のコポリマー、スチレン−ビニルトルエン
コポリマー、およびこれらの混合物またはコポリマーを
含み得る。上記マイグレーション像形成部材は、例えば
、水系スチレン−アクリルコポリマー(ポリビニルケミ
カルインダストリーズ社より入手できるネオクリルA6
22)でオーバーコーテイングし得る。
スチレン、アルキッド置換ポリスチレン、スチレン−オ
レフィンコポリマー、スチレンーコーn−へキシルメタ
クリレート、固有粘度0.179dl/gmを有するス
チレンとへキシルメタクリレートの特注合成80/20
モルパーセントコポリマー、スチレンとへキシルメタク
リレートの他のコポリマー、スチレン−ビニルトルエン
コポリマー、およびこれらの混合物またはコポリマーを
含み得る。上記マイグレーション像形成部材は、例えば
、水系スチレン−アクリルコポリマー(ポリビニルケミ
カルインダストリーズ社より入手できるネオクリルA6
22)でオーバーコーテイングし得る。
1985年1月29日付でマンクム等に付与された米国
特許筒4,492,642号は、基体、該基体上の電気
絶縁性軟化性層、およびフィルム形成性樹脂を含み一部
が上記軟化性層表面下に延びている保護オーバーコーテ
イングとを含むマイグレーション像形成部材を開示して
いる。上記軟化性層は基体から離れた軟化性層の少なく
とも表面または表面近くに存在させたマイグレーション
マーキング材料および電荷移送分子とを含む。上記軟化
性層もまたスチレン−アクリレートコポリマー、ポリス
チレン、アルキッド置換ポリスチレン、スチレン−オレ
フィンコポリマー、スチレンーコーn−へキシルメタク
リレート、固有粘度 0.179d1/gmを有するス
チレンとへキシルメタクリレートの特注合成80/20
モルパーセントコポリマー、スチレンとへキシルメタク
リレートの他のコポリマー、スチレン−ビニルトルエン
コポリマー、およびこれらの混合物またはコポリマーを
含み得る。オーバーコーテイング層には、例えば、重量
平均分子量約45.000を有するスチレンとへキシル
メタクリレートの特注合成80/20モルバー セント
コポリマー、他のスチレンコポリマー、メタクリルコポ
リマー等がある。スチレンとブチルメタクリレートとの
コポリマー(ポリビニルケミカルインダストリーズ社よ
り入手できるネオクリルA622)を含有するオーバー
コーテイングは実施例■およびHに開示されている。上
記マイグレーション像形成部材は静電的に帯電させ、活
性化用照射に像形成的に露光し、軟化外層深部のマーキ
ング材料の移行に対する抵抗性は少な(ともマーキング
材料の移行を可能にするように十分に低下させそれによ
ってマーキング材料が基体に向って像形成的に移行する
ことによって現像している。
特許筒4,492,642号は、基体、該基体上の電気
絶縁性軟化性層、およびフィルム形成性樹脂を含み一部
が上記軟化性層表面下に延びている保護オーバーコーテ
イングとを含むマイグレーション像形成部材を開示して
いる。上記軟化性層は基体から離れた軟化性層の少なく
とも表面または表面近くに存在させたマイグレーション
マーキング材料および電荷移送分子とを含む。上記軟化
性層もまたスチレン−アクリレートコポリマー、ポリス
チレン、アルキッド置換ポリスチレン、スチレン−オレ
フィンコポリマー、スチレンーコーn−へキシルメタク
リレート、固有粘度 0.179d1/gmを有するス
チレンとへキシルメタクリレートの特注合成80/20
モルパーセントコポリマー、スチレンとへキシルメタク
リレートの他のコポリマー、スチレン−ビニルトルエン
コポリマー、およびこれらの混合物またはコポリマーを
含み得る。オーバーコーテイング層には、例えば、重量
平均分子量約45.000を有するスチレンとへキシル
メタクリレートの特注合成80/20モルバー セント
コポリマー、他のスチレンコポリマー、メタクリルコポ
リマー等がある。スチレンとブチルメタクリレートとの
コポリマー(ポリビニルケミカルインダストリーズ社よ
り入手できるネオクリルA622)を含有するオーバー
コーテイングは実施例■およびHに開示されている。上
記マイグレーション像形成部材は静電的に帯電させ、活
性化用照射に像形成的に露光し、軟化外層深部のマーキ
ング材料の移行に対する抵抗性は少な(ともマーキング
材料の移行を可能にするように十分に低下させそれによ
ってマーキング材料が基体に向って像形成的に移行する
ことによって現像している。
チャン等に付与された米国特許筒4,391,888号
は基体、ポリカーボネート層、バインダータイプ電荷励
起層および電荷移送層とを含む感光体を開示している。
は基体、ポリカーボネート層、バインダータイプ電荷励
起層および電荷移送層とを含む感光体を開示している。
ポリカーボネート層は電荷ブロッキング層および接着層
の両方として機能している。
の両方として機能している。
ポリカーボネートの分子層は30000〜40000の
範囲になり、接着層の好ましい厚さは0.1〜0.2ミ
クロンの範囲である。
範囲になり、接着層の好ましい厚さは0.1〜0.2ミ
クロンの範囲である。
ナカヤマに付与された米国特許筒4,426,435号
は伝轟性基体、接着層、光導電性層、および有機バイン
ダー中に分散させた金属酸化物の保護外側層とからなる
像形成部材の作製方法を開始している。接着層は感光体
の保護金属酸化物外側層と光導電性層との間に存在する
。接着層は外側層を光導電性層に結合させているだげで
なく電荷注入抑制層としても機能している。接着層はポ
リエステル、エポキシまたはポリウレタン樹脂のような
高分子有機化合物から調製される。
は伝轟性基体、接着層、光導電性層、および有機バイン
ダー中に分散させた金属酸化物の保護外側層とからなる
像形成部材の作製方法を開始している。接着層は感光体
の保護金属酸化物外側層と光導電性層との間に存在する
。接着層は外側層を光導電性層に結合させているだげで
なく電荷注入抑制層としても機能している。接着層はポ
リエステル、エポキシまたはポリウレタン樹脂のような
高分子有機化合物から調製される。
ヒロオカ等に付与された米国特許筒4,517,271
号はアルミニウム基体、アクリル樹脂中に分散させた硫
化カドミウムの光導電性層、および絶縁性保護層とを含
む電子写真感光性部材を開示している。硫化カドミウム
光導電性層はアクリル樹脂層と結合して光導電性層を安
定化している。絶縁性層はポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリスチレンまたはその他を含み、光導電性層を保
護するように調製されている。
号はアルミニウム基体、アクリル樹脂中に分散させた硫
化カドミウムの光導電性層、および絶縁性保護層とを含
む電子写真感光性部材を開示している。硫化カドミウム
光導電性層はアクリル樹脂層と結合して光導電性層を安
定化している。絶縁性層はポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリスチレンまたはその他を含み、光導電性層を保
護するように調製されている。
要するに、多くの従来技術マイグレーション像形成部材
の欠点は製造中、貯蔵中または使用中に厳しい操作条件
に供したときの下地層からの軟化性層のはがれである。
の欠点は製造中、貯蔵中または使用中に厳しい操作条件
に供したときの下地層からの軟化性層のはがれである。
多くのマイグレーション像形成部材のもう1つの欠点は
コーティング中、貯蔵中および使用中の昇温、昇圧条件
下、特に、強くロールに巻いたときにブロッキングする
傾向である。さらにまた、電荷移送剤を含有する多くの
従来技術マイグレーション像形成部材から作製した静電
印刷用マスターの静電複写特性は、静電複写液体現像剤
を用いる静電複写印刷装置でサイクル操作するときに劣
下する。これらの欠点は、静電印刷用マスターを液体現
像剤と接触させながら静電印刷サイクル操作中の苛酷な
条件で使用するマイグレーション像形成部材においては
、特に好ましくない。
コーティング中、貯蔵中および使用中の昇温、昇圧条件
下、特に、強くロールに巻いたときにブロッキングする
傾向である。さらにまた、電荷移送剤を含有する多くの
従来技術マイグレーション像形成部材から作製した静電
印刷用マスターの静電複写特性は、静電複写液体現像剤
を用いる静電複写印刷装置でサイクル操作するときに劣
下する。これらの欠点は、静電印刷用マスターを液体現
像剤と接触させながら静電印刷サイクル操作中の苛酷な
条件で使用するマイグレーション像形成部材においては
、特に好ましくない。
従って、上記の欠点を克服する改良された像形成部材お
よび方法が求められている。
よび方法が求められている。
本発明の目的は機械的、電気的、化学的または熱的に安
定であり、はがれおよびブロッキングに対して抵抗性が
あり;製造中、貯蔵中および使用中に構造的一体性と像
形成特性を保持する信頼性あるマイグレーション像形成
部材を提供することである。
定であり、はがれおよびブロッキングに対して抵抗性が
あり;製造中、貯蔵中および使用中に構造的一体性と像
形成特性を保持する信頼性あるマイグレーション像形成
部材を提供することである。
本発明の上記および他の目的は、基体および該基体に隣
接する電気絶縁性軟化性層とを含み、該軟化性層が基体
から離れた軟化性層の実質的表面または表面近くに存在
させた電気的に感光性のマイグレーションマーキング材
料の破壊性層を含み;基体に隣接する少なくとも1つの
層中にスチレンとエチルアクリレートのコポリマーを含
み;該コポリマーが約40〜約80モル%のスチレンと
約20〜約60モル%のエチルアクリレートを含み、該
コポリマーが約4,000〜約35,000の門n、約
10.000〜約80,000のh、約30°C〜約7
5°CのTg、および115°Cで約1×102ボイズ
〜1×106ボイズの溶融粘度を有することを特徴とす
る改良されたマイグレーション像形成部材を提供するこ
とによって達成される。
接する電気絶縁性軟化性層とを含み、該軟化性層が基体
から離れた軟化性層の実質的表面または表面近くに存在
させた電気的に感光性のマイグレーションマーキング材
料の破壊性層を含み;基体に隣接する少なくとも1つの
層中にスチレンとエチルアクリレートのコポリマーを含
み;該コポリマーが約40〜約80モル%のスチレンと
約20〜約60モル%のエチルアクリレートを含み、該
コポリマーが約4,000〜約35,000の門n、約
10.000〜約80,000のh、約30°C〜約7
5°CのTg、および115°Cで約1×102ボイズ
〜1×106ボイズの溶融粘度を有することを特徴とす
る改良されたマイグレーション像形成部材を提供するこ
とによって達成される。
上記コポリマーはまた約25までの酸価を有し得、ぎら
に、約0〜約3モル%の炭素−炭素不飽和を有する共重
合性有機酸または炭素−炭素不飽和を有するその誘導体
を含み得る。
に、約0〜約3モル%の炭素−炭素不飽和を有する共重
合性有機酸または炭素−炭素不飽和を有するその誘導体
を含み得る。
本発明のマイグレーション像形成部材は、基体および該
基体に隣接する電気絶縁性軟化性層を含み、該軟化性層
が基体から離れた軟化性層の実質的表面または表面近く
に存在させた電気的に感光性のマイグレーションマーキ
ング材料の破壊性層を含み、基体に隣接する少なくとも
1つの層中のスチレンとエチルアクリレートのコポリマ
ーを含み、該コポリマーが約40〜約80モル%のスチ
レンと約20〜約60モル%のエチルアクリレートを含
み、該コポリマーが約4.000〜約35.000のM
n、約10.000〜約80.000のMw、約30℃
〜約75℃の’rgおよび115℃で約1×102〜約
I×106ポイズの溶融粘度とを有することを特徴とす
るマイグレーション像形成部材を用意し;該部材を静電
的に帯電させて該部材上に均一に電荷を付着させ;該部
材を上記均一電荷の実質的減衰前に像形成的に活性化用
照射に露光させ;該部材を上記軟化性層の深部のマーキ
ング材料の移行に対する抵抗を少なくともマーキング粒
子の移行を可能にしそれにマーキング材料が像形状で基
体に向かって移行するように十分に低下させることから
なる像形成方法において使用する。
基体に隣接する電気絶縁性軟化性層を含み、該軟化性層
が基体から離れた軟化性層の実質的表面または表面近く
に存在させた電気的に感光性のマイグレーションマーキ
ング材料の破壊性層を含み、基体に隣接する少なくとも
1つの層中のスチレンとエチルアクリレートのコポリマ
ーを含み、該コポリマーが約40〜約80モル%のスチ
レンと約20〜約60モル%のエチルアクリレートを含
み、該コポリマーが約4.000〜約35.000のM
n、約10.000〜約80.000のMw、約30℃
〜約75℃の’rgおよび115℃で約1×102〜約
I×106ポイズの溶融粘度とを有することを特徴とす
るマイグレーション像形成部材を用意し;該部材を静電
的に帯電させて該部材上に均一に電荷を付着させ;該部
材を上記均一電荷の実質的減衰前に像形成的に活性化用
照射に露光させ;該部材を上記軟化性層の深部のマーキ
ング材料の移行に対する抵抗を少なくともマーキング粒
子の移行を可能にしそれにマーキング材料が像形状で基
体に向かって移行するように十分に低下させることから
なる像形成方法において使用する。
上記コポリマーもまた約25までの酸価を有しさらに約
O〜約3モル%の炭素−炭素不飽和を有する共重合性有
機酸または炭素−炭素不飽和を有するその誘導体を含み
得る。
O〜約3モル%の炭素−炭素不飽和を有する共重合性有
機酸または炭素−炭素不飽和を有するその誘導体を含み
得る。
また、本発明の範囲には、スチレンとエチルアクリレー
トのコポリマーが基体と軟化性層との間の均一な連続接
着層または電荷移送用スペーシング層中に存在し得る実
施態様も包含される。別の実施態様においては、スチレ
ンとエチルアクリレートのコポリマーは軟化性層中に存
在し得る。必要ならば、上記いずれかの層中のコポリマ
ーはスチレン、エチルアクリレートおよび炭素−炭素不
飽和を有する共重合性有機酸または該有機酸の共重合性
誘導体とのターポリマーであり得る。軟化外層は電荷移
送物質を含み得、この電荷移送物質は電気的に感光性の
マイグレーションマーキング材料から軟化性層への電荷
注入を増大させ得、電荷を基体に移送し得かつ軟化性層
中で溶解または分子的に分散し得るものである。
トのコポリマーが基体と軟化性層との間の均一な連続接
着層または電荷移送用スペーシング層中に存在し得る実
施態様も包含される。別の実施態様においては、スチレ
ンとエチルアクリレートのコポリマーは軟化性層中に存
在し得る。必要ならば、上記いずれかの層中のコポリマ
ーはスチレン、エチルアクリレートおよび炭素−炭素不
飽和を有する共重合性有機酸または該有機酸の共重合性
誘導体とのターポリマーであり得る。軟化外層は電荷移
送物質を含み得、この電荷移送物質は電気的に感光性の
マイグレーションマーキング材料から軟化性層への電荷
注入を増大させ得、電荷を基体に移送し得かつ軟化性層
中で溶解または分子的に分散し得るものである。
一般に、本発明のマイグレーション像形成部材は任意構
成成分としての伝導性層を有する基体、任意構成成分と
しての接着層、フィルム形成性ポリマーと電荷移送物質
を含む任意構成成分としての電荷移送スペーシング層、
任意構成成分としての電荷移送物質および基体の上部表
面と連続しているマイグレーションマーキング材料の破
壊性層とを含む軟化性層、任意構成成分としてのオーバ
ーコーテイング層および上記軟化性層中のスチレンとエ
チルアクリレートコポリマー、電荷移送スペーシング層
、接着層またはこれらの組合せを含み得る。破壊性層中
のマーキング材料粒子は一般に互いに接触していないが
互いに1μm以下しか離れていない。種々の実施態様に
おいて、支持基体は電気絶縁性または電導性のいずれか
であり得る。例えば、支持基体は電導性の金属ドラムま
たはプレートであり得る。幾つかの実施態様においては
、支持基体は伝導性層またはコーティングを有する支持
基体、例えば、アルミニウム処理ポリエステルフィルム
を含み得、この上には、任意構成成分としての接着層、
任意構成成分としての電荷移送スペーシング層または軟
化性層をコーティングし得る。基体は、その上にコーテ
ィングした電導性層自体が部分的または実質的に透明で
ある実施態様を包含する種々の実施態様において、不透
明、半透明または透明であり得る。軟化性層の上部表面
と連続するマーキング材料の破壊性層は軟化性物質中に
軟化性層上部表面においてわずかに、部分的に、実質的
にまたは全体的に埋め込み得る。
成成分としての伝導性層を有する基体、任意構成成分と
しての接着層、フィルム形成性ポリマーと電荷移送物質
を含む任意構成成分としての電荷移送スペーシング層、
任意構成成分としての電荷移送物質および基体の上部表
面と連続しているマイグレーションマーキング材料の破
壊性層とを含む軟化性層、任意構成成分としてのオーバ
ーコーテイング層および上記軟化性層中のスチレンとエ
チルアクリレートコポリマー、電荷移送スペーシング層
、接着層またはこれらの組合せを含み得る。破壊性層中
のマーキング材料粒子は一般に互いに接触していないが
互いに1μm以下しか離れていない。種々の実施態様に
おいて、支持基体は電気絶縁性または電導性のいずれか
であり得る。例えば、支持基体は電導性の金属ドラムま
たはプレートであり得る。幾つかの実施態様においては
、支持基体は伝導性層またはコーティングを有する支持
基体、例えば、アルミニウム処理ポリエステルフィルム
を含み得、この上には、任意構成成分としての接着層、
任意構成成分としての電荷移送スペーシング層または軟
化性層をコーティングし得る。基体は、その上にコーテ
ィングした電導性層自体が部分的または実質的に透明で
ある実施態様を包含する種々の実施態様において、不透
明、半透明または透明であり得る。軟化性層の上部表面
と連続するマーキング材料の破壊性層は軟化性物質中に
軟化性層上部表面においてわずかに、部分的に、実質的
にまたは全体的に埋め込み得る。
本発明の他の多層型の実施態様においては、軟化性層は
任意構成成分としての保護オーバーコーテイング層でオ
ーバーコーテイングし得る。本発明の新規なマイグレー
ション像形成部材においては、オーバーコーテイング層
は接着またははく離材を含み得、あるいは外側層が接着
またははく離材を含む複数層を含み得る。
任意構成成分としての保護オーバーコーテイング層でオ
ーバーコーテイングし得る。本発明の新規なマイグレー
ション像形成部材においては、オーバーコーテイング層
は接着またははく離材を含み得、あるいは外側層が接着
またははく離材を含む複数層を含み得る。
本発明のマイグレーション像形成部材は像形成させるこ
とによって静電印刷用マスターを作製し得る。静電印刷
用マスター用に使用する場合、本発明のマイグレーショ
ン像形成部材は軟化性層と電荷移送スペーシング層(電
荷移送スペーシング層は使用する場合)中に電荷移送物
質を含み得る。
とによって静電印刷用マスターを作製し得る。静電印刷
用マスター用に使用する場合、本発明のマイグレーショ
ン像形成部材は軟化性層と電荷移送スペーシング層(電
荷移送スペーシング層は使用する場合)中に電荷移送物
質を含み得る。
本発明のマイグレーション像形成部材は均一荷電、活性
化用照射への像形成的露光、および熱、溶媒蒸気または
これらの組合せの適用による現像によるような公知のマ
イグレーション像形成法を用いて像形成させて静電印刷
用マスターを作製できる。
化用照射への像形成的露光、および熱、溶媒蒸気または
これらの組合せの適用による現像によるような公知のマ
イグレーション像形成法を用いて像形成させて静電印刷
用マスターを作製できる。
得られた静電印刷用マスターはその後通常のコロトロン
のような適当な装置により均一に帯電させる。次いで、
付着させた均一電荷を有する像形成部材は活性化用照射
に均一に露光させて静電潜像を形成させる。続いて、こ
の静電像は静電印刷用マスター上の電荷の極性とは反対
極性に帯電させたトナー粒子を供送する通常の静電複写
現像法によりトナー付してトナー像を形成させる。この
付着トナー像は静電印刷用マスターから適当な受は入れ
部材、例えば、紙に、該受は入れ部材の後面に均一電荷
をコロトロンのような適当な荷電装置によって適用する
ことによって転写する。トナー像の受は入れ部材への転
写の後、転写トナー像は融合法、ラミネーティング法等
の周知の方法により定着させ得る。その後、静電印刷用
マスターの像形成表面は必要に応じてクリーニングでき
る。
のような適当な装置により均一に帯電させる。次いで、
付着させた均一電荷を有する像形成部材は活性化用照射
に均一に露光させて静電潜像を形成させる。続いて、こ
の静電像は静電印刷用マスター上の電荷の極性とは反対
極性に帯電させたトナー粒子を供送する通常の静電複写
現像法によりトナー付してトナー像を形成させる。この
付着トナー像は静電印刷用マスターから適当な受は入れ
部材、例えば、紙に、該受は入れ部材の後面に均一電荷
をコロトロンのような適当な荷電装置によって適用する
ことによって転写する。トナー像の受は入れ部材への転
写の後、転写トナー像は融合法、ラミネーティング法等
の周知の方法により定着させ得る。その後、静電印刷用
マスターの像形成表面は必要に応じてクリーニングでき
る。
帯電、トナー付、転写およびクリーニングの各工程は高
速で繰返し得る。かくして、この静電印刷法は、繰返し
の像の露光なしで、通常の静電複写の簡易性、安定性お
よび品質の殆んどを保持している。クリーニング工程を
用いることは同じ領域を繰返しトナー付するので全く必
要ない。
速で繰返し得る。かくして、この静電印刷法は、繰返し
の像の露光なしで、通常の静電複写の簡易性、安定性お
よび品質の殆んどを保持している。クリーニング工程を
用いることは同じ領域を繰返しトナー付するので全く必
要ない。
1つの特定の実施態様においては、電気的に接地した伝
導性基体、スチレンとエチルアクリレートのコポリマー
を含む軟化性層、電荷移送物質、およびマイグレーショ
ンマーキング材料の破壊性層とを含む静電印刷用マスタ
ープレカーサ一部材はコロナ荷電装置による電荷によっ
て均一に帯電させその後活性化用照射に像形成的に露光
できる。
導性基体、スチレンとエチルアクリレートのコポリマー
を含む軟化性層、電荷移送物質、およびマイグレーショ
ンマーキング材料の破壊性層とを含む静電印刷用マスタ
ープレカーサ一部材はコロナ荷電装置による電荷によっ
て均一に帯電させその後活性化用照射に像形成的に露光
できる。
その後、静電印刷用マスタープレカーサ一部材は溶媒蒸
気への暴露次いで加熱により現像できる。
気への暴露次いで加熱により現像できる。
溶媒処理静電印刷用マスタープレカーサ一部材へ熱エネ
ルギーを適用したとき、プレカーサ一部材の静電印刷用
マスターへの転化が完了する。溶媒蒸気処理はマイグレ
ーションマーキング材料破壊性層の露光領域内の露光粒
子に少量の正味電荷を保持させ、この電荷は基体へ向っ
てマーキング粒子の深部での像形状でのほんのわずかな
凝集、わずかな融合、わずかな移行またはこれらの組合
せを可能にする。これによりDmax領域を得る。−方
、蒸気処理と加熱の組合せは未露光粒子を実質的に凝集
、融合せしめて比較的少数であるが大きい凝集物または
球状物を形成する。これによりDmin領域を得る。即
ち、最終静電印刷用マスターにおける現像は極めて低い
背景光学密度を示す原像(通常の光レンズ露光装置を用
いた場合)の光学的に符号逆転可視像である。
ルギーを適用したとき、プレカーサ一部材の静電印刷用
マスターへの転化が完了する。溶媒蒸気処理はマイグレ
ーションマーキング材料破壊性層の露光領域内の露光粒
子に少量の正味電荷を保持させ、この電荷は基体へ向っ
てマーキング粒子の深部での像形状でのほんのわずかな
凝集、わずかな融合、わずかな移行またはこれらの組合
せを可能にする。これによりDmax領域を得る。−方
、蒸気処理と加熱の組合せは未露光粒子を実質的に凝集
、融合せしめて比較的少数であるが大きい凝集物または
球状物を形成する。これによりDmin領域を得る。即
ち、最終静電印刷用マスターにおける現像は極めて低い
背景光学密度を示す原像(通常の光レンズ露光装置を用
いた場合)の光学的に符号逆転可視像である。
作製した静電印刷用マスターはその後静電印刷法に使用
できる。静電印刷用マスターはコロナ荷電装置により均
一に帯電させ得る。静電印刷用マスターは暗中で均一に
絶縁性であるので、フリンジ領域を生じたり帯電イオン
をぼかしたりすることは全(なく、静電印刷用マスター
を均一に帯電させてその全表面に亘って十分な電位にす
ることができる。帯電させた静電印刷用マスターは次い
で光エネルギーに均一にフラッシュ露光させD max
領域上の軟化性層の像形成表面部分を実質的に放電させ
かつDmin領域上の部分に付着電荷の殆んどを保持さ
せそれによって静電潜像を形成する。
できる。静電印刷用マスターはコロナ荷電装置により均
一に帯電させ得る。静電印刷用マスターは暗中で均一に
絶縁性であるので、フリンジ領域を生じたり帯電イオン
をぼかしたりすることは全(なく、静電印刷用マスター
を均一に帯電させてその全表面に亘って十分な電位にす
ることができる。帯電させた静電印刷用マスターは次い
で光エネルギーに均一にフラッシュ露光させD max
領域上の軟化性層の像形成表面部分を実質的に放電させ
かつDmin領域上の部分に付着電荷の殆んどを保持さ
せそれによって静電潜像を形成する。
即ち、本発明の静電印刷用マスターの均一な帯電および
その後の均一な照射は主としてDmaxSN域内で光放
電を生ぜしめて静電印刷用マスター内に静電潜像を与え
る。静電潜像はその後トナー粒子で現像してDmin領
域上の静電潜像に相応するトナー像を形成させる。Dm
in領域上の絶縁材料の像形成パターン上の電荷の極性
と反対の極性を有するトナー粒子はDmin領域上の対
極荷電部分(凝集物または球状物)に引き付けられる。
その後の均一な照射は主としてDmaxSN域内で光放
電を生ぜしめて静電印刷用マスター内に静電潜像を与え
る。静電潜像はその後トナー粒子で現像してDmin領
域上の静電潜像に相応するトナー像を形成させる。Dm
in領域上の絶縁材料の像形成パターン上の電荷の極性
と反対の極性を有するトナー粒子はDmin領域上の対
極荷電部分(凝集物または球状物)に引き付けられる。
しかしながら、必要に応じて、トナーは帯電領域(Dn
+in )と同じ極性を有するトナー粒子を用いること
によって放電領域(Dmax)内に付着させてもよい。
+in )と同じ極性を有するトナー粒子を用いること
によって放電領域(Dmax)内に付着させてもよい。
次いで、現像剤はDmtneI域上の電荷によって反発
されて放電領域内(Dmax )内に付着する。また、
周知の電気的にバイアスされた現像電極も必要に応じて
用いてトナー粒子を像形成表面の帯電または放電領域の
いずれかに向けることができる。次いで、付着トナー粒
子は紙のような受は入れ部材に該受は入れ部材の後面に
適当なコロナ装置によって静電荷を適用することによっ
て転写できるその後、転写トナー像はオーブン定着機の
ような通常の手段によって定着させる。この現像、転写
および定着の各工程は静電複写像形成において通常用い
る工程と同一である。
されて放電領域内(Dmax )内に付着する。また、
周知の電気的にバイアスされた現像電極も必要に応じて
用いてトナー粒子を像形成表面の帯電または放電領域の
いずれかに向けることができる。次いで、付着トナー粒
子は紙のような受は入れ部材に該受は入れ部材の後面に
適当なコロナ装置によって静電荷を適用することによっ
て転写できるその後、転写トナー像はオーブン定着機の
ような通常の手段によって定着させる。この現像、転写
および定着の各工程は静電複写像形成において通常用い
る工程と同一である。
別の像形成法においては、電気的に接地した伝導性基体
、スチレンとエチルアクリレートのコポリマーを含む軟
化性層、この軟化性層中の電荷移送物質およびマイグレ
ーションマーキング材料の破壊性層とを含む静電印刷用
マスタープレカーサ一部材はコロナ荷電手段によって均
一に帯電させ、その後、活性化用照射に像形成的に露光
する。次いで、露光させた静電印刷用マスタープレカー
サ一部材を加熱のみまたは溶媒蒸気のみによって現像し
て該プレカーサ一部材を静電印刷用マスターに転換する
。マイグレーションマーキング材料の破壊性層の露光領
域中の露光粒子は基体に向って深部に像形成に移行し、
Dmin領域を与える。未露光領域は実質的に元の位置
に残りDmax?II域を与える。即ち、最終静電印刷
用マスター中の現像は原像の光学的に符号保持性の可視
像である(通常の光レンズ露光装置を使用した場合)。
、スチレンとエチルアクリレートのコポリマーを含む軟
化性層、この軟化性層中の電荷移送物質およびマイグレ
ーションマーキング材料の破壊性層とを含む静電印刷用
マスタープレカーサ一部材はコロナ荷電手段によって均
一に帯電させ、その後、活性化用照射に像形成的に露光
する。次いで、露光させた静電印刷用マスタープレカー
サ一部材を加熱のみまたは溶媒蒸気のみによって現像し
て該プレカーサ一部材を静電印刷用マスターに転換する
。マイグレーションマーキング材料の破壊性層の露光領
域中の露光粒子は基体に向って深部に像形成に移行し、
Dmin領域を与える。未露光領域は実質的に元の位置
に残りDmax?II域を与える。即ち、最終静電印刷
用マスター中の現像は原像の光学的に符号保持性の可視
像である(通常の光レンズ露光装置を使用した場合)。
上部で作製した静電印刷用マスターは、その後、静電印
刷法に使用できる。該静電印刷用マスターはコロナ荷電
装置により均一に帯電させ次いで光エネルギーに均一に
フラッシュ露光させてDmax領域上の軟化性層の像形
成表面の部分(移行してない)を実質的に放電させDm
in領域上の部分(移行した)に付着電荷の殆んどを残
存させそれによって静電潜像を形成できる。即ち、本発
明の静電印刷用マスターの均一帯電およびその後の均一
照射は主としてマスターのDmaxjJ域内で光放電を
起させる。次いで、静電潜像はトナー粒子で現像してD
min’J域上の静電潜像に相応するトナー像を形成さ
せ得る。Dmin領域上領域縁材料の像形成パターン上
の電荷の極性と反対の極性を有するトナー粒子はDmi
n領域上領域縁荷電部分(移行した)に引き付けられる
。しかしながら、必要に応じて、トナーは帯電領域(D
min )と同じ極性を有するトナー粒子を用いること
よって放電領域(Dmax)に付着させてもよい。現像
剤はその時Dmin領域上の電荷によって反発されて放
電領域(DmaxSN域)に付着するであろう。付着ト
ナー像は、その後、紙のような受は入れ部材に、該受は
入れ部材の後面に適当なコロナ装置によって静電荷を適
用することによって転写できる。転写トナー像は、その
後、オープン定着機のような適当な手段により定着させ
る。現像、転写および定着の各工程は静電複写像形成に
おいて通常使用する工程と同じである。
刷法に使用できる。該静電印刷用マスターはコロナ荷電
装置により均一に帯電させ次いで光エネルギーに均一に
フラッシュ露光させてDmax領域上の軟化性層の像形
成表面の部分(移行してない)を実質的に放電させDm
in領域上の部分(移行した)に付着電荷の殆んどを残
存させそれによって静電潜像を形成できる。即ち、本発
明の静電印刷用マスターの均一帯電およびその後の均一
照射は主としてマスターのDmaxjJ域内で光放電を
起させる。次いで、静電潜像はトナー粒子で現像してD
min’J域上の静電潜像に相応するトナー像を形成さ
せ得る。Dmin領域上領域縁材料の像形成パターン上
の電荷の極性と反対の極性を有するトナー粒子はDmi
n領域上領域縁荷電部分(移行した)に引き付けられる
。しかしながら、必要に応じて、トナーは帯電領域(D
min )と同じ極性を有するトナー粒子を用いること
よって放電領域(Dmax)に付着させてもよい。現像
剤はその時Dmin領域上の電荷によって反発されて放
電領域(DmaxSN域)に付着するであろう。付着ト
ナー像は、その後、紙のような受は入れ部材に、該受は
入れ部材の後面に適当なコロナ装置によって静電荷を適
用することによって転写できる。転写トナー像は、その
後、オープン定着機のような適当な手段により定着させ
る。現像、転写および定着の各工程は静電複写像形成に
おいて通常使用する工程と同じである。
支持基体は電気絶縁性または電導性のいずれかであり得
る。基体および基体が支持する静電印刷用マスタープレ
カーサ一部材全体はウェブ、ホイル、ラミネートまたは
同等物、ストリップ、シート、コイル、円筒状物、ドラ
ム、エンドレスベルト、エンドレスメービウスストリッ
プ、器盤または他の形状を包含する任意の適当な形状で
あり得る。本発明はこれら形状のいずれかでの使用に特
に適する。典型的な支持基体には、アルミニウム処理ポ
リエステル、透明伝導性ポリマーでコーティングしたポ
リエステルフィルム、金属プレート、ドラム等がある。
る。基体および基体が支持する静電印刷用マスタープレ
カーサ一部材全体はウェブ、ホイル、ラミネートまたは
同等物、ストリップ、シート、コイル、円筒状物、ドラ
ム、エンドレスベルト、エンドレスメービウスストリッ
プ、器盤または他の形状を包含する任意の適当な形状で
あり得る。本発明はこれら形状のいずれかでの使用に特
に適する。典型的な支持基体には、アルミニウム処理ポ
リエステル、透明伝導性ポリマーでコーティングしたポ
リエステルフィルム、金属プレート、ドラム等がある。
幾つかの実施態様においては、電導性基体は表面上にコ
ーティングした伝導性層またはコーティングを有する支
持基体を含み、その上には、また任意構成成分としての
接着層、任意構成成分としての電荷移送スペーシング層
または軟化性層をコーティングする。基体は、その上に
コーティングした電導性層自体が部分的にまたは実質的
に透明である実施態様を包含する種々の実施態様におい
て、不透明、半透明、または透明であり得る。伝導性層
は、例えば、真空蒸発金属または金属酸化物のコーティ
ング、金属ホイル、バインダー中に分散させた電導性粒
子等であり得る。典型的な金属または金属酸化物には、
アルミニウム、インジウム、金、酸化錫、インジウム錫
酸化物、銀、ニッケル等がある。
ーティングした伝導性層またはコーティングを有する支
持基体を含み、その上には、また任意構成成分としての
接着層、任意構成成分としての電荷移送スペーシング層
または軟化性層をコーティングする。基体は、その上に
コーティングした電導性層自体が部分的にまたは実質的
に透明である実施態様を包含する種々の実施態様におい
て、不透明、半透明、または透明であり得る。伝導性層
は、例えば、真空蒸発金属または金属酸化物のコーティ
ング、金属ホイル、バインダー中に分散させた電導性粒
子等であり得る。典型的な金属または金属酸化物には、
アルミニウム、インジウム、金、酸化錫、インジウム錫
酸化物、銀、ニッケル等がある。
本発明のマイグレーション像形成部材は基体と基体上の
少なくとも1つの層中のスチレンとエチルアクリレート
のコポリマーとを含み、該コポリマーは約40〜約80
モル%のスチレンと約20〜約60モル%のエチルアク
リレートを含み、咳コポリマーは約4,000〜約35
,000のMns約10,000〜約80.000の1
1約30℃〜約75℃のTg、および115℃で約1×
103ポイズ〜約lXl06ボイズの溶融粘度を有する
。また、このコポリマーは約25までの酸価を有し、約
0〜約3モル%の炭素−炭素不飽和を有する任意の適当
な共重合性有機酸または該炭素−炭素不飽和を有する有
機酸の共重合性誘導体を含み得る。典型的な炭素−炭素
不飽和を有する有機酸およびその誘導体にはアクリル酸
、メタクリル酸、ビニル酢酸、イタコン酸、アリル酢酸
、これらの混合物、およびこれらの誘導体等がある。ア
クリル酸が上記コポリマー含有層の隣接層との大いに改
良された接着性故にコポリマーの成分として特に好まし
い。
少なくとも1つの層中のスチレンとエチルアクリレート
のコポリマーとを含み、該コポリマーは約40〜約80
モル%のスチレンと約20〜約60モル%のエチルアク
リレートを含み、咳コポリマーは約4,000〜約35
,000のMns約10,000〜約80.000の1
1約30℃〜約75℃のTg、および115℃で約1×
103ポイズ〜約lXl06ボイズの溶融粘度を有する
。また、このコポリマーは約25までの酸価を有し、約
0〜約3モル%の炭素−炭素不飽和を有する任意の適当
な共重合性有機酸または該炭素−炭素不飽和を有する有
機酸の共重合性誘導体を含み得る。典型的な炭素−炭素
不飽和を有する有機酸およびその誘導体にはアクリル酸
、メタクリル酸、ビニル酢酸、イタコン酸、アリル酢酸
、これらの混合物、およびこれらの誘導体等がある。ア
クリル酸が上記コポリマー含有層の隣接層との大いに改
良された接着性故にコポリマーの成分として特に好まし
い。
このスチレンとエチルアルコールとのコポリマー(炭素
−炭素不飽和を有する共重合性有機酸またはその共重合
性m4体を含むまたは含まない)は、静電複写液体現像
剤と接触させたとき、電荷移送分子の本発明のマイグレ
ーション像形成部材へのり−チング(滲出)に対する優
れた抵抗性を与える。本発明のコポリマーのスチレンま
たはエチルアクリレートをヘキシルメタクリレート、ブ
チルメタクリレート、アクリレート等の他のアクリレー
トで約10%よりも多い量で置き換えることは電荷移送
物質含有層の非リーチング特性を実質的に減損させる結
果となる。スチレン−エチルアクリレートコポリマー中
にアクリル酸、またはメタクリル酸のような炭素−炭素
不飽和を有する他の適当な共重合性有機酸およびこれら
の誘導体を含有させることは、アルミニウム処理ポリエ
ステル基体の酸化アルミニウムのような金属処理基体の
酸化物との促進された水素結合故に、層の接着性を向上
させる。上記した範囲のMn : Mw、 Tgおよび
溶融粘度を有するスチレンとエチルアクリレートのコポ
リマーは軟化性層の軟化のための理想的な粘弾性を与え
てマーキング粒子の移行を容易にし、像形成部材を加熱
、蒸気または蒸気/加熱の組合せのいずれかによって現
像したとき像を形成する。さらに、コポリマーの比較的
高いTgは優れた耐ブロツキング特性を付与するのに必
要である。これらの性質を有するスチレンとエチルアク
リレートの任意の適当なコポリマーを本発明のマイグレ
ーション像形成部材で使用できる。これらの性質を有す
る典型的なスチレン−エチルメタクリレートコポリマー
にはモンサント社より入手できるRP1215(これは
約75モル%のスチレン、約25モル%のエチルアクリ
レート、および約1モル%のアクリル酸を含むターポリ
マーであると信じられており、このコポリマーは約30
.000のMn、約72.000のMw、約8の酸価、
約65℃のTgおよび115℃で約6X10’ポイズの
溶融粘度を有する);デソト(DeSoto)社より入
手できるE−335(これは約48モル%のスチレン、
約50モル%のエチルアクリレートおよび約2モル%の
アクリル酸を含むターポリマーであると信じられており
、このコポリマーは約21.000のMn、約54.0
00のMw、約15の酸価、約36℃のTg。
−炭素不飽和を有する共重合性有機酸またはその共重合
性m4体を含むまたは含まない)は、静電複写液体現像
剤と接触させたとき、電荷移送分子の本発明のマイグレ
ーション像形成部材へのり−チング(滲出)に対する優
れた抵抗性を与える。本発明のコポリマーのスチレンま
たはエチルアクリレートをヘキシルメタクリレート、ブ
チルメタクリレート、アクリレート等の他のアクリレー
トで約10%よりも多い量で置き換えることは電荷移送
物質含有層の非リーチング特性を実質的に減損させる結
果となる。スチレン−エチルアクリレートコポリマー中
にアクリル酸、またはメタクリル酸のような炭素−炭素
不飽和を有する他の適当な共重合性有機酸およびこれら
の誘導体を含有させることは、アルミニウム処理ポリエ
ステル基体の酸化アルミニウムのような金属処理基体の
酸化物との促進された水素結合故に、層の接着性を向上
させる。上記した範囲のMn : Mw、 Tgおよび
溶融粘度を有するスチレンとエチルアクリレートのコポ
リマーは軟化性層の軟化のための理想的な粘弾性を与え
てマーキング粒子の移行を容易にし、像形成部材を加熱
、蒸気または蒸気/加熱の組合せのいずれかによって現
像したとき像を形成する。さらに、コポリマーの比較的
高いTgは優れた耐ブロツキング特性を付与するのに必
要である。これらの性質を有するスチレンとエチルアク
リレートの任意の適当なコポリマーを本発明のマイグレ
ーション像形成部材で使用できる。これらの性質を有す
る典型的なスチレン−エチルメタクリレートコポリマー
にはモンサント社より入手できるRP1215(これは
約75モル%のスチレン、約25モル%のエチルアクリ
レート、および約1モル%のアクリル酸を含むターポリ
マーであると信じられており、このコポリマーは約30
.000のMn、約72.000のMw、約8の酸価、
約65℃のTgおよび115℃で約6X10’ポイズの
溶融粘度を有する);デソト(DeSoto)社より入
手できるE−335(これは約48モル%のスチレン、
約50モル%のエチルアクリレートおよび約2モル%の
アクリル酸を含むターポリマーであると信じられており
、このコポリマーは約21.000のMn、約54.0
00のMw、約15の酸価、約36℃のTg。
および115℃で約3X103ポイズの溶融粘度を有す
る):デソト社より人手できるE−048(これは約4
8モル%のスチレン、約51モル%のエチルアクリレー
トおよび約2モル%のアクリル酸を含むターポリマーで
あると信じられており、このコポリマーは約26.00
0のMn、約49000のh、約18の酸価、および約
32℃のTgを有する);デソト社より人手できるE−
351(これは約48モル%のスチレン、約50モル%
のエチルアクリレート、約2モル%のアクリル酸を含む
ターポリマーであると信じられており、このコポリマー
は約15.000のMn、約52,000のh、約18
の酸価および約39℃のTgを有する);約76モル%
のスチレン、約22モル%のエチルアクリレート、約2
モル%のアクリル酸を含む特注合成ターポリマー(この
コポリマーは約27.000のMn、約48,000の
h、約15の酸価、約68℃のTg、および115℃で
約3X10’ボイズの溶融粘度を有する);約73モル
%のスチレン、約27モル%のエチルアクリレート、約
0モル%のアクリル酸を含む特注合成コポリマー(この
コポリマーは約30,000(7)M n %約52.
000のM−1約0の酸価、約68℃のTg。
る):デソト社より人手できるE−048(これは約4
8モル%のスチレン、約51モル%のエチルアクリレー
トおよび約2モル%のアクリル酸を含むターポリマーで
あると信じられており、このコポリマーは約26.00
0のMn、約49000のh、約18の酸価、および約
32℃のTgを有する);デソト社より人手できるE−
351(これは約48モル%のスチレン、約50モル%
のエチルアクリレート、約2モル%のアクリル酸を含む
ターポリマーであると信じられており、このコポリマー
は約15.000のMn、約52,000のh、約18
の酸価および約39℃のTgを有する);約76モル%
のスチレン、約22モル%のエチルアクリレート、約2
モル%のアクリル酸を含む特注合成ターポリマー(この
コポリマーは約27.000のMn、約48,000の
h、約15の酸価、約68℃のTg、および115℃で
約3X10’ボイズの溶融粘度を有する);約73モル
%のスチレン、約27モル%のエチルアクリレート、約
0モル%のアクリル酸を含む特注合成コポリマー(この
コポリマーは約30,000(7)M n %約52.
000のM−1約0の酸価、約68℃のTg。
および115℃で約5X10’ボイズの溶融粘度を有す
る);および約66モル%のスチレン、約34モル%の
エチルアクリレート、約0モル%のアクリル酸を含む特
注合成コポリマー(このコポリマーは約16.000の
Mn、約28,000の1、約Oの酸価、約60℃のT
g、および115℃で約7X10’ポイズの溶融粘度を
有する)等がある。
る);および約66モル%のスチレン、約34モル%の
エチルアクリレート、約0モル%のアクリル酸を含む特
注合成コポリマー(このコポリマーは約16.000の
Mn、約28,000の1、約Oの酸価、約60℃のT
g、および115℃で約7X10’ポイズの溶融粘度を
有する)等がある。
本発明の像形成部材に用いる上記コポリマーは任意の適
当な周知の方法により調製できる。1っの典型的な合成
方法は、例えば、モノマー、即ち、スチレン、エチルア
クリレートおよび炭素−炭素不飽和を有する共重合性有
機酸とを一部のトルエン溶媒を含む反応容器に加える工
程を包含する。
当な周知の方法により調製できる。1っの典型的な合成
方法は、例えば、モノマー、即ち、スチレン、エチルア
クリレートおよび炭素−炭素不飽和を有する共重合性有
機酸とを一部のトルエン溶媒を含む反応容器に加える工
程を包含する。
これらのモノマーをモノマー溶液中に窒素をパップリン
グさせることによって反応系をパージしながら反応器温
度(70℃〜100℃)に平衡させる。モノマー溶液は
反応系のパージ中およびその後の重合中攪拌する。開始
剤を第2部分のトルエン溶媒に加えて、反応容器に添加
する前にトルエン溶媒に溶解または混合する。次いで、
重合を5〜7時間進行せしめ、その間、反応器中の温度
を冷却して制御する。
グさせることによって反応系をパージしながら反応器温
度(70℃〜100℃)に平衡させる。モノマー溶液は
反応系のパージ中およびその後の重合中攪拌する。開始
剤を第2部分のトルエン溶媒に加えて、反応容器に添加
する前にトルエン溶媒に溶解または混合する。次いで、
重合を5〜7時間進行せしめ、その間、反応器中の温度
を冷却して制御する。
基体に隣接する層は任意構成成分としての接着層、任意
構成成分としてのスペーシング層または軟化性層であり
得る。本発明のマイグレーション像形成部材のはがれに
対する改良された抵抗性を得るためには、スチレンとエ
チルアクリレートのコポリマーは下地の基体と連続しか
つ接触した層中に存在すべきである。静電印刷用マスタ
ーを液体現像剤(これは、通常、静電印刷用マスターの
軟化性層から電荷移送物質をリーチングせしめる)で現
像するときに長時間のサイクル操作安定性を得るために
は、スチレンとエチルアクリレートのコポリマーは軟化
性層中に存在すべきである。いずれにせよ、基体に隣接
する層の少なくとも1つ、即ち、本発明のマイグレーシ
ョン像形成部材の任意構成成分としての接着層、任意構
成成分としての電荷移送スペーシング層または軟化層が
上述のスチレンとエチルアクリレートのコポリマーを含
まなければならない。
構成成分としてのスペーシング層または軟化性層であり
得る。本発明のマイグレーション像形成部材のはがれに
対する改良された抵抗性を得るためには、スチレンとエ
チルアクリレートのコポリマーは下地の基体と連続しか
つ接触した層中に存在すべきである。静電印刷用マスタ
ーを液体現像剤(これは、通常、静電印刷用マスターの
軟化性層から電荷移送物質をリーチングせしめる)で現
像するときに長時間のサイクル操作安定性を得るために
は、スチレンとエチルアクリレートのコポリマーは軟化
性層中に存在すべきである。いずれにせよ、基体に隣接
する層の少なくとも1つ、即ち、本発明のマイグレーシ
ョン像形成部材の任意構成成分としての接着層、任意構
成成分としての電荷移送スペーシング層または軟化層が
上述のスチレンとエチルアクリレートのコポリマーを含
まなければならない。
前述したように、接着層を本発明のマイグレーション像
形成部材の1つの実施態様で用いて、マイグレーション
像形成部材の像形成特定を低下させることなく、耐はが
れ性および耐ブロッキング性をマイグレーション像形成
部材に付与させる場合、接着層は、好ましくは、約40
〜約80モル%のスチレン、約20〜60モル%のエチ
ルアクリレート、および約1〜3モル%の炭素−炭素不
飽和を有する共重合性有機酸または該炭素−炭素不飽和
を有する有機酸の共重合合成誘導体とを含むターポリマ
ーを含むべきであり、このターボリマーハ約10,00
0〜約35 、000 (7) Mn 、約25.oo
o〜約80.000(7)Mw、約25まテノ酸価、約
30℃〜約75℃のTg、および115℃で約103ボ
イズ〜約106ボイズの溶融粘度を有する。最適には、
接着層は約40〜約80モル%のスチレン、約20〜約
60モル%のエチルアクリレート、および約1〜約3モ
ル%の炭素−炭素不飽和を有する共重合性有機酸または
該炭素−炭素不飽和を有する有機酸の共重合性誘導体(
特にアクリル酸)を含むターポリマーを含み、このター
ポリマーは約15.000〜約35,000ノMn、約
30,000〜約80,000(7)Mw、約25まで
の酸価、約り5℃〜約75℃のTg、および115℃で
約5X10’ポイズ〜約106ボイズの溶融粘度を有す
る。スチレン、エチルアクリレートおよび上記分子量の
好ましい範囲はコポリマーに十分に高いTgを付与して
十分な耐ブロッキング性示像形成部材の製造および使用
のすべての実施条件下で確立される。アクリル酸、メタ
クリル酸または他の適当な有機酸のような炭素−炭素不
飽和を有する共重合性有機酸またはその誘導体をスチレ
ン−エチルアクリレートコポリマーと組合せてターポリ
マーを調製して本発明の優れた接着特性を付与させる場
合、共重合性有機酸の量は約1〜約3モル%であること
が好ましい。基体に対する接着強度をわずかに犠牲にし
て上記よりわずかに少量の共重合性有機酸を用いてもよ
い。
形成部材の1つの実施態様で用いて、マイグレーション
像形成部材の像形成特定を低下させることなく、耐はが
れ性および耐ブロッキング性をマイグレーション像形成
部材に付与させる場合、接着層は、好ましくは、約40
〜約80モル%のスチレン、約20〜60モル%のエチ
ルアクリレート、および約1〜3モル%の炭素−炭素不
飽和を有する共重合性有機酸または該炭素−炭素不飽和
を有する有機酸の共重合合成誘導体とを含むターポリマ
ーを含むべきであり、このターボリマーハ約10,00
0〜約35 、000 (7) Mn 、約25.oo
o〜約80.000(7)Mw、約25まテノ酸価、約
30℃〜約75℃のTg、および115℃で約103ボ
イズ〜約106ボイズの溶融粘度を有する。最適には、
接着層は約40〜約80モル%のスチレン、約20〜約
60モル%のエチルアクリレート、および約1〜約3モ
ル%の炭素−炭素不飽和を有する共重合性有機酸または
該炭素−炭素不飽和を有する有機酸の共重合性誘導体(
特にアクリル酸)を含むターポリマーを含み、このター
ポリマーは約15.000〜約35,000ノMn、約
30,000〜約80,000(7)Mw、約25まで
の酸価、約り5℃〜約75℃のTg、および115℃で
約5X10’ポイズ〜約106ボイズの溶融粘度を有す
る。スチレン、エチルアクリレートおよび上記分子量の
好ましい範囲はコポリマーに十分に高いTgを付与して
十分な耐ブロッキング性示像形成部材の製造および使用
のすべての実施条件下で確立される。アクリル酸、メタ
クリル酸または他の適当な有機酸のような炭素−炭素不
飽和を有する共重合性有機酸またはその誘導体をスチレ
ン−エチルアクリレートコポリマーと組合せてターポリ
マーを調製して本発明の優れた接着特性を付与させる場
合、共重合性有機酸の量は約1〜約3モル%であること
が好ましい。基体に対する接着強度をわずかに犠牲にし
て上記よりわずかに少量の共重合性有機酸を用いてもよ
い。
また、幾分条目の共重合性有機酸を使用してもよいが接
着強度はさらに有意には改良されない。炭素−炭素不飽
和を有する典型的な有機酸またはその誘導体にはアクリ
ル酸、メタクリル酸、ビニル酢酸、イタコン酸、アリル
酢酸、これらの混合物、およびこれらの誘導体がある。
着強度はさらに有意には改良されない。炭素−炭素不飽
和を有する典型的な有機酸またはその誘導体にはアクリ
ル酸、メタクリル酸、ビニル酢酸、イタコン酸、アリル
酢酸、これらの混合物、およびこれらの誘導体がある。
アクリル酸は、達成される大いに改良された酸はがれ性
および耐ブロッキング性故に、ターポリマーの1成分と
して特に好ましいものである。他の物質も接着性を改良
し得るけれども、デュポン49001ポリ工ステル接着
剤のようなある種の物質は、特に、加熱のみを用いて像
形成部材を現像するとき像形成部材の像形成特性を低下
させる。何故ならば、多くの接着材料は電極からの電荷
注入を生じてマイグレーションに必要なマイグレーショ
ン粒子中の正味の電荷を中和するからである。これは実
質的なりminの増大をもたらす。さらに、49001
ポリ工ステル接着剤はコーティングした部材をロールに
強く巻くときにコーティング中にブロッキングする傾向
を示す。
および耐ブロッキング性故に、ターポリマーの1成分と
して特に好ましいものである。他の物質も接着性を改良
し得るけれども、デュポン49001ポリ工ステル接着
剤のようなある種の物質は、特に、加熱のみを用いて像
形成部材を現像するとき像形成部材の像形成特性を低下
させる。何故ならば、多くの接着材料は電極からの電荷
注入を生じてマイグレーションに必要なマイグレーショ
ン粒子中の正味の電荷を中和するからである。これは実
質的なりminの増大をもたらす。さらに、49001
ポリ工ステル接着剤はコーティングした部材をロールに
強く巻くときにコーティング中にブロッキングする傾向
を示す。
接着層中に本発明のスチレンエチルアクリレートターポ
リマーを有する像形成部材は優れた像形成特性、優れた
耐ブロッキング性を有し、製造中に恐らく遭遇する条件
よりもはるかに厳しい条件下および実際の使用条件下で
の接着テープ試験および高張力巻き取り試験に劣下なし
に耐える。スチレンエチルアクリレートターポリマーは
高度に絶縁性であり、伝導性基体とブロッキング接触を
形成して電荷注入を防止し、光学的に透明であり、可撓
性である。
リマーを有する像形成部材は優れた像形成特性、優れた
耐ブロッキング性を有し、製造中に恐らく遭遇する条件
よりもはるかに厳しい条件下および実際の使用条件下で
の接着テープ試験および高張力巻き取り試験に劣下なし
に耐える。スチレンエチルアクリレートターポリマーは
高度に絶縁性であり、伝導性基体とブロッキング接触を
形成して電荷注入を防止し、光学的に透明であり、可撓
性である。
本発明のマイグレーション像形成部材の実施態様に存在
する場合、接着層は、接着層の総重量基準で、少なくと
も約80重量%のスチレンエチルアクリレートターポリ
マーを含んで本発明の優れた像形成性、接着性および耐
ブロッキング性を達成すべきである。必要ならば、少量
の他の相溶性ポリマーのような他の適当な物質をスチレ
ンとエチルアクリレートのターポリマーに加えてもよい
。
する場合、接着層は、接着層の総重量基準で、少なくと
も約80重量%のスチレンエチルアクリレートターポリ
マーを含んで本発明の優れた像形成性、接着性および耐
ブロッキング性を達成すべきである。必要ならば、少量
の他の相溶性ポリマーのような他の適当な物質をスチレ
ンとエチルアクリレートのターポリマーに加えてもよい
。
接着層に加え得る典型的な物質には、例えば、スチレン
へキシルメタクリレート、スチレンブチルメタクリレー
ト、スチレンブタジェン等がある。
へキシルメタクリレート、スチレンブチルメタクリレー
ト、スチレンブタジェン等がある。
接着層を用いる場合、接着層は約1μm以下好ましくは
約0.5μm以下の厚さを有する均一な連続層を形成し
て像形成部材を静電印刷法での静電印刷用マスターとし
て使用する場合に満足できる光放電を確立しなければな
らない。
約0.5μm以下の厚さを有する均一な連続層を形成し
て像形成部材を静電印刷法での静電印刷用マスターとし
て使用する場合に満足できる光放電を確立しなければな
らない。
電荷移送スペーシング層を本発明のマイグレーション像
形成部材の1つの実施態様に含有させ得る。しかしなが
ら、マイグレーション像形成部材を像形成させて静電印
刷用のマスターを形成すべき場合には、任意構成成分と
しての電荷移送スペーシング層は、特に、軟化性層材料
が接着力のような所定の機械的性質を有さないときに、
静電印刷用マスターの機械的および静電印刷特性を最大
にするのに有利に使用できる。静電印刷用マスター中の
電荷移送スペーシング層は像形成性軟化性層から注入電
荷の伝導性層への移送;像形成性軟化性層と伝導性層ま
たは基体(基体が電導性であり、別個の接着層を用いな
い場合)との間の界面接着剤としての機能;および像形
成表面と伝導性層間の間隔を増大させて静電潜像の静電
対比電位を増大させることを包含する幾つかの重要な機
能を発揮する。
形成部材の1つの実施態様に含有させ得る。しかしなが
ら、マイグレーション像形成部材を像形成させて静電印
刷用のマスターを形成すべき場合には、任意構成成分と
しての電荷移送スペーシング層は、特に、軟化性層材料
が接着力のような所定の機械的性質を有さないときに、
静電印刷用マスターの機械的および静電印刷特性を最大
にするのに有利に使用できる。静電印刷用マスター中の
電荷移送スペーシング層は像形成性軟化性層から注入電
荷の伝導性層への移送;像形成性軟化性層と伝導性層ま
たは基体(基体が電導性であり、別個の接着層を用いな
い場合)との間の界面接着剤としての機能;および像形
成表面と伝導性層間の間隔を増大させて静電潜像の静電
対比電位を増大させることを包含する幾つかの重要な機
能を発揮する。
良品質プリントに必要な静電対比電位は使用する現像剤
の特定の種類(例えば、乾燥であるか液状であるか)お
よび特定用途に要求される現像速度に依存している。−
船釣には、100〜500ボルト範囲の対比電位が液体
現像系には適しているのに対し、200〜800ボルト
範囲の対比電位が乾燥トナー現像系では必要である。留
意すべき点は静電潜像の静電対比電位は像形成性軟化性
層と任意構成成分である電荷移送スペーシング層との合
計厚さに依存していることである。乾燥現像系において
は、上記の合計厚さは一般に約1μm以下30μmの範
囲にあり、任意構成成分としての電荷移送スペーシング
層の厚さは約2〜25μmの範囲にある。それより幾分
薄い層も印刷密度を犠牲にするかあるいは遅い現像速度
で上げれば使用してもよい。上記より厚い層も使用でき
るが、対比電位のさらなる増大は像品質のより実質的な
改善をもたらさない。優れた結果は約5〜約25μmの
合計厚さおよび3〜20μmの任意構成成分である電荷
移送スペーシング層の厚さによって達成される。液体現
像系においては、上記の合計厚さは一般に約3〜約25
μmの範囲にあり、任意構成成分である電荷移送スペー
シング層の厚さは1〜20μmの範囲である。優れた結
果は約4〜約20μmの合計厚さおよび任意構成成分で
ある電荷移送スペーシング層の厚さが2〜15μmの範
囲である場合に達成される。
の特定の種類(例えば、乾燥であるか液状であるか)お
よび特定用途に要求される現像速度に依存している。−
船釣には、100〜500ボルト範囲の対比電位が液体
現像系には適しているのに対し、200〜800ボルト
範囲の対比電位が乾燥トナー現像系では必要である。留
意すべき点は静電潜像の静電対比電位は像形成性軟化性
層と任意構成成分である電荷移送スペーシング層との合
計厚さに依存していることである。乾燥現像系において
は、上記の合計厚さは一般に約1μm以下30μmの範
囲にあり、任意構成成分としての電荷移送スペーシング
層の厚さは約2〜25μmの範囲にある。それより幾分
薄い層も印刷密度を犠牲にするかあるいは遅い現像速度
で上げれば使用してもよい。上記より厚い層も使用でき
るが、対比電位のさらなる増大は像品質のより実質的な
改善をもたらさない。優れた結果は約5〜約25μmの
合計厚さおよび3〜20μmの任意構成成分である電荷
移送スペーシング層の厚さによって達成される。液体現
像系においては、上記の合計厚さは一般に約3〜約25
μmの範囲にあり、任意構成成分である電荷移送スペー
シング層の厚さは1〜20μmの範囲である。優れた結
果は約4〜約20μmの合計厚さおよび任意構成成分で
ある電荷移送スペーシング層の厚さが2〜15μmの範
囲である場合に達成される。
軟化性層と電荷移送層は共に電荷移送物質を含んで効率
的な電荷移送を可能にし得るけれども、電荷移送層の主
たる役割は電荷を移送しかつスペーシング層として機能
することであり、一方、軟化性層の役割は電荷を移送す
ることおよび可視像の形成および静電印刷工程における
マイグレーションマーキング材料と軟化性層間の適切な
電荷注入過程を確実にすることの両方である。軟化性層
と電荷移送スペーシング層は同じまたは異なるバインダ
ー物質および/または電荷移送物質を有して像形成部材
の機械的、化学的、電気的、像形成性および静電印刷性
の各物質を最適なものとし得る。例えば、ある物質、例
えば、スチレン/ヘキシルメタクリレートは優れたマイ
グレーション像形成特性を示すが、不十分な可撓性(特
に、その厚さが10μmより大きく増大したとき)およ
び接着特性を示す。一方、他の物質、例えば、ポリカー
ボネートは良好な可撓性と接着性を示すが劣ったマイグ
レーション像形成特性を示す。即ち、軟化性層と基体と
の間に別個の電荷移送スペーシング層を含ませることに
よって、例えば、軟化性層に2μm厚のスチレン/ヘキ
シルメタクリレートをまた電荷移送スペーシング層に5
μm厚のポリカーボネートを使用してその像形成性、静
電印刷性および機械的性質を最適にすることができる。
的な電荷移送を可能にし得るけれども、電荷移送層の主
たる役割は電荷を移送しかつスペーシング層として機能
することであり、一方、軟化性層の役割は電荷を移送す
ることおよび可視像の形成および静電印刷工程における
マイグレーションマーキング材料と軟化性層間の適切な
電荷注入過程を確実にすることの両方である。軟化性層
と電荷移送スペーシング層は同じまたは異なるバインダ
ー物質および/または電荷移送物質を有して像形成部材
の機械的、化学的、電気的、像形成性および静電印刷性
の各物質を最適なものとし得る。例えば、ある物質、例
えば、スチレン/ヘキシルメタクリレートは優れたマイ
グレーション像形成特性を示すが、不十分な可撓性(特
に、その厚さが10μmより大きく増大したとき)およ
び接着特性を示す。一方、他の物質、例えば、ポリカー
ボネートは良好な可撓性と接着性を示すが劣ったマイグ
レーション像形成特性を示す。即ち、軟化性層と基体と
の間に別個の電荷移送スペーシング層を含ませることに
よって、例えば、軟化性層に2μm厚のスチレン/ヘキ
シルメタクリレートをまた電荷移送スペーシング層に5
μm厚のポリカーボネートを使用してその像形成性、静
電印刷性および機械的性質を最適にすることができる。
本発明のマイグレーション像形成部材が接着層と電荷移
送スペーシング層を共に含む実施態様においては、電荷
移送スペーシング層は任意の適当なフィルム形成性バイ
ンダー物質を含み得る。典型的なフィルム形成性バイン
ダー物質には、スチレンアクリレートコポリマー、ポリ
スチレン、アルキッド置換ポリスチレン、スチレン−オ
レフィンコポリマー、スチレンーコーn−へキシルメタ
クリレート、固有粘度0.179 a/gmを有するス
チレンとへキシルメタクリレートの特注合成80/20
モル%コポリマー、他のスチレンとへキシルメタクリレ
ートコポリマー、スチレン−ビニルトルエンコポリマー
、ポリアルファーメチルスチレン、コポリエステル、ポ
リエステル、ポリウレタン、ポリカーボネート、コポリ
カーボネート、およびこれらの混合物またはコポリマー
がある。
送スペーシング層を共に含む実施態様においては、電荷
移送スペーシング層は任意の適当なフィルム形成性バイ
ンダー物質を含み得る。典型的なフィルム形成性バイン
ダー物質には、スチレンアクリレートコポリマー、ポリ
スチレン、アルキッド置換ポリスチレン、スチレン−オ
レフィンコポリマー、スチレンーコーn−へキシルメタ
クリレート、固有粘度0.179 a/gmを有するス
チレンとへキシルメタクリレートの特注合成80/20
モル%コポリマー、他のスチレンとへキシルメタクリレ
ートコポリマー、スチレン−ビニルトルエンコポリマー
、ポリアルファーメチルスチレン、コポリエステル、ポ
リエステル、ポリウレタン、ポリカーボネート、コポリ
カーボネート、およびこれらの混合物またはコポリマー
がある。
これら−群の物質は限定するものではなく、任意構成成
分としての電荷移送スペーシング層のフィルム形成性バ
インダー物質として適するものの単なる例示である。こ
れらフィルム形成性バインダー物質は典型的に電気絶縁
性であり、静電印刷用マスターの製造および本発明の静
電印刷の各工程中に悪しく化学的に反応しないものであ
る。
分としての電荷移送スペーシング層のフィルム形成性バ
インダー物質として適するものの単なる例示である。こ
れらフィルム形成性バインダー物質は典型的に電気絶縁
性であり、静電印刷用マスターの製造および本発明の静
電印刷の各工程中に悪しく化学的に反応しないものであ
る。
本発明のマイグレーション像形成部材が電荷移送スペー
シング層を含み接着層を含まない、即ち、電荷移送スペ
ーシング層が基体と接触している実施態様において接着
性を改善するためには、電荷移送スペーシング層は、好
ましくは、約40〜約80モル%のスチレン、約20〜
約60モル%のエチルアクリレートおよび約1〜約3モ
ル%の炭素−炭素不飽和含有共重合性有機酸またはその
誘導体を含むターポリマーを含み、約10,000〜約
35.000のMn、約25.000〜約80,000
の11約25までの酸価、約30℃〜約75℃のTg、
および115℃で約I X 103ポイズ〜約lXl0
6ボイズの溶融粘度を有するターポリマーを含むべきで
ある。
シング層を含み接着層を含まない、即ち、電荷移送スペ
ーシング層が基体と接触している実施態様において接着
性を改善するためには、電荷移送スペーシング層は、好
ましくは、約40〜約80モル%のスチレン、約20〜
約60モル%のエチルアクリレートおよび約1〜約3モ
ル%の炭素−炭素不飽和含有共重合性有機酸またはその
誘導体を含むターポリマーを含み、約10,000〜約
35.000のMn、約25.000〜約80,000
の11約25までの酸価、約30℃〜約75℃のTg、
および115℃で約I X 103ポイズ〜約lXl0
6ボイズの溶融粘度を有するターポリマーを含むべきで
ある。
最適には、電荷移送スペーシング層は約40〜約80モ
ル%のスチレン、約20〜約60モル%のエチルアクリ
レート、および約1〜約3モル%の炭素−炭素不飽和含
有有機酸またはその誘導体とを含み、約15,000〜
約35.OOQのMns約30,000〜約ao、oo
oO軸、約25までの酸価、約り5℃〜約75℃のTg
、および115℃で約5X10”ボイズ−約1×10h
ポイズの溶融粘度を有するターポリマーを含む。
ル%のスチレン、約20〜約60モル%のエチルアクリ
レート、および約1〜約3モル%の炭素−炭素不飽和含
有有機酸またはその誘導体とを含み、約15,000〜
約35.OOQのMns約30,000〜約ao、oo
oO軸、約25までの酸価、約り5℃〜約75℃のTg
、および115℃で約5X10”ボイズ−約1×10h
ポイズの溶融粘度を有するターポリマーを含む。
電荷移送層に本発明のスチレンエチルアクリレートター
ポリマーを含む像形成部材は、該像形成部材を静電複写
液体現像剤と接触させたときの電荷移送分子のり−チン
グに対する優れた抵抗性、並びに優れた耐ブロッキング
性および接着性とを示す。このスチレンエチルアクリレ
ートターポリマーは高度に絶縁性であり、伝導性基体と
ブロッキング接触を形成して電荷注入を防止し、光学的
に透明であり、可撓性である。
ポリマーを含む像形成部材は、該像形成部材を静電複写
液体現像剤と接触させたときの電荷移送分子のり−チン
グに対する優れた抵抗性、並びに優れた耐ブロッキング
性および接着性とを示す。このスチレンエチルアクリレ
ートターポリマーは高度に絶縁性であり、伝導性基体と
ブロッキング接触を形成して電荷注入を防止し、光学的
に透明であり、可撓性である。
アクリル酸、メタクリル酸または他の適当な有機酸のよ
うな炭素−炭素不飽和含有共重合性有機酸またはその誘
導体をスチレンエチルアクリレートコポリマーと組合せ
て本発明の優れた接着性を有するターポリマーをHBす
るときには、共重合性有機酸の量は好ましくは約1〜約
3モル%である。それよりわずかに少ない量の共重合性
有機酸も基体に対するわずかな接着強度の低下を犠牲に
すれば使用できる。それより幾分多量の共重合性有機酸
も使用できるが接着強度はそれ以上には改善されない。
うな炭素−炭素不飽和含有共重合性有機酸またはその誘
導体をスチレンエチルアクリレートコポリマーと組合せ
て本発明の優れた接着性を有するターポリマーをHBす
るときには、共重合性有機酸の量は好ましくは約1〜約
3モル%である。それよりわずかに少ない量の共重合性
有機酸も基体に対するわずかな接着強度の低下を犠牲に
すれば使用できる。それより幾分多量の共重合性有機酸
も使用できるが接着強度はそれ以上には改善されない。
さらに、電荷移送スペーシング層中での上記よりかなり
高濃度の共重合性有機酸は電荷移送分子と反応して塩を
形成し、暗電荷減衰を増大させ電荷移送特性を低下させ
得る。典型的な炭素−炭素不飽和含有有機酸およびその
誘導体には、アクリル酸、メタクリル酸、ビニル酢酸、
イタコン酸、アリル酢酸、これらの混合物、およびこれ
らの誘導体がある。
高濃度の共重合性有機酸は電荷移送分子と反応して塩を
形成し、暗電荷減衰を増大させ電荷移送特性を低下させ
得る。典型的な炭素−炭素不飽和含有有機酸およびその
誘導体には、アクリル酸、メタクリル酸、ビニル酢酸、
イタコン酸、アリル酢酸、これらの混合物、およびこれ
らの誘導体がある。
本発明のマイグレーション像形成部材に存在させるとき
、電荷移送スペーシング層は、該スペーシング層の総重
量基準で、少なくとも80重量%のスチレンとエチルア
ルコールのコボリマーヲ含んで本発明の優れた像形成性
、接着性および耐ブロッキング性を達成すべきである。
、電荷移送スペーシング層は、該スペーシング層の総重
量基準で、少なくとも80重量%のスチレンとエチルア
ルコールのコボリマーヲ含んで本発明の優れた像形成性
、接着性および耐ブロッキング性を達成すべきである。
必要ならば、他の相溶性ポリマーのような他の適当な物
質、他の有機酸等を上記スチレンエチルアクリレートタ
ーポリマーに混合し得る。電荷移送スペーシング層に加
え得る典型的な物質には、例えば、スチレンへキシルメ
タクリレート、スチレンブチルメタクリレート、スチレ
ンブタジェン等がある。
質、他の有機酸等を上記スチレンエチルアクリレートタ
ーポリマーに混合し得る。電荷移送スペーシング層に加
え得る典型的な物質には、例えば、スチレンへキシルメ
タクリレート、スチレンブチルメタクリレート、スチレ
ンブタジェン等がある。
電荷移送スペーシング層用の電荷移送分子は後の軟化性
層の説明において詳述する。任意の得られたマスターの
電荷移送スペーシング層で用いる特定の電荷移送分子は
隣接の軟化性層で用いる電荷移送分子と同じものあるい
は異なるものであってもよい。電荷移送物質とフィルム
形成性バインダーとを組合せて電荷移送スペーシング層
を形成させるときには、使用する電荷移送物質の量は特
定の電荷移送物質およびその連続絶縁性フィルム形成性
バインダー中での適合性(例えば、溶解性)によって変
化し得る。満足できる結果は電荷移送スペーシング層の
総重量基準で約10〜約50重量%の電荷移送物質を用
いることによって得られる。それより幾分低濃度の電荷
移送物質も使用できるが、不十分な電荷移送のために、
静電印刷中に増大した背景電位およびサイクルアップ(
Cycle−up)を生じ得る。電荷移送物質の濃度が
約50モル%を越えるときには、電荷移送層中の電荷移
送分子の結晶化が起り得、また電荷暗減衰も高くなり得
る。さらにまた、極めて高濃度の電荷移送分子も電荷移
送層の機械的強度、可撓性および一体性を減損せしめ得
る。
層の説明において詳述する。任意の得られたマスターの
電荷移送スペーシング層で用いる特定の電荷移送分子は
隣接の軟化性層で用いる電荷移送分子と同じものあるい
は異なるものであってもよい。電荷移送物質とフィルム
形成性バインダーとを組合せて電荷移送スペーシング層
を形成させるときには、使用する電荷移送物質の量は特
定の電荷移送物質およびその連続絶縁性フィルム形成性
バインダー中での適合性(例えば、溶解性)によって変
化し得る。満足できる結果は電荷移送スペーシング層の
総重量基準で約10〜約50重量%の電荷移送物質を用
いることによって得られる。それより幾分低濃度の電荷
移送物質も使用できるが、不十分な電荷移送のために、
静電印刷中に増大した背景電位およびサイクルアップ(
Cycle−up)を生じ得る。電荷移送物質の濃度が
約50モル%を越えるときには、電荷移送層中の電荷移
送分子の結晶化が起り得、また電荷暗減衰も高くなり得
る。さらにまた、極めて高濃度の電荷移送分子も電荷移
送層の機械的強度、可撓性および一体性を減損せしめ得
る。
像形成性軟化性層はその中に光導電性粒子の像を形成さ
せる層である。これらの像はマトリックスポリマーのよ
うな軟化性物質表面のすぐ下に埋め込まれたサブミクロ
ン感光性粒子の近間隔単一層を含む。軟化性層はまた前
記の任意構成成分としての電荷移送スペーシング層で使
用したのと同じまたは異なるものであり得る電荷移送物
質でドーピングすることもできる。軟化性層が電荷移送
物質を含む場合、そのマイグレーション像形成部材を用
いて静電印刷用マスターを形成できる。
せる層である。これらの像はマトリックスポリマーのよ
うな軟化性物質表面のすぐ下に埋め込まれたサブミクロ
ン感光性粒子の近間隔単一層を含む。軟化性層はまた前
記の任意構成成分としての電荷移送スペーシング層で使
用したのと同じまたは異なるものであり得る電荷移送物
質でドーピングすることもできる。軟化性層が電荷移送
物質を含む場合、そのマイグレーション像形成部材を用
いて静電印刷用マスターを形成できる。
本発明で用いるマイグレーション像形成部材の種々の変
形においては、マイグレーションマーキング材料は、好
ましくは、電気的に感光性、光導電性または他の任意の
組合せの材料である。典型的なマイグレーションマーキ
ング材料は、例えば、米国特許第4,536,457号
、米国特許第4,536,458号、米国特許第3,9
09,262号および第3,975.195号に開示さ
れており、これら米国特許の記載はすべて本明細書に引
用する。マイグレーションマーキング材料の特定の例に
はセレンおよびセレン−テルル合金がある。マイグレー
ションマーキング材料は粒状で一般に互いに近間隔であ
るべきである。好ましいマイグレーションマーキング材
料は一般に球状でサブミクロン径である。これらの球状
サブミクロンマーキング材料はマイグレーション像形成
技術において周知である。優れた結果は軟化性層の外表
面(オーバーコーテイングを用いる場合には基体から離
れた表面)内の表面下車−層として埋込まれた約0.2
〜約0.4μm好ましくは約0.3〜0.4μmの粒度
範囲の球状マイグレーションマーキング材料によって得
られる。マイグレーションマーキング材料の球状体は、
最高光学密度のために、球状体直径の半分以下の距離で
互いにわずかに離れているのが好ましい。球状体はまた
軟化性層の外表面(オーバーコーテイングを用いる場合
は基体から離れた表面)の約0.01〜約0.1μm下
にあるのが好ましい。軟化性層中にマイグレーションマ
ーキング材料を付着させるのに特に適する方法はP、ソ
ーデン等に付与された米国特許第4.482.622号
に記載されており、その記載はすべて本明細書に引用す
る。マイグレーションマーキング材料の典型的な例には
セレン、セレン−テルル合金、他のセレン合金等がある
。
形においては、マイグレーションマーキング材料は、好
ましくは、電気的に感光性、光導電性または他の任意の
組合せの材料である。典型的なマイグレーションマーキ
ング材料は、例えば、米国特許第4,536,457号
、米国特許第4,536,458号、米国特許第3,9
09,262号および第3,975.195号に開示さ
れており、これら米国特許の記載はすべて本明細書に引
用する。マイグレーションマーキング材料の特定の例に
はセレンおよびセレン−テルル合金がある。マイグレー
ションマーキング材料は粒状で一般に互いに近間隔であ
るべきである。好ましいマイグレーションマーキング材
料は一般に球状でサブミクロン径である。これらの球状
サブミクロンマーキング材料はマイグレーション像形成
技術において周知である。優れた結果は軟化性層の外表
面(オーバーコーテイングを用いる場合には基体から離
れた表面)内の表面下車−層として埋込まれた約0.2
〜約0.4μm好ましくは約0.3〜0.4μmの粒度
範囲の球状マイグレーションマーキング材料によって得
られる。マイグレーションマーキング材料の球状体は、
最高光学密度のために、球状体直径の半分以下の距離で
互いにわずかに離れているのが好ましい。球状体はまた
軟化性層の外表面(オーバーコーテイングを用いる場合
は基体から離れた表面)の約0.01〜約0.1μm下
にあるのが好ましい。軟化性層中にマイグレーションマ
ーキング材料を付着させるのに特に適する方法はP、ソ
ーデン等に付与された米国特許第4.482.622号
に記載されており、その記載はすべて本明細書に引用す
る。マイグレーションマーキング材料の典型的な例には
セレン、セレン−テルル合金、他のセレン合金等がある
。
本発明のマイグレーション像形成部材が接着層および/
または電荷移送スペーシング層を含む実施態様において
は、軟化性層は熱、溶媒蒸気またはこれらの組合せによ
って軟化させ得る任意の適当な物質であり得る。さらに
、多くの実施態様においては、軟化性層は、典型的には
、実質的に絶縁性であり、本発明のマイグレーション力
適用工程および静電印刷工程中に化学的に反応しないも
のである。即ち、本発明のマイグレーション像形成部材
が接着層および/または電荷移送スペーシング層を含む
場合、任意の適当な溶媒膨潤性で軟化性の物質を軟化性
層に使用できる。典型的な膨潤性で軟化性の物質にはス
チレンアクリレートコポリマー、ポリスチレン、アルキ
ッド置換ポリスチレン、スチレン−オレフィンコポリマ
ー、スチレンーコーn−へキシルメタクリレート、固有
粘度0.179+H! /gmを存するスチレンとへキ
シルメタクリレートの特注合成80/20モル%コポリ
マー、他のスチレン−へキシルメタクリレートコポリマ
ー、スチレン−ビニルトルエンコポリマー、ポリアルフ
ァメチルスチレン、コポリエステル、ポリエステル、ポ
リウレタン、ポリカーボネート、コポリカーボネート、
およびこれらの混合物またはコポリマーがある。これら
−群の物質は限定するものではなくそのような軟化性層
に適する物質の単なる例示である。
または電荷移送スペーシング層を含む実施態様において
は、軟化性層は熱、溶媒蒸気またはこれらの組合せによ
って軟化させ得る任意の適当な物質であり得る。さらに
、多くの実施態様においては、軟化性層は、典型的には
、実質的に絶縁性であり、本発明のマイグレーション力
適用工程および静電印刷工程中に化学的に反応しないも
のである。即ち、本発明のマイグレーション像形成部材
が接着層および/または電荷移送スペーシング層を含む
場合、任意の適当な溶媒膨潤性で軟化性の物質を軟化性
層に使用できる。典型的な膨潤性で軟化性の物質にはス
チレンアクリレートコポリマー、ポリスチレン、アルキ
ッド置換ポリスチレン、スチレン−オレフィンコポリマ
ー、スチレンーコーn−へキシルメタクリレート、固有
粘度0.179+H! /gmを存するスチレンとへキ
シルメタクリレートの特注合成80/20モル%コポリ
マー、他のスチレン−へキシルメタクリレートコポリマ
ー、スチレン−ビニルトルエンコポリマー、ポリアルフ
ァメチルスチレン、コポリエステル、ポリエステル、ポ
リウレタン、ポリカーボネート、コポリカーボネート、
およびこれらの混合物またはコポリマーがある。これら
−群の物質は限定するものではなくそのような軟化性層
に適する物質の単なる例示である。
本発明のマイグレーション像形成部材を軟化性層の外表
面が軟化性層から電荷移送物質を滲出し去る静電複写液
体現像剤と接触する静電複写現像法で使用する実施態様
においては、軟化性層は、好ましくは、約40〜約80
モル%のスチレンと約20〜約60モル%のエチルアク
リレートを含み、約4,000〜約35,000のMn
、約10,000〜約80,000のh、約30℃〜約
75℃のTg、および115℃で約1×102ポイズ〜
約lXl06ボイズの溶融粘度を有するコポリマーを含
むべきである。
面が軟化性層から電荷移送物質を滲出し去る静電複写液
体現像剤と接触する静電複写現像法で使用する実施態様
においては、軟化性層は、好ましくは、約40〜約80
モル%のスチレンと約20〜約60モル%のエチルアク
リレートを含み、約4,000〜約35,000のMn
、約10,000〜約80,000のh、約30℃〜約
75℃のTg、および115℃で約1×102ポイズ〜
約lXl06ボイズの溶融粘度を有するコポリマーを含
むべきである。
上記スチレンとエチルアクリレートのコポリマーは、本
発明のマイグレーション像形成部材に、該像形成部材を
静電複写液体現像剤と数週間以上も接触させたときでさ
え、電荷移送分子のり−チングに対する抵抗性を付与す
る。静電印刷用途においては、静電印刷用マスターは静
電複写液体現像剤と少なくとも24時間接触し、その接
触時間中、軟化性層中の電荷移送分子の濃度を元の濃度
の少なくとも90重世%のレベルに維持できることが好
ましい。軟化性層が10重量%よりも多(電荷移送分子
を減じるならば、効果的な電荷移送は維持されず、静電
印刷サイクル中サイクルアップを生じ得る軟化性層中で
の捕捉電荷を生ずる。
発明のマイグレーション像形成部材に、該像形成部材を
静電複写液体現像剤と数週間以上も接触させたときでさ
え、電荷移送分子のり−チングに対する抵抗性を付与す
る。静電印刷用途においては、静電印刷用マスターは静
電複写液体現像剤と少なくとも24時間接触し、その接
触時間中、軟化性層中の電荷移送分子の濃度を元の濃度
の少なくとも90重世%のレベルに維持できることが好
ましい。軟化性層が10重量%よりも多(電荷移送分子
を減じるならば、効果的な電荷移送は維持されず、静電
印刷サイクル中サイクルアップを生じ得る軟化性層中で
の捕捉電荷を生ずる。
本発明のコポリマーのスチレンまたはエチルアクリレー
トをヘキシルメタクリレート、ブチルメタクリレート等
の他の物質で約10%以上置き換えることは耐リーチン
グ性の低下をもたらす。
トをヘキシルメタクリレート、ブチルメタクリレート等
の他の物質で約10%以上置き換えることは耐リーチン
グ性の低下をもたらす。
必要ならば、スチレン−エチルアクリレートコポリマー
の接着特性は約1〜約3モル%の炭素−炭素不飽和含有
共重合性有機酸またはその誘導体を含有させて約25ま
での酸価を有するターポリマーを得ることによって改善
し得る。典型的な炭素−炭素不飽和含有有機酸またはそ
の誘導体にはアクリル酸、メタクリル酸、ビニル酢酸、
イタコン酸、アリル酢酸、およびこれらの混合物または
誘導体がある。
の接着特性は約1〜約3モル%の炭素−炭素不飽和含有
共重合性有機酸またはその誘導体を含有させて約25ま
での酸価を有するターポリマーを得ることによって改善
し得る。典型的な炭素−炭素不飽和含有有機酸またはそ
の誘導体にはアクリル酸、メタクリル酸、ビニル酢酸、
イタコン酸、アリル酢酸、およびこれらの混合物または
誘導体がある。
1つの特定の実施態様においては、電気的に接地した伝
導性基体と像形成性軟化性層とを含み。
導性基体と像形成性軟化性層とを含み。
この像形成性軟化性層がマイグレーションマーキング材
料の破壊性層と該軟化性層中のスチレンとエチルアクリ
レートのコポリマーを含むマイグレーション像形成部材
は、コロナ荷電手段によって均一に帯電させ、活性化用
照射に像形成的に露光し、熱のみまたは溶媒蒸気のみの
いずれかによって現像する。マイグレーションマーキン
グ材料の破壊性層の露光領域中の露光粒子は軟化性深部
に移行してDminjJ域を生ずる。未露光領域は実質
的に元の位置に残ってDmaxSI域を生ずる。即ち、
現像した像は原紙の光学的に符号保持性可視像である(
通常の光レンズ露光系を用いた場合)。好ましいのは、
熱のみまたは溶媒蒸気のみを用いて像形成性軟化性層を
軟化してマイグレーションマーキング材料の移行を容易
にする実施態様においては、軟化性材料は、約40〜約
80モル%のスチレン、約20〜約60モル%のエチル
アクリレートとを含み、約4,000〜約35.000
のMns約10,000〜約so、oooのh1約3り
℃〜約75℃のTg、および115℃で約lXl0”ボ
イズ−約lXl06ポイズの溶融粘度を有するコポリマ
ーを含む。
料の破壊性層と該軟化性層中のスチレンとエチルアクリ
レートのコポリマーを含むマイグレーション像形成部材
は、コロナ荷電手段によって均一に帯電させ、活性化用
照射に像形成的に露光し、熱のみまたは溶媒蒸気のみの
いずれかによって現像する。マイグレーションマーキン
グ材料の破壊性層の露光領域中の露光粒子は軟化性深部
に移行してDminjJ域を生ずる。未露光領域は実質
的に元の位置に残ってDmaxSI域を生ずる。即ち、
現像した像は原紙の光学的に符号保持性可視像である(
通常の光レンズ露光系を用いた場合)。好ましいのは、
熱のみまたは溶媒蒸気のみを用いて像形成性軟化性層を
軟化してマイグレーションマーキング材料の移行を容易
にする実施態様においては、軟化性材料は、約40〜約
80モル%のスチレン、約20〜約60モル%のエチル
アクリレートとを含み、約4,000〜約35.000
のMns約10,000〜約so、oooのh1約3り
℃〜約75℃のTg、および115℃で約lXl0”ボ
イズ−約lXl06ポイズの溶融粘度を有するコポリマ
ーを含む。
必要ならば、上記スチレン−エチルアクリレートコポリ
マーの接着特性は、約1〜約3モル%の炭素−炭素不飽
和含有共重合性有機酸またはその誘導体を含有させて約
25までの酸価を存するターポリマーを得ることによっ
て改善できる。典型的な炭素−炭素不飽和含有有機酸ま
たはその誘導体にはアクリル酸、メタクリル酸、ビニル
酢酸、イタコン酸、アリル酢酸、これらの混合物、およ
びこれらの誘導体等がある。熱のみまたは溶媒蒸気のみ
を用いて軟化性層をマイグレーション像形成のために軟
化させる軟化性層物質として適するためには、軟化性層
物質は幾つかの重要な物質の組合せを有すべきである。
マーの接着特性は、約1〜約3モル%の炭素−炭素不飽
和含有共重合性有機酸またはその誘導体を含有させて約
25までの酸価を存するターポリマーを得ることによっ
て改善できる。典型的な炭素−炭素不飽和含有有機酸ま
たはその誘導体にはアクリル酸、メタクリル酸、ビニル
酢酸、イタコン酸、アリル酢酸、これらの混合物、およ
びこれらの誘導体等がある。熱のみまたは溶媒蒸気のみ
を用いて軟化性層をマイグレーション像形成のために軟
化させる軟化性層物質として適するためには、軟化性層
物質は幾つかの重要な物質の組合せを有すべきである。
接着性、耐ブロッキング性のような良好な物理的性質以
外に、軟化性層物質は現像温度で適切な溶融粘度を有し
てマイグレーションマーキング粒子の移行を容易にして
マイグレーション像を形成するべきである。前述したよ
りも幾分高い溶融粘度もP minの低下を代償として
使用できる。加熱のみ現像法においては、それよりもか
なり高溶融粘度の効果はかなり高現像温度の使用によっ
ても補なわれ得ない。何故ならば、マイグレーションマ
ーキング粒子は通常約125℃以上では正味電荷(ne
t chsrge)を実質的に減損する傾向にあるから
である。像形成性軟化性層が上述の物質性状を有するス
チレン−エチルアクリレートコポリマーを含む像形成部
材は優れた光学的に符号保持性像、耐ブロッキング性お
よび接着性を示す。さらにまた、該像形成部材は、長時
間静電複写液体現像剤と接触させたとき、軟化性層から
の電荷移送分子のり−チングに対する優れた抵抗を示す
。
外に、軟化性層物質は現像温度で適切な溶融粘度を有し
てマイグレーションマーキング粒子の移行を容易にして
マイグレーション像を形成するべきである。前述したよ
りも幾分高い溶融粘度もP minの低下を代償として
使用できる。加熱のみ現像法においては、それよりもか
なり高溶融粘度の効果はかなり高現像温度の使用によっ
ても補なわれ得ない。何故ならば、マイグレーションマ
ーキング粒子は通常約125℃以上では正味電荷(ne
t chsrge)を実質的に減損する傾向にあるから
である。像形成性軟化性層が上述の物質性状を有するス
チレン−エチルアクリレートコポリマーを含む像形成部
材は優れた光学的に符号保持性像、耐ブロッキング性お
よび接着性を示す。さらにまた、該像形成部材は、長時
間静電複写液体現像剤と接触させたとき、軟化性層から
の電荷移送分子のり−チングに対する優れた抵抗を示す
。
本発明の別の現像法の実施態様においては、電気的に接
地した基体と像形成性軟化性層を含み、該像形成性軟化
性層が電荷移送分子とマイグレーションマーキング材料
の破壊性および該軟化性層中のスチレンとエチルアクリ
レートのコポリマーとを含むマイグレーション像形成部
材をコロナ荷電手段によって均一に帯電させ、活性化用
照射に像形成的に露光し、溶媒蒸気に暴露する。この溶
媒蒸気処理マイグレーション像形成部材に熱エネルギー
を適用したとき、該部材の像形成させた部材への転化が
終了する。マイグレーションマーキング材料の破壊性層
の露光領域中の露光粒子はほんのわずかな凝集と融合を
可能にしおよび/またはほんのわずかな移行を可能にす
るわずかな量の正味電荷を保持する。これによりDma
x領域が生ずる。即ち、現像した像は原紙の光学的に符
号逆転可視像であり(通常の光レンズ露光系を用いた場
合)、極めて低い背景密度を示す。この方法はM、C,
タムに付与された米国特許第4,536,457号に記
載されており、その記載はすべて参考として本明細書に
引用する。好ましいのは、溶媒蒸気と加熱との組合せを
用いて像形成性軟化性層を軟化しマイグレーション像を
形成させる実施態様においては、軟化性層は、約40〜
約80モル%のスチレンと約20〜約60モル%のエチ
ルアクリレートとを含み、約10,000〜約35.0
00のMns約25,000〜約80.000のMw、
約30℃〜約75℃のTgおよび115℃で約1×10
3ボイズ〜約lXl0’ポイズの溶融粘度を有するコポ
リマーを含む。必要ならば、上記スチレン−エチルアク
リレートコポリマーの接着性は約1〜約3モル%の炭素
−炭素不飽和含有共重合性有機酸またはその誘導体を含
有させ約25までの酸価を有するターポリマーを得るこ
とによって改善し得る。典型的な炭素−炭素不飽和含有
有機酸およびその誘導体にはアクリル酸、メタクリル酸
、ビニル酢酸、イタコン酸、アリル酢酸、これらの化合
物、およびこれらの誘導体がある。像形成性軟化性層が
上記の材料特性を有するスチレンエチルアクリレートコ
ポリマーを含む像形成部材は優れた光学的に符号逆転像
、耐ブロッキング性および接着性を示す。さらにまた、
該像形成部材は静電複写液体現像剤に長時間接触させた
とき電荷移送分子の軟化性層からのリーチングに対する
優れた抵抗性を示す。
地した基体と像形成性軟化性層を含み、該像形成性軟化
性層が電荷移送分子とマイグレーションマーキング材料
の破壊性および該軟化性層中のスチレンとエチルアクリ
レートのコポリマーとを含むマイグレーション像形成部
材をコロナ荷電手段によって均一に帯電させ、活性化用
照射に像形成的に露光し、溶媒蒸気に暴露する。この溶
媒蒸気処理マイグレーション像形成部材に熱エネルギー
を適用したとき、該部材の像形成させた部材への転化が
終了する。マイグレーションマーキング材料の破壊性層
の露光領域中の露光粒子はほんのわずかな凝集と融合を
可能にしおよび/またはほんのわずかな移行を可能にす
るわずかな量の正味電荷を保持する。これによりDma
x領域が生ずる。即ち、現像した像は原紙の光学的に符
号逆転可視像であり(通常の光レンズ露光系を用いた場
合)、極めて低い背景密度を示す。この方法はM、C,
タムに付与された米国特許第4,536,457号に記
載されており、その記載はすべて参考として本明細書に
引用する。好ましいのは、溶媒蒸気と加熱との組合せを
用いて像形成性軟化性層を軟化しマイグレーション像を
形成させる実施態様においては、軟化性層は、約40〜
約80モル%のスチレンと約20〜約60モル%のエチ
ルアクリレートとを含み、約10,000〜約35.0
00のMns約25,000〜約80.000のMw、
約30℃〜約75℃のTgおよび115℃で約1×10
3ボイズ〜約lXl0’ポイズの溶融粘度を有するコポ
リマーを含む。必要ならば、上記スチレン−エチルアク
リレートコポリマーの接着性は約1〜約3モル%の炭素
−炭素不飽和含有共重合性有機酸またはその誘導体を含
有させ約25までの酸価を有するターポリマーを得るこ
とによって改善し得る。典型的な炭素−炭素不飽和含有
有機酸およびその誘導体にはアクリル酸、メタクリル酸
、ビニル酢酸、イタコン酸、アリル酢酸、これらの化合
物、およびこれらの誘導体がある。像形成性軟化性層が
上記の材料特性を有するスチレンエチルアクリレートコ
ポリマーを含む像形成部材は優れた光学的に符号逆転像
、耐ブロッキング性および接着性を示す。さらにまた、
該像形成部材は静電複写液体現像剤に長時間接触させた
とき電荷移送分子の軟化性層からのリーチングに対する
優れた抵抗性を示す。
最も好ましいのは、熱のみ、溶媒蒸気のみ、または溶媒
蒸気と加熱の組合せを用いて像形成性軟化性層を軟化さ
せてマイグレーションマーキング材料の移行を容易にす
るすべての現像実施態様においては、軟化性層が約40
〜約80モル%のスチレンと約20〜約60モル%のエ
チルアクリレートとを含み、約4,000〜約35,0
00のMn、約10,000〜約80.000のh、約
30℃〜約75℃のTgおよび115℃で約1×102
ボイズ〜約1×106ポイズの溶融粘度を有するコポリ
マーを含むことである。必要ならば、上記スチレン−エ
チルアクリレートコポリマーの接着性は約1〜約3モル
%の炭素−炭素不飽和含有共重合性有機酸またはその誘
導体を含有させ約25までの酸価を有するターポリマー
を得ることによって改善し得る。典型的な炭素−炭素不
飽和含有有機酸およびその誘導体にはアクリル酸、メタ
クリル酸、ビニル酢酸、イタコン酸、アリル酢酸、これ
らの混合物、およびこれらの誘導体等がある。これらの
パラメーターはセレンのような電気的に感光性のマイグ
レーションマーキング粒子のマイグレーション像形成に
よる像の形成を可能にする物理的な粘弾性;液体現像剤
中での電荷移送物質のリーチングに対する抵抗性;軟化
性層のアルミニウム処理ポリエステルのような下地層へ
の接着性の改善;およびコーティング中、貯蔵中等の昇
温、昇圧条件下での耐ブロッキング性を付与する。
蒸気と加熱の組合せを用いて像形成性軟化性層を軟化さ
せてマイグレーションマーキング材料の移行を容易にす
るすべての現像実施態様においては、軟化性層が約40
〜約80モル%のスチレンと約20〜約60モル%のエ
チルアクリレートとを含み、約4,000〜約35,0
00のMn、約10,000〜約80.000のh、約
30℃〜約75℃のTgおよび115℃で約1×102
ボイズ〜約1×106ポイズの溶融粘度を有するコポリ
マーを含むことである。必要ならば、上記スチレン−エ
チルアクリレートコポリマーの接着性は約1〜約3モル
%の炭素−炭素不飽和含有共重合性有機酸またはその誘
導体を含有させ約25までの酸価を有するターポリマー
を得ることによって改善し得る。典型的な炭素−炭素不
飽和含有有機酸およびその誘導体にはアクリル酸、メタ
クリル酸、ビニル酢酸、イタコン酸、アリル酢酸、これ
らの混合物、およびこれらの誘導体等がある。これらの
パラメーターはセレンのような電気的に感光性のマイグ
レーションマーキング粒子のマイグレーション像形成に
よる像の形成を可能にする物理的な粘弾性;液体現像剤
中での電荷移送物質のリーチングに対する抵抗性;軟化
性層のアルミニウム処理ポリエステルのような下地層へ
の接着性の改善;およびコーティング中、貯蔵中等の昇
温、昇圧条件下での耐ブロッキング性を付与する。
一般に、スチレンとエチルアクリレートのコポリマーを
本発明のマイグレーション像形成部材で使用するときに
は、像形成性軟化性層は、該像形成性軟化性層の総重量
基準で、少な(とも80重量%のスチレン−エチルアク
リレートコポリマーを含んで本発明の優れた像形成性、
接着性および耐ブロッキング性を達成すべきである。必
要ならば、他の相溶性ポリマーのような他の適当な物質
をスチレン−エチルアクリレートターポリマーと混合し
てもよい。接着層に添加できる典型的な物質には、例え
ば、スチレンへキシルメタクリレート、スチレンブチル
メタクリレート、スチレンブタジェン等がある。該像形
成部材を静電複写液体現像剤と接着させる場合、該像形
成部材は、像形成性軟化性層の総重量基準で、少なくと
も90重量%のスチレン−エチルアクリレートコポリマ
ーを含んでその耐リーチング性の実質的な低下を回避す
べきである。
本発明のマイグレーション像形成部材で使用するときに
は、像形成性軟化性層は、該像形成性軟化性層の総重量
基準で、少な(とも80重量%のスチレン−エチルアク
リレートコポリマーを含んで本発明の優れた像形成性、
接着性および耐ブロッキング性を達成すべきである。必
要ならば、他の相溶性ポリマーのような他の適当な物質
をスチレン−エチルアクリレートターポリマーと混合し
てもよい。接着層に添加できる典型的な物質には、例え
ば、スチレンへキシルメタクリレート、スチレンブチル
メタクリレート、スチレンブタジェン等がある。該像形
成部材を静電複写液体現像剤と接着させる場合、該像形
成部材は、像形成性軟化性層の総重量基準で、少なくと
も90重量%のスチレン−エチルアクリレートコポリマ
ーを含んでその耐リーチング性の実質的な低下を回避す
べきである。
電荷移送物質は本発明のマイグレーション像形成部材の
像形成性軟化性層中に必要に応じて、特に、該像形成部
材を用いて静電複写用マスターを作製する場合に含有さ
せ得る。軟化性層物質として機能できあるいは軟化性層
中で分子規模で溶解または分散できる任意の適当な電荷
移送物質を本発明の軟化性層中で使用できる。電荷移送
物質は電気絶縁性マーキング材料から軟化性層への電荷
注入過程(電荷の少な(とも1つの符号に対しての)を
改良できる(好ましくは、軟化性層の軟化による現像前
または少なくとも現像段階で)電気絶縁性フィルム形成
性バインダーまたは電気絶縁性フィルム形成性バインダ
ー中に溶解または分子分散させた溶解性または分子分散
性物質として定義し、その改良は対象として電気的に不
活性な絶縁性軟化性層になされる。電荷移送物質は正孔
移送物質および/または電子移送物質であり得、即ち、
電荷移送物質はマーキング材料からの軟化性層への正孔
および/または電子の注入を改良し得る。注入の1つの
極性のみが改良された場合、本発明の目的においてマイ
グレーションマーキング部材を光に最初感光させるのに
用いたイオン性電荷の符号は注入が改良された電荷の符
号と最も普通には同じである。従って、特定の移送物質
と特定のマーキング材料の組合せの使用はマーキング粒
子から軟化性層への正孔および/または電子の注入が何
らの移送物質を含まない軟化性層に比し改良されるよう
でなければならない。電荷移送物質が絶縁性フィルム形
成性バインダー中に溶解または分子分散させる場合には
、電荷移送物質と絶縁性フィルム成形性バインダーの組
合せは電荷移送物質がフィルム形成性バインダー中に十
分な濃度レベルで溶解しであるいは分子分散して含有さ
れ得るようでなければならない。任意の適当な電荷移送
物質を使用できる。電荷移送物質は当該技術において周
知である。典型的な電荷移送物質には次のようなものが
ある: 米国特許第4.306,008号、第4.304,82
9号、第4.233.384号、第4,115,116
号、第4,299,897号および第4,081,27
4号に記載されているタイプのジアミン移送分子。典型
的なジアミン移送分子には、N、N−ジフェニル−N、
N’−ビス (3“−メチルフェニル)−(1,1’−
ビフェニル)−4,4’−ジアミン、N、N’−ジフェ
ニル−ビス(4−メチルフェニル)−(1,1’−ビフ
ェニル)−4,4’−ジアミン、N、N’−ジフェニル
−N、N’−ビス(2−メチルフェニル)−(1,1’
−ビフェニル)−4,4’−ジアミン、N、N’−ジフ
ェニル−ジフェニル−N、N’−ビス(3−エチルフェ
ニル)−(1,1’−ビフェニル)−4,4’−ジアミ
ン、N、N’−ジフェニル−N、N’−ビス(4−エチ
ルフェニル)−(1,1’−ビフェニル)−4,4’−
ジアミン、N、N’−ジフェニル−N、N’−ビス(4
−n−ブチルフェニル)−(1,1’−ビフェニル)−
4,4’−ジアミン、N、N’−ジフェニル−N、N’
−ビス(3−クロロフェニル)−(1,1’−ビフェニ
ル)−4,4’−ジアミン、N、N’−ジフェニル−N
、N’−ビス(4−クロロフェニル)−(1,1’−ビ
フェニル〕−4゜4′−ジアミン、N、N’−ジフェニ
ル−N、N’−ビス(フェニルメチル)−(1,1’−
ビフェニル)−4,4’−ジアミン、N、N、N’、N
’−テトラフェニル−(2,2’−ジメチル−1゜1′
−ビフェニル)−4,4’−ジアミン、N。
像形成性軟化性層中に必要に応じて、特に、該像形成部
材を用いて静電複写用マスターを作製する場合に含有さ
せ得る。軟化性層物質として機能できあるいは軟化性層
中で分子規模で溶解または分散できる任意の適当な電荷
移送物質を本発明の軟化性層中で使用できる。電荷移送
物質は電気絶縁性マーキング材料から軟化性層への電荷
注入過程(電荷の少な(とも1つの符号に対しての)を
改良できる(好ましくは、軟化性層の軟化による現像前
または少なくとも現像段階で)電気絶縁性フィルム形成
性バインダーまたは電気絶縁性フィルム形成性バインダ
ー中に溶解または分子分散させた溶解性または分子分散
性物質として定義し、その改良は対象として電気的に不
活性な絶縁性軟化性層になされる。電荷移送物質は正孔
移送物質および/または電子移送物質であり得、即ち、
電荷移送物質はマーキング材料からの軟化性層への正孔
および/または電子の注入を改良し得る。注入の1つの
極性のみが改良された場合、本発明の目的においてマイ
グレーションマーキング部材を光に最初感光させるのに
用いたイオン性電荷の符号は注入が改良された電荷の符
号と最も普通には同じである。従って、特定の移送物質
と特定のマーキング材料の組合せの使用はマーキング粒
子から軟化性層への正孔および/または電子の注入が何
らの移送物質を含まない軟化性層に比し改良されるよう
でなければならない。電荷移送物質が絶縁性フィルム形
成性バインダー中に溶解または分子分散させる場合には
、電荷移送物質と絶縁性フィルム成形性バインダーの組
合せは電荷移送物質がフィルム形成性バインダー中に十
分な濃度レベルで溶解しであるいは分子分散して含有さ
れ得るようでなければならない。任意の適当な電荷移送
物質を使用できる。電荷移送物質は当該技術において周
知である。典型的な電荷移送物質には次のようなものが
ある: 米国特許第4.306,008号、第4.304,82
9号、第4.233.384号、第4,115,116
号、第4,299,897号および第4,081,27
4号に記載されているタイプのジアミン移送分子。典型
的なジアミン移送分子には、N、N−ジフェニル−N、
N’−ビス (3“−メチルフェニル)−(1,1’−
ビフェニル)−4,4’−ジアミン、N、N’−ジフェ
ニル−ビス(4−メチルフェニル)−(1,1’−ビフ
ェニル)−4,4’−ジアミン、N、N’−ジフェニル
−N、N’−ビス(2−メチルフェニル)−(1,1’
−ビフェニル)−4,4’−ジアミン、N、N’−ジフ
ェニル−ジフェニル−N、N’−ビス(3−エチルフェ
ニル)−(1,1’−ビフェニル)−4,4’−ジアミ
ン、N、N’−ジフェニル−N、N’−ビス(4−エチ
ルフェニル)−(1,1’−ビフェニル)−4,4’−
ジアミン、N、N’−ジフェニル−N、N’−ビス(4
−n−ブチルフェニル)−(1,1’−ビフェニル)−
4,4’−ジアミン、N、N’−ジフェニル−N、N’
−ビス(3−クロロフェニル)−(1,1’−ビフェニ
ル)−4,4’−ジアミン、N、N’−ジフェニル−N
、N’−ビス(4−クロロフェニル)−(1,1’−ビ
フェニル〕−4゜4′−ジアミン、N、N’−ジフェニ
ル−N、N’−ビス(フェニルメチル)−(1,1’−
ビフェニル)−4,4’−ジアミン、N、N、N’、N
’−テトラフェニル−(2,2’−ジメチル−1゜1′
−ビフェニル)−4,4’−ジアミン、N。
N、N’、N’−テトラ−(4−メチルフェニル)−(
2,2’−ジメチル−1,1’−ビフェニル〕−4,4
’−ジアミン、N、N’−ジフェニル−ビス(4−メチ
ルフェニル)−(2,2’−ジメチル−1,1′−ビフ
ェニル)−4,4’−ジアミン、N、N’−ジフェニル
−N、N’−ビス(2−メチルフェニル)−(2,2’
−ジメチル−1,1’−ビフェニル)−4,4’−ジア
ミン、N、N’−ジフェニル−N、N’−ビス(3−メ
チルフェニル)−(2,2’−ジメチル−1,1′−ビ
フェニル]−4,4’−ジ アミン、N、N’−ジフェ
ニル−N、N’−ビス (3−メチルフェニル)−ソイ
レニン−1,6−ジアミン等がある。
2,2’−ジメチル−1,1’−ビフェニル〕−4,4
’−ジアミン、N、N’−ジフェニル−ビス(4−メチ
ルフェニル)−(2,2’−ジメチル−1,1′−ビフ
ェニル)−4,4’−ジアミン、N、N’−ジフェニル
−N、N’−ビス(2−メチルフェニル)−(2,2’
−ジメチル−1,1’−ビフェニル)−4,4’−ジア
ミン、N、N’−ジフェニル−N、N’−ビス(3−メ
チルフェニル)−(2,2’−ジメチル−1,1′−ビ
フェニル]−4,4’−ジ アミン、N、N’−ジフェ
ニル−N、N’−ビス (3−メチルフェニル)−ソイ
レニン−1,6−ジアミン等がある。
米国特許第4,315,982号、第4,278,74
6号および第3,837,851号に記載されているよ
うなピラゾリン移送分子。典型的なビラプリン移送分子
には、1−〔レピジル−(2)−(−3−(p−ジエチ
ルアミノフェニル)−5−(p−ジエチルアミノフェニ
ル)ピラゾリン、1−〔キノリン−(2)〕−3−(p
−ジエチルアミノフェニル)−5−(p−ジエチルアミ
ノフェニル)ピラゾリン、1−(ピリジル−<2)〕−
3−(p−ジエチルアミノスチリル)−5−(p−ジエ
チルアミノフェニル)ピラゾリン、1−フェニル−3−
(p−ジメチルアミノスチリル)−5−(p−ジメチル
アミノスチリル)ピラゾリン、1−フェニル−3−〔p
−ジエチルアミノスチリル)−5−(p−ジエチルアミ
ノスチリル)ピラゾリン等がある。
6号および第3,837,851号に記載されているよ
うなピラゾリン移送分子。典型的なビラプリン移送分子
には、1−〔レピジル−(2)−(−3−(p−ジエチ
ルアミノフェニル)−5−(p−ジエチルアミノフェニ
ル)ピラゾリン、1−〔キノリン−(2)〕−3−(p
−ジエチルアミノフェニル)−5−(p−ジエチルアミ
ノフェニル)ピラゾリン、1−(ピリジル−<2)〕−
3−(p−ジエチルアミノスチリル)−5−(p−ジエ
チルアミノフェニル)ピラゾリン、1−フェニル−3−
(p−ジメチルアミノスチリル)−5−(p−ジメチル
アミノスチリル)ピラゾリン、1−フェニル−3−〔p
−ジエチルアミノスチリル)−5−(p−ジエチルアミ
ノスチリル)ピラゾリン等がある。
米国特許第4,245.021号に記載されているよう
な置換フルオレン電荷移送分子。典型的なフルオレン電
荷移送分子には、9−(4’−ジメチルアミノベンジリ
デン)フルオレン、9−(4’−メトキシベンジリデン
)フルオレン、9− (2’。
な置換フルオレン電荷移送分子。典型的なフルオレン電
荷移送分子には、9−(4’−ジメチルアミノベンジリ
デン)フルオレン、9−(4’−メトキシベンジリデン
)フルオレン、9− (2’。
4′−ジメトキシベンジリデン)フルオレン、2−ニト
ロ−9−ベンジリデン−フルオレン、2−ニトロ−9−
(4’−ジエチルアミノベンジリデン)フルオレン等が
ある。
ロ−9−ベンジリデン−フルオレン、2−ニトロ−9−
(4’−ジエチルアミノベンジリデン)フルオレン等が
ある。
2.5−ビス(4−ジエチルアミノフェニル)−1,3
,4−オキサジアゾール、ピラゾリン、イミダゾール、
トリアゾール等のようなオキサジアゾール移送分子。他
の典型的なオキサジアゾール移送分子は、例えば、ドイ
ツ特許第1,058,836号、第1,060,260
号および第1,120,875号に記載されている。
,4−オキサジアゾール、ピラゾリン、イミダゾール、
トリアゾール等のようなオキサジアゾール移送分子。他
の典型的なオキサジアゾール移送分子は、例えば、ドイ
ツ特許第1,058,836号、第1,060,260
号および第1,120,875号に記載されている。
p−ジエチルアミノベンズアルデヒド−(ジフェニルヒ
ドラゾン)、〇−エトキシーp−ジエチルアミノベンズ
アルデヒド−(ジフェニルヒドラゾン)、O−メチル−
p−ジエチルアミノベンズアルデヒド−(ジフェニルヒ
ドラゾン)、0−メチル−p−ジメチルアミノベンズア
ルデヒド−(ジフェニルヒドラゾン)、1−ナフタレン
カルボアルデヒド1−メチル−1−フェニルヒドラゾン
、1−ナフタレンカルボアルデヒド1,1−フェニルヒ
ドラゾン、4−メトキシナフタレン−1−カルボアルデ
ヒド1−メチル−1−フェニルヒドラゾン等のヒドラゾ
ン移送分子。他の典型的なヒドラゾン移送分子は、例え
ば、米国特許第4.150,987号、第4,385,
106号、第4,338,388号、第4,387,1
47号に記載されている。
ドラゾン)、〇−エトキシーp−ジエチルアミノベンズ
アルデヒド−(ジフェニルヒドラゾン)、O−メチル−
p−ジエチルアミノベンズアルデヒド−(ジフェニルヒ
ドラゾン)、0−メチル−p−ジメチルアミノベンズア
ルデヒド−(ジフェニルヒドラゾン)、1−ナフタレン
カルボアルデヒド1−メチル−1−フェニルヒドラゾン
、1−ナフタレンカルボアルデヒド1,1−フェニルヒ
ドラゾン、4−メトキシナフタレン−1−カルボアルデ
ヒド1−メチル−1−フェニルヒドラゾン等のヒドラゾ
ン移送分子。他の典型的なヒドラゾン移送分子は、例え
ば、米国特許第4.150,987号、第4,385,
106号、第4,338,388号、第4,387,1
47号に記載されている。
9−エチルカルバゾール−3−カルボアルデヒド−1−
メチル−1−フェニルヒドラゾン、9−ニチル力ルバゾ
ール−3−カルボアルデヒド−1−メチル−1−フェニ
ルヒドラゾン、9−エチルカルバゾール−3−カルボア
ルデヒド−1−メチル−1−フェニルヒドラゾン、9−
エチルカルバゾール−3−カルボアルデヒド−1−エチ
ル−1−ベンジル−フェニルヒドラゾン、9−エチルカ
ルバゾール−3−カルボアルデヒド−1,1−ジフェニ
ルヒドラゾン等のカルバゾールフェニルヒドラゾン移送
分子。他の典型的なカルバゾールフェニルヒドラゾン移
送分子は米国特許筒4,256,821号および第4,
297,426号に記載されている。
メチル−1−フェニルヒドラゾン、9−ニチル力ルバゾ
ール−3−カルボアルデヒド−1−メチル−1−フェニ
ルヒドラゾン、9−エチルカルバゾール−3−カルボア
ルデヒド−1−メチル−1−フェニルヒドラゾン、9−
エチルカルバゾール−3−カルボアルデヒド−1−エチ
ル−1−ベンジル−フェニルヒドラゾン、9−エチルカ
ルバゾール−3−カルボアルデヒド−1,1−ジフェニ
ルヒドラゾン等のカルバゾールフェニルヒドラゾン移送
分子。他の典型的なカルバゾールフェニルヒドラゾン移
送分子は米国特許筒4,256,821号および第4,
297,426号に記載されている。
ポリビニルアントラセン、ポリアセナフチレンのような
ビニル芳香族ポリマー;ホルムアルデヒドと3−ブロモ
ピレンとの縮合物ようなホルムアルデヒドの各種芳香族
との縮合生成物;2,4゜7−ドリニトロフルオレノン
;および米国特許筒3、972.717号に記載されて
いるような3.6−ジニトロ−N−t−ブチル−ナフタ
ルイミド。
ビニル芳香族ポリマー;ホルムアルデヒドと3−ブロモ
ピレンとの縮合物ようなホルムアルデヒドの各種芳香族
との縮合生成物;2,4゜7−ドリニトロフルオレノン
;および米国特許筒3、972.717号に記載されて
いるような3.6−ジニトロ−N−t−ブチル−ナフタ
ルイミド。
米国特許筒3.895.944号に記載されている2゜
5−ビス−(p−ジエチルアミノフェニル)オキジアゾ
ール−1,3,4のようなオキサジアゾール誘導体。
5−ビス−(p−ジエチルアミノフェニル)オキジアゾ
ール−1,3,4のようなオキサジアゾール誘導体。
米国特許筒3.820.989号に記載されているよう
なアルキル−ビス(N、N−ジアルキルアミノアリール
)メタン、シクロアルキル−ビス(N、 N−ジアル
キルアミノアリール)メタン、およびシクロアルケニル
−ビス(N、N−ジアルキルアミノアリール)メタンの
ようなトリ置換メタン順。
なアルキル−ビス(N、N−ジアルキルアミノアリール
)メタン、シクロアルキル−ビス(N、 N−ジアル
キルアミノアリール)メタン、およびシクロアルケニル
−ビス(N、N−ジアルキルアミノアリール)メタンの
ようなトリ置換メタン順。
次式:
(式中、XおよびYはシアノ基またはアルコキシカルボ
ニル基であり、A、BおよびWは、個々に、アシル、ア
ルコキシカルボニル、ニトロ、アルキルアミノカルボニ
ルおよびこれらの誘導体から選ばれた電子吸引基であり
、mは0〜2の数であり、nはOまたは1の数である)
を有する米国特許筒4,474,865号に記載されて
いるような9−フルオレニリデンメタン誘導体。上記式
に属する典型的な9−フルオレニリデンメタン誘導体に
は、(4−n−ブトキシカルボニル−9−フルオレノン
)マロノントリル、(4−フェネトキシカルボニルー9
−フルオレニリデン)マロノントリル、(4−カルビト
キシー9−フルオレニリデン)マロノントリル、(4−
n−ブトキシカルボニル−2,7−シニトロー9−フル
オレノンデン)マロ°ネート等がある。
ニル基であり、A、BおよびWは、個々に、アシル、ア
ルコキシカルボニル、ニトロ、アルキルアミノカルボニ
ルおよびこれらの誘導体から選ばれた電子吸引基であり
、mは0〜2の数であり、nはOまたは1の数である)
を有する米国特許筒4,474,865号に記載されて
いるような9−フルオレニリデンメタン誘導体。上記式
に属する典型的な9−フルオレニリデンメタン誘導体に
は、(4−n−ブトキシカルボニル−9−フルオレノン
)マロノントリル、(4−フェネトキシカルボニルー9
−フルオレニリデン)マロノントリル、(4−カルビト
キシー9−フルオレニリデン)マロノントリル、(4−
n−ブトキシカルボニル−2,7−シニトロー9−フル
オレノンデン)マロ°ネート等がある。
他の電荷移送物質には、ポリ−1−ビニルピレン、ポリ
−9−ビニルアンスラセン、ポリ−9−(4−ペンテニ
ル)−力ルバゾール、ポIJ−9−(5−ヘキシル)−
力ルバゾール、ポリメチレンピレン、ポリ−1−(ピレ
ニル)ブタジェン;ポリ−3−アミノカルバゾール、1
,3−ジブロモ−ポIJ−N−ビニルカルバゾールおよ
び3.6−ジブロモ−ポリ−N−ビニルカルバゾールの
ようなアルキル、ニトロ、アミノ、ハロゲン、およびヒ
ドロキシ置換ポリマーのようなポリマー;および米国特
許筒3,870,516号に記載されているような他の
多くの透明有機高分子または非高分子移送物質がある。
−9−ビニルアンスラセン、ポリ−9−(4−ペンテニ
ル)−力ルバゾール、ポIJ−9−(5−ヘキシル)−
力ルバゾール、ポリメチレンピレン、ポリ−1−(ピレ
ニル)ブタジェン;ポリ−3−アミノカルバゾール、1
,3−ジブロモ−ポIJ−N−ビニルカルバゾールおよ
び3.6−ジブロモ−ポリ−N−ビニルカルバゾールの
ようなアルキル、ニトロ、アミノ、ハロゲン、およびヒ
ドロキシ置換ポリマーのようなポリマー;および米国特
許筒3,870,516号に記載されているような他の
多くの透明有機高分子または非高分子移送物質がある。
フィルム形成性バインダー中で可溶性または分子規模で
分散性である電荷移送分子に関する上述の各特許の記載
はすべて本明細書に引用する。
分散性である電荷移送分子に関する上述の各特許の記載
はすべて本明細書に引用する。
電荷移送物質を絶縁性バインダーと組合せて軟化性層を
形成させる場合、使用する電荷移送物質の量は特定の電
荷移送物質およびその軟化性層の連続絶縁性フィルム形
成性バインダー相中での適合性(例えば、溶解性)等に
依存し得る。特定の像形成構造体、材料、各処理工程お
よび他の各パラメーターを包含する特定の使用像形成系
によるが、満足できる結果は軟化性層の総重量基準で約
0〜約50重量%の電荷移送物質を用いたとき得られる
。静電印刷用マスターにおていは、満足できる結果は軟
化性層の総重量基準で約8〜約50重量%の電荷移送物
質を用いたとき得られる。特に好ましい電荷移送分子は
、次式 (式中、X、YおよびZは水素、1〜20個の炭素原子
を有するアルキル基および塩素からなる群より選ばれ、
X、YおよびZの少なくとも1つは、それぞれ、1〜2
0個の炭素原子を有するアルキル基または塩素であるよ
うに選ばれる) を有する分子である。YおよびZが水素である場合、そ
の化合物はN、N’−ビス(アルキルフェニル)−(1
,1’−ビフェニル)−4,4’−ジアミン(アルキル
は、例えば、メチル、エチル、プロピル、n−ブチル等
である)、あるいは化合物はN、N’−ジフェニル−N
、N’−ビス(クロロフェニル)−[1,1’−ビフェ
ニル〕−4゜4′−ジアミンであり得る。
形成させる場合、使用する電荷移送物質の量は特定の電
荷移送物質およびその軟化性層の連続絶縁性フィルム形
成性バインダー相中での適合性(例えば、溶解性)等に
依存し得る。特定の像形成構造体、材料、各処理工程お
よび他の各パラメーターを包含する特定の使用像形成系
によるが、満足できる結果は軟化性層の総重量基準で約
0〜約50重量%の電荷移送物質を用いたとき得られる
。静電印刷用マスターにおていは、満足できる結果は軟
化性層の総重量基準で約8〜約50重量%の電荷移送物
質を用いたとき得られる。特に好ましい電荷移送分子は
、次式 (式中、X、YおよびZは水素、1〜20個の炭素原子
を有するアルキル基および塩素からなる群より選ばれ、
X、YおよびZの少なくとも1つは、それぞれ、1〜2
0個の炭素原子を有するアルキル基または塩素であるよ
うに選ばれる) を有する分子である。YおよびZが水素である場合、そ
の化合物はN、N’−ビス(アルキルフェニル)−(1
,1’−ビフェニル)−4,4’−ジアミン(アルキル
は、例えば、メチル、エチル、プロピル、n−ブチル等
である)、あるいは化合物はN、N’−ジフェニル−N
、N’−ビス(クロロフェニル)−[1,1’−ビフェ
ニル〕−4゜4′−ジアミンであり得る。
蒸気と加熱の組合せを用いて像形成部材を現像する場合
、格別な貯蔵安定性を含む優れた結果は軟化性層が軟化
性層の総重量基準で約10〜約40重量%の上記ジアミ
ン化合物を含有するときに達成できる。最良の結果は転
化性層が転化性層の総重量基準で約16〜約40重量%
のN、N’−ジフェニル−N、N’−ビス(3#−メチ
ルフェニル)−(1,1’−ビフェニル)−4,4’−
ジアミンを含むときに得られる。軟化性層が軟化外層総
重量基準で約8重量%以下の上記ジアミン化合物を含有
するときは、Dminは著しく高くなりまた効果的でな
い電荷移送のために、静電印刷のための静電対比電位は
低下する。軟化性層が軟化外層総重量基準で約50重量
%以上の上記ジアミン化合物を含有するときは、軟化性
層の機械的強度、可撓性および一体性が幾分劣下し、電
荷暗減衰も高くなる。さらにまた、極めて高濃度の上記
ジアミン化合物も軟化性層中の化合物の結晶化を生じ得
る。
、格別な貯蔵安定性を含む優れた結果は軟化性層が軟化
性層の総重量基準で約10〜約40重量%の上記ジアミ
ン化合物を含有するときに達成できる。最良の結果は転
化性層が転化性層の総重量基準で約16〜約40重量%
のN、N’−ジフェニル−N、N’−ビス(3#−メチ
ルフェニル)−(1,1’−ビフェニル)−4,4’−
ジアミンを含むときに得られる。軟化性層が軟化外層総
重量基準で約8重量%以下の上記ジアミン化合物を含有
するときは、Dminは著しく高くなりまた効果的でな
い電荷移送のために、静電印刷のための静電対比電位は
低下する。軟化性層が軟化外層総重量基準で約50重量
%以上の上記ジアミン化合物を含有するときは、軟化性
層の機械的強度、可撓性および一体性が幾分劣下し、電
荷暗減衰も高くなる。さらにまた、極めて高濃度の上記
ジアミン化合物も軟化性層中の化合物の結晶化を生じ得
る。
加熱のみまたは蒸気のみを用いて像形成部材を現像する
場合には、優れた結果は軟化性層が転化性層総重量基準
で約10〜約40重量%の上記ジアミン化合物を含有す
るときに得られる。最良の結果は軟化性層が軟化外層総
重量基準で約16〜約40重量%のN、N’−ジフェニ
ル−N、N’−ビス(3“−メチルフェニル)−(1,
1’−ビフェニル)−4,4’−ジアミンを含有すると
きに得られる。
場合には、優れた結果は軟化性層が転化性層総重量基準
で約10〜約40重量%の上記ジアミン化合物を含有す
るときに得られる。最良の結果は軟化性層が軟化外層総
重量基準で約16〜約40重量%のN、N’−ジフェニ
ル−N、N’−ビス(3“−メチルフェニル)−(1,
1’−ビフェニル)−4,4’−ジアミンを含有すると
きに得られる。
電荷移送物質は軟化性層および任意構成成分としての電
荷移送スペーシング層中に任意の適当な方法によって含
有させ得る。例えば、電荷移送物質は軟化性層またはス
ペーシング層成分と共通溶媒中に溶解させることによっ
て混合できる。必要ならば、軟化性層またはスペーシン
グ層用の各溶媒の混合物を用いて混合またはコーティン
グを容易にすることができる。
荷移送スペーシング層中に任意の適当な方法によって含
有させ得る。例えば、電荷移送物質は軟化性層またはス
ペーシング層成分と共通溶媒中に溶解させることによっ
て混合できる。必要ならば、軟化性層またはスペーシン
グ層用の各溶媒の混合物を用いて混合またはコーティン
グを容易にすることができる。
任意構成成分の接着層、任意構成成分の電荷移送スペー
シング層および軟化性層は任意の適当なコーティング方
法によって基体に適用できる。これら多層のコーティン
グにおいては、適切な制限を設けて1つの層のコーティ
ングが下地層を溶解しないようにすべきである。これは
フィルム形成性バインダー物質とその溶媒または溶媒混
合物との適切な選択によって達成できる。典型的なコー
ティング法には、引き延し棒法、スプレー法、押出し法
、浸漬法グラビアロール法、ワイヤー巻きロッド法、エ
アナイフコーティング法等がある。
シング層および軟化性層は任意の適当なコーティング方
法によって基体に適用できる。これら多層のコーティン
グにおいては、適切な制限を設けて1つの層のコーティ
ングが下地層を溶解しないようにすべきである。これは
フィルム形成性バインダー物質とその溶媒または溶媒混
合物との適切な選択によって達成できる。典型的なコー
ティング法には、引き延し棒法、スプレー法、押出し法
、浸漬法グラビアロール法、ワイヤー巻きロッド法、エ
アナイフコーティング法等がある。
接着層および電荷移送スペーシング層の厚さは前述した
とおりである。軟化性層の厚さは最終像の目的とする用
途による。最終目的が単に像形成部材上に可視像を形成
することである場合には、軟化性層の厚さは一般に1〜
3μmの範囲である。
とおりである。軟化性層の厚さは最終像の目的とする用
途による。最終目的が単に像形成部材上に可視像を形成
することである場合には、軟化性層の厚さは一般に1〜
3μmの範囲である。
しかしながら、像形成させた部材を静電印刷用に使用す
る場合、軟化性層の厚さは電荷移送スペーシング層を使
用するかどうかによる。1〜25μm範囲の厚さを有す
る電荷移送スペーシング層を用いる場合、乾燥即ち硬化
工程後の付着軟化性層の厚さは合計厚さが約3〜30μ
mの範囲である場合に約2〜5μmの範囲にあることが
好ましい。軟化性層の2μm以下の厚さは静電印刷中の
潜像の現像に対して不十分な静電対比電位をもたらし得
る。電荷移送層の使用は約5μmより厚い軟化性層の使
用を必要としない。しかしながら、電荷移送層を使用し
ない場合には、軟化性層の厚さは約3〜30μmの範囲
が好ましく十分に高静電対比電位を与えて特定の用途に
適するものとする。約30μmより厚い層も使用できる
が、印刷品質のそれ以上の改良は得られない。
る場合、軟化性層の厚さは電荷移送スペーシング層を使
用するかどうかによる。1〜25μm範囲の厚さを有す
る電荷移送スペーシング層を用いる場合、乾燥即ち硬化
工程後の付着軟化性層の厚さは合計厚さが約3〜30μ
mの範囲である場合に約2〜5μmの範囲にあることが
好ましい。軟化性層の2μm以下の厚さは静電印刷中の
潜像の現像に対して不十分な静電対比電位をもたらし得
る。電荷移送層の使用は約5μmより厚い軟化性層の使
用を必要としない。しかしながら、電荷移送層を使用し
ない場合には、軟化性層の厚さは約3〜30μmの範囲
が好ましく十分に高静電対比電位を与えて特定の用途に
適するものとする。約30μmより厚い層も使用できる
が、印刷品質のそれ以上の改良は得られない。
電荷移送物質を軟化性層および電荷移送層に含有させる
ことよって、本発明の像形成部材に光学的に符号逆転像
または光学的に符号保持像を形成する能力を与えまたそ
の静電印刷用マスターとしての使用性を改善する。
ことよって、本発明の像形成部材に光学的に符号逆転像
または光学的に符号保持像を形成する能力を与えまたそ
の静電印刷用マスターとしての使用性を改善する。
溶媒予備処理続いての加熱を用いるマイグレーション像
形成部材現像系においては、他の要因を考慮すべきであ
る。軟化性層中の軟化性物質用の任意の適当な溶媒が使
用できる。接触時に、溶媒は軟化性層を十分に軟化させ
て露光マイグレーションマーキング材料にわずかな正味
電荷を保持せしめて凝集を防止すると共にマイグレーシ
ョンマーキング材料の深部での基体に向っての像形状で
のわずかな移行のみを可能にし、さらに軟化性層中のマ
ーキング材料の移行に対する抵抗を減少させて非露光マ
ーキング材料を凝集させ融合させる。
形成部材現像系においては、他の要因を考慮すべきであ
る。軟化性層中の軟化性物質用の任意の適当な溶媒が使
用できる。接触時に、溶媒は軟化性層を十分に軟化させ
て露光マイグレーションマーキング材料にわずかな正味
電荷を保持せしめて凝集を防止すると共にマイグレーシ
ョンマーキング材料の深部での基体に向っての像形状で
のわずかな移行のみを可能にし、さらに軟化性層中のマ
ーキング材料の移行に対する抵抗を減少させて非露光マ
ーキング材料を凝集させ融合させる。
典型的な溶媒には種々のケトン類、脂肪族エステル類、
ハロゲン化脂肪族類およびこれらの混合物がある。軟化
性層を十分に軟化させてマイグレーションマーキング材
料の深部での基体に向って像形状でのわずかな移行を可
能にするのは溶媒または溶媒混合物の蒸気または液体と
接触させることによって行い得る。必要ならば、溶媒混
合物は軟化性物質に対する貧溶媒と良溶媒の混合物を含
んで軟化性物質の軟化度を一定時間内で制御し得る。
ハロゲン化脂肪族類およびこれらの混合物がある。軟化
性層を十分に軟化させてマイグレーションマーキング材
料の深部での基体に向って像形状でのわずかな移行を可
能にするのは溶媒または溶媒混合物の蒸気または液体と
接触させることによって行い得る。必要ならば、溶媒混
合物は軟化性物質に対する貧溶媒と良溶媒の混合物を含
んで軟化性物質の軟化度を一定時間内で制御し得る。
軟化性物質と溶媒または溶媒混合物の典型的な組合せに
は、スチレンエチルアクリレートコポリマーとメチルエ
チルケトン溶媒、スチレンヘキシルメタクリレートコポ
リマーとメチルエチルケトン溶媒、スチレンへキシルメ
タクリレートコポリマーと酢酸エチル溶媒、スチレンへ
キシルメタクリレートコポリマーとジエチルケトン溶媒
、スチレンへキシルメタクリレートコポリマーと塩化メ
チレン溶媒、スチレンブチルメタクリレートコポリマー
と1.1.1−)リクロロエタン溶媒、スチレンへキシ
ルメタクリレートコポリマーとトルエンおよびイソプロ
パツール溶媒混合物、スチレンブタジェンコポリマーと
酢酸エチルおよび酢酸ブチル溶媒混合物がある。任意構
成成分としてのオーバーコーテイング層を軟化性層上部
で用いて耐摩耗性を改善する場合には、このオーバーコ
ーテイング層は使用する溶媒蒸気に対して透過性である
べきであり、溶媒処理時間は溶媒蒸気が軟化性層を十分
に軟化させて露光マイグレーションマーキング材料にわ
ずかな正味電荷を保持させると共にマイグレーションマ
ーキング材料の深部での像形状のわずかな移行のみを可
能にし、さらに軟化性層中のマーキング材料の移行に対
する抵抗を減少させて非露光マーキング材料を凝集し融
合させ得るようでなければならない。
は、スチレンエチルアクリレートコポリマーとメチルエ
チルケトン溶媒、スチレンヘキシルメタクリレートコポ
リマーとメチルエチルケトン溶媒、スチレンへキシルメ
タクリレートコポリマーと酢酸エチル溶媒、スチレンへ
キシルメタクリレートコポリマーとジエチルケトン溶媒
、スチレンへキシルメタクリレートコポリマーと塩化メ
チレン溶媒、スチレンブチルメタクリレートコポリマー
と1.1.1−)リクロロエタン溶媒、スチレンへキシ
ルメタクリレートコポリマーとトルエンおよびイソプロ
パツール溶媒混合物、スチレンブタジェンコポリマーと
酢酸エチルおよび酢酸ブチル溶媒混合物がある。任意構
成成分としてのオーバーコーテイング層を軟化性層上部
で用いて耐摩耗性を改善する場合には、このオーバーコ
ーテイング層は使用する溶媒蒸気に対して透過性である
べきであり、溶媒処理時間は溶媒蒸気が軟化性層を十分
に軟化させて露光マイグレーションマーキング材料にわ
ずかな正味電荷を保持させると共にマイグレーションマ
ーキング材料の深部での像形状のわずかな移行のみを可
能にし、さらに軟化性層中のマーキング材料の移行に対
する抵抗を減少させて非露光マーキング材料を凝集し融
合させ得るようでなければならない。
任意構成成分としてのオーバーコーテイング層は実質的
に電気絶逢性であり得また他の適当な性質を有し得る。
に電気絶逢性であり得また他の適当な性質を有し得る。
オーバーコーテイング層は、少なくとも、電磁線を像形
成過程の像形成露光工程および静電印刷過程の均一露光
工程で用いる場合のスペクトル領域において、実質的に
透明であるべきである。オーバーコーテイングは連続し
ており、好ましくは約1〜2μmまでの厚さを有してい
る。
成過程の像形成露光工程および静電印刷過程の均一露光
工程で用いる場合のスペクトル領域において、実質的に
透明であるべきである。オーバーコーテイングは連続し
ており、好ましくは約1〜2μmまでの厚さを有してい
る。
好ましいのは、オーバーコーテイングは約0.1〜約0
.5μmの厚さを有して残留電荷蓄積を最小にすべきで
ある。約1〜2μmより厚いオーバーコーテイング層も
使用できるが、多側プリントを静電印刷中に行うときオ
ーバーコーテイング層内で生ずる電荷捕捉傾向のために
サイクルアップを生じ得る。典型的なオーバーコーテイ
ング材料にはアクリル−スチレンコポリマー、メタクリ
レートポリマー、メタクリレートコポリマー、スチレン
−ブチルメタクリレートコポリマーブチルメタクリレー
ト樹脂、塩化ビニルコポリマー、フッ素化ホモまたはコ
ポリマー、高分子量ポリ酢酸ビニル、オルガノシロキサ
ンホモおよびコポリマー、ポリエステル、ポリカーボネ
ート、ポリアミド、ポリビニルトルエン等がある。オー
バーコーテイング層は軟化性層を保護して取扱い中、像
形成中および静電印刷中に摩耗の悪影響に対してより大
きい抵抗性を与えるべきである。オーバーコーテイング
層は好ましくは軟化性層に強固に接着して劣下を最小に
する。オーバーコーテイング層はまたトナー付中、転写
中および/またはクリーニング中にトナーのフィルム形
成化に対する改良された抵抗性を与える外表面としての
非粘着性も有し得る。
.5μmの厚さを有して残留電荷蓄積を最小にすべきで
ある。約1〜2μmより厚いオーバーコーテイング層も
使用できるが、多側プリントを静電印刷中に行うときオ
ーバーコーテイング層内で生ずる電荷捕捉傾向のために
サイクルアップを生じ得る。典型的なオーバーコーテイ
ング材料にはアクリル−スチレンコポリマー、メタクリ
レートポリマー、メタクリレートコポリマー、スチレン
−ブチルメタクリレートコポリマーブチルメタクリレー
ト樹脂、塩化ビニルコポリマー、フッ素化ホモまたはコ
ポリマー、高分子量ポリ酢酸ビニル、オルガノシロキサ
ンホモおよびコポリマー、ポリエステル、ポリカーボネ
ート、ポリアミド、ポリビニルトルエン等がある。オー
バーコーテイング層は軟化性層を保護して取扱い中、像
形成中および静電印刷中に摩耗の悪影響に対してより大
きい抵抗性を与えるべきである。オーバーコーテイング
層は好ましくは軟化性層に強固に接着して劣下を最小に
する。オーバーコーテイング層はまたトナー付中、転写
中および/またはクリーニング中にトナーのフィルム形
成化に対する改良された抵抗性を与える外表面としての
非粘着性も有し得る。
非粘着性はオーバーコーテイング層固有のものであり得
、あるいは他の層または非粘着性材料成分を含有させる
ことによってオーバーコーテイング層に付与し得る。こ
れらの非粘着性材料はオーバーコーテイングのフィルム
形成性成分を劣下させるべきでなく、好ましくは、約2
0エルグ/cm”以下の表面エネルギーを有すべきであ
る。典型的な非粘着性材料には脂肪酸類、塩およびエス
テル類、フルオロカーボン類、シリコーン類等がある。
、あるいは他の層または非粘着性材料成分を含有させる
ことによってオーバーコーテイング層に付与し得る。こ
れらの非粘着性材料はオーバーコーテイングのフィルム
形成性成分を劣下させるべきでなく、好ましくは、約2
0エルグ/cm”以下の表面エネルギーを有すべきであ
る。典型的な非粘着性材料には脂肪酸類、塩およびエス
テル類、フルオロカーボン類、シリコーン類等がある。
オーバーコーテイングは引き延し棒法、スプレー、浸浸
、溶融、押出しまたはグラビアコーティングのような任
意の適当な方法によって適用できる。
、溶融、押出しまたはグラビアコーティングのような任
意の適当な方法によって適用できる。
これらのオーバーコーテイング層が像形成前、像形成中
、部材を像形成させた後およびl7iS電印刷中に静電
印刷用マスター保護するものであることは理解されるで
あろう。
、部材を像形成させた後およびl7iS電印刷中に静電
印刷用マスター保護するものであることは理解されるで
あろう。
1つの実施態様における本発明の像形成部材を用いる方
法での像形成工程は、静電潜像を像形成部材上に形成さ
せること、およびこの潜像を軟化性材料の移行に対する
抵抗性を低下させて粒状マーキング材料の移行を軟化性
層を通して行いそれによってマイグレーションマーキン
グ材料を軟化性材料層の深部で像形状で移行させること
によって現像することの各工程を含む。
法での像形成工程は、静電潜像を像形成部材上に形成さ
せること、およびこの潜像を軟化性材料の移行に対する
抵抗性を低下させて粒状マーキング材料の移行を軟化性
層を通して行いそれによってマイグレーションマーキン
グ材料を軟化性材料層の深部で像形状で移行させること
によって現像することの各工程を含む。
静電潜像は、像形成部材上に、該像形成部材を均一に静
電的に帯電させ次いで帯電させた部材を活性化用電磁線
に上記均一帯電の実質的暗減衰が起る前に像形成的に露
光させることによって形成できる。満足できる結果は暗
減衰が初期電荷の50%より小さいときに得られる、即
ち、“実質的減衰”なる表現は暗減衰が初期電荷の50
%より小さいことを意味する。初期電荷の約25%より
小さい暗減衰が最適の像形成にとって好ましい。
電的に帯電させ次いで帯電させた部材を活性化用電磁線
に上記均一帯電の実質的暗減衰が起る前に像形成的に露
光させることによって形成できる。満足できる結果は暗
減衰が初期電荷の50%より小さいときに得られる、即
ち、“実質的減衰”なる表現は暗減衰が初期電荷の50
%より小さいことを意味する。初期電荷の約25%より
小さい暗減衰が最適の像形成にとって好ましい。
本発明の像形成部材が伝導性コーティングを有する基体
、軟化性層、軟化性層表面と連続するマーキング材料の
破壊性層および軟化性層中のスチレン−エチルアクリレ
ートコポリマーを含み、これをコロナ荷電装置で静電的
に帯電させる場合には、伝導性コーティングは静帯電中
に接地または所定の電位に維持し得る。この帯電部材を
活性化用電磁照射に像形成的に露光させそれによって像
形成部材上に静電潜像を形成させる。この静電潜像を有
する部材を、次いで、軟化性材料の抵抗性を低下させて
粒状マーキング材料の移行を軟化性層を通して、例えば
、熱放射を軟化性材料に適用して軟化を行うことによっ
て行うことに現像する。熱、溶媒蒸気、これらの組合せ
または任意の適当な手段を用いて軟化性層の軟化性材料
の抵抗性を低下させてマイグレーションマーキング材料
を軟化性層深部で像形状に移行させることによって潜像
を現像することもできる。軟化性層が任意構成成分の電
荷移送物質を含有し熱を用いて現像する実施態様におい
ては、マイグレーションマーキング材料は露光領域に相
応する領域の軟化性層深部に移行し、未露光領域に相応
する領域ではその初期の移行しないま\の状態で残存す
る。オーバーコーテイング層を適用して像形成前、像形
成中および像形成後の像形成部材を保護し得る。
、軟化性層、軟化性層表面と連続するマーキング材料の
破壊性層および軟化性層中のスチレン−エチルアクリレ
ートコポリマーを含み、これをコロナ荷電装置で静電的
に帯電させる場合には、伝導性コーティングは静帯電中
に接地または所定の電位に維持し得る。この帯電部材を
活性化用電磁照射に像形成的に露光させそれによって像
形成部材上に静電潜像を形成させる。この静電潜像を有
する部材を、次いで、軟化性材料の抵抗性を低下させて
粒状マーキング材料の移行を軟化性層を通して、例えば
、熱放射を軟化性材料に適用して軟化を行うことによっ
て行うことに現像する。熱、溶媒蒸気、これらの組合せ
または任意の適当な手段を用いて軟化性層の軟化性材料
の抵抗性を低下させてマイグレーションマーキング材料
を軟化性層深部で像形状に移行させることによって潜像
を現像することもできる。軟化性層が任意構成成分の電
荷移送物質を含有し熱を用いて現像する実施態様におい
ては、マイグレーションマーキング材料は露光領域に相
応する領域の軟化性層深部に移行し、未露光領域に相応
する領域ではその初期の移行しないま\の状態で残存す
る。オーバーコーテイング層を適用して像形成前、像形
成中および像形成後の像形成部材を保護し得る。
加熱現像工程においては、像形成部材は、典型的には、
比較的低温に均一に加熱することによって現像する。例
えば、110“C〜約130℃の温度では、115℃で
約104ポイズの溶融粘度を有する8 0/20スチレ
ン−エキシルメタクリレートコポリマーを含有する軟化
性層に対しては、数秒間加熱するだけでよい。より低温
では、もっと加熱時間を必要とする。熱を適用するとき
、軟化性層は粘度低下しそれによって露光領域の軟化性
層を通っての深部でのマーキング材料の移行に対する抵
抗性を低下させる。
比較的低温に均一に加熱することによって現像する。例
えば、110“C〜約130℃の温度では、115℃で
約104ポイズの溶融粘度を有する8 0/20スチレ
ン−エキシルメタクリレートコポリマーを含有する軟化
性層に対しては、数秒間加熱するだけでよい。より低温
では、もっと加熱時間を必要とする。熱を適用するとき
、軟化性層は粘度低下しそれによって露光領域の軟化性
層を通っての深部でのマーキング材料の移行に対する抵
抗性を低下させる。
必要に応じて、溶媒蒸気現像を加熱現像工程に代えて用
いてもよい。マイグレーション像形成部材の蒸気現像は
当該技術において周知である。溶媒蒸気現像に用いる好
ましい溶媒は約5〜30龍lIgの溶媒蒸気部分圧で約
4〜約60秒の蒸気暴露によるトルエンである。
いてもよい。マイグレーション像形成部材の蒸気現像は
当該技術において周知である。溶媒蒸気現像に用いる好
ましい溶媒は約5〜30龍lIgの溶媒蒸気部分圧で約
4〜約60秒の蒸気暴露によるトルエンである。
現像したマイグレーション像形成部材は静電印刷法にお
ける静電印刷用マスターとして使用でき、この静電印刷
用マスターをコロナ荷電によるような適当な手段で均一
に帯電させる。静電印刷で用いるコロナ荷電の極性は正
孔移送物質または電子移送物質を軟化性層および電荷移
送スペーシング層に含有させているかどうかによって決
定される。
ける静電印刷用マスターとして使用でき、この静電印刷
用マスターをコロナ荷電によるような適当な手段で均一
に帯電させる。静電印刷で用いるコロナ荷電の極性は正
孔移送物質または電子移送物質を軟化性層および電荷移
送スペーシング層に含有させているかどうかによって決
定される。
正コロナ荷電は軟化性層および電荷移送スペーシング層
中に正札移送物質が存在するときに使用する。電荷移送
物質が軟化性層および電荷移送層中に含まれる場合には
、静電印刷用マスターは均一に負帯電させる。帯電をコ
ロナ荷電に関して説明しているけれども、これは単に例
示であって帯電は任意の他の適当な手段によっても行い
得る。他の帯電方法には米国特許第2,934,649
号および第2.833,930号に記載されているよう
な摩擦荷電および誘導荷電、および米国特許第2,93
4,650号に記載されているようなロール荷電がある
。
中に正札移送物質が存在するときに使用する。電荷移送
物質が軟化性層および電荷移送層中に含まれる場合には
、静電印刷用マスターは均一に負帯電させる。帯電をコ
ロナ荷電に関して説明しているけれども、これは単に例
示であって帯電は任意の他の適当な手段によっても行い
得る。他の帯電方法には米国特許第2,934,649
号および第2.833,930号に記載されているよう
な摩擦荷電および誘導荷電、および米国特許第2,93
4,650号に記載されているようなロール荷電がある
。
帯電させた静電印刷用マスターはその後活性化用照射に
露光させて静電潜像を形成させる。特定の像形成性構造
、材料、処理工程、および他の諸パラメーターを包含す
る特定の像形成系によるが、本発明の像形成部材は正原
紙からの正像または正原紙からの負傷を形成できる。例
えば、軟化性層中に電荷移送物質を含有するマイグレー
ション像形成部材は溶媒蒸気にさらし次いで加熱するこ
とによって現像して静電印刷用マスター上に光学的に符
号逆転像を形成できる。未露光領域では、マイグレーシ
ョンマーキング粒子は凝集し融合して比較的少ない大き
い粒子を形成してDmin領域を与える。露光領域では
、マイグレーションマーキング粒子は小さい正味電荷を
保持して、この電荷が基体に向ってマイグレーション材
料の深部でのわずかな凝集、わずかな融合、わずかな移
行またはこれらの組合せを可能にしDmax領域を与え
る。
露光させて静電潜像を形成させる。特定の像形成性構造
、材料、処理工程、および他の諸パラメーターを包含す
る特定の像形成系によるが、本発明の像形成部材は正原
紙からの正像または正原紙からの負傷を形成できる。例
えば、軟化性層中に電荷移送物質を含有するマイグレー
ション像形成部材は溶媒蒸気にさらし次いで加熱するこ
とによって現像して静電印刷用マスター上に光学的に符
号逆転像を形成できる。未露光領域では、マイグレーシ
ョンマーキング粒子は凝集し融合して比較的少ない大き
い粒子を形成してDmin領域を与える。露光領域では
、マイグレーションマーキング粒子は小さい正味電荷を
保持して、この電荷が基体に向ってマイグレーション材
料の深部でのわずかな凝集、わずかな融合、わずかな移
行またはこれらの組合せを可能にしDmax領域を与え
る。
DmaxとDmin領域でのマイグレーション粒子の大
きさおよび数O違いにより、Dmay、とDmin領域
での光放電速度と光放電度合は著しく異なる。
きさおよび数O違いにより、Dmay、とDmin領域
での光放電速度と光放電度合は著しく異なる。
この静電印刷用マスターを均一に帯電させ活性化用電磁
線に均一に露光させた場合、光放電は主としてDmax
領域で起り、実質的にそれより少ない光放電が静電印刷
用マスターのDmin領域で起って静電潜像を与える。
線に均一に露光させた場合、光放電は主としてDmax
領域で起り、実質的にそれより少ない光放電が静電印刷
用マスターのDmin領域で起って静電潜像を与える。
均一露光工程で使用する活性化用電磁線はマイグレーシ
ョンマーキング粒子が電荷キャリヤーを光放電させるス
ペクトル領域にあるべきである。300〜500ナノメ
ーター(nm )領域の単色光がセレン粒子にとって好
ましく静電潜像の静電対比電位を最大にする。露光エネ
ルギーは所望のおよび/または最適の静電対比電位が得
られるようにあるべきである。即ち、この実施態様にお
いては、静電印刷用マスター上の可視像は正原紙の光学
的に負傷であるけれども(マスターをレーザー走査の代
りにレンズ達成露光により形成させた場合)、静電荷像
は原像の正(符号保持性)の像である。
ョンマーキング粒子が電荷キャリヤーを光放電させるス
ペクトル領域にあるべきである。300〜500ナノメ
ーター(nm )領域の単色光がセレン粒子にとって好
ましく静電潜像の静電対比電位を最大にする。露光エネ
ルギーは所望のおよび/または最適の静電対比電位が得
られるようにあるべきである。即ち、この実施態様にお
いては、静電印刷用マスター上の可視像は正原紙の光学
的に負傷であるけれども(マスターをレーザー走査の代
りにレンズ達成露光により形成させた場合)、静電荷像
は原像の正(符号保持性)の像である。
別の像形成法においては、軟化性層中に電荷移送物質を
含有するマイグレーション像形成部材もまた熱のみまた
は溶媒蒸気のみを適用することによって現像して静電印
刷用マスター上に光学的に符号保持性像を形成できる。
含有するマイグレーション像形成部材もまた熱のみまた
は溶媒蒸気のみを適用することによって現像して静電印
刷用マスター上に光学的に符号保持性像を形成できる。
未露光領域では、マイグレーションマーキング粒子は実
質的にその初期位置に残ってDmax領域を与える。露
光領域では、マイグレーションマーキング粒子は深部に
移行して軟化性層中で分散状態となりDminjii域
を与える。DmaxとDminel域での光放電速度お
よび光放電度はDIIlaxとDminTJ域でのマー
キング粒子の位置および分布の違いによる著しく異なる
。
質的にその初期位置に残ってDmax領域を与える。露
光領域では、マイグレーションマーキング粒子は深部に
移行して軟化性層中で分散状態となりDminjii域
を与える。DmaxとDminel域での光放電速度お
よび光放電度はDIIlaxとDminTJ域でのマー
キング粒子の位置および分布の違いによる著しく異なる
。
この静電印刷用マスターを均一に帯電させ次いで活性化
用電磁線に均一に露光させたときは、光放電は主として
Dmax領域で起り、実質的にそれより少ない光放電が
静電印刷用マスター〇〇m1nj+i域で起って静電潜
像を与える。この実施態様においては、静電印刷用マス
ター上の可視像は光学的に符号保持性像、即ち、正原像
の正の像であるけれども(マスターをレーザー走査の代
りにレンズ速成露光によって形成させたとき)、静電荷
像は光学的に符号逆点、即ち、原像の負傷である。
用電磁線に均一に露光させたときは、光放電は主として
Dmax領域で起り、実質的にそれより少ない光放電が
静電印刷用マスター〇〇m1nj+i域で起って静電潜
像を与える。この実施態様においては、静電印刷用マス
ター上の可視像は光学的に符号保持性像、即ち、正原像
の正の像であるけれども(マスターをレーザー走査の代
りにレンズ速成露光によって形成させたとき)、静電荷
像は光学的に符号逆点、即ち、原像の負傷である。
次いで、静電潜像はトナー粒子によって現像して静電潜
像に相応するトナー像を形成させる。現像(トナー付)
工程は静電複写像形成において通常使用する工程と同じ
である。静電的に吸引性のマーキング粒子を含有する任
意の適当な通常の静電複写用乾燥または液体現像剤を用
いて本発明の静電印刷用マスター上の静電潜像を現像で
きる。
像に相応するトナー像を形成させる。現像(トナー付)
工程は静電複写像形成において通常使用する工程と同じ
である。静電的に吸引性のマーキング粒子を含有する任
意の適当な通常の静電複写用乾燥または液体現像剤を用
いて本発明の静電印刷用マスター上の静電潜像を現像で
きる。
典型的な乾燥トナーは約6〜約20μmの粒度を有する
。典型的な液体トナーは約0.1〜約0.3μmの粒度
を有する。乾燥トナーは、例えば、米国特許第2,78
8,288号、第3.079,342号および再発行特
許第25,136号に開示されている。液体現像剤は、
例えば、米国特許第2,890.174号および第2.
899.335号に開示されている。トナー粒子の粒度
はプリントの解像力に影響する。カラープルーフィング
およびカラー印刷のような極めて高解像力を必要とする
用途においては、液体トナーが微細なハーフトーンドツ
トのより良好な解像力を与えるそのかなり小さい粒度故
に一般に好ましく、濃密黒色領域での過度の厚さなしで
4色像を形成する。
。典型的な液体トナーは約0.1〜約0.3μmの粒度
を有する。乾燥トナーは、例えば、米国特許第2,78
8,288号、第3.079,342号および再発行特
許第25,136号に開示されている。液体現像剤は、
例えば、米国特許第2,890.174号および第2.
899.335号に開示されている。トナー粒子の粒度
はプリントの解像力に影響する。カラープルーフィング
およびカラー印刷のような極めて高解像力を必要とする
用途においては、液体トナーが微細なハーフトーンドツ
トのより良好な解像力を与えるそのかなり小さい粒度故
に一般に好ましく、濃密黒色領域での過度の厚さなしで
4色像を形成する。
本発明は静電複写液体現像剤による現像において特に有
用である。液体現像剤は水系または油系インクを含み得
る。液体現像剤には水溶性または油溶性染料物質を含む
インクと顔料化インクの両方がある。典型的な染料物質
にはイーストマンコダック社より商業的に入手できるメ
チレンブルー、ハーラコケミカル社より商業的に入手で
きるブリリアントイエロー、過マンガン酸カリウム、塩
化第2Lメチレンバイオレツト、ローズベンガルおよび
キノリンイエロー等があり、後の3つはアライドケ岨カ
ル社より入手できる。典型的な顔料はカーボンブラック
、グラファイト、油煙、骨炭、木炭、二酸化チタン、自
船、酸化亜鉛、硫化亜鉛、酸化鉄、酸化クロム、クロム
酸鉛、クロム酸亜鉛、カドミウムイエロー、カドミニウ
ムレッド、鉛丹、二酸化アンチモン、ケイ酸マグネシウ
ム、炭酸カルシウム、ケイ酸カルシウム、フタロシアニ
ン類、ベンジジン類、ナフトール類、トルイジン類等が
ある。液体現像剤組成物は微分割不透明粉末、高抵抗液
体および凝集防止成分を含み得る。典型的な高抵抗液体
にはアイソバール(Isopar) 、四塩化炭素、ケ
ロセン、ベンゼン、トリクロロエチレン等のような有機
絶縁性液体がある。他の現像剤成分または添加剤には、
カルボキシビニルポリマー、ポリビニルピロリドン、メ
チルビニルエーテル−無水マレイン酸コポリマー、ビニ
ルアルコールのようなビニル樹脂;ナトリウムカルボキ
シ−エチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセル
ロース、ヒドロキシエチルセルロース、メチルセルロー
スのようなセルロース類;これらセルロースのエステル
およびエーテルのようなセルロース誘導体;アルカリ可
溶性たんばく質、カゼイン、ゼラチン;およびポリアク
リル酸アンモニウム、ポリアクリル酸ナトリウムのよう
なアクリル酸塩等がある。
用である。液体現像剤は水系または油系インクを含み得
る。液体現像剤には水溶性または油溶性染料物質を含む
インクと顔料化インクの両方がある。典型的な染料物質
にはイーストマンコダック社より商業的に入手できるメ
チレンブルー、ハーラコケミカル社より商業的に入手で
きるブリリアントイエロー、過マンガン酸カリウム、塩
化第2Lメチレンバイオレツト、ローズベンガルおよび
キノリンイエロー等があり、後の3つはアライドケ岨カ
ル社より入手できる。典型的な顔料はカーボンブラック
、グラファイト、油煙、骨炭、木炭、二酸化チタン、自
船、酸化亜鉛、硫化亜鉛、酸化鉄、酸化クロム、クロム
酸鉛、クロム酸亜鉛、カドミウムイエロー、カドミニウ
ムレッド、鉛丹、二酸化アンチモン、ケイ酸マグネシウ
ム、炭酸カルシウム、ケイ酸カルシウム、フタロシアニ
ン類、ベンジジン類、ナフトール類、トルイジン類等が
ある。液体現像剤組成物は微分割不透明粉末、高抵抗液
体および凝集防止成分を含み得る。典型的な高抵抗液体
にはアイソバール(Isopar) 、四塩化炭素、ケ
ロセン、ベンゼン、トリクロロエチレン等のような有機
絶縁性液体がある。他の現像剤成分または添加剤には、
カルボキシビニルポリマー、ポリビニルピロリドン、メ
チルビニルエーテル−無水マレイン酸コポリマー、ビニ
ルアルコールのようなビニル樹脂;ナトリウムカルボキ
シ−エチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセル
ロース、ヒドロキシエチルセルロース、メチルセルロー
スのようなセルロース類;これらセルロースのエステル
およびエーテルのようなセルロース誘導体;アルカリ可
溶性たんばく質、カゼイン、ゼラチン;およびポリアク
リル酸アンモニウム、ポリアクリル酸ナトリウムのよう
なアクリル酸塩等がある。
任意の適当な通常の静電複写現像法を用いてトナー粒子
を本発明の静電印刷用マスターの像形成表面上の静電上
に付着させ得る。周知の静電複写現像法には、磁性ブラ
シ法、粉末被覆法、カスケード法、液体法および同様な
現像方法がある。カスケード現像法は米国特許第2.6
18.551号および第2.618.552号により詳
しく記載されており、粉末被覆現像法は米国特許第2.
725.305号および第2、918.910号により
詳しく記載されてふり、磁性ブラシ現像法は米国特許第
2.791.949号および第3、015.305号に
より詳しく記載されており、さらに液体現像法は米国特
許第3.084.043号により詳しく記載されている
。これらトナー、現像剤および現像法に関する特許はす
べて本明細書に引用する。現像が帯電領域に相応する現
像を含むことを欲する場合には、一般に、潜1象の保持
電荷と反対極性に摩擦電気的に帯電させた現像剤と接触
させて通しそれによって現像剤を絶縁性像パターンの帯
電領域に吸引させ付着させることが好ましい。
を本発明の静電印刷用マスターの像形成表面上の静電上
に付着させ得る。周知の静電複写現像法には、磁性ブラ
シ法、粉末被覆法、カスケード法、液体法および同様な
現像方法がある。カスケード現像法は米国特許第2.6
18.551号および第2.618.552号により詳
しく記載されており、粉末被覆現像法は米国特許第2.
725.305号および第2、918.910号により
詳しく記載されてふり、磁性ブラシ現像法は米国特許第
2.791.949号および第3、015.305号に
より詳しく記載されており、さらに液体現像法は米国特
許第3.084.043号により詳しく記載されている
。これらトナー、現像剤および現像法に関する特許はす
べて本明細書に引用する。現像が帯電領域に相応する現
像を含むことを欲する場合には、一般に、潜1象の保持
電荷と反対極性に摩擦電気的に帯電させた現像剤と接触
させて通しそれによって現像剤を絶縁性像パターンの帯
電領域に吸引させ付着させることが好ましい。
しかしながら、未帯電領域に相応する現像を複写させる
ことが好ましい場合には、像の帯電パターンと同じ極性
に帯電させた現像剤を用いることが一般的実施である。
ことが好ましい場合には、像の帯電パターンと同じ極性
に帯電させた現像剤を用いることが一般的実施である。
次いで、現像剤は潜像の電荷によって反発されてプレー
トの非帯電領域に付着し、帯電領域は現像剤なしのま−
で残るであろう。
トの非帯電領域に付着し、帯電領域は現像剤なしのま−
で残るであろう。
任意の適当な手段を用いて現像した静電印刷用マスター
表面から転写即ちコピーシートに転写して最終コピーを
得ることができる。転写操作を行うのに特に有用で一般
に好ましい方法は転写シートを像付着表面即ち静電印刷
表面と接触させ、電荷を転写シートの反対面に、例えば
、転写部材に対し並置させたコロナ放電電極または他の
同様な装置のような隣接のイオン源により適用すること
からなる静電転写法を含む。そのようなイオン源は静電
印刷過程の荷電工程中に用いた源と同じであり得、像付
着に関して高電位に維持する。コロナ放電が生じてイオ
ン化粒子の転写シートへの付着が起り、このイオン化粒
子は部材を帯電するように働く。転写部材は現像の極性
とは反対極性にかつ最初静電印刷用マスターに適用され
た電位に打ち勝つに十分に強く帯電されるであろう。約
5000〜約8000ボルトの電位を適用された単線コ
ロトロンが満足できる転写を与える。接着ビックオフ(
pickoff) は使用し得る像転写のもう1つの態
様である。静電転写法は高解像力を維持しながら最適の
像転写を得るのに好ましいものである。液体現像剤を用
いるとき、像転写のもっと一般的に好ましい方法は転写
部材を現像と表面接触させたとき接触圧を適用する方法
である。
表面から転写即ちコピーシートに転写して最終コピーを
得ることができる。転写操作を行うのに特に有用で一般
に好ましい方法は転写シートを像付着表面即ち静電印刷
表面と接触させ、電荷を転写シートの反対面に、例えば
、転写部材に対し並置させたコロナ放電電極または他の
同様な装置のような隣接のイオン源により適用すること
からなる静電転写法を含む。そのようなイオン源は静電
印刷過程の荷電工程中に用いた源と同じであり得、像付
着に関して高電位に維持する。コロナ放電が生じてイオ
ン化粒子の転写シートへの付着が起り、このイオン化粒
子は部材を帯電するように働く。転写部材は現像の極性
とは反対極性にかつ最初静電印刷用マスターに適用され
た電位に打ち勝つに十分に強く帯電されるであろう。約
5000〜約8000ボルトの電位を適用された単線コ
ロトロンが満足できる転写を与える。接着ビックオフ(
pickoff) は使用し得る像転写のもう1つの態
様である。静電転写法は高解像力を維持しながら最適の
像転写を得るのに好ましいものである。液体現像剤を用
いるとき、像転写のもっと一般的に好ましい方法は転写
部材を現像と表面接触させたとき接触圧を適用する方法
である。
任意の適当な材料を静電印刷過程での現像の転写または
受は入れシートとして使用できる。コピ材料は本質的に
絶嫌性あるいは部分的に伝導性であり得る。典型的な材
料にはポリエチレン、ポリ塩化ビニノペポリフフ化ビニ
ル、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、お
よび普通のポンド紙がある。
受は入れシートとして使用できる。コピ材料は本質的に
絶嫌性あるいは部分的に伝導性であり得る。典型的な材
料にはポリエチレン、ポリ塩化ビニノペポリフフ化ビニ
ル、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、お
よび普通のポンド紙がある。
転写または受は入れシートの表面に転写した像はその支
持体に任意の適当な手段、例えば、蒸気定着、加熱ロー
ル定着、フラッシュ定着、または調整量の熱による現像
のオープン定着によりあるいはラミネーティング法によ
り定着できる。好ましいのはトナー現像に対して加熱定
着技術を用いることであり、これは定着過程の高度の制
御を可能にするからである。液体現像剤を用いる場合、
定着は使用した比較的揮発性のキャリヤー液の蒸発を行
うことによって達成する。即ち、定着工程は静電複写像
形成において通常用いるのと同じであり得る。
持体に任意の適当な手段、例えば、蒸気定着、加熱ロー
ル定着、フラッシュ定着、または調整量の熱による現像
のオープン定着によりあるいはラミネーティング法によ
り定着できる。好ましいのはトナー現像に対して加熱定
着技術を用いることであり、これは定着過程の高度の制
御を可能にするからである。液体現像剤を用いる場合、
定着は使用した比較的揮発性のキャリヤー液の蒸発を行
うことによって達成する。即ち、定着工程は静電複写像
形成において通常用いるのと同じであり得る。
静電印刷用マスターは同一の連続像を正確に同じ領域に
形成するので、連続像形成サイクル間で静電潜像を消去
する必要はない。しかしながら、必要ならば、マスター
を通常の静電複写消去法によって任意に消去させてもよ
い。例えば、静電印刷用マスターの強力光への均一露光
によりマスターの像領域および非像領域の両方を放電す
る。消去に用い得る典型的な光強度は均一露光工程で用
いる光強度の約10倍から約300倍の範囲である。別
の周知方法は像形成表面をACコロナ放電にさらしてマ
スター上のすべての残留電荷を中和することを含む、A
Cコロナ消去装置のコロナ線に適用する典型的な電位は
約5〜約10キロボルトの範囲であり得る。
形成するので、連続像形成サイクル間で静電潜像を消去
する必要はない。しかしながら、必要ならば、マスター
を通常の静電複写消去法によって任意に消去させてもよ
い。例えば、静電印刷用マスターの強力光への均一露光
によりマスターの像領域および非像領域の両方を放電す
る。消去に用い得る典型的な光強度は均一露光工程で用
いる光強度の約10倍から約300倍の範囲である。別
の周知方法は像形成表面をACコロナ放電にさらしてマ
スター上のすべての残留電荷を中和することを含む、A
Cコロナ消去装置のコロナ線に適用する典型的な電位は
約5〜約10キロボルトの範囲であり得る。
必要ならば、静電印刷用マスターの表面はクリーニング
してもよい。静電複写像形成において通常使用する任意
の適当なりリーニング工程を用いて本発明の静電印刷用
マスターをクリーニングするのに使用できる。典型的な
周知の静電複写クリーニング法には、ブラシクリーニン
グ法、ウェブクリーニング法等がある。
してもよい。静電複写像形成において通常使用する任意
の適当なりリーニング工程を用いて本発明の静電印刷用
マスターをクリーニングするのに使用できる。典型的な
周知の静電複写クリーニング法には、ブラシクリーニン
グ法、ウェブクリーニング法等がある。
マスターから付着トナー像を受は入れ部材に転写したの
ち、マスターは、消去工程およびクリーニング工程無し
または有りで、追加の均一帯電、均一照射、現像および
転写の各工程によりサイクル操作して追加の像形成部は
入れ部材を形成できる。
ち、マスターは、消去工程およびクリーニング工程無し
または有りで、追加の均一帯電、均一照射、現像および
転写の各工程によりサイクル操作して追加の像形成部は
入れ部材を形成できる。
本発明のマイグレーション像形成部材は軟化性層からの
電荷移送分子のり−チングに対して抵抗性のある実施態
様を包含する。本発明のマイグレ−ジョン像形成部材は
また基体に対する各層の優れた接着性を示しそれによっ
て製造中、貯蔵中および使用中のはがれを回避する実施
態様も包含する。外側層がスチレン−エチルアクリレー
トコポリマーを含む実施態様においては、本発明のマイ
グレーション像形成部材はブロッキングなしで強くコイ
ル化できる。スチレン−エチルアクリレートコポリマー
を本発明のマイグレーション像形成部材の1以上の層に
含有させるのは像形成部材の機械的、熱的、化学的およ
び電気的性質に悪影響を及ぼすことなく行うことができ
る。
電荷移送分子のり−チングに対して抵抗性のある実施態
様を包含する。本発明のマイグレ−ジョン像形成部材は
また基体に対する各層の優れた接着性を示しそれによっ
て製造中、貯蔵中および使用中のはがれを回避する実施
態様も包含する。外側層がスチレン−エチルアクリレー
トコポリマーを含む実施態様においては、本発明のマイ
グレーション像形成部材はブロッキングなしで強くコイ
ル化できる。スチレン−エチルアクリレートコポリマー
を本発明のマイグレーション像形成部材の1以上の層に
含有させるのは像形成部材の機械的、熱的、化学的およ
び電気的性質に悪影響を及ぼすことなく行うことができ
る。
以下、本発明を特定の好ましい実施態様に関連して詳細
に説明するが、これらの実施例は単に例示を目的とし本
発明の範囲を限定するものでないことに留意されたい。
に説明するが、これらの実施例は単に例示を目的とし本
発明の範囲を限定するものでないことに留意されたい。
部およびパーセントは他に断わらない限り重量による。
実施例1
スチレンエチルアクリレートアクリル酸ターポリマー樹
脂(モンサンド社より入手できるRP−1215)の5
0重量%トルエン溶液をトルエンで希釈して5%(総重
量の)溶液を得た。このスチレンエチルアクリレートア
クリル酸ターポリマー樹脂は次の性質を有していたニア
4モル%のスチレン、25モル%のエチルアクリレート
、1モル%のアクリル酸、Mn 30xl Q:l 、
Mw 72×103、酸化8、’rg約65℃、および
115℃で約5X10’ボイズの溶融粘度。マイグレー
ション像形成フィルムは上記で調製した溶液を76μm
(3ミル)厚アルミニウム処理ポリエステル(IC
I社より入手できるメリネックスタイプ442)上に#
4メイヤーロッドを用いて手でコーティングすることに
よって作製した。コーティングしたフィルムは115℃
で5分間加熱アルミニウムブロックと接触させることに
よって乾燥させた。この接着層の乾燥厚は約0.3μm
であった。次の性質を存するスチレン−〇−へキシルメ
タクリレートコポリマーを3周製した二80モル%のス
チレンと20モル%のn−へキシルメタクリレート、M
n 12X103 、Mw 28X10’ 、酸
化0、Tg約51℃、および115℃での溶融粘度約3
X10’ボイズ。このスチレン−n−へキシルメタクリ
レートコポリマーをシクロヘキサン中に溶解して13.
5%(総重量の)溶液を得た。
脂(モンサンド社より入手できるRP−1215)の5
0重量%トルエン溶液をトルエンで希釈して5%(総重
量の)溶液を得た。このスチレンエチルアクリレートア
クリル酸ターポリマー樹脂は次の性質を有していたニア
4モル%のスチレン、25モル%のエチルアクリレート
、1モル%のアクリル酸、Mn 30xl Q:l 、
Mw 72×103、酸化8、’rg約65℃、および
115℃で約5X10’ボイズの溶融粘度。マイグレー
ション像形成フィルムは上記で調製した溶液を76μm
(3ミル)厚アルミニウム処理ポリエステル(IC
I社より入手できるメリネックスタイプ442)上に#
4メイヤーロッドを用いて手でコーティングすることに
よって作製した。コーティングしたフィルムは115℃
で5分間加熱アルミニウムブロックと接触させることに
よって乾燥させた。この接着層の乾燥厚は約0.3μm
であった。次の性質を存するスチレン−〇−へキシルメ
タクリレートコポリマーを3周製した二80モル%のス
チレンと20モル%のn−へキシルメタクリレート、M
n 12X103 、Mw 28X10’ 、酸
化0、Tg約51℃、および115℃での溶融粘度約3
X10’ボイズ。このスチレン−n−へキシルメタクリ
レートコポリマーをシクロヘキサン中に溶解して13.
5%(総重量の)溶液を得た。
トルエンの代りにシクロヘキサンを用いて接着層の溶解
を回避した。スチレン−〇−へキシルメタクリレートコ
ポリマー溶液を接着層上部に#10メイヤーロッドによ
り手でコーティングし、コーティングしたフィルムを再
び115℃で5分間乾燥させて像形成部材の軟化性層を
形成させた。乾燥軟化性層の厚さは約2μmであった。
を回避した。スチレン−〇−へキシルメタクリレートコ
ポリマー溶液を接着層上部に#10メイヤーロッドによ
り手でコーティングし、コーティングしたフィルムを再
び115℃で5分間乾燥させて像形成部材の軟化性層を
形成させた。乾燥軟化性層の厚さは約2μmであった。
軟化性層の温度を約115℃に上げて軟化性層露出表面
の粘度を約5X10’ボイズに低下させてマーキング材
料付着の準備とした。粒状ガラス質セレンの薄層を約4
X10’)−ルの真空に維持した真空チャンバー中で真
空蒸着により適用した。次いで、得られた像形成部材を
室温に急冷させた。スチレン−n−へキシルメタクリレ
ートコポリマーの露出表面下約0.05〜0.1μmに
埋め込まれた平均直径0.3μmを有するセレン粒子の
単分子層が形成された。得られた像形成部材は約1.8
5の極めて均一な光学密度を有していた。
の粘度を約5X10’ボイズに低下させてマーキング材
料付着の準備とした。粒状ガラス質セレンの薄層を約4
X10’)−ルの真空に維持した真空チャンバー中で真
空蒸着により適用した。次いで、得られた像形成部材を
室温に急冷させた。スチレン−n−へキシルメタクリレ
ートコポリマーの露出表面下約0.05〜0.1μmに
埋め込まれた平均直径0.3μmを有するセレン粒子の
単分子層が形成された。得られた像形成部材は約1.8
5の極めて均一な光学密度を有していた。
実施例2
追加のマイグレーション像形成部材を実施例1で記載し
たのと同じ材料および条件によって作製したが、接着層
は適用しなかった。得られた像形成部材は約1.85の
極めて均一な光学密度を有していた。これらの追加の像
形成部材は比較目的の対照として用いた。
たのと同じ材料および条件によって作製したが、接着層
は適用しなかった。得られた像形成部材は約1.85の
極めて均一な光学密度を有していた。これらの追加の像
形成部材は比較目的の対照として用いた。
実施例3
上記で作製した各マイグレーション像形成部材(1組は
実施例1で記載したような接着層を含み、他の1組は実
施例2で記載した対照である)を約−200ボルトへの
負コロナ帯電、約3エルグ/clI!の400nm光に
よる像形成的露光、および加熱アルミニウムブロックと
の接触による115℃、5分間の加熱現像によって像形
成させた。2つの組のマイグレーション像形成部材の像
の解像力および光学対比密度のような像形成特性は本質
的に同じであった。換言すれば、本発明の接着層を含む
マイグレーション像形成部材の像形成特性は接着層を有
しない現存の高品質マイグレーション像形成部材と比較
して本質的に変化してなかった。
実施例1で記載したような接着層を含み、他の1組は実
施例2で記載した対照である)を約−200ボルトへの
負コロナ帯電、約3エルグ/clI!の400nm光に
よる像形成的露光、および加熱アルミニウムブロックと
の接触による115℃、5分間の加熱現像によって像形
成させた。2つの組のマイグレーション像形成部材の像
の解像力および光学対比密度のような像形成特性は本質
的に同じであった。換言すれば、本発明の接着層を含む
マイグレーション像形成部材の像形成特性は接着層を有
しない現存の高品質マイグレーション像形成部材と比較
して本質的に変化してなかった。
実施例4
上記で作製した各マイグレーション像形成部材(1つの
組は実施例1で記載したような接着層を含み、他の組は
実施例2で記載したような対照である)を巻き締め試験
におけるはがれに対する抵抗性について試験した。巻き
締め試験を行うために、接着層を含むマイグレーション
像形成部材セットからおよび対照セットからの約1.2
7cmX25.4cffl(約0.5インチ×10イン
チ)の各ストリップを作製し、その後、0.32cm(
1/8インチ)直径の合せピンの周りに714 g/c
s (41b/インチ)の適用張力によって強く巻き付
けた(軟化性層側面内側から)。これらの同一試験条件
下では、接着層を含むマイグレーション像形成部材にお
いてはこの実施例1の巻き付はマイグレーション像形成
部材を少なくとも5週間後に巻き戻したときにはがれは
見られなかったのに対し、対照のマイグレーション像形
成部材においてはわずかに48時間後の巻き戻し時にお
いて全体的なはがれが起った。別の試験において、実施
例1および2からの各マイグレーション像形成部材を、
スコッチ商標の接着テープ(3M社より入手できる#6
00)の6インチ(15,24cm)ストリップの半分
を軟化性層に適用し、他端を軟化性表面から垂直に引き
離すという極めて厳しい接着テープ試験に供した。接着
層を含むマイグレーション像形成部材はこの接着テープ
試験に耐えることができたが、対照のマイグレーション
像形成部材の軟化性層は接着テープによりはく離した。
組は実施例1で記載したような接着層を含み、他の組は
実施例2で記載したような対照である)を巻き締め試験
におけるはがれに対する抵抗性について試験した。巻き
締め試験を行うために、接着層を含むマイグレーション
像形成部材セットからおよび対照セットからの約1.2
7cmX25.4cffl(約0.5インチ×10イン
チ)の各ストリップを作製し、その後、0.32cm(
1/8インチ)直径の合せピンの周りに714 g/c
s (41b/インチ)の適用張力によって強く巻き付
けた(軟化性層側面内側から)。これらの同一試験条件
下では、接着層を含むマイグレーション像形成部材にお
いてはこの実施例1の巻き付はマイグレーション像形成
部材を少なくとも5週間後に巻き戻したときにはがれは
見られなかったのに対し、対照のマイグレーション像形
成部材においてはわずかに48時間後の巻き戻し時にお
いて全体的なはがれが起った。別の試験において、実施
例1および2からの各マイグレーション像形成部材を、
スコッチ商標の接着テープ(3M社より入手できる#6
00)の6インチ(15,24cm)ストリップの半分
を軟化性層に適用し、他端を軟化性表面から垂直に引き
離すという極めて厳しい接着テープ試験に供した。接着
層を含むマイグレーション像形成部材はこの接着テープ
試験に耐えることができたが、対照のマイグレーション
像形成部材の軟化性層は接着テープによりはく離した。
これらの試験条件は実際の使用条件において遭遇するよ
うな条件よりも数倍も厳しいもの、例えば、巻き締め試
験は製造および実際の使用条件中に遭遇する張力よりも
数倍高い張力で行ったものであるが、接着層を含むマイ
グレーション像形成部材には劣下は生じなかった。
うな条件よりも数倍も厳しいもの、例えば、巻き締め試
験は製造および実際の使用条件中に遭遇する張力よりも
数倍高い張力で行ったものであるが、接着層を含むマイ
グレーション像形成部材には劣下は生じなかった。
実施例5
追加のマイグレーション像形成部材を実施例1で記載し
たのと同じ材料および条件を用いて作製したが、接着層
として、イソシアネート硬化剤(E、 r、デュポン社
より入手できるRC−803)でドーピングしたポリエ
ステル接着剤(49001、これもE、 1.デュポン
社より入手できる)をスチレンエチルアクリレートアク
リル酸ターポリマーの代りに用いた。ポリエステル接着
剤とイソシアネート硬化剤はメチルエチルケトン溶媒に
溶解させアルミニウム処理ポリエステル基体上に手でコ
ーティングした。ポリエステル接着剤とイソシアネート
硬化剤は厚さ約0.3μmを有する乾燥層を形成した。
たのと同じ材料および条件を用いて作製したが、接着層
として、イソシアネート硬化剤(E、 r、デュポン社
より入手できるRC−803)でドーピングしたポリエ
ステル接着剤(49001、これもE、 1.デュポン
社より入手できる)をスチレンエチルアクリレートアク
リル酸ターポリマーの代りに用いた。ポリエステル接着
剤とイソシアネート硬化剤はメチルエチルケトン溶媒に
溶解させアルミニウム処理ポリエステル基体上に手でコ
ーティングした。ポリエステル接着剤とイソシアネート
硬化剤は厚さ約0.3μmを有する乾燥層を形成した。
最終像形成部材は微結晶または凝集物の徴候もなく極め
て均一な光学密度を有していた。
て均一な光学密度を有していた。
この像形成部材は実施例1で記載したような像形成部材
との比較目的の対照として用いた。作製した各マイグレ
ーション像形成部材(1つの組は実施例1で記載したよ
うなスチレンエチルアクリレートアクリル酸接着層を含
み、もう1つの組はポリエステル接着層を含む)を約−
200ボルトへの負コロナ荷電、約3エルグ/ am
2の400nm光により像形成的露光、および加熱アル
ミニウムブロックとの接触による115℃、5分間の加
熱現像により像形成させた。対照のマイグレーション像
形成部材の像の光学対比密度は実施例1で記載したスチ
レンエチルアクリレートアクリル酸接着層を含む部材の
光学対比密度(Dminは約0.72であった)に較べ
てDminの増大(Dminは約1、3であった)に基
づき厳しく低下していた。さらに、乾燥ポリエステル接
着層のむしろ低いTg(約28℃)のために、この材料
は幾分粘着性でアリ、ジルス(Dilts)コーター上
での作製中フィルムラロール上に強く巻くときフィルム
の若干のブロッキングを生じた。
との比較目的の対照として用いた。作製した各マイグレ
ーション像形成部材(1つの組は実施例1で記載したよ
うなスチレンエチルアクリレートアクリル酸接着層を含
み、もう1つの組はポリエステル接着層を含む)を約−
200ボルトへの負コロナ荷電、約3エルグ/ am
2の400nm光により像形成的露光、および加熱アル
ミニウムブロックとの接触による115℃、5分間の加
熱現像により像形成させた。対照のマイグレーション像
形成部材の像の光学対比密度は実施例1で記載したスチ
レンエチルアクリレートアクリル酸接着層を含む部材の
光学対比密度(Dminは約0.72であった)に較べ
てDminの増大(Dminは約1、3であった)に基
づき厳しく低下していた。さらに、乾燥ポリエステル接
着層のむしろ低いTg(約28℃)のために、この材料
は幾分粘着性でアリ、ジルス(Dilts)コーター上
での作製中フィルムラロール上に強く巻くときフィルム
の若干のブロッキングを生じた。
実施例6
静電印刷用マスタープレカーサ一部材を、次のKf’l
JI’ : 80モル%のスチレンと20モル%のn−
へキシルメタクリレート、Mn12X103、Mn2X
103、酸価0.Tg約51℃、および115℃での溶
融粘度約3X10’ポイズを有するスチレン−n−へキ
シルメタクリレートコボリマー約10重1%とN、
N’−ジフェニル−N。
JI’ : 80モル%のスチレンと20モル%のn−
へキシルメタクリレート、Mn12X103、Mn2X
103、酸価0.Tg約51℃、および115℃での溶
融粘度約3X10’ポイズを有するスチレン−n−へキ
シルメタクリレートコボリマー約10重1%とN、
N’−ジフェニル−N。
N′−ビス(3′−メチルフェニル)−(1,1’−ビ
フェニル)−4,4’−ジアミン約2.4重量%をトル
エン約87.6重量%(溶液の総重量基準)に溶解させ
ることによって作製した。得られた溶液をNα10ワイ
ヤー巻きロッドを用いて薄い半透明アルミニウムコーテ
ィングを有する12インチ(30,5cm)幅の76+
nm(3ミル)のマイラーポリエステルフィルム(ε、
1.デュポン社より入手できる)に適用した。付着軟化
性層を約115℃で5分間乾燥させて厚さ約3.5μm
を有する乾燥層を形成させた。軟化性層の温度を約11
5℃に上げて軟化性層露出表面の粘度を約5X10’ポ
イズに低下させマーキング材料付着の準備とした。
フェニル)−4,4’−ジアミン約2.4重量%をトル
エン約87.6重量%(溶液の総重量基準)に溶解させ
ることによって作製した。得られた溶液をNα10ワイ
ヤー巻きロッドを用いて薄い半透明アルミニウムコーテ
ィングを有する12インチ(30,5cm)幅の76+
nm(3ミル)のマイラーポリエステルフィルム(ε、
1.デュポン社より入手できる)に適用した。付着軟化
性層を約115℃で5分間乾燥させて厚さ約3.5μm
を有する乾燥層を形成させた。軟化性層の温度を約11
5℃に上げて軟化性層露出表面の粘度を約5X10’ポ
イズに低下させマーキング材料付着の準備とした。
次いで、粒状ガラス質セレン薄層を約4 X 10−’
トールの真空に維持した真空チャンバー内で真空蒸着に
よって適用した。像形を部材を次いで室温に急冷させた
。上記コポリマーの露出表面下の約0.05〜0.1μ
mに埋め込まれた平均直径約0.3μmを有するセレン
粒子の赤色単分子層が形成された。得られた像形成部材
は極めて均一な光学密度を有していた。
トールの真空に維持した真空チャンバー内で真空蒸着に
よって適用した。像形を部材を次いで室温に急冷させた
。上記コポリマーの露出表面下の約0.05〜0.1μ
mに埋め込まれた平均直径約0.3μmを有するセレン
粒子の赤色単分子層が形成された。得られた像形成部材
は極めて均一な光学密度を有していた。
実施例7
静電印刷用マスタープレカーサ一部材を作製したが、そ
の軟化性層は次の性質ニア4モル%のスチレン、25モ
ル%のエチルアクリレートおよび1モル%のアクリル酸
、Mn 30X103、Mw72×103、酸価8、’
rg約65℃、および115°Cでの溶融粘度約5X1
0’を有するスチレンエチルアクリレートアクリル酸タ
ーポリマー樹脂を含んでいた。スチレンエチルアクリレ
ートアクリル酸ターポリマー樹脂はモンサント社からR
P1215として50重重量トルエン溶液で入手できた
。約87.6重量%のトルエン中の約10重量%の上記
スチレンエチルアクリレートアクリル酸ターポリマーと
約2.4重量%のN、N’−ジフェニル−N、N’−ビ
ス(3″−メチルフェニル)−(1,1’−ビフェニル
)−4,4’−ジアミンとからなる溶液を調製した(成
分割合はいずれも溶液総重量基準)。得られた溶液を隘
10ワイヤー巻きロッドを用いて薄い半透明アルミニウ
ムコーティングを有する12インチ(30,5cm)幅
の76μm (3ミル)マイラーポリエステルフィル
ム(E、1.デュポン社より入手できる)に適用した。
の軟化性層は次の性質ニア4モル%のスチレン、25モ
ル%のエチルアクリレートおよび1モル%のアクリル酸
、Mn 30X103、Mw72×103、酸価8、’
rg約65℃、および115°Cでの溶融粘度約5X1
0’を有するスチレンエチルアクリレートアクリル酸タ
ーポリマー樹脂を含んでいた。スチレンエチルアクリレ
ートアクリル酸ターポリマー樹脂はモンサント社からR
P1215として50重重量トルエン溶液で入手できた
。約87.6重量%のトルエン中の約10重量%の上記
スチレンエチルアクリレートアクリル酸ターポリマーと
約2.4重量%のN、N’−ジフェニル−N、N’−ビ
ス(3″−メチルフェニル)−(1,1’−ビフェニル
)−4,4’−ジアミンとからなる溶液を調製した(成
分割合はいずれも溶液総重量基準)。得られた溶液を隘
10ワイヤー巻きロッドを用いて薄い半透明アルミニウ
ムコーティングを有する12インチ(30,5cm)幅
の76μm (3ミル)マイラーポリエステルフィル
ム(E、1.デュポン社より入手できる)に適用した。
付着軟化性層を約115℃で5分間乾燥させて厚さ約3
.5μmを有する乾燥層を形成させた。
.5μmを有する乾燥層を形成させた。
軟化性層の温度を約115℃に上げて軟化性層露出表面
の粘度を約5XIQ”ボイズに低下させてマーキング材
料の付着の準備とした。次いで、粒状ガラス質セレン薄
層を約4X10−’トールの真空に維持した真空チャン
バー内での真空蒸着によって適用した。像形成部材を次
いで室温に急冷させた。軟化性層の露光表面下約0.0
5〜0.1μmに埋め込まれた平均粒度約0.3μmを
有するセレン粒子の赤色単分子層が形成された。得られ
た像形成部材は微結晶または凝集の徴候のない極めて均
一な光学密度を有していた。
の粘度を約5XIQ”ボイズに低下させてマーキング材
料の付着の準備とした。次いで、粒状ガラス質セレン薄
層を約4X10−’トールの真空に維持した真空チャン
バー内での真空蒸着によって適用した。像形成部材を次
いで室温に急冷させた。軟化性層の露光表面下約0.0
5〜0.1μmに埋め込まれた平均粒度約0.3μmを
有するセレン粒子の赤色単分子層が形成された。得られ
た像形成部材は微結晶または凝集の徴候のない極めて均
一な光学密度を有していた。
実施例8
実施例6および7の各像形成部材をイソパラフィン炭化
水素(アイソバールし、これは普通に使用される静電複
写現体現像剤キャリヤーであり、エクソン社より入手で
きる)中に24時間浸浸した。浸し前後のU■吸収スペ
クトルとFTIRスペクトルを記録させた。99重量%
以上のN、N’−ジフェニル−ビス(3′−メチルフェ
ニル)=(1,1’−ビフェニル)−4,4’−ジアミ
ンが実施例6のマイグレーション像形成部材のスチレン
−n−へキシルメタクリレートコポリマー軟化性層から
はわずかに24時間後にリーチングしてしまったのに対
し、実施例7のマイグレーション像形成部材のスチレン
エチルアクリレートアクリル酸ターポリマー軟化性層に
おいては95重重量以上のN、N’−ジフェニル−N、
N’−ビス(3“−メチルフェニル)−(1,1’−ビ
フェニル)−4,4’−ジアミンが4週間後でさえも残
存していることが判った。
水素(アイソバールし、これは普通に使用される静電複
写現体現像剤キャリヤーであり、エクソン社より入手で
きる)中に24時間浸浸した。浸し前後のU■吸収スペ
クトルとFTIRスペクトルを記録させた。99重量%
以上のN、N’−ジフェニル−ビス(3′−メチルフェ
ニル)=(1,1’−ビフェニル)−4,4’−ジアミ
ンが実施例6のマイグレーション像形成部材のスチレン
−n−へキシルメタクリレートコポリマー軟化性層から
はわずかに24時間後にリーチングしてしまったのに対
し、実施例7のマイグレーション像形成部材のスチレン
エチルアクリレートアクリル酸ターポリマー軟化性層に
おいては95重重量以上のN、N’−ジフェニル−N、
N’−ビス(3“−メチルフェニル)−(1,1’−ビ
フェニル)−4,4’−ジアミンが4週間後でさえも残
存していることが判った。
実施例9
実施例8で記載した各マイグレーション像形成部材を、
アイソバールL浸没処理後、電気的に接地した平坦金属
プレートに貼り付は正コロナ荷電によって+300ボル
トの電位に帯電させ、15エルグ/ an ”の強度を
有する活性化用照射に露光させた。帯電および露光の各
工程を1000サイクル繰返した。軟化性層中にスチレ
ンエチルアクリレートアクリル酸ターポリマーを含むマ
イグレーション像形成部材は露光時に+300ボルトの
電荷アクセプタンスと約+30ボルトの背景電位を有し
ていることが判り、その電気的サイクル操作特性は極め
て安定していた。軟化性層中にスチレンヘキシルメタク
リレートコポリマーを有するマイグレーション像形成部
材は軟化性層からアイソバールLへの電荷移送分子の全
体的な減損によるはげしい光放電並びに軟化性層中での
電荷捕捉による厳しいサイクルアップを示すことが観察
された。
アイソバールL浸没処理後、電気的に接地した平坦金属
プレートに貼り付は正コロナ荷電によって+300ボル
トの電位に帯電させ、15エルグ/ an ”の強度を
有する活性化用照射に露光させた。帯電および露光の各
工程を1000サイクル繰返した。軟化性層中にスチレ
ンエチルアクリレートアクリル酸ターポリマーを含むマ
イグレーション像形成部材は露光時に+300ボルトの
電荷アクセプタンスと約+30ボルトの背景電位を有し
ていることが判り、その電気的サイクル操作特性は極め
て安定していた。軟化性層中にスチレンヘキシルメタク
リレートコポリマーを有するマイグレーション像形成部
材は軟化性層からアイソバールLへの電荷移送分子の全
体的な減損によるはげしい光放電並びに軟化性層中での
電荷捕捉による厳しいサイクルアップを示すことが観察
された。
実施例10
実施例7で記載した作製マイグレーション像形成部材を
、約+410ボルトへの正コロナ荷電によって像形成し
、正シルバー像を接触させることにより像形成的に露光
し蒸気および加熱処理の組合せにより現像した。この現
像処理は像形成部材を蒸気室中のメチルエチルケトン溶
媒蒸気へ約40秒間均一に露出することによって予備処
理し、その後、ポリエステル基体と接触させたホットプ
レート上で約115℃に約5秒間加熱する各工程を含ん
でいた。優れた検品質と約0.9の光学対比密度(D
max約1.22、D min約0.32)とを有する
光学的に符号逆転像を得た。I)min領域(未露光)
は軟化性層中のセレン粒子の少数であるが大きい粒子へ
の凝集、融合に基づいていた。この静電印刷用マスター
を次いで裸ドラムに貼り付け、自動複写器の元の感光体
ドラムと置き換えた。次に、この静電印刷用マスターを
正コロナ荷電によって約+400ボルトの電位に帯電さ
せフラッシュ照射に均一に露光して静電潜像を形成させ
た。
、約+410ボルトへの正コロナ荷電によって像形成し
、正シルバー像を接触させることにより像形成的に露光
し蒸気および加熱処理の組合せにより現像した。この現
像処理は像形成部材を蒸気室中のメチルエチルケトン溶
媒蒸気へ約40秒間均一に露出することによって予備処
理し、その後、ポリエステル基体と接触させたホットプ
レート上で約115℃に約5秒間加熱する各工程を含ん
でいた。優れた検品質と約0.9の光学対比密度(D
max約1.22、D min約0.32)とを有する
光学的に符号逆転像を得た。I)min領域(未露光)
は軟化性層中のセレン粒子の少数であるが大きい粒子へ
の凝集、融合に基づいていた。この静電印刷用マスター
を次いで裸ドラムに貼り付け、自動複写器の元の感光体
ドラムと置き換えた。次に、この静電印刷用マスターを
正コロナ荷電によって約+400ボルトの電位に帯電さ
せフラッシュ照射に均一に露光して静電潜像を形成させ
た。
この静電潜像を液体現像剤によってトナー付し付着トナ
ー像を形成させた。液体現像剤は約2重量%のカーボン
ブランク着色ポリエチレンアクリル酸樹脂と約98重量
%のアイソバールLを含んでいた。付着トナー像を祇シ
ートに転写し定着させで極めて良好な静電プリント(正
)を得た。この静電印刷過程を極めて良好な結果で少な
くとも1000回繰返した。
ー像を形成させた。液体現像剤は約2重量%のカーボン
ブランク着色ポリエチレンアクリル酸樹脂と約98重量
%のアイソバールLを含んでいた。付着トナー像を祇シ
ートに転写し定着させで極めて良好な静電プリント(正
)を得た。この静電印刷過程を極めて良好な結果で少な
くとも1000回繰返した。
実施例11
静電印刷用マスタープレカーサ一部材を作製したが、そ
の軟化性層は次の性質=48モル%のスチレン、50モ
ル%のエチルアクリレートおよび2モル%のアクリル酸
、Mn 21XI O’ 、M御54×103、酸価1
5、Tg約36℃、および115℃での溶融粘度約5X
10”を有するスチレンエチルアクリレートアクリル酸
ターポリマー樹脂を含んでいた。このスチレンエチルア
クリレートアクリル酸ターポリマー樹脂はデサト社から
E−335(50重壁量のトルエン/キシレン溶液)と
して入手できた。約87.6重量%のトルエン/キシレ
ン中の約10重量%の上記スチレン、エチルアクリレー
トアクリル酸ターポリマーと約2゜4重■%のN、N’
−ジフェニル−N、N’−ビス(3#−メチルフェニル
)−(1,1’−ビフェニル)−4,4’−ジアミンと
からなる溶液を調製した(成分割合はいずれも溶液総重
量基準)。
の軟化性層は次の性質=48モル%のスチレン、50モ
ル%のエチルアクリレートおよび2モル%のアクリル酸
、Mn 21XI O’ 、M御54×103、酸価1
5、Tg約36℃、および115℃での溶融粘度約5X
10”を有するスチレンエチルアクリレートアクリル酸
ターポリマー樹脂を含んでいた。このスチレンエチルア
クリレートアクリル酸ターポリマー樹脂はデサト社から
E−335(50重壁量のトルエン/キシレン溶液)と
して入手できた。約87.6重量%のトルエン/キシレ
ン中の約10重量%の上記スチレン、エチルアクリレー
トアクリル酸ターポリマーと約2゜4重■%のN、N’
−ジフェニル−N、N’−ビス(3#−メチルフェニル
)−(1,1’−ビフェニル)−4,4’−ジアミンと
からなる溶液を調製した(成分割合はいずれも溶液総重
量基準)。
得られた溶液をNl1IOワイヤー巻きロンドを用いて
薄い半透明アルミニウムコーティングを有する12イン
チ(30,5cm)幅の102μm (4ミル)厚の
ポリエステルフィルムに適用した。付着軟化性層を約1
10℃で15分間乾燥させて厚さ約3.5μmを有する
乾燥層を形成させた。軟化性層の温度を約115℃に上
げて軟化性層露出表面の粘度を約5X10’ポイズに低
下させてマーキング材料の付着の準備とした。次いで、
粒状ガラス質セレン薄層を約4X10−’)−ルの真空
に維持した真空チャンバー内での真空蒸着によって適用
した。像形成部材を次いで室温に急冷させた。コポリマ
ーの露光表面下約0.05〜0.1μmに埋め込まれた
平均粒度約0.3μmを有するセレン粒子の赤色単分子
層が形成された。得られた像形成部材は極めて均一な光
学密度を存していた。
薄い半透明アルミニウムコーティングを有する12イン
チ(30,5cm)幅の102μm (4ミル)厚の
ポリエステルフィルムに適用した。付着軟化性層を約1
10℃で15分間乾燥させて厚さ約3.5μmを有する
乾燥層を形成させた。軟化性層の温度を約115℃に上
げて軟化性層露出表面の粘度を約5X10’ポイズに低
下させてマーキング材料の付着の準備とした。次いで、
粒状ガラス質セレン薄層を約4X10−’)−ルの真空
に維持した真空チャンバー内での真空蒸着によって適用
した。像形成部材を次いで室温に急冷させた。コポリマ
ーの露光表面下約0.05〜0.1μmに埋め込まれた
平均粒度約0.3μmを有するセレン粒子の赤色単分子
層が形成された。得られた像形成部材は極めて均一な光
学密度を存していた。
実施例12
静電印刷用マスタープレカーサ一部材を作製したが、そ
の軟化性層は、次の性質=48モル%のスチレン、50
モル%のエチルアクリレートおよび2モル%のアクリル
酸、Mn 26X10’ 、Mw49X103、酸価1
8およびTg約65℃を有するスチレンエチルアクリレ
ートアクリル酸ターポリマー樹脂を含んでいた。このス
チレンエチルアクリレートアクリル酸ターポリマー樹脂
はデサト社からE−048(50重量%のトルエン/キ
シレン溶液)として入手できた。約87.6重量%のト
ルエン/キシレン中の約10重量%の上記スチレンエチ
ルアクリレートアクリル酸ターポリマーと約2.4重足
%のN、N’−ジフェニル−N。
の軟化性層は、次の性質=48モル%のスチレン、50
モル%のエチルアクリレートおよび2モル%のアクリル
酸、Mn 26X10’ 、Mw49X103、酸価1
8およびTg約65℃を有するスチレンエチルアクリレ
ートアクリル酸ターポリマー樹脂を含んでいた。このス
チレンエチルアクリレートアクリル酸ターポリマー樹脂
はデサト社からE−048(50重量%のトルエン/キ
シレン溶液)として入手できた。約87.6重量%のト
ルエン/キシレン中の約10重量%の上記スチレンエチ
ルアクリレートアクリル酸ターポリマーと約2.4重足
%のN、N’−ジフェニル−N。
N′−ビス(3“−メチルフェニル)−(1,1’−ビ
フェニル)−4,4’−ジアミンとからなる溶液を調製
した(成分割合はいずれも溶?g、総重量基準)。得ら
れた溶液を階10ワイヤー巻きロンドを用いて薄い半透
明アルミニウムコーティングを有する12インチ(30
,5cm)幅で102μm(4ミル)厚のポリエステル
フィルムに適用した。
フェニル)−4,4’−ジアミンとからなる溶液を調製
した(成分割合はいずれも溶?g、総重量基準)。得ら
れた溶液を階10ワイヤー巻きロンドを用いて薄い半透
明アルミニウムコーティングを有する12インチ(30
,5cm)幅で102μm(4ミル)厚のポリエステル
フィルムに適用した。
付着軟化性層を約110℃で15分間乾燥させて厚さ約
3.5μmを有する乾燥層を形成させた。軟化性層の温
度を約115°Cに上げて軟化性層露出表面の粘度を約
5X103ポイズに低下させてマーキング材料の付着の
準備とした。次いで、粒状ガラス質セレン薄層を約4X
10−’トールの真空に維持した真空チャンバー内での
真空蒸着によって適用した。像形成部材を次いで室温に
急冷させた。コポリマーの露光表面下約0.05〜0.
1μmに埋め込まれた平均粒度約0.3μmを有するセ
レン粒子の赤色単分子層が形成された。得られた像形成
部材は極めて均一な光学密度を有していた。
3.5μmを有する乾燥層を形成させた。軟化性層の温
度を約115°Cに上げて軟化性層露出表面の粘度を約
5X103ポイズに低下させてマーキング材料の付着の
準備とした。次いで、粒状ガラス質セレン薄層を約4X
10−’トールの真空に維持した真空チャンバー内での
真空蒸着によって適用した。像形成部材を次いで室温に
急冷させた。コポリマーの露光表面下約0.05〜0.
1μmに埋め込まれた平均粒度約0.3μmを有するセ
レン粒子の赤色単分子層が形成された。得られた像形成
部材は極めて均一な光学密度を有していた。
実施例13
実施例6.11および12の各像形成部材をイソパラフ
ィン炭化水素(アイソバールし、これは普通に使用され
る静電複写現体現像剤キャリヤーであり、エクソン社よ
り入手できる)中に24時間浸漬した。アイソバールL
での浸潤前後のU■吸収スペクトルとFTIRスペクト
ルを記録させた。99重量%以上のN、N’−ジフェニ
ル−ビス(3“−メチルフェニル)−(1,1’−ビフ
ェニル)−4,4’−ジアミンが実施例6のマイグレー
ション像形成部材のスチレン−n−へキシルメタクリレ
ートコポリマー軟化性層からはわずかに24時間後にリ
ーチングしてしまったのに対し、実施例11のマイグレ
ーション像形成部材のスチレンエチルアクリレートアク
リル酸ターポリマー軟化性層においては95重世%のN
、N’−ジフェニル−N、N’−ビス(3′−メチルフ
ェニル)−(1,1’−ビフェニル)−4,4’−ジア
ミンが残存し、実施例12のスチレンアクリレートコポ
リマーによっては約96重量%が残存していた。
ィン炭化水素(アイソバールし、これは普通に使用され
る静電複写現体現像剤キャリヤーであり、エクソン社よ
り入手できる)中に24時間浸漬した。アイソバールL
での浸潤前後のU■吸収スペクトルとFTIRスペクト
ルを記録させた。99重量%以上のN、N’−ジフェニ
ル−ビス(3“−メチルフェニル)−(1,1’−ビフ
ェニル)−4,4’−ジアミンが実施例6のマイグレー
ション像形成部材のスチレン−n−へキシルメタクリレ
ートコポリマー軟化性層からはわずかに24時間後にリ
ーチングしてしまったのに対し、実施例11のマイグレ
ーション像形成部材のスチレンエチルアクリレートアク
リル酸ターポリマー軟化性層においては95重世%のN
、N’−ジフェニル−N、N’−ビス(3′−メチルフ
ェニル)−(1,1’−ビフェニル)−4,4’−ジア
ミンが残存し、実施例12のスチレンアクリレートコポ
リマーによっては約96重量%が残存していた。
実施例14
実施例11で記載したように作製したマイグレーション
像形成部材を、約−340ボルトへ表面電位への負コロ
トロン荷電、負シルバー像への像形成的露光および11
5℃で5秒間の加熱現像により処理して静電印刷用マス
ターを形成させた。
像形成部材を、約−340ボルトへ表面電位への負コロ
トロン荷電、負シルバー像への像形成的露光および11
5℃で5秒間の加熱現像により処理して静電印刷用マス
ターを形成させた。
優れた像品質と約1.9の光学対比密度(D max約
1.76、Dmin約0.60)とを有する光学的に符
号保持性像を得た。Dmin領域(露光)はポリマーマ
トリックス中に分散した移行表面下セレン粒子によって
いた。次いで、この静電印刷用マスターを正コロナ荷電
によって約+400ボルトの電位に均一に帯電させ、約
15エルグ/ crlの400nmの活性化照射に均一
に露光させた。+42ボルトと+242ボルトの表面電
位が、それぞれ、Dmaxおよび[)min領域におい
て観察され、杓子200ボルトの静電対比電位が得られ
た。加熱現像した静電印刷用マスターの[)maxとD
min領域の均一正帯電および均一露光の各工程を数1
00回繰返した。この静電印刷用マスターは約2〜5ボ
ルト/秒の低暗減衰でもって極めて良好な電気サイクル
安定性を示した。
1.76、Dmin約0.60)とを有する光学的に符
号保持性像を得た。Dmin領域(露光)はポリマーマ
トリックス中に分散した移行表面下セレン粒子によって
いた。次いで、この静電印刷用マスターを正コロナ荷電
によって約+400ボルトの電位に均一に帯電させ、約
15エルグ/ crlの400nmの活性化照射に均一
に露光させた。+42ボルトと+242ボルトの表面電
位が、それぞれ、Dmaxおよび[)min領域におい
て観察され、杓子200ボルトの静電対比電位が得られ
た。加熱現像した静電印刷用マスターの[)maxとD
min領域の均一正帯電および均一露光の各工程を数1
00回繰返した。この静電印刷用マスターは約2〜5ボ
ルト/秒の低暗減衰でもって極めて良好な電気サイクル
安定性を示した。
実施例15
静電印刷用マスターを実施例14で記載したようにして
作製した。次いで、この静電印刷用マスターを裸のドラ
ムに貼り付け、自動被複機の元の感光体ドラムと置き換
えた。続いて、静電印刷用マスターを正コロナ荷電によ
って約+400ボルトの電位に帯電させフラッンユ照射
に均一に露光させて静電潜像を形成させた。この静電潜
像を液体現像剤でトナー付して付着トナー像を形成させ
た。液体現像剤は約2重世%のカーボンブラック顔料着
色ポリエチレンアクリル樹脂と約98重量%のアイソバ
ールLを含んでいた。付着トナー像を紙シートに転写し
定着させて極めて良好な静電プリント(正)を得た。こ
の静電印刷工程を極めて良好な結果でもって少なくとも
1000回繰返した。
作製した。次いで、この静電印刷用マスターを裸のドラ
ムに貼り付け、自動被複機の元の感光体ドラムと置き換
えた。続いて、静電印刷用マスターを正コロナ荷電によ
って約+400ボルトの電位に帯電させフラッンユ照射
に均一に露光させて静電潜像を形成させた。この静電潜
像を液体現像剤でトナー付して付着トナー像を形成させ
た。液体現像剤は約2重世%のカーボンブラック顔料着
色ポリエチレンアクリル樹脂と約98重量%のアイソバ
ールLを含んでいた。付着トナー像を紙シートに転写し
定着させて極めて良好な静電プリント(正)を得た。こ
の静電印刷工程を極めて良好な結果でもって少なくとも
1000回繰返した。
実施例16
実施例11で記載したようにして作製したマイグレーシ
ョン像形成部材を、約+440ボルトの表面電位への正
コロトロン荷電、正シルバー像を接触させることにより
像形成的露光、および蒸気および加熱処理法との組合せ
による現像によって処理して静電印刷用マスターを形成
させた。上記現像処理は像形成部材を蒸気室中のメチル
エチルケトン溶媒蒸気へ約40秒間均一に露光すること
によって予備処理し、その後、ポリエステル基体と接触
させたホットプレート上で約115℃に約5秒間加熱さ
せる各工程を含んでいた。優れた像品質と約0.86の
光学対比密度(D+nax約1.12、Dmin約0.
26)とを有する光学的に符号逆転像を得た。Dmin
領域(未露光)は軟化性層中のセレン粒子の少数である
が大きい粒子への実質的な凝集と融合に基づいていた。
ョン像形成部材を、約+440ボルトの表面電位への正
コロトロン荷電、正シルバー像を接触させることにより
像形成的露光、および蒸気および加熱処理法との組合せ
による現像によって処理して静電印刷用マスターを形成
させた。上記現像処理は像形成部材を蒸気室中のメチル
エチルケトン溶媒蒸気へ約40秒間均一に露光すること
によって予備処理し、その後、ポリエステル基体と接触
させたホットプレート上で約115℃に約5秒間加熱さ
せる各工程を含んでいた。優れた像品質と約0.86の
光学対比密度(D+nax約1.12、Dmin約0.
26)とを有する光学的に符号逆転像を得た。Dmin
領域(未露光)は軟化性層中のセレン粒子の少数である
が大きい粒子への実質的な凝集と融合に基づいていた。
次いで、この静電印刷用マスターを正コロナ荷電により
約+440ボルトの電位に均一に帯電させ、約15エル
グ/c[IIの440nmの活性化用照射に均一に露光
させた。
約+440ボルトの電位に均一に帯電させ、約15エル
グ/c[IIの440nmの活性化用照射に均一に露光
させた。
約+50ボルトと+270ボルトの表面電位がDmax
領域とDmin領域とにおいてそれぞれ観察され、約+
220ボルトの静電対比電位を得た。
領域とDmin領域とにおいてそれぞれ観察され、約+
220ボルトの静電対比電位を得た。
蒸気/加熱現像したDmaxとびDmin領域での均一
正帯電および露光の各工程を数百回繰返した。
正帯電および露光の各工程を数百回繰返した。
この静電印刷用マスターは約2〜5ボルト/秒の極めて
低い暗減衰でもって極めて良好な電気サイクル安定性を
示した。
低い暗減衰でもって極めて良好な電気サイクル安定性を
示した。
実施例17
静電印刷用マスターを実施例16で記載したようにして
作製した。この静電印刷用マスターを裸のドラムに貼り
付け、自動複写機の元の感光体ドラムと置き換えた。次
いで、静電印刷用マスターを正コロナ荷電によって約+
440ボルトの電位に均一に帯電させフラッシュ照射に
均一に露光させて静電潜像を形成した。この静電潜像を
液体現像剤でトナー付して付着トナー像を形成させた。
作製した。この静電印刷用マスターを裸のドラムに貼り
付け、自動複写機の元の感光体ドラムと置き換えた。次
いで、静電印刷用マスターを正コロナ荷電によって約+
440ボルトの電位に均一に帯電させフラッシュ照射に
均一に露光させて静電潜像を形成した。この静電潜像を
液体現像剤でトナー付して付着トナー像を形成させた。
液体現像剤は約2重量%のカーボンブラック顔料着色ポ
リエチレンアクリル酸樹脂と約98重量%のアイソバー
ルLとを含んでいた。付着トナー像を祇シートに転写し
定着させて極めて良好な静電プリント(正)を得た。こ
の静電印刷工程を極めて良好な結果でもって少なくとも
1000回繰返した。
リエチレンアクリル酸樹脂と約98重量%のアイソバー
ルLとを含んでいた。付着トナー像を祇シートに転写し
定着させて極めて良好な静電プリント(正)を得た。こ
の静電印刷工程を極めて良好な結果でもって少なくとも
1000回繰返した。
実施例18
コポリマーを、65モル%のスチレンと35モル%のエ
チルアクリレートとをトルエン溶媒の一部を含む反応容
器に加えることによってトルエン中のフリーラジカル重
合によって調製した。これらのモノマーは、反応系をモ
ノマー溶液への窒素パップリングによりパージしながら
、反応器温度85℃と平衡させた。モノマー溶液は反応
系のパージング中およびその後重合中攪拌した。約2.
01重量%の過酸化ベンゾイル開始剤を第2部分のトル
エン溶媒に加え、反応容器に加える前に溶媒に溶解混合
させた。次いで、重合を5時間進行せしめ、その間反応
器内の温度を冷却して制御した。
チルアクリレートとをトルエン溶媒の一部を含む反応容
器に加えることによってトルエン中のフリーラジカル重
合によって調製した。これらのモノマーは、反応系をモ
ノマー溶液への窒素パップリングによりパージしながら
、反応器温度85℃と平衡させた。モノマー溶液は反応
系のパージング中およびその後重合中攪拌した。約2.
01重量%の過酸化ベンゾイル開始剤を第2部分のトル
エン溶媒に加え、反応容器に加える前に溶媒に溶解混合
させた。次いで、重合を5時間進行せしめ、その間反応
器内の温度を冷却して制御した。
得られたスチレンエヂルアクリレートコボリマー樹脂は
次の性質二66モル%のスチレン、34モル%のエチル
アクリレート、Mn16XIQ3、Mw28X10’、
酸価0、Tg約60℃、および115℃での溶融粘度約
7X10’ポイズを有していた。
次の性質二66モル%のスチレン、34モル%のエチル
アクリレート、Mn16XIQ3、Mw28X10’、
酸価0、Tg約60℃、および115℃での溶融粘度約
7X10’ポイズを有していた。
実施例19
コポリマーを、70モル%のスチレンと30モル%のエ
チルアクリレートとをトルエン溶媒の一部を含む反応容
器に加えることによって過酸化ベンゾイル開始剤を用い
たトルエン中のフリーラジカル重合によって調製した。
チルアクリレートとをトルエン溶媒の一部を含む反応容
器に加えることによって過酸化ベンゾイル開始剤を用い
たトルエン中のフリーラジカル重合によって調製した。
これらのモノマーは、反応系をモノマー溶液への窒素パ
フプリングによりパージしながら、反応器温度80℃と
平衡させた。モノマー溶液は反応系のパージング中およ
びその後重合中攪拌した。約1.0重量%の過酸化ベン
ゾイル開始剤を第2部分のトルエン溶媒に加え、反応容
器に加える前に溶媒に溶解混合させた。次いで、重合を
5時間進行せしめ、その間反応器内の温度を冷却して制
御した。得られたスチレンエチルアクリレートコポリマ
ー樹脂は次の性質ニア3モル%のスチレン、27モル%
のエチルアクリレート、Mn 30X10’ 、Mw
52X10’、酸価0.Tg約68℃、および11
5℃での溶融粘度約5X10’ボイズを有していた。
フプリングによりパージしながら、反応器温度80℃と
平衡させた。モノマー溶液は反応系のパージング中およ
びその後重合中攪拌した。約1.0重量%の過酸化ベン
ゾイル開始剤を第2部分のトルエン溶媒に加え、反応容
器に加える前に溶媒に溶解混合させた。次いで、重合を
5時間進行せしめ、その間反応器内の温度を冷却して制
御した。得られたスチレンエチルアクリレートコポリマ
ー樹脂は次の性質ニア3モル%のスチレン、27モル%
のエチルアクリレート、Mn 30X10’ 、Mw
52X10’、酸価0.Tg約68℃、および11
5℃での溶融粘度約5X10’ボイズを有していた。
実施例20
コポリマーを、68モル%のスチレン、30モル%のエ
チルアクリレートおよび2モル%のアクリル酸とをトル
エン溶媒の一部を含む反応容器に加えることによって過
酸化ベンゾイル開始剤を用いたトルエン中のフリーラジ
カル重合によって調製した。これらのモノマーは、反応
系をモノマー溶液への窒素パフブリングによりパージし
ながら、反応器温度90℃と平衡させた。モノマー溶液
は反応系のパージング中およびその後の重合中撹拌した
。約1.0重量%の過酸化ベンゾイル開始剤を第2部分
のトルエン溶媒に加え、反応容器に加える前に溶媒に溶
解混合させた。次いで、重合を5時間進行せしめ、その
間、反応器内の温度を冷却により制御した。得られたス
チレンエチルアクリレートアクリル酸ターポリマー…脂
は次の性質を有していたニア6モル%のスチレン、22
モル%のエチルアクリレート、2モル%のアクリル酸、
Mn27X103、Ivfw48X10’、酸価15、
Tg約68℃、および115℃での溶融粘度約3×10
4ポイズ。
チルアクリレートおよび2モル%のアクリル酸とをトル
エン溶媒の一部を含む反応容器に加えることによって過
酸化ベンゾイル開始剤を用いたトルエン中のフリーラジ
カル重合によって調製した。これらのモノマーは、反応
系をモノマー溶液への窒素パフブリングによりパージし
ながら、反応器温度90℃と平衡させた。モノマー溶液
は反応系のパージング中およびその後の重合中撹拌した
。約1.0重量%の過酸化ベンゾイル開始剤を第2部分
のトルエン溶媒に加え、反応容器に加える前に溶媒に溶
解混合させた。次いで、重合を5時間進行せしめ、その
間、反応器内の温度を冷却により制御した。得られたス
チレンエチルアクリレートアクリル酸ターポリマー…脂
は次の性質を有していたニア6モル%のスチレン、22
モル%のエチルアクリレート、2モル%のアクリル酸、
Mn27X103、Ivfw48X10’、酸価15、
Tg約68℃、および115℃での溶融粘度約3×10
4ポイズ。
実施例21
軟化性層が実施例11で記載したターポリマー樹脂を含
む第1組の静電印刷用マスタープレカーサ一部材を作製
した。約13重量%の上記スチレンエチルアクリレート
アクリル酸ターポリマー甜脂を約84.9重量%のトル
エン中の約2.1重量%のN、 N’−ジフェニル−N
、 N’−ビス(3′−メチルフェニル)−(1,1’
−ビフェニル)−4,4’−ジアミンと混合したくいず
れも得られる溶液の総重量基準)。溶液をNα10ワイ
ヤー巻きロッドを用いて薄い半透明アルミニウムコーテ
ィングを有する30cm(12インチ)幅で102μm
(4ミル)厚のポリエステルフィルムに適用した。
む第1組の静電印刷用マスタープレカーサ一部材を作製
した。約13重量%の上記スチレンエチルアクリレート
アクリル酸ターポリマー甜脂を約84.9重量%のトル
エン中の約2.1重量%のN、 N’−ジフェニル−N
、 N’−ビス(3′−メチルフェニル)−(1,1’
−ビフェニル)−4,4’−ジアミンと混合したくいず
れも得られる溶液の総重量基準)。溶液をNα10ワイ
ヤー巻きロッドを用いて薄い半透明アルミニウムコーテ
ィングを有する30cm(12インチ)幅で102μm
(4ミル)厚のポリエステルフィルムに適用した。
付着軟化性暦を加熱ブロック上で約110℃、15分間
良く乾燥させてトルエン溶媒を十分に除去させた。乾燥
軟化性層は約3.5μmの厚さを有していた。軟化性層
の温度を約115℃に上げて軟化性層の露出表面の粘度
を約5X10’ ポイズに低下させてマーキング材料の
付着準備とした。次いで、粒状ガラス質セレンの薄層を
約4×10−’ )−ルの真空に維持した真空チャンバ
ー内で真空蒸着によって適用した。像形成部材を次いで
室温に急冷させた。上記コポリマーの露出表面下の約0
.05〜0.1μmに埋め込まれた平均直径約0.3μ
mを有するセレン粒子の赤色単分子層が形成された。
良く乾燥させてトルエン溶媒を十分に除去させた。乾燥
軟化性層は約3.5μmの厚さを有していた。軟化性層
の温度を約115℃に上げて軟化性層の露出表面の粘度
を約5X10’ ポイズに低下させてマーキング材料の
付着準備とした。次いで、粒状ガラス質セレンの薄層を
約4×10−’ )−ルの真空に維持した真空チャンバ
ー内で真空蒸着によって適用した。像形成部材を次いで
室温に急冷させた。上記コポリマーの露出表面下の約0
.05〜0.1μmに埋め込まれた平均直径約0.3μ
mを有するセレン粒子の赤色単分子層が形成された。
上記の手順を同じ材料および条件を用いて繰返して第2
、第3および第4の各組の静電印刷用マスタープレカー
サ一部材を形成させた。ただし、第2組の静電印刷用プ
レカーサ一部材においては実施例18のコポリマーを実
施例11のコポリマーの代りに用い、第3組の静電印刷
用プレカーサ一部材においては実施例19のコポリマー
を実施例18のコポリマーの代りに用い、第4組の静電
印刷用プレカーサ一部材においては実施例20のコポリ
マーを実施例18のコポリマーの代りに用いた。得られ
た各組の静電印刷用マスタープレカーサ一部材は微結晶
または凝集の徴候もなしに極めて均一な光学密度を有し
ていた。
、第3および第4の各組の静電印刷用マスタープレカー
サ一部材を形成させた。ただし、第2組の静電印刷用プ
レカーサ一部材においては実施例18のコポリマーを実
施例11のコポリマーの代りに用い、第3組の静電印刷
用プレカーサ一部材においては実施例19のコポリマー
を実施例18のコポリマーの代りに用い、第4組の静電
印刷用プレカーサ一部材においては実施例20のコポリ
マーを実施例18のコポリマーの代りに用いた。得られ
た各組の静電印刷用マスタープレカーサ一部材は微結晶
または凝集の徴候もなしに極めて均一な光学密度を有し
ていた。
実施例22
対の1インチ四方(6,45cd)切片を実施例21で
記載した各4組の静電印刷用マスタープレカーサ一部材
から切り取った。各対からの1個の四角切片を同じ元の
対からの他の四角切片に対して前後相対して置き、0.
6 kg/ crd(9psi)荷重に45℃で1時間
供した。実施例IIからの材料は幾分かのブロッキング
を示したのに対し、実施例18.19および20からの
各材料はプロツキングの証拠を何ら示さなかった。ブロ
ッキングが実施例11からの材料においてのみ生じたの
は約45℃の試験温度が約36℃である実施例11のタ
ーポリマーのTgよりも高いが実施例18、実施例19
および実施例20の各コポリマーのTg(各々、約60
℃、約67℃および約68℃)より低かったからである
と信じている。留意すべきことは上記の試験条件は実際
の条件で遭遇する数倍も厳しいものであったということ
である。本実施例は耐ブロッキング性が高Tgを有する
スチレンエチルアクリレートコポリマーによって改良で
きることを示さんとしたものである。
記載した各4組の静電印刷用マスタープレカーサ一部材
から切り取った。各対からの1個の四角切片を同じ元の
対からの他の四角切片に対して前後相対して置き、0.
6 kg/ crd(9psi)荷重に45℃で1時間
供した。実施例IIからの材料は幾分かのブロッキング
を示したのに対し、実施例18.19および20からの
各材料はプロツキングの証拠を何ら示さなかった。ブロ
ッキングが実施例11からの材料においてのみ生じたの
は約45℃の試験温度が約36℃である実施例11のタ
ーポリマーのTgよりも高いが実施例18、実施例19
および実施例20の各コポリマーのTg(各々、約60
℃、約67℃および約68℃)より低かったからである
と信じている。留意すべきことは上記の試験条件は実際
の条件で遭遇する数倍も厳しいものであったということ
である。本実施例は耐ブロッキング性が高Tgを有する
スチレンエチルアクリレートコポリマーによって改良で
きることを示さんとしたものである。
実施例23
実施例21で記載したようにして作製した実施例20の
ターポリマーを含む実施例21の第3′fJiの静電印
刷用部材からのサンプルを、約+400ボルトの表面電
位への正コロナ荷電、正シルバー像を接触させることに
よる像形成的露光、および蒸気および加熱処理法の組合
せによる現像によって処理して静電印刷用マスターを形
成させた。上記組合せ現像処理は像形成部材を蒸気室中
でのメチルエチルケトン蒸気への約40秒間の露出によ
り予備処理し、その後、基体と接触させたホットプレー
ト上で約115℃に約5秒間加熱する各工程を含んでい
る。優れた検品質と約0.79の対比密度(Dmax約
1.1、Dmin約0.32)を有する光学的に符号逆
転像が得られた。Dmin3i域(未露光)はポリマー
マトリックス中でのSe粒子の少数であるが大きい粒子
への凝集および融合によっていた。次に、この静電印刷
用マスターを正コロナ荷電によって約+460ボルトの
電位に帯電させ、約15エルグ/ cs ”の活性化用
照射に均一に露光させた。+53ボルトと+270ボル
トの表面電位がそれぞれDmax領域とDmineU域
で観察され、約+217ボルトの静電対比電位を得た。
ターポリマーを含む実施例21の第3′fJiの静電印
刷用部材からのサンプルを、約+400ボルトの表面電
位への正コロナ荷電、正シルバー像を接触させることに
よる像形成的露光、および蒸気および加熱処理法の組合
せによる現像によって処理して静電印刷用マスターを形
成させた。上記組合せ現像処理は像形成部材を蒸気室中
でのメチルエチルケトン蒸気への約40秒間の露出によ
り予備処理し、その後、基体と接触させたホットプレー
ト上で約115℃に約5秒間加熱する各工程を含んでい
る。優れた検品質と約0.79の対比密度(Dmax約
1.1、Dmin約0.32)を有する光学的に符号逆
転像が得られた。Dmin3i域(未露光)はポリマー
マトリックス中でのSe粒子の少数であるが大きい粒子
への凝集および融合によっていた。次に、この静電印刷
用マスターを正コロナ荷電によって約+460ボルトの
電位に帯電させ、約15エルグ/ cs ”の活性化用
照射に均一に露光させた。+53ボルトと+270ボル
トの表面電位がそれぞれDmax領域とDmineU域
で観察され、約+217ボルトの静電対比電位を得た。
加熱現像静電印刷用マスターのDmaxおよびDmin
の両頭域を数100回電気的にサイクル操作した。
の両頭域を数100回電気的にサイクル操作した。
この静電印刷用マスターは約2〜5ボルト/秒の極めて
低い暗減衰でもって極めて良好な電気的サイクル安定性
を示した。
低い暗減衰でもって極めて良好な電気的サイクル安定性
を示した。
実施例24
実施例21で記載したようにして作製した実施例20の
コポリマーを含む実施例21の第3組の静電印刷用部材
からのサンプルを、約−400ボルトの表面電位への負
コロナ荷電、負シルバー像と接触させることによる像形
成的露光、および115℃、5秒間の加熱現像によって
処理して静電印刷用マスターを形成させた。優れた検品
質と約1.1の対比密度(D max約1.8、Dmt
n約0.7)を有する光学的に符号保持性像が得られた
。D…in領域(露光)はポリマーマトリックス中に分
散した移行表面下セレン粒子によっていた。次いで、こ
の静電印刷用マスターを正コロナ荷電によって約+44
0ボルトの電位に均一に帯電させ、約15エルグ/口2
の440nmの活性化用照射に均一に露光させた。+4
0ボルトと+240ボルトの表面電位がそれぞれDma
xおよびDmir+jl域で観察され、約+200ボル
トの静電対比電位を得た。この加熱現像静電印刷用マス
ターのDmaxとDminの領域での均一正帯電と露光
の各工程を数100回電気的にサイクル操作した。静電
印刷用マスターは約2〜5ボルト/秒の極めて低い暗減
衰でもって極めて良好な電気的サイクル安定性を示した
。前述のようにして作製した静電印刷用マスターの新し
い切片を正コロナ帯電により約+440ボルトの電位に
再び均一に帯電させ、フラッシュ照射に均一に露光させ
て静電潜像を形成させた。この静電潜像を液体現像剤で
トナー付して付着トナー像を形成させた。液体現像剤は
約゛2重量%のカーボンブランク顔料着色ポリエチレン
アクリル酸樹脂と約98重量%のアイソバールLを含ん
でいた。付着トナー像をスコッチテープによって祇シー
トに転写して極めて良好な静電プリント(正)を得た。
コポリマーを含む実施例21の第3組の静電印刷用部材
からのサンプルを、約−400ボルトの表面電位への負
コロナ荷電、負シルバー像と接触させることによる像形
成的露光、および115℃、5秒間の加熱現像によって
処理して静電印刷用マスターを形成させた。優れた検品
質と約1.1の対比密度(D max約1.8、Dmt
n約0.7)を有する光学的に符号保持性像が得られた
。D…in領域(露光)はポリマーマトリックス中に分
散した移行表面下セレン粒子によっていた。次いで、こ
の静電印刷用マスターを正コロナ荷電によって約+44
0ボルトの電位に均一に帯電させ、約15エルグ/口2
の440nmの活性化用照射に均一に露光させた。+4
0ボルトと+240ボルトの表面電位がそれぞれDma
xおよびDmir+jl域で観察され、約+200ボル
トの静電対比電位を得た。この加熱現像静電印刷用マス
ターのDmaxとDminの領域での均一正帯電と露光
の各工程を数100回電気的にサイクル操作した。静電
印刷用マスターは約2〜5ボルト/秒の極めて低い暗減
衰でもって極めて良好な電気的サイクル安定性を示した
。前述のようにして作製した静電印刷用マスターの新し
い切片を正コロナ帯電により約+440ボルトの電位に
再び均一に帯電させ、フラッシュ照射に均一に露光させ
て静電潜像を形成させた。この静電潜像を液体現像剤で
トナー付して付着トナー像を形成させた。液体現像剤は
約゛2重量%のカーボンブランク顔料着色ポリエチレン
アクリル酸樹脂と約98重量%のアイソバールLを含ん
でいた。付着トナー像をスコッチテープによって祇シー
トに転写して極めて良好な静電プリント(正)を得た。
この静電印刷工程を極めて良好な結果でもって少な(と
も10回手で繰返した。
も10回手で繰返した。
実施例25
実施例7で記載したようにして作製した静電印刷用プレ
カーサ一部材を、約−440ボルトの表面電位への負コ
ロトロン荷電、負シルバー像を接触させることによる像
形成的露光、および115℃で5秒間の加熱現像により
処理して静電印刷用マスターを形成させた。約0.1の
対比密度(Dmax約1.85、Diin約1.75)
を有する極めて弱い光学的に符号保持性像を得た。実施
例24で用いたクーポリマーの48X103M−は本実
施例(実施例25)で用いたターポリマーの72X10
3hよりかなり低いので、低溶融粘度が用いた現像温度
で実施例23で用いたターポリマーで得られ、それによ
って現像中に粒子の移行を可能にしたものと信じている
。
カーサ一部材を、約−440ボルトの表面電位への負コ
ロトロン荷電、負シルバー像を接触させることによる像
形成的露光、および115℃で5秒間の加熱現像により
処理して静電印刷用マスターを形成させた。約0.1の
対比密度(Dmax約1.85、Diin約1.75)
を有する極めて弱い光学的に符号保持性像を得た。実施
例24で用いたクーポリマーの48X103M−は本実
施例(実施例25)で用いたターポリマーの72X10
3hよりかなり低いので、低溶融粘度が用いた現像温度
で実施例23で用いたターポリマーで得られ、それによ
って現像中に粒子の移行を可能にしたものと信じている
。
実施例26
実施例11のターポリマーを含む実施例21で記載した
静電印刷用プレカーサ一部材からのサンプル、実施例1
9のコポリマーを含む実施例21で記載した第3組の静
電印刷用プレカーサ一部材からのサンプル、および実施
例20のコポリマーを含む実施例21で記載した第4組
の静電印刷用プレカーサ一部材からのサンプルを、6イ
ンチ(15,24cm)長のスコッチ商標接着テープ(
3M社より入手できる#600)のストリップの長さの
半分を軟化性層に適用し、他端を軟化性表面から急速に
垂直に引き離すという極めて厳しい接着テープ試験に供
した。第1組および第4組の静電印刷用プレカーサ一部
材は目視できる劣下なしにこの接着テープ試験に耐え得
たが、第2組の静電印刷用プレカーサ一部材の軟化性層
は厳しいフィルム離脱をこうむった。実施例11と20
のターポリマーのアクリル酸成分が軟化性層の下地の金
属処理ポリエステル層に対する優れた接着性に貢献して
いるものと信じる。即ち、実施例21で記載した第3組
の静電印刷用プレカーサ一部材中の実施例19のコポリ
マーにアクリル酸成分が存在しないことが第3組の静電
印刷用プレカーサー部材をして接着テープ試験に耐え得
なくしたものである。
静電印刷用プレカーサ一部材からのサンプル、実施例1
9のコポリマーを含む実施例21で記載した第3組の静
電印刷用プレカーサ一部材からのサンプル、および実施
例20のコポリマーを含む実施例21で記載した第4組
の静電印刷用プレカーサ一部材からのサンプルを、6イ
ンチ(15,24cm)長のスコッチ商標接着テープ(
3M社より入手できる#600)のストリップの長さの
半分を軟化性層に適用し、他端を軟化性表面から急速に
垂直に引き離すという極めて厳しい接着テープ試験に供
した。第1組および第4組の静電印刷用プレカーサ一部
材は目視できる劣下なしにこの接着テープ試験に耐え得
たが、第2組の静電印刷用プレカーサ一部材の軟化性層
は厳しいフィルム離脱をこうむった。実施例11と20
のターポリマーのアクリル酸成分が軟化性層の下地の金
属処理ポリエステル層に対する優れた接着性に貢献して
いるものと信じる。即ち、実施例21で記載した第3組
の静電印刷用プレカーサ一部材中の実施例19のコポリ
マーにアクリル酸成分が存在しないことが第3組の静電
印刷用プレカーサー部材をして接着テープ試験に耐え得
なくしたものである。
実施例27
実施例11で記載したようにして、しかし、N、N’−
ジフェニル−N、N’−ビス(3“−メチルフェニル)
−(1,1’−ビフェニル)=4.4′−ジアミンなし
で像形成部材を作製した。
ジフェニル−N、N’−ビス(3“−メチルフェニル)
−(1,1’−ビフェニル)=4.4′−ジアミンなし
で像形成部材を作製した。
この像形成部材を約−400ボルトの表面電位に負コロ
ナ荷電することによって像形成させ、負シルバー像を接
触させることによって像形成的に露光させ、115℃で
5秒間加熱現像した。優れた像高質と約1.16の光学
対比密度(D max約1.76、Dmin約0.60
)を有する光学的に符号保持性像が得られた。Dmin
領域(露光)はボリマーストリソクス中に分散した移行
表面下セレン粒子によっていた。
ナ荷電することによって像形成させ、負シルバー像を接
触させることによって像形成的に露光させ、115℃で
5秒間加熱現像した。優れた像高質と約1.16の光学
対比密度(D max約1.76、Dmin約0.60
)を有する光学的に符号保持性像が得られた。Dmin
領域(露光)はボリマーストリソクス中に分散した移行
表面下セレン粒子によっていた。
本発明の他の変形は本明細書の記載から当業者にとって
容易であろう。これらの変形は本発明の範囲に包含され
るものとする。
容易であろう。これらの変形は本発明の範囲に包含され
るものとする。
Claims (1)
- 基体と該基体に隣接する電気絶縁性の軟化性層とを含み
、該軟化性層が上記基体から離れた該軟化性層の実質的
表面または表面近くに存在させた電気的に感光性のマイ
グレーションマーキング材料の破壊性層を含み、上記基
体と隣接した少なくとも1つの層中にスチレンとエチル
アクリレートのコポリマーを含み、該コポリマーが約4
0〜約80モル%のスチレン、約20〜約60モル%の
エチルアクリレートおよび約0〜約3モル%の炭素−炭
素不飽和含有共重合性有機酸またはその共重合性誘導体
とを含み、該コポリマーが約4,000〜約35,00
0のMn、約10,000〜約80,000のMw、約
25までの酸価、約30℃〜約75℃のTg、および1
15℃で約1×10^2ポイズ〜約1×10^6ポイズ
の溶融粘度を有することを特徴とするマイグレーション
像形成部材。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US140441 | 1988-01-04 | ||
| US07/140,441 US4853307A (en) | 1988-01-04 | 1988-01-04 | Imaging member containing a copolymer of styrene and ethyl acrylate |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01230048A true JPH01230048A (ja) | 1989-09-13 |
| JPH0731401B2 JPH0731401B2 (ja) | 1995-04-10 |
Family
ID=22491231
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63332754A Expired - Fee Related JPH0731401B2 (ja) | 1988-01-04 | 1988-12-28 | スチレンとエチルアクリレートのコポリマーを含有する像形成部材 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4853307A (ja) |
| JP (1) | JPH0731401B2 (ja) |
| CA (1) | CA1332115C (ja) |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE68925330T2 (de) * | 1988-10-04 | 1996-06-13 | Fuji Photo Film Co Ltd | Elektrophotographischer Photorezeptor |
| US4970130A (en) * | 1989-12-01 | 1990-11-13 | Xerox Corporation | Xeroprinting process with improved contrast potential |
| JPH0594034A (ja) * | 1990-06-29 | 1993-04-16 | Xerox Corp | クラツクのない電子写真画像形成デバイス |
| US5240799A (en) * | 1990-07-23 | 1993-08-31 | Xerox Corporation | Dual electrode migration imaging members and apparatuses and processes for the preparation and use of same |
| CA2063473C (en) * | 1991-07-01 | 1998-09-22 | T. Hwee Ng | Process for preparing copolymers |
| US5202206A (en) * | 1991-10-04 | 1993-04-13 | Xerox Corporation | Process for simultaneous printing of fixed data and variable data |
| US5215838A (en) * | 1991-10-04 | 1993-06-01 | Xerox Corporation | Infrared or red light sensitive migration imaging member |
| US5690993A (en) * | 1995-05-01 | 1997-11-25 | Xerox Corporation | Overcoated migration imaging members |
| US5563014A (en) * | 1995-05-15 | 1996-10-08 | Xerox Corporation | Migration imaging members |
| US5514505A (en) * | 1995-05-15 | 1996-05-07 | Xerox Corporation | Method for obtaining improved image contrast in migration imaging members |
| JP3145053B2 (ja) * | 1997-05-12 | 2001-03-12 | 岩崎通信機株式会社 | 光導電体塗料とそれを用いた電子写真感光体 |
| US5981120A (en) * | 1998-01-08 | 1999-11-09 | Xerox Corporation | Verdefilm for more uniform charging |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA715497A (en) * | 1965-08-10 | Arthur D. Little | Photoconductive compositions and sheets coated therewith and process for preparing the same | |
| US4081273A (en) * | 1970-01-02 | 1978-03-28 | Xerox Corporation | Migration imaging method |
| US3975739A (en) * | 1964-10-12 | 1976-08-17 | Xerox Corporation | Migration imaging system using shaped electrode |
| US3672889A (en) * | 1969-07-14 | 1972-06-27 | Addressograph Multigraph | Acrylate terpolymer resin binders for photoelectrostatic members |
| US3799911A (en) * | 1972-12-04 | 1974-03-26 | Dexter Corp | Binder for electrophotographic coatings |
| DE3024772A1 (de) * | 1980-06-30 | 1982-01-28 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Elastische, laminierbare lichtempfindliche schicht |
| US4482622A (en) * | 1983-03-31 | 1984-11-13 | Xerox Corporation | Multistage deposition process |
| NL8402805A (nl) * | 1984-09-13 | 1986-04-01 | Oce Nederland Bv | Werkwijze voor het kopieren en electrofotografisch element. |
-
1988
- 1988-01-04 US US07/140,441 patent/US4853307A/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-11-30 CA CA000584608A patent/CA1332115C/en not_active Expired - Fee Related
- 1988-12-28 JP JP63332754A patent/JPH0731401B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4853307A (en) | 1989-08-01 |
| JPH0731401B2 (ja) | 1995-04-10 |
| CA1332115C (en) | 1994-09-27 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |