JPH0731401B2 - スチレンとエチルアクリレートのコポリマーを含有する像形成部材 - Google Patents
スチレンとエチルアクリレートのコポリマーを含有する像形成部材Info
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- JPH0731401B2 JPH0731401B2 JP63332754A JP33275488A JPH0731401B2 JP H0731401 B2 JPH0731401 B2 JP H0731401B2 JP 63332754 A JP63332754 A JP 63332754A JP 33275488 A JP33275488 A JP 33275488A JP H0731401 B2 JPH0731401 B2 JP H0731401B2
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
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- G03G13/22—Processes involving a combination of more than one step according to groups G03G13/02 - G03G13/20
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- G03G—ELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
- G03G17/00—Electrographic processes using patterns other than charge patterns, e.g. an electric conductivity pattern; Processes involving a migration, e.g. photoelectrophoresis, photoelectrosolography; Processes involving a selective transfer, e.g. electrophoto-adhesive processes; Apparatus essentially involving a single such process
- G03G17/08—Electrographic processes using patterns other than charge patterns, e.g. an electric conductivity pattern; Processes involving a migration, e.g. photoelectrophoresis, photoelectrosolography; Processes involving a selective transfer, e.g. electrophoto-adhesive processes; Apparatus essentially involving a single such process using an electrophoto-adhesive process, e.g. manifold imaging
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は一般にマイグレーション(移行)像形成に関
し、さらに詳細には、改良されたマイグレーション像形
成部材およびこの改良されたマイグレーション像形成部
材を用いる方法に関する。
し、さらに詳細には、改良されたマイグレーション像形
成部材およびこの改良されたマイグレーション像形成部
材を用いる方法に関する。
乾式マイグレーション像形成部材は、特許文献、例え
ば、米国特許第3,909,262号および第3,975,195号におい
て開示されている。マイグレーション像形成法の典型的
な態様においては、基体、軟化性材料層、および感光性
マーキング材料層とを含むマイグレーション像形成部材
を、該部材を帯電させて帯電させた部材を光のような活
性化用電磁照射像に露光させることにより潜像を先ず形
成させることによって像形成させる。上記の感光性マー
キング材料が、本質的に上記軟化性層の上部表面と連続
する破壊性層の形である場合、上記部材の露光領域内の
マーキング粒子は、部材を上記軟化性層を軟化すること
によって現像するとき、基体に向って深部に移行する。
ば、米国特許第3,909,262号および第3,975,195号におい
て開示されている。マイグレーション像形成法の典型的
な態様においては、基体、軟化性材料層、および感光性
マーキング材料層とを含むマイグレーション像形成部材
を、該部材を帯電させて帯電させた部材を光のような活
性化用電磁照射像に露光させることにより潜像を先ず形
成させることによって像形成させる。上記の感光性マー
キング材料が、本質的に上記軟化性層の上部表面と連続
する破壊性層の形である場合、上記部材の露光領域内の
マーキング粒子は、部材を上記軟化性層を軟化すること
によって現像するとき、基体に向って深部に移行する。
本明細書で“軟化性”なる表現はより透過性とすること
ができそれによって粒子をその嵩を通して移行させ得る
任意の材料を意味するものとする。通常、そのような材
料の透過性を変化させあるいはマイグレーションマーキ
ング材料の移行(マイグレーション)に対する抵抗を低
減させるのは、例えば、熱、水蒸気、部分溶媒、冷媒蒸
気、溶媒およびこれらの組合せとの接触のような方法に
よる溶解、膨潤化、溶融または軟質化によって、あるい
は上記軟化性材料の粘度を任意の適当な手段によって低
減させることによって行う。
ができそれによって粒子をその嵩を通して移行させ得る
任意の材料を意味するものとする。通常、そのような材
料の透過性を変化させあるいはマイグレーションマーキ
ング材料の移行(マイグレーション)に対する抵抗を低
減させるのは、例えば、熱、水蒸気、部分溶媒、冷媒蒸
気、溶媒およびこれらの組合せとの接触のような方法に
よる溶解、膨潤化、溶融または軟質化によって、あるい
は上記軟化性材料の粘度を任意の適当な手段によって低
減させることによって行う。
本明細書で“破壊性”層または材料なる用語は現像中に
破壊し得それによってこの層の一部を基体に移行せしめ
るかさもなくば除去せしめ得る任意の層または材料を意
味するものとする。この破壊性層は本発明のマイグレー
ション像形成部材の種々の実施態様において粒状で半連
続性、すなわち、顕微鏡的に不連続であり得る。マーキ
ング粒子のそのような破壊性層は、典型的には、基体か
ら離れている軟化性層表面に連続しており、またそのよ
うな破壊性層は本発明装置の像形成部材の種々の実施態
様において軟化性層中に実質的にあるいは全体的に埋込
み得る。
破壊し得それによってこの層の一部を基体に移行せしめ
るかさもなくば除去せしめ得る任意の層または材料を意
味するものとする。この破壊性層は本発明のマイグレー
ション像形成部材の種々の実施態様において粒状で半連
続性、すなわち、顕微鏡的に不連続であり得る。マーキ
ング粒子のそのような破壊性層は、典型的には、基体か
ら離れている軟化性層表面に連続しており、またそのよ
うな破壊性層は本発明装置の像形成部材の種々の実施態
様において軟化性層中に実質的にあるいは全体的に埋込
み得る。
本明細書で“連続”なる表現は、実際に接触しているこ
と;軽く接触していること;接触してないけれども接近
していること;および隣接していることを意味するもの
とし、軟化性層中のマーキング材料の破壊性層の基体か
ら離れている転化性層表面に対する関係を包括的に述べ
るものとする。
と;軽く接触していること;接触してないけれども接近
していること;および隣接していることを意味するもの
とし、軟化性層中のマーキング材料の破壊性層の基体か
ら離れている転化性層表面に対する関係を包括的に述べ
るものとする。
本明細書で“隣接”なる用語は実際に接触しているこ
と;軽く接触していること;接触していないが近接して
いること;および隣接していることを意味するものと
し、基体表面上の1以上の層の関係を包括的に述べるも
のとする。
と;軽く接触していること;接触していないが近接して
いること;および隣接していることを意味するものと
し、基体表面上の1以上の層の関係を包括的に述べるも
のとする。
本明細書で“光学的に符号保持(optically sign-retai
ned)”なる表現はマイグレーション像形成部材上に形
成された可視像の暗(高光学密度)および明(低光学密
度)領域が使用した任意の原紙上の像の暗および明領域
に相応することを意味するものとする。
ned)”なる表現はマイグレーション像形成部材上に形
成された可視像の暗(高光学密度)および明(低光学密
度)領域が使用した任意の原紙上の像の暗および明領域
に相応することを意味するものとする。
本明細書で“光学的に符号逆転(optically sign-rener
sed)”なる表現はマイグレーション像形成部材上に形
成された暗領域が原紙上の像の明領域に相応し、マイグ
レーション像形成部材上に形成された明領域が使用した
原紙上の像の暗領域に相応することを意味するものとす
る。
sed)”なる表現はマイグレーション像形成部材上に形
成された暗領域が原紙上の像の明領域に相応し、マイグ
レーション像形成部材上に形成された明領域が使用した
原紙上の像の暗領域に相応することを意味するものとす
る。
本明細書で“光学対比密度”なる表現は像の最高光学密
度(Dmax)と最小光学密度(Dmin)との差を意味するも
のとする。光学密度は、本発明の目的においては、青色
ラットン(Wratten)No.94フィルターを有する拡散密度
計で測定する。本明細書で“光学密度”なる表現は“透
過光学密度”を意味するものとし、次式: D=log10〔Io/I〕 (式中、Iは透過光強度であり、Ioは照射光強度であ
る)で示される。本発明の目的において、本発明で使用
する透過光学密度の値は約0.2の基体密度を包含し、こ
れは金属処理ポリエステル基体の典型的な密度である。
対比密度は本発明においては拡散密度計で測定するけれ
ども、正密度計による測定も実質的に同様な結果を与え
ることに留意すべきである。
度(Dmax)と最小光学密度(Dmin)との差を意味するも
のとする。光学密度は、本発明の目的においては、青色
ラットン(Wratten)No.94フィルターを有する拡散密度
計で測定する。本明細書で“光学密度”なる表現は“透
過光学密度”を意味するものとし、次式: D=log10〔Io/I〕 (式中、Iは透過光強度であり、Ioは照射光強度であ
る)で示される。本発明の目的において、本発明で使用
する透過光学密度の値は約0.2の基体密度を包含し、こ
れは金属処理ポリエステル基体の典型的な密度である。
対比密度は本発明においては拡散密度計で測定するけれ
ども、正密度計による測定も実質的に同様な結果を与え
ることに留意すべきである。
非感光性または不活性マーキング粒子を上記の破壊性層
中に配列させあるいは軟化性層中に分散させてなる他の
そのような像形成系も、前記各米国特許に記載されてい
るように、存在しており、またこれらの米国特許はマイ
グレーション像形成部材上に潜像を形成するのに使用で
きる種々の方法も開示している。
中に配列させあるいは軟化性層中に分散させてなる他の
そのような像形成系も、前記各米国特許に記載されてい
るように、存在しており、またこれらの米国特許はマイ
グレーション像形成部材上に潜像を形成するのに使用で
きる種々の方法も開示している。
種々の潜像現像手段がマイグレーション像形成系におい
て使用できる。これらの現像法には、溶媒洗出法、溶媒
蒸気軟化法、熱軟化法、およびこれらの方法の組合せ、
並びに粒状マーキング材料の軟化性層への移行に対する
軟化性材料の抵抗性を変化させ基体へ向かって深部の粒
子の像形成的移行を可能にする他の任意の方法がある。
溶媒洗出法即ち負(マイナス)現像法においては、光照
射領域のマイグレーションマーキング粒子が軟化し溶解
された軟化性層を通って基体に移行し、単分子層(mono
layer)形状に再充填する。透明基体に支持されたマイ
グレーション像形成性フィルムにおいては、この領域が
未処理フィルムの初期光学密度と同じ高最高光学密度を
示す。一方、未露光領域のマイグレーションマーキング
粒子は実質的に洗浄除去されて、この領域は本質的に基
体単独の光学光度である最小光学密度を示す。従って、
現像の像感は光学的に符号逆転、即ち、正対負またはそ
の逆となる。種々の方法、材料およびその組合せが、従
来からそのような未定着マイグレーション像の定着に使
用されている。他の従来の加速または蒸気現像法におい
ては、軟化性層は現像後実質的にそのまま残存し、像は
マーキング材料粒子が軟化性層内に補捉されているので
自己定着する。加熱または蒸気軟化現像方式において
は、光照射領域内のマイグレーションマーキング材料は
現像後軟化性層の深部に分散し、この領域が典型的には
0.6〜0.7の範囲にあるDminを示す。この比較的高いDmin
は他方の未変化マイグレーションマーキング材料の深部
分散の直接的結果である。一方、未露光領域内のマイグ
レーションマーキング粒子は移行せずに原形状で、即
ち、単分子層中に実質的に残存する。かくして、この領
域は最高光学密度(Dmax)を示す。従って、加熱または
蒸気現像像の像感は光学的に符号保持性、即ち、正対正
または負対負である。
て使用できる。これらの現像法には、溶媒洗出法、溶媒
蒸気軟化法、熱軟化法、およびこれらの方法の組合せ、
並びに粒状マーキング材料の軟化性層への移行に対する
軟化性材料の抵抗性を変化させ基体へ向かって深部の粒
子の像形成的移行を可能にする他の任意の方法がある。
溶媒洗出法即ち負(マイナス)現像法においては、光照
射領域のマイグレーションマーキング粒子が軟化し溶解
された軟化性層を通って基体に移行し、単分子層(mono
layer)形状に再充填する。透明基体に支持されたマイ
グレーション像形成性フィルムにおいては、この領域が
未処理フィルムの初期光学密度と同じ高最高光学密度を
示す。一方、未露光領域のマイグレーションマーキング
粒子は実質的に洗浄除去されて、この領域は本質的に基
体単独の光学光度である最小光学密度を示す。従って、
現像の像感は光学的に符号逆転、即ち、正対負またはそ
の逆となる。種々の方法、材料およびその組合せが、従
来からそのような未定着マイグレーション像の定着に使
用されている。他の従来の加速または蒸気現像法におい
ては、軟化性層は現像後実質的にそのまま残存し、像は
マーキング材料粒子が軟化性層内に補捉されているので
自己定着する。加熱または蒸気軟化現像方式において
は、光照射領域内のマイグレーションマーキング材料は
現像後軟化性層の深部に分散し、この領域が典型的には
0.6〜0.7の範囲にあるDminを示す。この比較的高いDmin
は他方の未変化マイグレーションマーキング材料の深部
分散の直接的結果である。一方、未露光領域内のマイグ
レーションマーキング粒子は移行せずに原形状で、即
ち、単分子層中に実質的に残存する。かくして、この領
域は最高光学密度(Dmax)を示す。従って、加熱または
蒸気現像像の像感は光学的に符号保持性、即ち、正対正
または負対負である。
蒸気現像により光学的に符号逆転像形成を行う方法は考
案されているが、これらの技術は一般に複雑であり、臨
海的に調整されたプロセス条件を必要とする。そのよう
な技術は、例えば、米国特許第3,795,512号に記載され
ている。
案されているが、これらの技術は一般に複雑であり、臨
海的に調整されたプロセス条件を必要とする。そのよう
な技術は、例えば、米国特許第3,795,512号に記載され
ている。
ある普通のマイグレーション像形成部材は軟化性層を有
する金属処理プラスチック基体を含む。或る要求の多い
商業的用途においては、本質的に、マイグレーション像
形成部材の構造的一体性および像形成特性がすべての実
際的使用条件下で確立されなければならない。多くの従
来技術マイグレーション像形成部材は軟化性層の貧弱な
機械的特性のためにこれらの要求を満し得ていない。例
えば、軟化性層中に80:20モル比のスチレン−ヘキシル
メタクリレートコポリマーを含有する部材の如き多くの
マイグレーション像形成部材はこれら部材を使用中厳し
く取扱うとき軟化性層が基体からはく離するという貧弱
な接着性を示す。さらにこれら部材は昇温および加圧条
件下では、例えば、部材を製造中、貯蔵中または使用中
にロールに強く巻き付ける場合にブロッキングが起るよ
うな不十分な耐ブロッキング性を有している。さらにま
た、数種の従来技術軟化性材料は、不適当な粘弾性故
に、特に、加熱のみを用いてマイグレーション像形成部
材を現像するときに、劣った像形成特性を与える。
する金属処理プラスチック基体を含む。或る要求の多い
商業的用途においては、本質的に、マイグレーション像
形成部材の構造的一体性および像形成特性がすべての実
際的使用条件下で確立されなければならない。多くの従
来技術マイグレーション像形成部材は軟化性層の貧弱な
機械的特性のためにこれらの要求を満し得ていない。例
えば、軟化性層中に80:20モル比のスチレン−ヘキシル
メタクリレートコポリマーを含有する部材の如き多くの
マイグレーション像形成部材はこれら部材を使用中厳し
く取扱うとき軟化性層が基体からはく離するという貧弱
な接着性を示す。さらにこれら部材は昇温および加圧条
件下では、例えば、部材を製造中、貯蔵中または使用中
にロールに強く巻き付ける場合にブロッキングが起るよ
うな不十分な耐ブロッキング性を有している。さらにま
た、数種の従来技術軟化性材料は、不適当な粘弾性故
に、特に、加熱のみを用いてマイグレーション像形成部
材を現像するときに、劣った像形成特性を与える。
静電印刷マスタープレートはマイグレーション像形成部
材からこれら部材を均一にコロナ帯電させ、像形成的に
露光し次いで加熱することによって作製できる。得られ
た像形成マイグレーション像形成部材はその後、静電印
刷用マスターとして使用できる。静電印刷は静電印刷用
マスターを均一にコロナ帯電させ活性代用電磁線に均一
に露光させることによって行い;これによりマスター上
に静電潜像を形成し;この静電像をトナー付し;トナー
像を紙に転写し定着させてプリントを生成させる。均一
帯電、均一露光、トナー付け、転写および定着の各工程
は繰返して多数のプリントを得ることができる。静電印
刷用マスターとして使用できるためには、マイグレーシ
ョン像形成部材の軟化性層が多数回の像形成サイクルに
亘って該軟化性層中に電荷移送物質、例えば、ドメニッ
クS.Ngに付与された米国特許第4,536,458号およびマン
C.タムに付与された米国特許第4,536,457号に記載され
ているような電荷移送物質を保持して静電印刷マスター
に像形成的光放電および電荷移送能力を与えることが必
要である。カラープルーフィングおよびカラー印刷にお
けるような高品質および高解像力を必要とするいくつか
の商業的印刷用途においては、静電複写液体トナーが一
般的に好ましい現像剤材料である。何故ならば、その小
さいトナー粒度が比較的大粒度のドライトナーに較べて
優れた解像力のプリントを与えるからである。通常の静
電複写液体現像剤は、典型的には、マーキング粒子を分
散させた液体キャリヤーを含む。しかしながら、従来技
術のマイグレーション像形成部材、例えば、軟化性層中
に80:20モル比スチレン−ヘキシルメタクリレートコポ
リマーとN,N′−ジフェニル−N,N′−ビス(3″−メチ
ルフェニル)−(1,1′−ビフェニル)−4,4′−ジアミ
ン電荷移送分子とを含有する部材から作製した静電印刷
用マスターはそのような液体現像剤と接触させたときそ
の電荷移送特性の重大を減損をこうむる。これは電荷移
送分子が液体現像剤の液体キャリヤー成分と接触すると
き軟化性層からリーチング(滲み出る)するからであ
る。これは液体現像剤の汚染をもたらすだけでなく電荷
移送特性の急速低下および現実的なサイクル操作中の静
電印刷用マスターの静電印刷能力の急速低下をもたらす
さらに、適切な光学密度の高品質プリントを得るために
は、静電対比電位は現像可能な静電潜像を与えるに十分
に高くなければならない。高静電対比電位条件は像形成
部材中で比較的厚い軟化性層の使用を必要とする。しか
しながら、マイグレーション像形成部材用の他の面では
優れている多くの軟化性材料のアルミニウム処理ポリエ
ステルのような伝導性基体に対するむしろ貧弱な接着性
のために、軟化性層の厚さを増大させて十分な静電対比
電位を得んとする試みは、多くの場合、製造中、貯蔵中
または使用中のいずれかでフィルムのはがれが生じてい
る。
材からこれら部材を均一にコロナ帯電させ、像形成的に
露光し次いで加熱することによって作製できる。得られ
た像形成マイグレーション像形成部材はその後、静電印
刷用マスターとして使用できる。静電印刷は静電印刷用
マスターを均一にコロナ帯電させ活性代用電磁線に均一
に露光させることによって行い;これによりマスター上
に静電潜像を形成し;この静電像をトナー付し;トナー
像を紙に転写し定着させてプリントを生成させる。均一
帯電、均一露光、トナー付け、転写および定着の各工程
は繰返して多数のプリントを得ることができる。静電印
刷用マスターとして使用できるためには、マイグレーシ
ョン像形成部材の軟化性層が多数回の像形成サイクルに
亘って該軟化性層中に電荷移送物質、例えば、ドメニッ
クS.Ngに付与された米国特許第4,536,458号およびマン
C.タムに付与された米国特許第4,536,457号に記載され
ているような電荷移送物質を保持して静電印刷マスター
に像形成的光放電および電荷移送能力を与えることが必
要である。カラープルーフィングおよびカラー印刷にお
けるような高品質および高解像力を必要とするいくつか
の商業的印刷用途においては、静電複写液体トナーが一
般的に好ましい現像剤材料である。何故ならば、その小
さいトナー粒度が比較的大粒度のドライトナーに較べて
優れた解像力のプリントを与えるからである。通常の静
電複写液体現像剤は、典型的には、マーキング粒子を分
散させた液体キャリヤーを含む。しかしながら、従来技
術のマイグレーション像形成部材、例えば、軟化性層中
に80:20モル比スチレン−ヘキシルメタクリレートコポ
リマーとN,N′−ジフェニル−N,N′−ビス(3″−メチ
ルフェニル)−(1,1′−ビフェニル)−4,4′−ジアミ
ン電荷移送分子とを含有する部材から作製した静電印刷
用マスターはそのような液体現像剤と接触させたときそ
の電荷移送特性の重大を減損をこうむる。これは電荷移
送分子が液体現像剤の液体キャリヤー成分と接触すると
き軟化性層からリーチング(滲み出る)するからであ
る。これは液体現像剤の汚染をもたらすだけでなく電荷
移送特性の急速低下および現実的なサイクル操作中の静
電印刷用マスターの静電印刷能力の急速低下をもたらす
さらに、適切な光学密度の高品質プリントを得るために
は、静電対比電位は現像可能な静電潜像を与えるに十分
に高くなければならない。高静電対比電位条件は像形成
部材中で比較的厚い軟化性層の使用を必要とする。しか
しながら、マイグレーション像形成部材用の他の面では
優れている多くの軟化性材料のアルミニウム処理ポリエ
ステルのような伝導性基体に対するむしろ貧弱な接着性
のために、軟化性層の厚さを増大させて十分な静電対比
電位を得んとする試みは、多くの場合、製造中、貯蔵中
または使用中のいずれかでフィルムのはがれが生じてい
る。
1985年8月20付でドミニックS.Ngに付与された米国特許
第4,536,458号は基体と該基体上の電気絶縁性軟化性層
とを含み、この軟化性層が基体から離れて置かれた軟化
性層の少なくとも表面または表面近くに存在させたマイ
グレーションマーキング粒子と電荷移送層とを含むマイ
グレーション像形成部材を開示している。軟化性層はス
チレンアクリレートコポリマー、ポリスチレン、アルキ
ッド置換ポリスチレン、スチレン−オレフィンコポリマ
ー、スチレン−コ−n−ヘキシルメタクリレート、固有
粘度0.179dl/gmを有するスチレンとヘキシルメタクリレ
ートの特注(即ち特別注文)合成80/20モル%コポリマ
ー、スチレンとヘキシルメタクリレートの他のコポリマ
ー、スチレン−ビニルトルエンコポリマー、およびこれ
らの混合物またはコポリマーを含み得る。該マイグレー
ション像形成部材は静電的に帯電させ、像形成的に活性
化用照射に露光し、軟化性層深部のマーキング材料の移
行に対する抵抗性を、少なくともマーキング粒子の移行
を可能にしそれによってマーキング材料が像形状で基体
に向けて移行するのに十分な程度に、低減させることに
よって現像する。
第4,536,458号は基体と該基体上の電気絶縁性軟化性層
とを含み、この軟化性層が基体から離れて置かれた軟化
性層の少なくとも表面または表面近くに存在させたマイ
グレーションマーキング粒子と電荷移送層とを含むマイ
グレーション像形成部材を開示している。軟化性層はス
チレンアクリレートコポリマー、ポリスチレン、アルキ
ッド置換ポリスチレン、スチレン−オレフィンコポリマ
ー、スチレン−コ−n−ヘキシルメタクリレート、固有
粘度0.179dl/gmを有するスチレンとヘキシルメタクリレ
ートの特注(即ち特別注文)合成80/20モル%コポリマ
ー、スチレンとヘキシルメタクリレートの他のコポリマ
ー、スチレン−ビニルトルエンコポリマー、およびこれ
らの混合物またはコポリマーを含み得る。該マイグレー
ション像形成部材は静電的に帯電させ、像形成的に活性
化用照射に露光し、軟化性層深部のマーキング材料の移
行に対する抵抗性を、少なくともマーキング粒子の移行
を可能にしそれによってマーキング材料が像形状で基体
に向けて移行するのに十分な程度に、低減させることに
よって現像する。
1985年8月20日付でマンタムに付与された米国特許第4,
536,457号は基体と該基体上の電気絶縁性軟化性層を含
み、該軟化性層が該基体から離れた該軟化性層の少なく
とも表面または表面近くに存在させたマイグレーション
マーキング材料および電荷移送分子とを含むマイグレー
ション像形成部材(例えば、米国特許第4,536,458号に
記載されている像形成部材)を均一に帯電させ像形成的
に活性化用照射に露光させた方法を開示している。軟化
性層中のマーキング材料の移行に対する抵抗は、その
後、マーキング材料の基体に向って深部での像形状での
わずかな移行を可能にするように十分に低下させ、さら
に、軟化性層中のマーキング材料の移行に対する抵抗を
非移行マーキング材料を凝集させるように十分に低下さ
せる。上記軟化性層はスチレンアクリレートコポリマ
ー、ポリスチレン、アルキッド置換ポリスチレン、スチ
レン−オレフィンコポリマー、スチレン−コ−n−ヘキ
シルメタクリレート、固有粘度0.179dl/gmを有するスチ
レンとヘキシルメタクリレートの特注合成80/20モルパ
ーセントコポリマー、スチレンとヘキシルメタクリレー
トの他のコポリマー、スチレン−ビニルトルエンコポリ
マー、およびこれらの混合物またはコポリマーを含み得
る。上記マイグレーション像形成部材は、例えば、水系
スチレン−アクリルコポリマー(ポリビニルケミカルイ
ンダストリーズ社より入手できるネオクリルA622)でオ
ーバーコーティングし得る。
536,457号は基体と該基体上の電気絶縁性軟化性層を含
み、該軟化性層が該基体から離れた該軟化性層の少なく
とも表面または表面近くに存在させたマイグレーション
マーキング材料および電荷移送分子とを含むマイグレー
ション像形成部材(例えば、米国特許第4,536,458号に
記載されている像形成部材)を均一に帯電させ像形成的
に活性化用照射に露光させた方法を開示している。軟化
性層中のマーキング材料の移行に対する抵抗は、その
後、マーキング材料の基体に向って深部での像形状での
わずかな移行を可能にするように十分に低下させ、さら
に、軟化性層中のマーキング材料の移行に対する抵抗を
非移行マーキング材料を凝集させるように十分に低下さ
せる。上記軟化性層はスチレンアクリレートコポリマ
ー、ポリスチレン、アルキッド置換ポリスチレン、スチ
レン−オレフィンコポリマー、スチレン−コ−n−ヘキ
シルメタクリレート、固有粘度0.179dl/gmを有するスチ
レンとヘキシルメタクリレートの特注合成80/20モルパ
ーセントコポリマー、スチレンとヘキシルメタクリレー
トの他のコポリマー、スチレン−ビニルトルエンコポリ
マー、およびこれらの混合物またはコポリマーを含み得
る。上記マイグレーション像形成部材は、例えば、水系
スチレン−アクリルコポリマー(ポリビニルケミカルイ
ンダストリーズ社より入手できるネオクリルA622)でオ
ーバーコーティングし得る。
1985年1月29日付でマンクム等に付与された米国特許第
4,492,642号は、基体、該基体上の電気絶縁性軟化性
層、およびフィルム形成性樹脂を含み一部が上記軟化性
層表面下に延びている保護オーバーコーティングとを含
むマイグレーション像形成部材を開示している。上記軟
化性層は基体から離れた軟化性層の少なくとも表面また
は表面近くに存在させたマイグレーションマーキング材
料および電荷移送分子とを含む。上記軟化性層もまたス
チレン−アクリレートコポリマー、ポリスチレン、アル
キッド置換ポリスチレン、スチレン−オレフィンコポリ
マー、スチレン−コ−n−ヘキシルメタクリレート、固
有粘度0.179dl/gmを有するスチレンとヘキシルメタクリ
レートの特注合成80/20モルパーセントコポリマー、ス
チレンとヘキシルメタクリレートの他のコポリマー、ス
チレン−ビニルトルエンコポリマー、およびこれらの混
合物またはコポリマーを含み得る。オーバーコーティン
グ層には、例えば、重量平均分子量約45,000を有するス
チレンとヘキシルメタクリレートの特注合成80/20モル
パーセントコポリマー、他のスチレンコポリマー、メタ
クリルコポリマー等がある。スチレンとブチルメタクリ
レートとのコポリマー(ポリビニルケミカルインダスト
リーズ社より入手できるネオクリルA622)を含有するオ
ーバーコーティングは実施例IおよびIIに開示されてい
る。上記マイグレーション像形成部材は静電的に帯電さ
せ、活性化用照射に像形成的に露光し、軟化性層深部の
マーキング材料の移行に対する抵抗性は少なくともマー
キング材料の移行を可能にするように十分に低下させそ
れによってマーキング材料が基体に向って像形成的に移
行することによって現像している。
4,492,642号は、基体、該基体上の電気絶縁性軟化性
層、およびフィルム形成性樹脂を含み一部が上記軟化性
層表面下に延びている保護オーバーコーティングとを含
むマイグレーション像形成部材を開示している。上記軟
化性層は基体から離れた軟化性層の少なくとも表面また
は表面近くに存在させたマイグレーションマーキング材
料および電荷移送分子とを含む。上記軟化性層もまたス
チレン−アクリレートコポリマー、ポリスチレン、アル
キッド置換ポリスチレン、スチレン−オレフィンコポリ
マー、スチレン−コ−n−ヘキシルメタクリレート、固
有粘度0.179dl/gmを有するスチレンとヘキシルメタクリ
レートの特注合成80/20モルパーセントコポリマー、ス
チレンとヘキシルメタクリレートの他のコポリマー、ス
チレン−ビニルトルエンコポリマー、およびこれらの混
合物またはコポリマーを含み得る。オーバーコーティン
グ層には、例えば、重量平均分子量約45,000を有するス
チレンとヘキシルメタクリレートの特注合成80/20モル
パーセントコポリマー、他のスチレンコポリマー、メタ
クリルコポリマー等がある。スチレンとブチルメタクリ
レートとのコポリマー(ポリビニルケミカルインダスト
リーズ社より入手できるネオクリルA622)を含有するオ
ーバーコーティングは実施例IおよびIIに開示されてい
る。上記マイグレーション像形成部材は静電的に帯電さ
せ、活性化用照射に像形成的に露光し、軟化性層深部の
マーキング材料の移行に対する抵抗性は少なくともマー
キング材料の移行を可能にするように十分に低下させそ
れによってマーキング材料が基体に向って像形成的に移
行することによって現像している。
チャン等に付与された米国特許第4,391,888号は基体、
ポリカーボネート層、バインダータイプ電荷励起層およ
び電荷移送層とを含む感光体を開示している。ポリカー
ボネート層は電荷ブロッキング層および接着層の両方と
して機能している。ポリカーボネートの分子層は30000
〜40000の範囲になり、接着層の好ましい厚さは0.1〜0.
2ミクロンの範囲である。
ポリカーボネート層、バインダータイプ電荷励起層およ
び電荷移送層とを含む感光体を開示している。ポリカー
ボネート層は電荷ブロッキング層および接着層の両方と
して機能している。ポリカーボネートの分子層は30000
〜40000の範囲になり、接着層の好ましい厚さは0.1〜0.
2ミクロンの範囲である。
ナカヤマに付与された米国特許第4,426,435号は伝導性
基体、接着層、光導電性層、および有機バインダー中に
分散させた金属酸化物の保護外側層とからなる像形成部
材の作製方法を開始している。接着層は感光体の保護金
属酸化物外側層と光導電性層との間に存在する。接着層
は外側層を光導電性層に結合させているだけでなく電荷
注入抑制層としても機能している。接着層はポリエステ
ル、エポキシまたはポリウレタン樹脂のような高分子有
機化合物から調製される。
基体、接着層、光導電性層、および有機バインダー中に
分散させた金属酸化物の保護外側層とからなる像形成部
材の作製方法を開始している。接着層は感光体の保護金
属酸化物外側層と光導電性層との間に存在する。接着層
は外側層を光導電性層に結合させているだけでなく電荷
注入抑制層としても機能している。接着層はポリエステ
ル、エポキシまたはポリウレタン樹脂のような高分子有
機化合物から調製される。
ヒロオカ等に付与された米国特許第4,517,271号はアル
ミニウム基体、アクリル樹脂中に分散させた硫化カドミ
ウムの光導電性層、および絶縁性保護層とを含む電子写
真感光性部材を開示している。硫化カドミウム光導電性
層はアクリル樹脂層と結合して光導電性層を安定化して
いる。絶縁性層はポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
スチレンまたはその他を含み、光導電性層を保護するよ
うに調製されている。
ミニウム基体、アクリル樹脂中に分散させた硫化カドミ
ウムの光導電性層、および絶縁性保護層とを含む電子写
真感光性部材を開示している。硫化カドミウム光導電性
層はアクリル樹脂層と結合して光導電性層を安定化して
いる。絶縁性層はポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ
スチレンまたはその他を含み、光導電性層を保護するよ
うに調製されている。
要するに、多くの従来技術マイグレーション像形成部材
の欠点は製造中、貯蔵中または使用中に厳しい操作条件
に供したときの下地層からの軟化性層のはがれである。
多くのマイグレーション像形成部材のもう1つの欠点は
コーティング中、貯蔵中および使用中の昇温、昇圧条件
下、特に、強くロールに巻いたときにブロッキングする
傾向である。さらにまた、電荷移送剤を含有する多くの
従来技術マイグレーション像形成部材から作製した静電
印刷用マスターの静電複写特性は、静電複写液体現像剤
を用いる静電複写印刷装置でサイクル操作するときに劣
化する。これらの欠点は、静電印刷用マスターを液体現
像剤と接触させながら静電印刷サイクル操作中の苛酷な
条件で使用するマイグレーション像形成部材において
は、特に好ましくない。
の欠点は製造中、貯蔵中または使用中に厳しい操作条件
に供したときの下地層からの軟化性層のはがれである。
多くのマイグレーション像形成部材のもう1つの欠点は
コーティング中、貯蔵中および使用中の昇温、昇圧条件
下、特に、強くロールに巻いたときにブロッキングする
傾向である。さらにまた、電荷移送剤を含有する多くの
従来技術マイグレーション像形成部材から作製した静電
印刷用マスターの静電複写特性は、静電複写液体現像剤
を用いる静電複写印刷装置でサイクル操作するときに劣
化する。これらの欠点は、静電印刷用マスターを液体現
像剤と接触させながら静電印刷サイクル操作中の苛酷な
条件で使用するマイグレーション像形成部材において
は、特に好ましくない。
従って、上記の欠点を克服する改良された像形成部材お
よび方法が求められている。
よび方法が求められている。
本発明の目的は機械的、電気的、化学的または熱的に安
定であり、はがれおよびブロッキングに対して抵抗性が
あり;製造中、貯蔵中および使用中に構造的一体性と像
形成特性を保持する信頼性あるマイグレーション像形成
部材を提供することである。
定であり、はがれおよびブロッキングに対して抵抗性が
あり;製造中、貯蔵中および使用中に構造的一体性と像
形成特性を保持する信頼性あるマイグレーション像形成
部材を提供することである。
本発明の上記および他の目的は、基体および該基体に隣
接する電気絶縁性軟化性層とを含み、該軟化性層が基体
から離れた軟化性層の実質的表面または表面近くに存在
させた電気的に感光性のマイグレーションマーキング材
料の破壊性層を含み;基体に隣接する少なくとも1つの
層中にスチレンとエチルアクリレートのコポリマーを含
み;該コポリマーが約40〜約80モル%のスチレンと約20
〜約60モル%のエチルアクリレートを含み、該コポリマ
ーが約4,000〜約35,000のMn、約10,000〜約80,000のM
w、約30℃〜約75℃のTg、および115℃で約1×102ポイ
ズ〜1×106ポイズの溶融粘度を有することを特徴とす
る改良されたマイグレーション像形成部材を提供するこ
とによって達成される。
接する電気絶縁性軟化性層とを含み、該軟化性層が基体
から離れた軟化性層の実質的表面または表面近くに存在
させた電気的に感光性のマイグレーションマーキング材
料の破壊性層を含み;基体に隣接する少なくとも1つの
層中にスチレンとエチルアクリレートのコポリマーを含
み;該コポリマーが約40〜約80モル%のスチレンと約20
〜約60モル%のエチルアクリレートを含み、該コポリマ
ーが約4,000〜約35,000のMn、約10,000〜約80,000のM
w、約30℃〜約75℃のTg、および115℃で約1×102ポイ
ズ〜1×106ポイズの溶融粘度を有することを特徴とす
る改良されたマイグレーション像形成部材を提供するこ
とによって達成される。
上記コポリマーはまた約25までの酸価を有し得、さら
に、約0〜約3モル%の炭素−炭素不飽和を有する共重
合性有機酸または炭素−炭素不飽和を有するその誘導体
を含み得る。
に、約0〜約3モル%の炭素−炭素不飽和を有する共重
合性有機酸または炭素−炭素不飽和を有するその誘導体
を含み得る。
本発明のマイグレーション像形成部材は、基体および該
基体に隣接する電気絶縁性軟化性層を含み、該軟化性層
が基体から離れた軟化性層の実質的表面または表面近く
に存在させた電気的に感光性のマイグレーションマーキ
ング材料の破壊性層を含み、基体に隣接する少なくとも
1つの層中のスチレンとエチルアクリレートのコポリマ
ーを含み、該コポリマーが約40〜約80モル%のスチレン
と約20〜約60モル%のエチルアクリレートを含み、該コ
ポリマーが約4,000〜約35,000のMn、約10,000〜約80,00
0のMw、約30℃〜約75℃のTgおよび115℃で約1×102〜
約1×106ポイズの溶融粘度とを有することを特徴とす
るマイグレーション像形成部材を用意し;該部材を静電
的に帯電させて該部材上に均一に電荷を付着させ;該部
材を上記均一電荷の実質的減衰前に像形成的に活性化用
照射に露光させ;該部材を上記軟化性層の深部のマーキ
ング材料の移行に対する抵抗を少なくともマーキング粒
子の移行を可能にしそれにマーキング材料が像形状で基
体に向かって移行するように十分に低下させることから
なる像形成方法において使用する。
基体に隣接する電気絶縁性軟化性層を含み、該軟化性層
が基体から離れた軟化性層の実質的表面または表面近く
に存在させた電気的に感光性のマイグレーションマーキ
ング材料の破壊性層を含み、基体に隣接する少なくとも
1つの層中のスチレンとエチルアクリレートのコポリマ
ーを含み、該コポリマーが約40〜約80モル%のスチレン
と約20〜約60モル%のエチルアクリレートを含み、該コ
ポリマーが約4,000〜約35,000のMn、約10,000〜約80,00
0のMw、約30℃〜約75℃のTgおよび115℃で約1×102〜
約1×106ポイズの溶融粘度とを有することを特徴とす
るマイグレーション像形成部材を用意し;該部材を静電
的に帯電させて該部材上に均一に電荷を付着させ;該部
材を上記均一電荷の実質的減衰前に像形成的に活性化用
照射に露光させ;該部材を上記軟化性層の深部のマーキ
ング材料の移行に対する抵抗を少なくともマーキング粒
子の移行を可能にしそれにマーキング材料が像形状で基
体に向かって移行するように十分に低下させることから
なる像形成方法において使用する。
上記コポリマーもまた約25までの酸価を有しさらに約0
〜約3モル%の炭素−炭素不飽和を有する共重合性有機
酸または炭素−炭素不飽和を有するその誘導体を含み得
る。
〜約3モル%の炭素−炭素不飽和を有する共重合性有機
酸または炭素−炭素不飽和を有するその誘導体を含み得
る。
また、本発明の範囲には、スチレンとエチルアクリレー
トのコポリマーが基体と軟化性層との間の均一な連続接
着層または電荷移送用スペーシング層中に存在し得る実
施態様も包含される。別の実施態様においては、スチレ
ンとエチルアクリレートのコポリマーは軟化性層中に存
在し得る。必要ならば、上記いずれかの層中のコポリマ
ーはスチレン、エチルアクリレートおよび炭素−炭素不
飽和を有する共重合性有機酸または該有機酸の共重合性
誘導体とのターポリマーであり得る。軟化性層は電荷移
送物質を含み得、この電荷移送物質は電気的に感光性の
マイグレーションマーキング材料から軟化性層への電荷
注入を増大させ得、電荷を基体に移送し得かつ軟化性層
中で溶解または分子的に分散し得るものである。
トのコポリマーが基体と軟化性層との間の均一な連続接
着層または電荷移送用スペーシング層中に存在し得る実
施態様も包含される。別の実施態様においては、スチレ
ンとエチルアクリレートのコポリマーは軟化性層中に存
在し得る。必要ならば、上記いずれかの層中のコポリマ
ーはスチレン、エチルアクリレートおよび炭素−炭素不
飽和を有する共重合性有機酸または該有機酸の共重合性
誘導体とのターポリマーであり得る。軟化性層は電荷移
送物質を含み得、この電荷移送物質は電気的に感光性の
マイグレーションマーキング材料から軟化性層への電荷
注入を増大させ得、電荷を基体に移送し得かつ軟化性層
中で溶解または分子的に分散し得るものである。
一般に、本発明のマイグレーション像形成部材は任意構
成成分としての伝導性層を有する基体、任意構成成分と
しての接着層、フィルム形成性ポリマーと電荷移送物質
を含む任意構成成分としての電荷移送スペーシング層、
任意構成成分としての電荷移送物質および基体の上部表
面と連続しているマイグレーションマーキング材料の破
壊性層とを含む軟化性層、任意構成成分としてのオーバ
ーコーティング層および上記軟化性層中のスチレンとエ
チルアクリレートコポリマー、電荷移送スペーシング
層、接着層またはこれらの組合せを含み得る。破壊性層
中のマーキング材料粒子は一般に互いに接触していない
が互いに1μm以下しか離れていない。種々の実施態様
において、支持基体は電気絶縁性または電導性のいずれ
かであり得る。例えば、支持基体は電導性の金属ドラム
またはプレートであり得る。幾つかの実施態様において
は、支持基体には伝導性層またはコーティングを有する
支持基体、例えば、アルミニウム処理ポリエステルフィ
ルムを含み得、この上には、任意構成成分としての接着
層、任意構成成分としての電荷移送スペーシング層また
は軟化性層をコーティングし得る。基体は、その上にコ
ーティングした電導性層自体が部分的または実質的に透
明である実施態様を包含する種々の実施態様において、
不透明、半透明または透明であり得る。軟化性層の上部
表面と連続するマーキング材料の破壊性層は軟化性物質
中に軟化性層上部表面においてわずかに、部分的に、実
質的にまたは全体的に埋め込み得る。
成成分としての伝導性層を有する基体、任意構成成分と
しての接着層、フィルム形成性ポリマーと電荷移送物質
を含む任意構成成分としての電荷移送スペーシング層、
任意構成成分としての電荷移送物質および基体の上部表
面と連続しているマイグレーションマーキング材料の破
壊性層とを含む軟化性層、任意構成成分としてのオーバ
ーコーティング層および上記軟化性層中のスチレンとエ
チルアクリレートコポリマー、電荷移送スペーシング
層、接着層またはこれらの組合せを含み得る。破壊性層
中のマーキング材料粒子は一般に互いに接触していない
が互いに1μm以下しか離れていない。種々の実施態様
において、支持基体は電気絶縁性または電導性のいずれ
かであり得る。例えば、支持基体は電導性の金属ドラム
またはプレートであり得る。幾つかの実施態様において
は、支持基体には伝導性層またはコーティングを有する
支持基体、例えば、アルミニウム処理ポリエステルフィ
ルムを含み得、この上には、任意構成成分としての接着
層、任意構成成分としての電荷移送スペーシング層また
は軟化性層をコーティングし得る。基体は、その上にコ
ーティングした電導性層自体が部分的または実質的に透
明である実施態様を包含する種々の実施態様において、
不透明、半透明または透明であり得る。軟化性層の上部
表面と連続するマーキング材料の破壊性層は軟化性物質
中に軟化性層上部表面においてわずかに、部分的に、実
質的にまたは全体的に埋め込み得る。
本発明の他の多層型の実施態様においては、軟化性層は
任意構成成分としての保護オーバーコーティング層でオ
ーバーコーティングし得る。本発明の新規なマイグレー
ション像形成部材においては、オーバーコーティング層
は接着またははく離材を含み得、あるいは外側層が接着
またははく離材を含む複数層を含み得る。
任意構成成分としての保護オーバーコーティング層でオ
ーバーコーティングし得る。本発明の新規なマイグレー
ション像形成部材においては、オーバーコーティング層
は接着またははく離材を含み得、あるいは外側層が接着
またははく離材を含む複数層を含み得る。
本発明のマイグレーション像形成部材は像形成させるこ
とによって静電印刷用マスターを作製し得る。静電印刷
用マスター用に使用する場合、本発明のマイグレーショ
ン像形成部材は軟化性層と電荷移送スペーシング層(電
荷移送スペーシング層は使用する場合)中に電荷移送物
質を含み得る。本発明のマイグレーション像形成部材は
均一電荷、活性化用照射への像形成的露光、および熱、
溶媒蒸気またはこれらの組合せの適用による現像による
ような公知のマイグレーション像形成法を用いて像形成
させて静電印刷用マスターを作製できる。得られた静電
印刷用マスターはその後通常のコロトロンのような適当
な装置により均一に帯電させる。次いで、付着させた均
一電荷を有する像形成部材は活性化用照射に均一に露光
させて静電潜像を形成させる。続いて、この静電像は静
電印刷用マスター上の電荷の極性とは反対極性に帯電さ
せたトナー粒子を供送する通常の静電複写現像法により
トナー付してトナー像を形成させる。この付着トナー像
は静電印刷用マスターから適当な受け入れ部材、例え
ば、紙に、該受け入れ部材の後面に均一電荷をコロトロ
ンのような適当な荷電装置によって適用することによっ
て転写する。トナー像の受け入れ部材への転写の後、転
写トナー像は融合法、ラミネーティング法等の周知の方
法により定着させ得る。その後、静電印刷用マスターの
像形成表面は必要に応じてクリーニングできる。帯電、
トナー付、転写およびクリーニングの各工程は高速で繰
返し得る。かくして、この静電印刷法は、繰返しの像の
露光なしで、通常の静電複写の簡易性、安定性および品
質の殆んどを保持している。クリーニング工程を用いる
ことは同じ領域を繰返しトナー付するので全く必要な
い。
とによって静電印刷用マスターを作製し得る。静電印刷
用マスター用に使用する場合、本発明のマイグレーショ
ン像形成部材は軟化性層と電荷移送スペーシング層(電
荷移送スペーシング層は使用する場合)中に電荷移送物
質を含み得る。本発明のマイグレーション像形成部材は
均一電荷、活性化用照射への像形成的露光、および熱、
溶媒蒸気またはこれらの組合せの適用による現像による
ような公知のマイグレーション像形成法を用いて像形成
させて静電印刷用マスターを作製できる。得られた静電
印刷用マスターはその後通常のコロトロンのような適当
な装置により均一に帯電させる。次いで、付着させた均
一電荷を有する像形成部材は活性化用照射に均一に露光
させて静電潜像を形成させる。続いて、この静電像は静
電印刷用マスター上の電荷の極性とは反対極性に帯電さ
せたトナー粒子を供送する通常の静電複写現像法により
トナー付してトナー像を形成させる。この付着トナー像
は静電印刷用マスターから適当な受け入れ部材、例え
ば、紙に、該受け入れ部材の後面に均一電荷をコロトロ
ンのような適当な荷電装置によって適用することによっ
て転写する。トナー像の受け入れ部材への転写の後、転
写トナー像は融合法、ラミネーティング法等の周知の方
法により定着させ得る。その後、静電印刷用マスターの
像形成表面は必要に応じてクリーニングできる。帯電、
トナー付、転写およびクリーニングの各工程は高速で繰
返し得る。かくして、この静電印刷法は、繰返しの像の
露光なしで、通常の静電複写の簡易性、安定性および品
質の殆んどを保持している。クリーニング工程を用いる
ことは同じ領域を繰返しトナー付するので全く必要な
い。
1つの特定の実施態様においては、電気的に接地した伝
導性基体、スチレンとエチルアクリレートのコポリマー
を含む軟化性層、電荷移送物質、およびマイグレーショ
ンマーキング材料の破壊性層とを含む静電印刷用マスタ
ープレカーサー部材はコロナ荷電装置による電荷によっ
て均一に帯電させその後活性化用照射に像形成的に露光
できる。その後、静電印刷用マスタープレカーサー部材
は溶媒蒸気への暴露次いで加熱により現像できる。溶媒
処理静電印刷用マスタープレカーサー部材へ熱エネルギ
ーを適用したとき、プレカーサー部材の静電印刷用マス
ターへの転化が完了する。溶媒蒸気処理はマイグレーシ
ョンマーキング材料破壊性層の露光領域内の露光粒子に
少量の正味電荷を保持させ、この電荷は基体へ向ってマ
ーキング粒子の深部での像形状でのほんのわずかな凝
集、わずかな融合、わずかな移行またはこれらの組合せ
を可能にする。これによりDmax領域を得る。一方、蒸気
処理と加熱の組合せは未露光粒子を実質的に凝集、融合
せしめて比較的少数であるが大きい凝集物または球状物
を形成する。これによりDmin領域を得る。即ち、最終静
電印刷用マスターにおける現像は極めて低い背景光学密
度を示す原像(通常の光レンズ露光装置を用いた場合)
の光学的に符号逆転可視像である。
導性基体、スチレンとエチルアクリレートのコポリマー
を含む軟化性層、電荷移送物質、およびマイグレーショ
ンマーキング材料の破壊性層とを含む静電印刷用マスタ
ープレカーサー部材はコロナ荷電装置による電荷によっ
て均一に帯電させその後活性化用照射に像形成的に露光
できる。その後、静電印刷用マスタープレカーサー部材
は溶媒蒸気への暴露次いで加熱により現像できる。溶媒
処理静電印刷用マスタープレカーサー部材へ熱エネルギ
ーを適用したとき、プレカーサー部材の静電印刷用マス
ターへの転化が完了する。溶媒蒸気処理はマイグレーシ
ョンマーキング材料破壊性層の露光領域内の露光粒子に
少量の正味電荷を保持させ、この電荷は基体へ向ってマ
ーキング粒子の深部での像形状でのほんのわずかな凝
集、わずかな融合、わずかな移行またはこれらの組合せ
を可能にする。これによりDmax領域を得る。一方、蒸気
処理と加熱の組合せは未露光粒子を実質的に凝集、融合
せしめて比較的少数であるが大きい凝集物または球状物
を形成する。これによりDmin領域を得る。即ち、最終静
電印刷用マスターにおける現像は極めて低い背景光学密
度を示す原像(通常の光レンズ露光装置を用いた場合)
の光学的に符号逆転可視像である。
作製した静電印刷用マスターはその後静電印刷法に使用
できる。静電印刷用マスターはコロナ荷電装置により均
一に帯電させ得る。静電印刷用マスターは暗中で均一に
絶縁性であるので、フリンジ領域を生じたり帯電イオン
をぼかしたりすることは全くなく、静電印刷用マスター
を均一に帯電させてその全表面に亘って十分な電位にす
ることができる。帯電させた静電印刷用マスターは次い
で光エネルギーに均一にフラッシュ露光させDmax領域上
の軟化性層の像形成表面部分を実質的に放電させかつDm
in領域上の部分に付着電荷の殆んどを保持させそれによ
って静電潜像を形成する。即ち、本発明の静電印刷用マ
スターの均一な帯電およびその後の均一な照射は主とし
てDmax領域内で光放電を生ぜしめて静電印刷用マスター
内に静電潜像を与える。静電潜像はその後トナー粒子で
現像してDmin領域上の静電潜像に相応するトナー像を形
成させる。Dmin領域上の絶縁材料の像形成パターン上の
電荷の極性と反対の極性を有するトナー粒子はDmin領域
上の対極荷電部分(凝集物または球状物)に引き付けら
れる。しかしながら、必要に応じて、トナーは帯電領域
(Dmin)と同じ極性を有するトナー粒子を用いることに
よって放電領域(Dmax)内に付着させてもよい。次い
で、現像剤はDmin領域上の電荷によって反発されて放電
領域内(Dmax)内に付着する。また、周知の電気的にバ
イアスされた現像電極も必要に応じて用いてトナー粒子
を像形成表面の帯電または放電領域のいずれかに向ける
ことができる。次いで、付着トナー粒子は紙のような受
け入れ部材に該受け入れ部材の後面に適当なコロナ装置
によって静電荷を適用することによって転写できるその
後、転写トナー像はオーブン定着機のような通常の手段
によって定着させる。この現像、転写および定着の各工
程は静電複写像形成において通常用いる工程と同一であ
る。
できる。静電印刷用マスターはコロナ荷電装置により均
一に帯電させ得る。静電印刷用マスターは暗中で均一に
絶縁性であるので、フリンジ領域を生じたり帯電イオン
をぼかしたりすることは全くなく、静電印刷用マスター
を均一に帯電させてその全表面に亘って十分な電位にす
ることができる。帯電させた静電印刷用マスターは次い
で光エネルギーに均一にフラッシュ露光させDmax領域上
の軟化性層の像形成表面部分を実質的に放電させかつDm
in領域上の部分に付着電荷の殆んどを保持させそれによ
って静電潜像を形成する。即ち、本発明の静電印刷用マ
スターの均一な帯電およびその後の均一な照射は主とし
てDmax領域内で光放電を生ぜしめて静電印刷用マスター
内に静電潜像を与える。静電潜像はその後トナー粒子で
現像してDmin領域上の静電潜像に相応するトナー像を形
成させる。Dmin領域上の絶縁材料の像形成パターン上の
電荷の極性と反対の極性を有するトナー粒子はDmin領域
上の対極荷電部分(凝集物または球状物)に引き付けら
れる。しかしながら、必要に応じて、トナーは帯電領域
(Dmin)と同じ極性を有するトナー粒子を用いることに
よって放電領域(Dmax)内に付着させてもよい。次い
で、現像剤はDmin領域上の電荷によって反発されて放電
領域内(Dmax)内に付着する。また、周知の電気的にバ
イアスされた現像電極も必要に応じて用いてトナー粒子
を像形成表面の帯電または放電領域のいずれかに向ける
ことができる。次いで、付着トナー粒子は紙のような受
け入れ部材に該受け入れ部材の後面に適当なコロナ装置
によって静電荷を適用することによって転写できるその
後、転写トナー像はオーブン定着機のような通常の手段
によって定着させる。この現像、転写および定着の各工
程は静電複写像形成において通常用いる工程と同一であ
る。
別の像形成法においては、電気的に接地した伝導性基
体、スチレンとエチルアクリレートのコポリマーを含む
軟化性層、この軟化性層中の電荷移送物質およびマイグ
レーションマーキング材料の破壊性層とを含む静電印刷
用マスタープレカーサー部材はコロナ荷電手段によって
均一に帯電させ、その後、活性化用照射に像形成的に露
光する。次いで、露光させた静電印刷用マスタープレカ
ーサー部材を加熱のみまたは溶媒蒸気のみによって現像
して該プレカーサー部材を静電印刷用マスターに転換す
る。マイグレーションマーキング材料の破壊性層の露光
領域中の露光粒子は基体に向って深部に像形成に移行
し、Dmin領域を与える。未露光領域は実質的に元の位置
に残りDmax領域を与える。即ち、最終静電印刷用マスタ
ー中の現像は原像の光学的に符号保持性の可視像である
(通常の光レンズ露光装置を使用した場合)。
体、スチレンとエチルアクリレートのコポリマーを含む
軟化性層、この軟化性層中の電荷移送物質およびマイグ
レーションマーキング材料の破壊性層とを含む静電印刷
用マスタープレカーサー部材はコロナ荷電手段によって
均一に帯電させ、その後、活性化用照射に像形成的に露
光する。次いで、露光させた静電印刷用マスタープレカ
ーサー部材を加熱のみまたは溶媒蒸気のみによって現像
して該プレカーサー部材を静電印刷用マスターに転換す
る。マイグレーションマーキング材料の破壊性層の露光
領域中の露光粒子は基体に向って深部に像形成に移行
し、Dmin領域を与える。未露光領域は実質的に元の位置
に残りDmax領域を与える。即ち、最終静電印刷用マスタ
ー中の現像は原像の光学的に符号保持性の可視像である
(通常の光レンズ露光装置を使用した場合)。
上部で作製した静電印刷用マスターは、その後、静電印
刷法に使用できる。該静電印刷用マスターはコロナ荷電
装置により均一に帯電させ次いで光エネルギーに均一に
フラッシュ露光させてDmax領域上の軟化性層の像形成表
面の部分(移行してない)を実質的に放電させDmin領域
上の部分(移行した)に付着電荷の殆んどを残存させそ
れによって静電潜像を形成できる。即ち、本発明の静電
印刷用マスターの均一帯電およびその後の均一照射は主
としてマスターのDmax領域内で光放電を起させる。次い
で、静電潜像はトナー粒子で現像してDmin領域上の静電
潜像に相応するトナー像を形成させ得る。Dmin領域上の
絶縁材料の像形成パターン上の電荷の極性と反対の極性
を有するトナー粒子はDmin領域上の反対荷電部分(移行
した)に引き付けられる。しかしながら、必要に応じ
て、トナーは帯電領域(Dmin)と同じ極性を有するトナ
ー粒子を用いることによって放電領域(Dmax)に付着さ
せてもよい。現像剤はその時Dmin領域上の電荷によって
反発されて放電領域(Dmax領域)に付着するであろう。
付着トナー像は、その後、紙のような受け入れ部材に、
該受け入れ部材の後面に適当なコロナ装置によって静電
荷を適用することによって転写できる。転写トナー像
は、その後、オーブン定着機のような適当な手段により
定着させる。現像、転写および定着の各工程は静電複写
像形成において通常使用する工程と同じである。
刷法に使用できる。該静電印刷用マスターはコロナ荷電
装置により均一に帯電させ次いで光エネルギーに均一に
フラッシュ露光させてDmax領域上の軟化性層の像形成表
面の部分(移行してない)を実質的に放電させDmin領域
上の部分(移行した)に付着電荷の殆んどを残存させそ
れによって静電潜像を形成できる。即ち、本発明の静電
印刷用マスターの均一帯電およびその後の均一照射は主
としてマスターのDmax領域内で光放電を起させる。次い
で、静電潜像はトナー粒子で現像してDmin領域上の静電
潜像に相応するトナー像を形成させ得る。Dmin領域上の
絶縁材料の像形成パターン上の電荷の極性と反対の極性
を有するトナー粒子はDmin領域上の反対荷電部分(移行
した)に引き付けられる。しかしながら、必要に応じ
て、トナーは帯電領域(Dmin)と同じ極性を有するトナ
ー粒子を用いることによって放電領域(Dmax)に付着さ
せてもよい。現像剤はその時Dmin領域上の電荷によって
反発されて放電領域(Dmax領域)に付着するであろう。
付着トナー像は、その後、紙のような受け入れ部材に、
該受け入れ部材の後面に適当なコロナ装置によって静電
荷を適用することによって転写できる。転写トナー像
は、その後、オーブン定着機のような適当な手段により
定着させる。現像、転写および定着の各工程は静電複写
像形成において通常使用する工程と同じである。
支持基体は電気絶縁性または電導性のいずれかであり得
る。基体および基体が支持する静電印刷用マスタープレ
カーサー部材全体はウェブ、ホイル、ラミネートまたは
同等物、ストリップ、シート、コイル、円筒状物、ドラ
ム、エンドレスベルト、エンドレスメービウスストリッ
プ、皿盤または他の形状を包含する任意の適当な形状で
あり得る。本発明はこれら形状のいずれかでの使用に特
に適する。典型的な支持基体には、アルミニウム処理ポ
リエステル、透明伝導性ポリマーでコーティングしたポ
リエステルフィルム、金属プレート、ドラム等がある。
幾つかの実施態様においては、電導性基体は表面上にコ
ーティングした伝導性層またはコーティングを有する支
持基体を含み、その上には、また任意構成成分としての
接着層、任意構成成分としての電荷移送スペーシング層
または軟化性層をコーティングする。基体は、その上に
コーティングした電導性層自体が部分的にまたは実質的
に透明である実施態様を包含する種々の実施態様におい
て、不透明、半透明、または透明であり得る。伝導性層
は、例えば、真空蒸発金属または金属酸化物のコーティ
ング、金属ホイル、バインダー中に分散させた電導性粒
子等であり得る。典型的な金属または金属酸化物には、
アルミニウム、インジウム、金、酸化錫、インジウム錫
酸化物、銀、ニッケル等がある。
る。基体および基体が支持する静電印刷用マスタープレ
カーサー部材全体はウェブ、ホイル、ラミネートまたは
同等物、ストリップ、シート、コイル、円筒状物、ドラ
ム、エンドレスベルト、エンドレスメービウスストリッ
プ、皿盤または他の形状を包含する任意の適当な形状で
あり得る。本発明はこれら形状のいずれかでの使用に特
に適する。典型的な支持基体には、アルミニウム処理ポ
リエステル、透明伝導性ポリマーでコーティングしたポ
リエステルフィルム、金属プレート、ドラム等がある。
幾つかの実施態様においては、電導性基体は表面上にコ
ーティングした伝導性層またはコーティングを有する支
持基体を含み、その上には、また任意構成成分としての
接着層、任意構成成分としての電荷移送スペーシング層
または軟化性層をコーティングする。基体は、その上に
コーティングした電導性層自体が部分的にまたは実質的
に透明である実施態様を包含する種々の実施態様におい
て、不透明、半透明、または透明であり得る。伝導性層
は、例えば、真空蒸発金属または金属酸化物のコーティ
ング、金属ホイル、バインダー中に分散させた電導性粒
子等であり得る。典型的な金属または金属酸化物には、
アルミニウム、インジウム、金、酸化錫、インジウム錫
酸化物、銀、ニッケル等がある。
本発明のマイグレーション像形成部材は基体と基体上の
少なくとも1つの層中のスチレンとエチルアクリレート
のコポリマーとを含み、該コポリマーは約40〜約80モル
%のスチレンと約20〜約60モル%のエチルアクリレート
を含み、該コポリマーは約4,000〜約35,000のMn、約10,
000〜約80,000のMw、約30℃〜約75℃のTg、および115℃
で約1×103ポイズ〜約1×106ポイズの溶融粘度を有す
る。また、このコポリマーは約25までの酸価を有し、約
0〜約3モル%の炭素−炭素不飽和を有する任意の適当
な共重合性有機酸または該炭素−炭素不飽和を有する有
機酸の共重合性誘導体を含み得る。典型的な炭素−炭素
不飽和を有する有機酸およびその誘導体にはアクリル
酸、メタクリル酸、ビニル酢酸、イタコン酸、アリル酢
酸、これらの混合物、およびこれらの誘導体等がある。
アクリル酸が上記コポリマー含有層の隣接層との大いに
改良された接着性故にコポリマーの成分として特に好ま
しい。
少なくとも1つの層中のスチレンとエチルアクリレート
のコポリマーとを含み、該コポリマーは約40〜約80モル
%のスチレンと約20〜約60モル%のエチルアクリレート
を含み、該コポリマーは約4,000〜約35,000のMn、約10,
000〜約80,000のMw、約30℃〜約75℃のTg、および115℃
で約1×103ポイズ〜約1×106ポイズの溶融粘度を有す
る。また、このコポリマーは約25までの酸価を有し、約
0〜約3モル%の炭素−炭素不飽和を有する任意の適当
な共重合性有機酸または該炭素−炭素不飽和を有する有
機酸の共重合性誘導体を含み得る。典型的な炭素−炭素
不飽和を有する有機酸およびその誘導体にはアクリル
酸、メタクリル酸、ビニル酢酸、イタコン酸、アリル酢
酸、これらの混合物、およびこれらの誘導体等がある。
アクリル酸が上記コポリマー含有層の隣接層との大いに
改良された接着性故にコポリマーの成分として特に好ま
しい。
このスチレンとエチルアルコールとのコポリマー(炭素
−炭素不飽和を有する共重合性有機酸またはその共重合
性誘導体を含むまたは含まない)は、静電複写液体現像
剤と接触させたとき、電荷移送分子の本発明のマイグレ
ーション像形成部材へのリーチング(滲出)に対する優
れた抵抗性を与える。本発明のコポリマーのスチレンま
たはエチルアクリレートをヘキシルメタクリレート、ブ
チルメタクリレート、アクリレート等の他のアクリレー
トで約10%よりも多い量で置き換えることは電荷移送物
質含有層の非リーチング特性を実質的に減損させる結果
となる。スチレン−エチルアクリレートコポリマー中に
アクリル酸、またはメタクリル酸のような炭素−炭素不
飽和を有する他の適当な共重合性有機酸およびこれらの
誘導体を含有させることは、アルミニウム処理ポリエス
テル基体の酸化アルミニウムのような金属処理基体の酸
化物との促進された水素結合故に、層の接着性を向上さ
せる。上記した範囲のMn;Mw、Tgおよび溶融粘度を有す
るスチレンとエチルアクリレートのコポリマーは軟化性
層の軟化のための理想的な粘弾性を与えてマーキング粒
子の移行を容易にし、像形成部材を加熱、蒸気または蒸
気/加熱の組合せのいずれかによって現像したとき像を
形成する。さらに、コポリマーの比較的高いTgは優れた
耐ブロッキング特性を付与するのに必要である。これら
の性質を有するスチレンとエチルアクリレートの任意の
適当なコポリマーを本発明のマイグレーション像形成部
材で使用できる。これらの性質を有する典型的なスチレ
ン−エチルメタクリレートコポリマーにはモンサント社
より入手できるRP1215(これは約75モル%のスチレン、
約25モル%のエチルアクリレート、および約1モル%の
アクリル酸を含むターポリマーであると信じられてお
り、このコポリマーは約30,000のMn、約72,000のMw、約
8の酸価、約65℃のTgおよび115℃で約6×105ポイズの
溶融粘度を有する);デソト(DeSoto)社より入手でき
るE−335(これは約48モル%のスチレン、約50モル%
のエチルアクリレートおよび約2モル%のアクリル酸を
含むターポリマーであると信じられており、このコポリ
マーは約21,000のMn、約54,000のMw、約15の酸価、約36
℃のTg、および115℃で約3×103ポイズの溶融粘度を有
する);デソト社より入手できるE−048(これは約48
モル%のスチレン、約51モル%のエチルアクリレートお
よび約2モル%のアクリル酸を含むターポリマーである
と信じられており、このコポリマーは約26,000のMn、約
49000のMw、約18の酸価、および約32℃のTgを有す
る);デソト社より入手できるE−351(これは約48モ
ル%のスチレン、約50モル%のエチルアクリレート、約
2モル%のアクリル酸を含むターポリマーであると信じ
られており、このコポリマーは約15,000のMn、約52,000
のMw、約18の酸価および約39℃のTgを有する);約76モ
ル%のスチレン、約22モル%のエチルアクリレート、約
2モル%のアクリル酸を含む特注合成ターポリマー(こ
のコポリマーは約27,000のMn、約48,000のMw、約15の酸
価、約68℃のTg、および115℃で約3×104ポイズの溶融
粘度を有する);約73モル%のスチレン、約27モル%の
エチルアクリレート、約0モル%のアクリル酸を含む特
注合成コポリマー(このコポリマーは約30,000のMn、約
52,000のMw、約0の酸価、約68℃のTg、および115℃で
約5×104ポイズの溶融粘度を有する);および約66モ
ル%のスチレン、約34モル%のエチルアクリレート、約
0モル%のアクリル酸を含む特注合成コポリマー(この
コポリマーは約16,000のMn、約28,000のMw、約0の酸
価、約60℃のTg、および115℃で約7×103ポイズの溶融
粘度を有する)等がある。
−炭素不飽和を有する共重合性有機酸またはその共重合
性誘導体を含むまたは含まない)は、静電複写液体現像
剤と接触させたとき、電荷移送分子の本発明のマイグレ
ーション像形成部材へのリーチング(滲出)に対する優
れた抵抗性を与える。本発明のコポリマーのスチレンま
たはエチルアクリレートをヘキシルメタクリレート、ブ
チルメタクリレート、アクリレート等の他のアクリレー
トで約10%よりも多い量で置き換えることは電荷移送物
質含有層の非リーチング特性を実質的に減損させる結果
となる。スチレン−エチルアクリレートコポリマー中に
アクリル酸、またはメタクリル酸のような炭素−炭素不
飽和を有する他の適当な共重合性有機酸およびこれらの
誘導体を含有させることは、アルミニウム処理ポリエス
テル基体の酸化アルミニウムのような金属処理基体の酸
化物との促進された水素結合故に、層の接着性を向上さ
せる。上記した範囲のMn;Mw、Tgおよび溶融粘度を有す
るスチレンとエチルアクリレートのコポリマーは軟化性
層の軟化のための理想的な粘弾性を与えてマーキング粒
子の移行を容易にし、像形成部材を加熱、蒸気または蒸
気/加熱の組合せのいずれかによって現像したとき像を
形成する。さらに、コポリマーの比較的高いTgは優れた
耐ブロッキング特性を付与するのに必要である。これら
の性質を有するスチレンとエチルアクリレートの任意の
適当なコポリマーを本発明のマイグレーション像形成部
材で使用できる。これらの性質を有する典型的なスチレ
ン−エチルメタクリレートコポリマーにはモンサント社
より入手できるRP1215(これは約75モル%のスチレン、
約25モル%のエチルアクリレート、および約1モル%の
アクリル酸を含むターポリマーであると信じられてお
り、このコポリマーは約30,000のMn、約72,000のMw、約
8の酸価、約65℃のTgおよび115℃で約6×105ポイズの
溶融粘度を有する);デソト(DeSoto)社より入手でき
るE−335(これは約48モル%のスチレン、約50モル%
のエチルアクリレートおよび約2モル%のアクリル酸を
含むターポリマーであると信じられており、このコポリ
マーは約21,000のMn、約54,000のMw、約15の酸価、約36
℃のTg、および115℃で約3×103ポイズの溶融粘度を有
する);デソト社より入手できるE−048(これは約48
モル%のスチレン、約51モル%のエチルアクリレートお
よび約2モル%のアクリル酸を含むターポリマーである
と信じられており、このコポリマーは約26,000のMn、約
49000のMw、約18の酸価、および約32℃のTgを有す
る);デソト社より入手できるE−351(これは約48モ
ル%のスチレン、約50モル%のエチルアクリレート、約
2モル%のアクリル酸を含むターポリマーであると信じ
られており、このコポリマーは約15,000のMn、約52,000
のMw、約18の酸価および約39℃のTgを有する);約76モ
ル%のスチレン、約22モル%のエチルアクリレート、約
2モル%のアクリル酸を含む特注合成ターポリマー(こ
のコポリマーは約27,000のMn、約48,000のMw、約15の酸
価、約68℃のTg、および115℃で約3×104ポイズの溶融
粘度を有する);約73モル%のスチレン、約27モル%の
エチルアクリレート、約0モル%のアクリル酸を含む特
注合成コポリマー(このコポリマーは約30,000のMn、約
52,000のMw、約0の酸価、約68℃のTg、および115℃で
約5×104ポイズの溶融粘度を有する);および約66モ
ル%のスチレン、約34モル%のエチルアクリレート、約
0モル%のアクリル酸を含む特注合成コポリマー(この
コポリマーは約16,000のMn、約28,000のMw、約0の酸
価、約60℃のTg、および115℃で約7×103ポイズの溶融
粘度を有する)等がある。
本発明の像形成部材に用いる上記コポリマーは任意の適
当な周知の方法により調製できる。1つの典型的な合成
方法は、例えば、モノマー、即ち、スチレン、エチルア
クリレートおよび炭素−炭素不飽和を有する共重合性有
機酸とを一部のトルエン溶媒を含む反応容器に加える工
程を包含する。これらのモノマーをモノマー溶液中に窒
素をバッブリングさせることによって反応系をパージし
ながら反応器温度(70℃〜100℃)に平衡させる。モノ
マー溶液は反応系のパージ中およびその後の重合中攪拌
する。開始剤を第2部分のトルエン溶媒に加えて、反応
容器に添加する前にトルエン溶媒に溶解または混合す
る。次いで、重合を5〜7時間進行せしめ、その間、反
応器中の温度を冷却して制御する。
当な周知の方法により調製できる。1つの典型的な合成
方法は、例えば、モノマー、即ち、スチレン、エチルア
クリレートおよび炭素−炭素不飽和を有する共重合性有
機酸とを一部のトルエン溶媒を含む反応容器に加える工
程を包含する。これらのモノマーをモノマー溶液中に窒
素をバッブリングさせることによって反応系をパージし
ながら反応器温度(70℃〜100℃)に平衡させる。モノ
マー溶液は反応系のパージ中およびその後の重合中攪拌
する。開始剤を第2部分のトルエン溶媒に加えて、反応
容器に添加する前にトルエン溶媒に溶解または混合す
る。次いで、重合を5〜7時間進行せしめ、その間、反
応器中の温度を冷却して制御する。
基体に隣接する層は任意構成成分としての接着層、任意
構成成分としてのスペーシング層または軟化性層であり
得る。本発明のマイグレーション像形成部材のはがれに
対する改良された抵抗性を得るためには、スチレンとエ
チルアクリレートのコポリマーは下地の基体と連続しか
つ接触した層中に存在すべきである。静電印刷用マスタ
ーを液体現像剤(これは、通常、静電印刷用マスターの
軟化性層から電荷移送物質をリーチングせしめる)で現
像するときに長時間のサイクル操作安定性を得るために
は、スチレンとエチルアクリレートのコポリマーは軟化
性層中に存在すべきである。いずれにせよ、基体に隣接
する層の少なくとも1つ、即ち、本発明のマイグレーシ
ョン像形成部材の任意構成成分としての接着層、任意構
成成分としての電荷移送スペーシング層または軟化層が
上述のスチレンとエチルアクリレートのコポリマーを含
まなければならない。
構成成分としてのスペーシング層または軟化性層であり
得る。本発明のマイグレーション像形成部材のはがれに
対する改良された抵抗性を得るためには、スチレンとエ
チルアクリレートのコポリマーは下地の基体と連続しか
つ接触した層中に存在すべきである。静電印刷用マスタ
ーを液体現像剤(これは、通常、静電印刷用マスターの
軟化性層から電荷移送物質をリーチングせしめる)で現
像するときに長時間のサイクル操作安定性を得るために
は、スチレンとエチルアクリレートのコポリマーは軟化
性層中に存在すべきである。いずれにせよ、基体に隣接
する層の少なくとも1つ、即ち、本発明のマイグレーシ
ョン像形成部材の任意構成成分としての接着層、任意構
成成分としての電荷移送スペーシング層または軟化層が
上述のスチレンとエチルアクリレートのコポリマーを含
まなければならない。
前述したように、接着層を本発明のマイグレーション像
形成部材の1つの実施態様で用いて、マイグレーション
像形成部材の像形成特定を低下させることなく、耐はが
れ性および耐ブロッキング性をマイグレーション像形成
部材に付与させる場合、接着層は、好ましくは、約40〜
約80モル%のスチレン、約20〜60モル%のエチルアクリ
レート、および約1〜3モル%の炭素−炭素不飽和を有
する共重合性有機酸または該炭素−炭素不飽和を有する
有機酸の共重合合成誘導体とを含むターポリマーを含む
べきであり、このターポリマーは約10,000〜約35,000の
Mn、約25,000〜約80,000のMw、約25までの酸価、約30℃
〜約75℃のTg、および115℃で約103ポイズ〜約106ポイ
ズの溶融粘度を有する。最適には、接着層は約40〜約80
モル%のスチレン、約20〜約60モル%のエチルアクリレ
ート、および約1〜約3モル%の炭素−炭素不飽和を有
する共重合性有機酸または該炭素−炭素不飽和を有する
有機酸の共重合性誘導体(特にアクリル酸)を含むター
ポリマーを含み、このターポリマーは約15,000〜約35,0
00のMn、約30,000〜約80,000のMw、約25までの酸価、約
35℃〜約75℃のTg、および115℃で約5×103ポイズ〜約
106ポイズの溶融粘度を有する。スチレン、エチルアク
リレートおよび上記分子量の好ましい範囲はコポリマー
に十分に高いTgを付与して十分な耐ブロッキング性が像
形成部材の製造および使用のすべての実施条件下で確立
される。アクリル酸、メタクリル酸または他の適当な有
機酸のような炭素−炭素不飽和を有する共重合性有機酸
またはその誘導体をスチレン−エチルアクリレートコポ
リマーと組合せてターポリマーを調製して本発明の優れ
た接着特性を付与させる場合、共重合性有機酸の量は約
1〜約3モル%であることが好ましい。基体に対する接
着強度をわずかに犠牲にして上記よりわずかに少量の共
重合性有機酸を用いてもよい。また、幾分多目の共重合
性有機酸を使用してもよいが接着強度はさらに有意には
改良されない。炭素−炭素不飽和を有する典型的な有機
酸またはその誘導体にはアクリル酸、メタクリル酸、ビ
ニル酢酸、イタコン酸、アリル酢酸、これらの混合物、
およびこれらの誘導体がある。アクリル酸は、達成され
る大いに改良された酸はがれ性および耐ブロッキング性
故に、ターポリマーの1成分として特に好ましいもので
ある。他の物質も接着性を改良し得るけれども、デュポ
ン49001ポリエステル接着剤のようなある種の物質は、
特に、加熱のみを用いて像形成部材を現像するとき像形
成部材の像形成特性を低下させる。何故ならば、多くの
接着材料は電極からの電荷注入を生じてマイグレーショ
ンに必要なマイグレーション粒子中の正味の電荷を中和
するからである。これは実質的なDminの増大をもたら
す。さらに、49001ポリエステル接着剤はコーティング
した部材をロールに強く巻くときにコーティング中にブ
ロッキングする傾向を示す。
形成部材の1つの実施態様で用いて、マイグレーション
像形成部材の像形成特定を低下させることなく、耐はが
れ性および耐ブロッキング性をマイグレーション像形成
部材に付与させる場合、接着層は、好ましくは、約40〜
約80モル%のスチレン、約20〜60モル%のエチルアクリ
レート、および約1〜3モル%の炭素−炭素不飽和を有
する共重合性有機酸または該炭素−炭素不飽和を有する
有機酸の共重合合成誘導体とを含むターポリマーを含む
べきであり、このターポリマーは約10,000〜約35,000の
Mn、約25,000〜約80,000のMw、約25までの酸価、約30℃
〜約75℃のTg、および115℃で約103ポイズ〜約106ポイ
ズの溶融粘度を有する。最適には、接着層は約40〜約80
モル%のスチレン、約20〜約60モル%のエチルアクリレ
ート、および約1〜約3モル%の炭素−炭素不飽和を有
する共重合性有機酸または該炭素−炭素不飽和を有する
有機酸の共重合性誘導体(特にアクリル酸)を含むター
ポリマーを含み、このターポリマーは約15,000〜約35,0
00のMn、約30,000〜約80,000のMw、約25までの酸価、約
35℃〜約75℃のTg、および115℃で約5×103ポイズ〜約
106ポイズの溶融粘度を有する。スチレン、エチルアク
リレートおよび上記分子量の好ましい範囲はコポリマー
に十分に高いTgを付与して十分な耐ブロッキング性が像
形成部材の製造および使用のすべての実施条件下で確立
される。アクリル酸、メタクリル酸または他の適当な有
機酸のような炭素−炭素不飽和を有する共重合性有機酸
またはその誘導体をスチレン−エチルアクリレートコポ
リマーと組合せてターポリマーを調製して本発明の優れ
た接着特性を付与させる場合、共重合性有機酸の量は約
1〜約3モル%であることが好ましい。基体に対する接
着強度をわずかに犠牲にして上記よりわずかに少量の共
重合性有機酸を用いてもよい。また、幾分多目の共重合
性有機酸を使用してもよいが接着強度はさらに有意には
改良されない。炭素−炭素不飽和を有する典型的な有機
酸またはその誘導体にはアクリル酸、メタクリル酸、ビ
ニル酢酸、イタコン酸、アリル酢酸、これらの混合物、
およびこれらの誘導体がある。アクリル酸は、達成され
る大いに改良された酸はがれ性および耐ブロッキング性
故に、ターポリマーの1成分として特に好ましいもので
ある。他の物質も接着性を改良し得るけれども、デュポ
ン49001ポリエステル接着剤のようなある種の物質は、
特に、加熱のみを用いて像形成部材を現像するとき像形
成部材の像形成特性を低下させる。何故ならば、多くの
接着材料は電極からの電荷注入を生じてマイグレーショ
ンに必要なマイグレーション粒子中の正味の電荷を中和
するからである。これは実質的なDminの増大をもたら
す。さらに、49001ポリエステル接着剤はコーティング
した部材をロールに強く巻くときにコーティング中にブ
ロッキングする傾向を示す。
接着層中に本発明のエチレンエチルアクリレートターポ
リマーを有する像形成部材は優れた像形成特性、優れた
耐ブロッキング性を有し、製造中に恐らく遭遇する条件
よりもはるかに厳しい条件下および実際の使用条件下で
の接着テープ試験および高張力巻き取り試験に劣下なし
に耐える。スチレンエチルアクリレートターポリマーは
高度に絶縁性であり、伝導性基体とブロッキング接触を
形成して電荷注入を防止し、光学的に透明であり、可撓
性である。
リマーを有する像形成部材は優れた像形成特性、優れた
耐ブロッキング性を有し、製造中に恐らく遭遇する条件
よりもはるかに厳しい条件下および実際の使用条件下で
の接着テープ試験および高張力巻き取り試験に劣下なし
に耐える。スチレンエチルアクリレートターポリマーは
高度に絶縁性であり、伝導性基体とブロッキング接触を
形成して電荷注入を防止し、光学的に透明であり、可撓
性である。
本発明のマイグレーション像形成部材の実施態様に存在
する場合、接着層は、接着層の総重量基準で、少なくと
も約80重量%のスチレンエチルアクリレートターポリマ
ーを含んで本発明の優れた像形成性、接着性および耐ブ
ロッキング性を達成すべきである。必要ならば、少量の
他の相溶性ポリマーのような他の適当な物質をスチレン
とエチルアクリレートのターポリマーに加えてもよい。
接着層に加え得る典型的な物質には、例えば、スチレン
ヘキシルメタクリレート、スチレンブチルメタクリレー
ト、スチレンブタジェン等がある。接着層を用いる場
合、接着層は約1μm以下好ましくは約0.5μm以下の
厚さを有する均一な連続層を形成して像形成部材を静電
印刷法での静電印刷用マスターとして使用する場合に満
足できる光放電を確立しなければならない。
する場合、接着層は、接着層の総重量基準で、少なくと
も約80重量%のスチレンエチルアクリレートターポリマ
ーを含んで本発明の優れた像形成性、接着性および耐ブ
ロッキング性を達成すべきである。必要ならば、少量の
他の相溶性ポリマーのような他の適当な物質をスチレン
とエチルアクリレートのターポリマーに加えてもよい。
接着層に加え得る典型的な物質には、例えば、スチレン
ヘキシルメタクリレート、スチレンブチルメタクリレー
ト、スチレンブタジェン等がある。接着層を用いる場
合、接着層は約1μm以下好ましくは約0.5μm以下の
厚さを有する均一な連続層を形成して像形成部材を静電
印刷法での静電印刷用マスターとして使用する場合に満
足できる光放電を確立しなければならない。
電荷移送スペーシング層を本発明のマイグレーション像
形成部材の1つの実施態様に含有させ得る。しかしなが
ら、マイグレーション像形成部材を像形成させて静電印
刷用のマスターを形成すべき場合には、任意構成成分と
しての電荷移送スペーシング層は、特に、軟化性層材料
が接着力のような所定の機械的性質を有さないときに、
静電印刷用マスターの機械的および静電印刷特性を最大
にするのに有利に使用できる。静電印刷用マスター中の
電荷移送スペーシング層は像形成性軟化性層から注入電
荷の伝導性層への移送;像形成性軟化性層と伝導性層ま
たは基体(基体が電導性であり、別個の接着層を用いな
い場合)との間の界面接着剤としての機能;および像形
成表面と伝導性層間の間隔を増大させて静電潜像の静電
対比電位を増大させることを包含する幾つかの重要な機
能を発揮する。
形成部材の1つの実施態様に含有させ得る。しかしなが
ら、マイグレーション像形成部材を像形成させて静電印
刷用のマスターを形成すべき場合には、任意構成成分と
しての電荷移送スペーシング層は、特に、軟化性層材料
が接着力のような所定の機械的性質を有さないときに、
静電印刷用マスターの機械的および静電印刷特性を最大
にするのに有利に使用できる。静電印刷用マスター中の
電荷移送スペーシング層は像形成性軟化性層から注入電
荷の伝導性層への移送;像形成性軟化性層と伝導性層ま
たは基体(基体が電導性であり、別個の接着層を用いな
い場合)との間の界面接着剤としての機能;および像形
成表面と伝導性層間の間隔を増大させて静電潜像の静電
対比電位を増大させることを包含する幾つかの重要な機
能を発揮する。
良品質プリントに必要な静電対比電位は使用する現像剤
の特定の種類(例えば、乾燥であるか液状であるか)お
よび特定用途に要求される現像速度に依存している。一
般的には、100〜500ボルト範囲の対比電位が液体現像系
には適しているのに対し、200〜800ボルト範囲の対比電
位が乾燥トナー現像系では必要である。留意すべき点は
静電潜像の静電対比電位は像形成性軟化性層と任意構成
成分である電荷移送スペーシング層との合計厚さに依存
していることである。乾燥現像系においては、上記の合
計厚さは一般に約4μm〜約30μmの範囲にあり、任意
構成成分としての電荷移送スペーシング層の厚さは約2
〜25μmの範囲にある。それより幾分薄い層も印刷密度
を犠牲にするかあるいは遅い現像速度で上げれば使用し
てもよい。上記より厚い層も使用できるが、対比電位の
さらなる増大は像品質のより実質的な改善をもたらさな
い。優れた結果は約5〜約25μmの合計厚さおよび3〜
20μmの任意構成成分である電荷移送スペーシング層の
厚さによって達成される。液体現像系においては、上記
の合計厚さは一般に約3〜約25μmの範囲にあり、任意
構成成分である電荷移送スペーシング層の厚さは1〜20
μmの範囲である。優れた結果は約4〜約20μmの合計
厚さおよび任意構成成分である電荷移送スペーシング層
の厚さが2〜15μmの範囲である場合に達成される。
の特定の種類(例えば、乾燥であるか液状であるか)お
よび特定用途に要求される現像速度に依存している。一
般的には、100〜500ボルト範囲の対比電位が液体現像系
には適しているのに対し、200〜800ボルト範囲の対比電
位が乾燥トナー現像系では必要である。留意すべき点は
静電潜像の静電対比電位は像形成性軟化性層と任意構成
成分である電荷移送スペーシング層との合計厚さに依存
していることである。乾燥現像系においては、上記の合
計厚さは一般に約4μm〜約30μmの範囲にあり、任意
構成成分としての電荷移送スペーシング層の厚さは約2
〜25μmの範囲にある。それより幾分薄い層も印刷密度
を犠牲にするかあるいは遅い現像速度で上げれば使用し
てもよい。上記より厚い層も使用できるが、対比電位の
さらなる増大は像品質のより実質的な改善をもたらさな
い。優れた結果は約5〜約25μmの合計厚さおよび3〜
20μmの任意構成成分である電荷移送スペーシング層の
厚さによって達成される。液体現像系においては、上記
の合計厚さは一般に約3〜約25μmの範囲にあり、任意
構成成分である電荷移送スペーシング層の厚さは1〜20
μmの範囲である。優れた結果は約4〜約20μmの合計
厚さおよび任意構成成分である電荷移送スペーシング層
の厚さが2〜15μmの範囲である場合に達成される。
軟化性層と電荷移送層は共に電荷移送物質を含んで効率
的な電荷移送を可能にし得るけれども、電荷移送層の主
たる役割は電荷を移送しかつスペーシング層として機能
することであり、一方、軟化性層の役割は電荷を移送す
ることおよび可視像の形成および静電印刷工程における
マイグレーションマーキング材料と軟化性層間の適切な
電荷注入過程を確実にすることの両方である。軟化性層
と電荷移送スペーシング層は同じまたは異なるバインダ
ー物質および/または電荷移送物質を有して像形成部材
の機械的、化学的、電気的、像形成性および静電印刷性
の各物質を最適なものとし得る。例えば、ある物質、例
えば、スチレン/ヘキシルメタクリレートは優れたマイ
グレーション像形成特性を示すが、不十分な可撓性(特
に、その厚さが10μmより大きく増大したとき)および
接着特性を示す。一方、他の物質、例えば、ポリカーボ
ネートは良好な可撓性と接着性を示すが劣ったマイグレ
ーション像形成特性を示す。即ち、軟化性層と基体との
間に別個の電荷移送スペーシング層を含ませることによ
って、例えば、軟化性層に2μm厚のスチレン/ヘキシ
ルメタクリレートをまた電荷移送スペーシング層に5μ
m厚のポリカーボネートを使用してその像形成性、静電
印刷性および機械的性質を最適にすることができる。
的な電荷移送を可能にし得るけれども、電荷移送層の主
たる役割は電荷を移送しかつスペーシング層として機能
することであり、一方、軟化性層の役割は電荷を移送す
ることおよび可視像の形成および静電印刷工程における
マイグレーションマーキング材料と軟化性層間の適切な
電荷注入過程を確実にすることの両方である。軟化性層
と電荷移送スペーシング層は同じまたは異なるバインダ
ー物質および/または電荷移送物質を有して像形成部材
の機械的、化学的、電気的、像形成性および静電印刷性
の各物質を最適なものとし得る。例えば、ある物質、例
えば、スチレン/ヘキシルメタクリレートは優れたマイ
グレーション像形成特性を示すが、不十分な可撓性(特
に、その厚さが10μmより大きく増大したとき)および
接着特性を示す。一方、他の物質、例えば、ポリカーボ
ネートは良好な可撓性と接着性を示すが劣ったマイグレ
ーション像形成特性を示す。即ち、軟化性層と基体との
間に別個の電荷移送スペーシング層を含ませることによ
って、例えば、軟化性層に2μm厚のスチレン/ヘキシ
ルメタクリレートをまた電荷移送スペーシング層に5μ
m厚のポリカーボネートを使用してその像形成性、静電
印刷性および機械的性質を最適にすることができる。
本発明のマイグレーション像形成部材が接着層と電荷移
送スペーシング層を共に含む実施態様においては、電荷
移送スペーシング層は任意の適当なフィルム形成性バイ
ンダー物質を含み得る。典型的なフィルム形成性バイン
ダー物質には、スチレンアクリレートコポリマー、ポリ
スチレン、アルキッド置換ポリスチレン、スチレン−オ
レフィンコポリマー、スチレン−コ−n−ヘキシルメタ
クリレート、固有粘度0.179dl/gmを有するスチレンとヘ
キシルメタクリレートの特注合成80/20モル%コポリマ
ー、他のスチレンとヘキシルメタクリレートコポリマ
ー、スチレン−ビニルトルエンコポリマー、ポリアルフ
ァーメチルスチレン、コポリエステル、ポリエステル、
ポリウレタン、ポリカーボネート、コポリカーボネー
ト、およびこれらの混合物またはコポリマーがある。こ
れら一群の物質は限定するものではなく、任意構成成分
としての電荷移送スペーシング層のフィルム形成性バイ
ンダー物質として適するものの単なる例示である。これ
らフィルム形成性バインダー物質は典型的に電気絶縁性
であり、静電印刷用マスターの製造および本発明の静電
印刷の各工程中に悪しく化学的に反応しないものであ
る。
送スペーシング層を共に含む実施態様においては、電荷
移送スペーシング層は任意の適当なフィルム形成性バイ
ンダー物質を含み得る。典型的なフィルム形成性バイン
ダー物質には、スチレンアクリレートコポリマー、ポリ
スチレン、アルキッド置換ポリスチレン、スチレン−オ
レフィンコポリマー、スチレン−コ−n−ヘキシルメタ
クリレート、固有粘度0.179dl/gmを有するスチレンとヘ
キシルメタクリレートの特注合成80/20モル%コポリマ
ー、他のスチレンとヘキシルメタクリレートコポリマ
ー、スチレン−ビニルトルエンコポリマー、ポリアルフ
ァーメチルスチレン、コポリエステル、ポリエステル、
ポリウレタン、ポリカーボネート、コポリカーボネー
ト、およびこれらの混合物またはコポリマーがある。こ
れら一群の物質は限定するものではなく、任意構成成分
としての電荷移送スペーシング層のフィルム形成性バイ
ンダー物質として適するものの単なる例示である。これ
らフィルム形成性バインダー物質は典型的に電気絶縁性
であり、静電印刷用マスターの製造および本発明の静電
印刷の各工程中に悪しく化学的に反応しないものであ
る。
本発明のマイグレーション像形成部材が電荷移送スペー
シング層を含み接着層を含まない、即ち、電荷移送スペ
ーシング層が基体と接触している実施態様において接着
性を改善するためには、電荷移送スペーシング層は、好
ましくは、約40〜約80モル%のスチレン、約20〜約60モ
ル%のエチルアクリレートおよび約1〜約3モル%の炭
素−炭素不飽和含有共重合性有機酸またはその誘導体を
含むターポリマーを含み、約10,000〜約35,000のMn、約
25,000〜約80,000のMw、約25までの酸価、約30℃〜約75
℃のTg、および115℃で約1×103ポイズ〜約1×106ポ
イズの溶融粘度を有するターポリマーを含むべきであ
る。最適には、電荷移送スペーシング層は約40〜約80モ
ル%のスチレン、約20〜約60モル%のエチルアクリレー
ト、および約1〜約3モル%の炭素−炭素不飽和含有有
機酸またはその誘導体とを含み、約15,000〜約35,000の
Mn、約30,000〜約80,000のMw、約25までの酸価、約35℃
〜約75℃のTg、および115℃で約5×103ポイズ〜約1×
106ポイズの溶融粘度を有するターポリマーを含む。
シング層を含み接着層を含まない、即ち、電荷移送スペ
ーシング層が基体と接触している実施態様において接着
性を改善するためには、電荷移送スペーシング層は、好
ましくは、約40〜約80モル%のスチレン、約20〜約60モ
ル%のエチルアクリレートおよび約1〜約3モル%の炭
素−炭素不飽和含有共重合性有機酸またはその誘導体を
含むターポリマーを含み、約10,000〜約35,000のMn、約
25,000〜約80,000のMw、約25までの酸価、約30℃〜約75
℃のTg、および115℃で約1×103ポイズ〜約1×106ポ
イズの溶融粘度を有するターポリマーを含むべきであ
る。最適には、電荷移送スペーシング層は約40〜約80モ
ル%のスチレン、約20〜約60モル%のエチルアクリレー
ト、および約1〜約3モル%の炭素−炭素不飽和含有有
機酸またはその誘導体とを含み、約15,000〜約35,000の
Mn、約30,000〜約80,000のMw、約25までの酸価、約35℃
〜約75℃のTg、および115℃で約5×103ポイズ〜約1×
106ポイズの溶融粘度を有するターポリマーを含む。
電荷移送層に本発明のスチレンエチルアクリレートター
ポリマーを含む像形成部材は、該像形成部材を静電複写
液体現像剤と接触させたときの電荷移送分子のリーチン
グに対する優れた抵抗性、並びに優れた耐ブロッキング
性および接着性とを示す。このスチレンエチルアクリレ
ートターポリマーは高度に絶縁性であり、伝導性基体と
ブロッキング接触を形成して電荷注入を防止し、光学的
に透明であり、可撓性である。
ポリマーを含む像形成部材は、該像形成部材を静電複写
液体現像剤と接触させたときの電荷移送分子のリーチン
グに対する優れた抵抗性、並びに優れた耐ブロッキング
性および接着性とを示す。このスチレンエチルアクリレ
ートターポリマーは高度に絶縁性であり、伝導性基体と
ブロッキング接触を形成して電荷注入を防止し、光学的
に透明であり、可撓性である。
アクリル酸、メタクリル酸または他の適当な有機酸のよ
うな炭素−炭素不飽和含有共重合性有機酸またはその誘
導体をスチレンエチルアクリレートコポリマーと組合せ
て本発明の優れた接着性を有するターポリマーを調製す
るときには、共重合性有機酸の量は好ましくは約1〜約
3モル%である。それよりわずかに少ない量の共重合性
有機酸も基体に対するわずかな接着強度の低下を犠牲に
すれば使用できる。それより幾分多量の共重合性有機酸
も使用できるが接着強度はそれ以上には改善されない。
さらに、電荷移送スペーシング層中での上記よりかなり
高濃度の共重合性有機酸は電荷移送分子と反応して塩を
形成し、暗電荷減衰を増大させ電荷移送特性を低下させ
得る。典型的な炭素−炭素不飽和含有有機酸およびその
誘導体には、アクリル酸、メタクリル酸、ビニル酢酸、
イタコン酸、アリル酢酸、これらの混合物、およびこれ
らの誘導体がある。
うな炭素−炭素不飽和含有共重合性有機酸またはその誘
導体をスチレンエチルアクリレートコポリマーと組合せ
て本発明の優れた接着性を有するターポリマーを調製す
るときには、共重合性有機酸の量は好ましくは約1〜約
3モル%である。それよりわずかに少ない量の共重合性
有機酸も基体に対するわずかな接着強度の低下を犠牲に
すれば使用できる。それより幾分多量の共重合性有機酸
も使用できるが接着強度はそれ以上には改善されない。
さらに、電荷移送スペーシング層中での上記よりかなり
高濃度の共重合性有機酸は電荷移送分子と反応して塩を
形成し、暗電荷減衰を増大させ電荷移送特性を低下させ
得る。典型的な炭素−炭素不飽和含有有機酸およびその
誘導体には、アクリル酸、メタクリル酸、ビニル酢酸、
イタコン酸、アリル酢酸、これらの混合物、およびこれ
らの誘導体がある。
本発明のマイグレーション像形成部材に存在させると
き、電荷移送スペーシング層は、該スペーシング層の総
重量基準で、少なくとも80重量%のスチレンとエチルア
ルコールのコポリマーを含んで本発明の優れた像形成
性、接着性および耐ブロッキング性を達成すべきであ
る。必要ならば、他の相溶性ポリマーのような他の適当
な物質、他の有機酸等を上記スチレンエチルアクリレー
トターポリマーに混合し得る。電荷移送スペーシング層
に加え得る典型的な物質には、例えば、スチレンヘキシ
ルメタクリレート、スチレンブチルメタクリレート、ス
チレンブタジエン等がある。
き、電荷移送スペーシング層は、該スペーシング層の総
重量基準で、少なくとも80重量%のスチレンとエチルア
ルコールのコポリマーを含んで本発明の優れた像形成
性、接着性および耐ブロッキング性を達成すべきであ
る。必要ならば、他の相溶性ポリマーのような他の適当
な物質、他の有機酸等を上記スチレンエチルアクリレー
トターポリマーに混合し得る。電荷移送スペーシング層
に加え得る典型的な物質には、例えば、スチレンヘキシ
ルメタクリレート、スチレンブチルメタクリレート、ス
チレンブタジエン等がある。
電荷移送スペーシング層用の電荷移送分子は後の軟化性
層の説明において詳述する。任意の得られたマスターの
電荷移送スペーシング層で用いる特定の電荷移送分子は
隣接の軟化性層で用いる電荷移送分子と同じものあるい
は異なるものであってもよい。電荷移送物質とフィルム
形成性バインダーとを組合せて電荷移送スペーシング層
を形成させるときには、使用する電荷移送物質の量は特
定の電荷移送物質およびその連続絶縁性フィルム形成性
バインダー中での適合性(例えば、溶解性)によって変
化し得る。満足できる結果は電荷移送スペーシング層の
総重量基準で約10〜約50重量%の電荷移送物質を用いる
ことによって得られる。それより幾分低濃度の電荷移送
物質も使用できるが、不十分な電荷移送のために、静電
印刷中に増大した背景電位およびサイクルアップ(Cycl
eup)を生じ得る。電荷移送物質の濃度が約50モル%を
越えるときには、電荷移送層中の電荷移送分子の結晶化
が起り得、また電荷暗減衰も高くなり得る。さらにま
た、極めて高濃度の電荷移送分子も電荷移送層の機械的
強度、可撓性および一体性を減損せしめ得る。
層の説明において詳述する。任意の得られたマスターの
電荷移送スペーシング層で用いる特定の電荷移送分子は
隣接の軟化性層で用いる電荷移送分子と同じものあるい
は異なるものであってもよい。電荷移送物質とフィルム
形成性バインダーとを組合せて電荷移送スペーシング層
を形成させるときには、使用する電荷移送物質の量は特
定の電荷移送物質およびその連続絶縁性フィルム形成性
バインダー中での適合性(例えば、溶解性)によって変
化し得る。満足できる結果は電荷移送スペーシング層の
総重量基準で約10〜約50重量%の電荷移送物質を用いる
ことによって得られる。それより幾分低濃度の電荷移送
物質も使用できるが、不十分な電荷移送のために、静電
印刷中に増大した背景電位およびサイクルアップ(Cycl
eup)を生じ得る。電荷移送物質の濃度が約50モル%を
越えるときには、電荷移送層中の電荷移送分子の結晶化
が起り得、また電荷暗減衰も高くなり得る。さらにま
た、極めて高濃度の電荷移送分子も電荷移送層の機械的
強度、可撓性および一体性を減損せしめ得る。
像形成性軟化性層はその中に光導電性粒子の像を形成さ
せる層である。これらの像はマトリックスポリマーのよ
うな軟化性物質表面のすぐ下に埋め込まれたサブミクロ
ン感光性粒子の近間隔単一層を含む。軟化性層はまた前
記の任意構成成分としての電荷移送スペーシング層で使
用したのと同じまたは異なるものであり得る電荷移送物
質でドーピングすることもできる。軟化性層が電荷移送
物質を含む場合、そのマイグレーション像形成部材を用
いて静電印刷用マスターを形成できる。
せる層である。これらの像はマトリックスポリマーのよ
うな軟化性物質表面のすぐ下に埋め込まれたサブミクロ
ン感光性粒子の近間隔単一層を含む。軟化性層はまた前
記の任意構成成分としての電荷移送スペーシング層で使
用したのと同じまたは異なるものであり得る電荷移送物
質でドーピングすることもできる。軟化性層が電荷移送
物質を含む場合、そのマイグレーション像形成部材を用
いて静電印刷用マスターを形成できる。
本発明で用いるマイグレーション像形成部材の種々の変
形においては、マイグレーションマーキング材料は、好
ましくは、電気的に感光性、光導電性または他の任意の
組合せの材料である。典型的なマイグレーションマーキ
ング材料は、例えば、米国特許第4,536,457号、米国特
許第4,536,458号、米国特許第3,909,262号および第3,97
5,195号に開示されており、これら米国特許の記載はす
べて本明細書に引用する。マイグレーションマーキング
材料の特定の例にはセレンおよびセレン−テルル合金が
ある。マイグレーションマーキング材料は粒状で一般に
互いに近間隔であるべきである。好ましいマイグレーシ
ョンマーキング材料は一般に球状でサブミクロン径であ
る。これらの球状サブミクロンマーキング材料はマイグ
レーション像形成技術において周知である。優れた結果
は軟化性層の外表面(オーバーコーティングを用いる場
合には基体から離れた表面)内の表面下単一層として埋
込まれた約0.2〜約0.4μmが好ましくは約0.3〜0.4μm
の粒度範囲の球状マイグレーションマーキング材料によ
って得られる。マイグレーションマーキング材料の球状
体は、最高光学密度のために、球状体直径の半分以下の
距離で互いにわずかに離れているのが好ましい。球状体
はまた軟化性層の外表面(オーバーコーティングを用い
る場合は基体から離れた表面)の約0.01〜約0.1μm下
にあるのが好ましい。軟化性層中にマイグレーションマ
ーキング材料を付着させるのに特に適する方法はP.ソー
デン等に付与された米国特許第4,482,622号に記載され
ており、その記載はすべて本明細書に引用する。マイグ
レーションマーキング材料の典型的な例にはセレン、セ
レン−テルル合金、他のセレン合金等がある。
形においては、マイグレーションマーキング材料は、好
ましくは、電気的に感光性、光導電性または他の任意の
組合せの材料である。典型的なマイグレーションマーキ
ング材料は、例えば、米国特許第4,536,457号、米国特
許第4,536,458号、米国特許第3,909,262号および第3,97
5,195号に開示されており、これら米国特許の記載はす
べて本明細書に引用する。マイグレーションマーキング
材料の特定の例にはセレンおよびセレン−テルル合金が
ある。マイグレーションマーキング材料は粒状で一般に
互いに近間隔であるべきである。好ましいマイグレーシ
ョンマーキング材料は一般に球状でサブミクロン径であ
る。これらの球状サブミクロンマーキング材料はマイグ
レーション像形成技術において周知である。優れた結果
は軟化性層の外表面(オーバーコーティングを用いる場
合には基体から離れた表面)内の表面下単一層として埋
込まれた約0.2〜約0.4μmが好ましくは約0.3〜0.4μm
の粒度範囲の球状マイグレーションマーキング材料によ
って得られる。マイグレーションマーキング材料の球状
体は、最高光学密度のために、球状体直径の半分以下の
距離で互いにわずかに離れているのが好ましい。球状体
はまた軟化性層の外表面(オーバーコーティングを用い
る場合は基体から離れた表面)の約0.01〜約0.1μm下
にあるのが好ましい。軟化性層中にマイグレーションマ
ーキング材料を付着させるのに特に適する方法はP.ソー
デン等に付与された米国特許第4,482,622号に記載され
ており、その記載はすべて本明細書に引用する。マイグ
レーションマーキング材料の典型的な例にはセレン、セ
レン−テルル合金、他のセレン合金等がある。
本発明のマイグレーション像形成部材が接着層および/
または電荷移送スペーシング層を含む実施態様において
は、軟化性層は熱、溶媒蒸気またはこれらの組合せによ
って軟化させ得る任意の適当な物質であり得る。さら
に、多くの実施態様においては、軟化性層は、典型的に
は、実質的に絶縁性であり、本発明のマイグレーション
力適用工程および静電印刷工程中に化学的に反応しない
ものである。即ち、本発明のマイグレーション像形成部
材が接着層および/または電荷移送スペーシング層を含
む場合、任意の適当な溶媒膨潤性で軟化性の物質を軟化
性層に使用できる。典型的な膨潤性で軟化性の物質には
スチレンアクリレートコポリマー、ポリスチレン、アル
キッド置換ポリスチレン、スチレン−オレフィンコポリ
マー、スチレン−コ−n−ヘキシルメタクリレート、固
有粘度0.179dl/gmを有するスチレンとヘキシルメタクリ
レートの特注合成80/20モル%コポリマー、他のスチレ
ン−ヘキシルメタクリレートコポリマー、スチレン−ビ
ニルトルエンコポリマー、ポリアルファメチルスチレ
ン、コポリエステル、ポリエステル、ポリウレタン、ポ
リカーボネート、コポリカーボネート、およびこれらの
混合物またはコポリマーがある。これら一群の物質は限
定するものではなくそのような軟化性層に適する物質の
単なる例示である。
または電荷移送スペーシング層を含む実施態様において
は、軟化性層は熱、溶媒蒸気またはこれらの組合せによ
って軟化させ得る任意の適当な物質であり得る。さら
に、多くの実施態様においては、軟化性層は、典型的に
は、実質的に絶縁性であり、本発明のマイグレーション
力適用工程および静電印刷工程中に化学的に反応しない
ものである。即ち、本発明のマイグレーション像形成部
材が接着層および/または電荷移送スペーシング層を含
む場合、任意の適当な溶媒膨潤性で軟化性の物質を軟化
性層に使用できる。典型的な膨潤性で軟化性の物質には
スチレンアクリレートコポリマー、ポリスチレン、アル
キッド置換ポリスチレン、スチレン−オレフィンコポリ
マー、スチレン−コ−n−ヘキシルメタクリレート、固
有粘度0.179dl/gmを有するスチレンとヘキシルメタクリ
レートの特注合成80/20モル%コポリマー、他のスチレ
ン−ヘキシルメタクリレートコポリマー、スチレン−ビ
ニルトルエンコポリマー、ポリアルファメチルスチレ
ン、コポリエステル、ポリエステル、ポリウレタン、ポ
リカーボネート、コポリカーボネート、およびこれらの
混合物またはコポリマーがある。これら一群の物質は限
定するものではなくそのような軟化性層に適する物質の
単なる例示である。
本発明のマイグレーション像形成部材を軟化性層の外表
面が軟化性層から電荷移送物質を滲出し去る静電複写液
体現像剤と接触する静電複写現像法で使用する実施態様
においては、軟化性層は、好ましくは、約40〜約80モル
%のスチレンと約20〜約60モル%のエチルアクリレート
を含み、約4,000〜約35,000のMn、約10,000〜約80,000
のMw、約30℃〜約75℃のTg、および115℃で約1×102ポ
イズ〜約1×106ポイズの溶融粘度を有するコポリマー
を含むべきである。
面が軟化性層から電荷移送物質を滲出し去る静電複写液
体現像剤と接触する静電複写現像法で使用する実施態様
においては、軟化性層は、好ましくは、約40〜約80モル
%のスチレンと約20〜約60モル%のエチルアクリレート
を含み、約4,000〜約35,000のMn、約10,000〜約80,000
のMw、約30℃〜約75℃のTg、および115℃で約1×102ポ
イズ〜約1×106ポイズの溶融粘度を有するコポリマー
を含むべきである。
上記スチレンとエチルアクリレートのコポリマーは、本
発明のマイグレーション像形成部材に、該像形成部材を
静電複写液体現像剤と数週間以上も接触させたときでさ
え、電荷移送分子のリーチングに対する抵抗性を付与す
る。静電印刷用途においては、静電印刷用マスターは静
電複写液体現像剤と少なくとも24時間接触し、その接触
時間中、軟化性層中の電荷移送分子の濃度を元の濃度の
少なくとも90重量%のレベルに維持できることが好まし
い。軟化性層が10重量%よりも多く電荷移送分子を減じ
るならば、効果的な電荷移送は維持されず、静電印刷サ
イクル中サイクルアップを生じ得る軟化性層中での捕捉
電荷を生ずる。本発明のコポリマーのスチレンまたはエ
チルアクリレートをヘキシルメタクリレート、ブチルメ
タクリレート等の他の物質で約10%以上置き換えること
は耐リーチング性の低下をもたらす。
発明のマイグレーション像形成部材に、該像形成部材を
静電複写液体現像剤と数週間以上も接触させたときでさ
え、電荷移送分子のリーチングに対する抵抗性を付与す
る。静電印刷用途においては、静電印刷用マスターは静
電複写液体現像剤と少なくとも24時間接触し、その接触
時間中、軟化性層中の電荷移送分子の濃度を元の濃度の
少なくとも90重量%のレベルに維持できることが好まし
い。軟化性層が10重量%よりも多く電荷移送分子を減じ
るならば、効果的な電荷移送は維持されず、静電印刷サ
イクル中サイクルアップを生じ得る軟化性層中での捕捉
電荷を生ずる。本発明のコポリマーのスチレンまたはエ
チルアクリレートをヘキシルメタクリレート、ブチルメ
タクリレート等の他の物質で約10%以上置き換えること
は耐リーチング性の低下をもたらす。
必要ならば、スチレン−エチルアクリレートコポリマー
の接着特性は約1〜約3モル%の炭素−炭素不飽和含有
共重合性有機酸またはその誘導体を含有させて約25まで
の酸価を有するターポリマーを得ることによって改善し
得る。典型的な炭素−炭素不飽和含有有機酸またはその
誘導体にはアクリル酸、メタクリル酸、ビニル酢酸、イ
タコン酸、アリル酢酸、およびこれらの混合物または誘
導体がある。
の接着特性は約1〜約3モル%の炭素−炭素不飽和含有
共重合性有機酸またはその誘導体を含有させて約25まで
の酸価を有するターポリマーを得ることによって改善し
得る。典型的な炭素−炭素不飽和含有有機酸またはその
誘導体にはアクリル酸、メタクリル酸、ビニル酢酸、イ
タコン酸、アリル酢酸、およびこれらの混合物または誘
導体がある。
1つの特定の実施態様においては、電気的に接地した伝
導性基体と像形成性軟化性層とを含み,この像形成性軟
化性層がマイグレーションマーキング材料の破壊性層と
該軟化性層中のスチレンとエチルアクリレートのコポリ
マーを含むマイグレーション像形成部材は、コロナ荷電
手段によって均一に帯電させ、活性化用照射に像形成的
に露光し、熱のみまたは溶媒蒸気のみのいずれかによっ
て現像する。マイグレーションマーキング材料の破壊性
層の露光領域中の露光粒子は軟化性深部に移行してDmin
領域を生ずる。未露光領域は実質的に元の位置に残って
Dmax領域を生ずる。即ち、現像した像は原紙の光学的に
符号保持性可視像である(通常の光レンズ露光系を用い
た場合)。好ましいのは、熱のみまたは溶媒蒸気のみを
用いて像形成性軟化性層を軟化してマイグレーションマ
ーキング材料の移行を容易にする実施態様においては、
軟化性材料は、約40〜約80モル%のスチレン、約20〜約
60モル%のエチルアクリレートとを含み、約4,000〜約3
5,000のMn、約10,000〜約80,000のMw、約30℃〜約75℃
のTg、および115℃で約1×102ポイズ〜約1×106ポイ
ズの溶融粘度を有するコポリマーを含む。
導性基体と像形成性軟化性層とを含み,この像形成性軟
化性層がマイグレーションマーキング材料の破壊性層と
該軟化性層中のスチレンとエチルアクリレートのコポリ
マーを含むマイグレーション像形成部材は、コロナ荷電
手段によって均一に帯電させ、活性化用照射に像形成的
に露光し、熱のみまたは溶媒蒸気のみのいずれかによっ
て現像する。マイグレーションマーキング材料の破壊性
層の露光領域中の露光粒子は軟化性深部に移行してDmin
領域を生ずる。未露光領域は実質的に元の位置に残って
Dmax領域を生ずる。即ち、現像した像は原紙の光学的に
符号保持性可視像である(通常の光レンズ露光系を用い
た場合)。好ましいのは、熱のみまたは溶媒蒸気のみを
用いて像形成性軟化性層を軟化してマイグレーションマ
ーキング材料の移行を容易にする実施態様においては、
軟化性材料は、約40〜約80モル%のスチレン、約20〜約
60モル%のエチルアクリレートとを含み、約4,000〜約3
5,000のMn、約10,000〜約80,000のMw、約30℃〜約75℃
のTg、および115℃で約1×102ポイズ〜約1×106ポイ
ズの溶融粘度を有するコポリマーを含む。
必要ならば、上記スチレン−エチルアクリレートコポリ
マーの接着特性は、約1〜約3モル%の炭素−炭素不飽
和含有共重合性有機酸またはその誘導体を含有させて約
25までの酸価を有するターポリマーを得ることによって
改善できる。典型的な炭素−炭素不飽和含有有機酸また
はその誘導体にはアクリル酸、メタクリル酸、ビニル酢
酸、イタコン酸、アリル酢酸、これらの混合物、および
これらの誘導体等がある。熱のみまたは溶媒蒸気のみを
用いて軟化性層をマイグレーション像形成のために軟化
させる軟化性層物質として適するためには、軟化性層物
質は幾つかの重要な物質の組合せを有すべきである。接
着性、耐ブロッキング性のような良好な物理的性質以外
に、軟化性層物質は現像温度で適切な溶融粘度を有して
マイグレーションマーキング粒子の移行を容易にしてマ
イグレーション像を形成するべきである。前述したより
も幾分高い溶融粘度もPminの低下を代償として使用でき
る。加熱のみ現像法においては、それよりもかなり高溶
融粘度の効果はかなり高現像温度の使用によっても補な
われ得ない。何故ならば、マイグレーションマーキング
粒子は通常約125℃以上では正味電荷(net chsrge)を
実質的に減損する傾向にあるからである。像形成性軟化
性層が上述の物質性状を有するスチレン−エチルアクリ
レートコポリマーを含む像形成部材は優れた光学的に符
号保持性像、耐ブロッキング性および接着性を示す。さ
らにまた、該像形成部材は、長時間静電複写液体現像剤
と接触させたとき、軟化性層からの電荷移送分子のリー
チングに対する優れた抵抗を示す。
マーの接着特性は、約1〜約3モル%の炭素−炭素不飽
和含有共重合性有機酸またはその誘導体を含有させて約
25までの酸価を有するターポリマーを得ることによって
改善できる。典型的な炭素−炭素不飽和含有有機酸また
はその誘導体にはアクリル酸、メタクリル酸、ビニル酢
酸、イタコン酸、アリル酢酸、これらの混合物、および
これらの誘導体等がある。熱のみまたは溶媒蒸気のみを
用いて軟化性層をマイグレーション像形成のために軟化
させる軟化性層物質として適するためには、軟化性層物
質は幾つかの重要な物質の組合せを有すべきである。接
着性、耐ブロッキング性のような良好な物理的性質以外
に、軟化性層物質は現像温度で適切な溶融粘度を有して
マイグレーションマーキング粒子の移行を容易にしてマ
イグレーション像を形成するべきである。前述したより
も幾分高い溶融粘度もPminの低下を代償として使用でき
る。加熱のみ現像法においては、それよりもかなり高溶
融粘度の効果はかなり高現像温度の使用によっても補な
われ得ない。何故ならば、マイグレーションマーキング
粒子は通常約125℃以上では正味電荷(net chsrge)を
実質的に減損する傾向にあるからである。像形成性軟化
性層が上述の物質性状を有するスチレン−エチルアクリ
レートコポリマーを含む像形成部材は優れた光学的に符
号保持性像、耐ブロッキング性および接着性を示す。さ
らにまた、該像形成部材は、長時間静電複写液体現像剤
と接触させたとき、軟化性層からの電荷移送分子のリー
チングに対する優れた抵抗を示す。
本発明の別の現像法の実施態様においては、電気的に接
地した基体と像形成性軟化性層を含み、該像形成性軟化
性層が電荷移送分子とマイグレーションマーキング材料
の破壊性および該軟化性層中のスチレンとエチルアクリ
レートのコポリマーとを含むマイグレーション像形成部
材をコロナ電荷手段によって均一に帯電させ、活性化用
照射に像形成的に露光し、溶媒蒸気に暴露する。この溶
媒蒸気処理マイグレーション像形成部材に熱エネルギー
を適用したとき、該部材の像形成させた部材への転化が
終了する。マイグレーションマーキング材料の破壊性層
の露光領域中の露光粒子はほんのわずかな凝集と融合を
可能にしおよび/またはほんのわずかな移行を可能にす
るわずかな量の正味電荷を保持する。これによりDmax領
域が生ずる。即ち、現像した像は原紙の光学的に符号逆
転可視像であり(通常の光レンズ露光系を用いた場
合)、極めて低い背景密度を示す。この方法はM.C.タム
に付与された米国特許第4,536,457号に記載されてお
り、その記載はすべて参考として本明細書に引用する。
好ましいのは、溶媒蒸気と加熱との組合せを用いて像形
成性軟化性層を軟化しマイグレーション像を形成させる
実施態様においては、軟化性層は、約40〜約80モル%の
スチレンと約20〜約60モル%のエチルアクリレートとを
含み、約10,000〜約35,000のMn、約25,000〜約80,000の
Mw、約30℃〜約75℃のTgおよび115℃で約1×103ポイズ
〜約1×106ポイズの溶融粘度を有するコポリマーを含
む。必要ならば、上記スチレン−エチルアクリレートコ
ポリマーの接着性は約1〜約3モル%の炭素−炭素不飽
和含有共重合性有機酸またはその誘導体を含有させ約25
までの酸価を有するターポリマーを得ることによって改
善し得る。典型的な炭素−炭素不飽和含有有機酸および
その誘導体にはアクリル酸、メタクリル酸、ビニル酢
酸、イタコン酸、アリル酢酸、これらの化合物、および
これらの誘導体がある。像形成性軟化性層が上記の材料
特性を有するスチレンエチルアクリレートコポリマーを
含む像形成部材は優れた光学的に符号逆転像、耐ブロッ
キング性および接着性を示す。さらにまた、該像形成部
材は静電複写液体現像剤に長時間接触させたとき電荷移
送分子の軟化性層からのリーチングに対する優れた抵抗
性を示す。
地した基体と像形成性軟化性層を含み、該像形成性軟化
性層が電荷移送分子とマイグレーションマーキング材料
の破壊性および該軟化性層中のスチレンとエチルアクリ
レートのコポリマーとを含むマイグレーション像形成部
材をコロナ電荷手段によって均一に帯電させ、活性化用
照射に像形成的に露光し、溶媒蒸気に暴露する。この溶
媒蒸気処理マイグレーション像形成部材に熱エネルギー
を適用したとき、該部材の像形成させた部材への転化が
終了する。マイグレーションマーキング材料の破壊性層
の露光領域中の露光粒子はほんのわずかな凝集と融合を
可能にしおよび/またはほんのわずかな移行を可能にす
るわずかな量の正味電荷を保持する。これによりDmax領
域が生ずる。即ち、現像した像は原紙の光学的に符号逆
転可視像であり(通常の光レンズ露光系を用いた場
合)、極めて低い背景密度を示す。この方法はM.C.タム
に付与された米国特許第4,536,457号に記載されてお
り、その記載はすべて参考として本明細書に引用する。
好ましいのは、溶媒蒸気と加熱との組合せを用いて像形
成性軟化性層を軟化しマイグレーション像を形成させる
実施態様においては、軟化性層は、約40〜約80モル%の
スチレンと約20〜約60モル%のエチルアクリレートとを
含み、約10,000〜約35,000のMn、約25,000〜約80,000の
Mw、約30℃〜約75℃のTgおよび115℃で約1×103ポイズ
〜約1×106ポイズの溶融粘度を有するコポリマーを含
む。必要ならば、上記スチレン−エチルアクリレートコ
ポリマーの接着性は約1〜約3モル%の炭素−炭素不飽
和含有共重合性有機酸またはその誘導体を含有させ約25
までの酸価を有するターポリマーを得ることによって改
善し得る。典型的な炭素−炭素不飽和含有有機酸および
その誘導体にはアクリル酸、メタクリル酸、ビニル酢
酸、イタコン酸、アリル酢酸、これらの化合物、および
これらの誘導体がある。像形成性軟化性層が上記の材料
特性を有するスチレンエチルアクリレートコポリマーを
含む像形成部材は優れた光学的に符号逆転像、耐ブロッ
キング性および接着性を示す。さらにまた、該像形成部
材は静電複写液体現像剤に長時間接触させたとき電荷移
送分子の軟化性層からのリーチングに対する優れた抵抗
性を示す。
最も好ましいのは、熱のみ、溶媒蒸気のみ、または溶媒
蒸気と加熱の組合せを用いて像形成性軟化性層を軟化さ
せてマイグレーションマーキング材料の移行を容易にす
るすべての現像実施態様においては、軟化性層が約40〜
約80モル%のスチレンと約20〜約60モル%のエチルアク
リレートとを含み、約4,000〜約35,000のMn、約10,000
〜約80,000のMw、約30℃〜約75℃のTgおよび115℃で約
1×102ポイズ〜約1×106ポイズの溶融粘度を有するコ
ポリマーを含むことである。必要ならば、上記スチレン
−エチルアクリレートコポリマーの接着性は約1〜約3
モル%の炭素−炭素不飽和含有共重合性有機酸またはそ
の誘導体を含有させ約25までの酸価を有するターポリマ
ーを得ることによって改善し得る。典型的な炭素−炭素
不飽和含有有機酸およびその誘導体にはアクリル酸、メ
タクリル酸、ビニル酢酸、イタコン酸、アリル酢酸、こ
れらの混合物、およびこれらの誘導体等がある。これら
のパラメーターはセレンのような電気的に感光性のマイ
グレーションマーキング粒子のマイグレーション像形成
による像の形成を可能にする物理的な粘弾性;液体現像
剤中での電荷移送物質のリーチングに対する抵抗性;軟
化性層のアルミニウム処理ポリエステルのような下地層
への接着性の改善;およびコーティング中、貯蔵中等の
昇温、昇圧条件下での耐ブロッキング性を付与する。
蒸気と加熱の組合せを用いて像形成性軟化性層を軟化さ
せてマイグレーションマーキング材料の移行を容易にす
るすべての現像実施態様においては、軟化性層が約40〜
約80モル%のスチレンと約20〜約60モル%のエチルアク
リレートとを含み、約4,000〜約35,000のMn、約10,000
〜約80,000のMw、約30℃〜約75℃のTgおよび115℃で約
1×102ポイズ〜約1×106ポイズの溶融粘度を有するコ
ポリマーを含むことである。必要ならば、上記スチレン
−エチルアクリレートコポリマーの接着性は約1〜約3
モル%の炭素−炭素不飽和含有共重合性有機酸またはそ
の誘導体を含有させ約25までの酸価を有するターポリマ
ーを得ることによって改善し得る。典型的な炭素−炭素
不飽和含有有機酸およびその誘導体にはアクリル酸、メ
タクリル酸、ビニル酢酸、イタコン酸、アリル酢酸、こ
れらの混合物、およびこれらの誘導体等がある。これら
のパラメーターはセレンのような電気的に感光性のマイ
グレーションマーキング粒子のマイグレーション像形成
による像の形成を可能にする物理的な粘弾性;液体現像
剤中での電荷移送物質のリーチングに対する抵抗性;軟
化性層のアルミニウム処理ポリエステルのような下地層
への接着性の改善;およびコーティング中、貯蔵中等の
昇温、昇圧条件下での耐ブロッキング性を付与する。
一般に、スチレンとエチルアクリレートのコポリマーを
本発明のマイグレーション像形成部材で使用するときに
は、像形成性軟化性層は、該像形成性軟化性層の総重量
基準で、少なくとも80重量%のスチレン−エチルアクリ
レートコポリマーを含んで本発明の優れた像形成性、接
着性および耐ブロッキング性を達成すべきである。必要
ならば、他の相溶性ポリマーのような他の適当な物質を
スチレン−エチルアクリレートターポリマーと混合して
もよい。接着層に添加できる典型的な物質には、例え
ば、スチレンヘキシルメタクリレート、スチレンブチル
メタクリレート、スチレンブタジエン等がある。該像形
成部材を静電複写液体現像剤と接着させる場合、該像形
成部材は、像形成性軟化性層の総重量基準で、少なくと
も90重量%のスチレン−エチルアクリレートコポリマー
を含んでその耐リーチング性の実質的な低下を回避すべ
きである。
本発明のマイグレーション像形成部材で使用するときに
は、像形成性軟化性層は、該像形成性軟化性層の総重量
基準で、少なくとも80重量%のスチレン−エチルアクリ
レートコポリマーを含んで本発明の優れた像形成性、接
着性および耐ブロッキング性を達成すべきである。必要
ならば、他の相溶性ポリマーのような他の適当な物質を
スチレン−エチルアクリレートターポリマーと混合して
もよい。接着層に添加できる典型的な物質には、例え
ば、スチレンヘキシルメタクリレート、スチレンブチル
メタクリレート、スチレンブタジエン等がある。該像形
成部材を静電複写液体現像剤と接着させる場合、該像形
成部材は、像形成性軟化性層の総重量基準で、少なくと
も90重量%のスチレン−エチルアクリレートコポリマー
を含んでその耐リーチング性の実質的な低下を回避すべ
きである。
電荷移送物質は本発明のマイグレーション像形成部材の
像形成性軟化性層中に必要に応じて、特に、該像形成部
材を用いて静電複写用マスターを作製する場合に含有さ
せ得る。軟化性層物質として機能できあるいは軟化性層
中で分子規模で溶解または分散できる任意の適当な電荷
移送物質を本発明の軟化性層中で使用できる。電荷移送
物質は電気絶縁性マーキング材料から軟化性層への電荷
注入過程(電荷の少なくとも1つの符号に対しての)を
改良できる(好ましくは、軟化性層の軟化による現像前
または少なくとも現像段階で)電気絶縁性フィルム形成
性バインダーまたは電気絶縁性フィルム形成性バインダ
ー中に溶解または分子分散させた溶解性または分子分散
性物質として定義し、その改良は対象として電気的に不
活性な絶縁性軟化性層になされる。電荷移送物質は正孔
移送物質および/または電子移送物質であり得、即ち、
電荷移送物質はマーキング材料からの軟化性層への正孔
および/または電子の注入を改良し得る。注入の1つの
極性のみが改良された場合、本発明の目的においてマイ
グレーションマーキング部材を光に最初感光させるのに
用いたイオン性電荷の符号は注入が改良された電荷の符
号と最も普通には同じである。従って、特定の移送物質
と特定のマーキング材料の組合せの使用はマーキング粒
子から軟化性層への正孔および/または電子の注入が何
らの移送物質を含まない軟化性層に比し改良されるよう
でなければならない。電荷移送物質が絶縁性フィルム形
成性バインダー中に溶解または分子分散させる場合に
は、電荷移送物質と絶縁性フィルム成形性バインダーの
組合せは電荷移送物質がフィルム形成性バインダー中に
十分な濃度レベルで溶解してあるいは分子分散して含有
され得るようでなければならない。任意の適当な電荷移
送物質を使用できる。電荷移送物質は当該技術において
周知である。典型的な電荷移送物質には次のようものが
ある: 米国特許第4,306,008号、第4,304,829号、第4,233,384
号、第4,115,116号、第4,299,897号および第4,081,274
号に記載されているタイプのジアミン移送分子。典型的
なジアミン移送分子には、N,N−ジフェニル−N,N′−ビ
ス(3″−メチルフェニル)−(1,1′−ビフェニル)
−4,4′−ジアミン、N,N′−ジフェニル−ビス(4−メ
チルフェニル)−(1,1′−ビフェニル)−4,4′−ジア
ミン、N,N′−ジフェニル−N,N′−ビス(2−メチルフ
ェニル)−(1,1′−ビフェニル)−4,4′−ジアミン、
N,N′−ジフェニル−ジフェニル−N,N′−ビス(3−エ
チルフェニル)−(1,1′−ビフェニル)−4,4′−ジア
ミン、N,N′−ジフェニル−N,N′−ビス(4−エチルフ
ェニル)−(1,1′−ビフェニル)−4,4′−ジアミン、
N,N′−ジフェニル−N,N′−ビス(4−n−ブチルフェ
ニル)−(1,1′−ビフェニル)−4,4′−ジアミン、N,
N′−ジフェニル−N,N′−ビス(3−クロロフェニル)
−〔1,1′−ビフェニル〕−4,4′−ジアミン、N,N′−
ジフェニル−N,N′−ビス(4−クロロフェニル)−
〔1,1′−ビフェニル〕−4,4′−ジアミン、N,N′−ジ
フェニル−N,N′−ビス(フェニルメチル)−〔1,1′−
ビフェニル〕−4,4′−ジアミン、N,N,N′,N′−テトラ
フェニル−〔2,2′−ジメチル−1,1′−ビフェニル〕−
4,4′−ジアミン、N,N,N′,N′−テトラ−(4−メチル
フェニル)−〔2,2′−ジメチル−1,1′−ビフェニル〕
−4,4′−ジアミン、N,N′−ジフェニル−ビス(4−メ
チルフェニル)−〔2,2′−ジメチル−1,1′−ビフェニ
ル〕−4,4′−ジアミン、N,N′−ジフェニル−N,N′−
ビス(2−メチルフェニル)−〔2,2′−ジメチル−1,
1′−ビフェニル〕−4,4′−ジアミン、N,N′−ジフェ
ニル−N,N′−ビス(3−メチルフェニル)−〔2,2′−
ジメチル−1,1′−ビフェニル−4,4′−ジアミン、N,
N′−ジフェニル−N,N′−ビス(3−メチルフェニル)
−フィレニン−1,6−ジアミン等がある。
像形成性軟化性層中に必要に応じて、特に、該像形成部
材を用いて静電複写用マスターを作製する場合に含有さ
せ得る。軟化性層物質として機能できあるいは軟化性層
中で分子規模で溶解または分散できる任意の適当な電荷
移送物質を本発明の軟化性層中で使用できる。電荷移送
物質は電気絶縁性マーキング材料から軟化性層への電荷
注入過程(電荷の少なくとも1つの符号に対しての)を
改良できる(好ましくは、軟化性層の軟化による現像前
または少なくとも現像段階で)電気絶縁性フィルム形成
性バインダーまたは電気絶縁性フィルム形成性バインダ
ー中に溶解または分子分散させた溶解性または分子分散
性物質として定義し、その改良は対象として電気的に不
活性な絶縁性軟化性層になされる。電荷移送物質は正孔
移送物質および/または電子移送物質であり得、即ち、
電荷移送物質はマーキング材料からの軟化性層への正孔
および/または電子の注入を改良し得る。注入の1つの
極性のみが改良された場合、本発明の目的においてマイ
グレーションマーキング部材を光に最初感光させるのに
用いたイオン性電荷の符号は注入が改良された電荷の符
号と最も普通には同じである。従って、特定の移送物質
と特定のマーキング材料の組合せの使用はマーキング粒
子から軟化性層への正孔および/または電子の注入が何
らの移送物質を含まない軟化性層に比し改良されるよう
でなければならない。電荷移送物質が絶縁性フィルム形
成性バインダー中に溶解または分子分散させる場合に
は、電荷移送物質と絶縁性フィルム成形性バインダーの
組合せは電荷移送物質がフィルム形成性バインダー中に
十分な濃度レベルで溶解してあるいは分子分散して含有
され得るようでなければならない。任意の適当な電荷移
送物質を使用できる。電荷移送物質は当該技術において
周知である。典型的な電荷移送物質には次のようものが
ある: 米国特許第4,306,008号、第4,304,829号、第4,233,384
号、第4,115,116号、第4,299,897号および第4,081,274
号に記載されているタイプのジアミン移送分子。典型的
なジアミン移送分子には、N,N−ジフェニル−N,N′−ビ
ス(3″−メチルフェニル)−(1,1′−ビフェニル)
−4,4′−ジアミン、N,N′−ジフェニル−ビス(4−メ
チルフェニル)−(1,1′−ビフェニル)−4,4′−ジア
ミン、N,N′−ジフェニル−N,N′−ビス(2−メチルフ
ェニル)−(1,1′−ビフェニル)−4,4′−ジアミン、
N,N′−ジフェニル−ジフェニル−N,N′−ビス(3−エ
チルフェニル)−(1,1′−ビフェニル)−4,4′−ジア
ミン、N,N′−ジフェニル−N,N′−ビス(4−エチルフ
ェニル)−(1,1′−ビフェニル)−4,4′−ジアミン、
N,N′−ジフェニル−N,N′−ビス(4−n−ブチルフェ
ニル)−(1,1′−ビフェニル)−4,4′−ジアミン、N,
N′−ジフェニル−N,N′−ビス(3−クロロフェニル)
−〔1,1′−ビフェニル〕−4,4′−ジアミン、N,N′−
ジフェニル−N,N′−ビス(4−クロロフェニル)−
〔1,1′−ビフェニル〕−4,4′−ジアミン、N,N′−ジ
フェニル−N,N′−ビス(フェニルメチル)−〔1,1′−
ビフェニル〕−4,4′−ジアミン、N,N,N′,N′−テトラ
フェニル−〔2,2′−ジメチル−1,1′−ビフェニル〕−
4,4′−ジアミン、N,N,N′,N′−テトラ−(4−メチル
フェニル)−〔2,2′−ジメチル−1,1′−ビフェニル〕
−4,4′−ジアミン、N,N′−ジフェニル−ビス(4−メ
チルフェニル)−〔2,2′−ジメチル−1,1′−ビフェニ
ル〕−4,4′−ジアミン、N,N′−ジフェニル−N,N′−
ビス(2−メチルフェニル)−〔2,2′−ジメチル−1,
1′−ビフェニル〕−4,4′−ジアミン、N,N′−ジフェ
ニル−N,N′−ビス(3−メチルフェニル)−〔2,2′−
ジメチル−1,1′−ビフェニル−4,4′−ジアミン、N,
N′−ジフェニル−N,N′−ビス(3−メチルフェニル)
−フィレニン−1,6−ジアミン等がある。
米国特許第4,315,982号、第4,278,746号および第3,837,
851号に記載されているようなピラゾリン移送分子。典
型的なピラゾリン移送分子には、1−〔レピジル−
(2)−〔−3−(p−ジエチルアミノフェニル)−5
−(p−ジエチルアミノフェニル)ピラゾリン、1−
〔キノリン−(2)〕−3−(p−ジエチルアミノフェ
ニル)−5−(p−ジエチルアミノフェニル)ピラゾリ
ン、1−〔ピリジル−(2)〕−3−(p−ジエチルア
ミノスチリル)−5−(p−ジエチルアミノフェニル)
ピラゾリン、1−フェニル−3−〔p−ジメチルアミノ
スチリル〕−5−(p−ジメチルアミノスチリル)ピラ
ゾリン、1−フェニル−3−〔p−ジエチルアミノスチ
リル〕−5−(p−ジエチルアミノスチリル)ピラゾリ
ン等がある。
851号に記載されているようなピラゾリン移送分子。典
型的なピラゾリン移送分子には、1−〔レピジル−
(2)−〔−3−(p−ジエチルアミノフェニル)−5
−(p−ジエチルアミノフェニル)ピラゾリン、1−
〔キノリン−(2)〕−3−(p−ジエチルアミノフェ
ニル)−5−(p−ジエチルアミノフェニル)ピラゾリ
ン、1−〔ピリジル−(2)〕−3−(p−ジエチルア
ミノスチリル)−5−(p−ジエチルアミノフェニル)
ピラゾリン、1−フェニル−3−〔p−ジメチルアミノ
スチリル〕−5−(p−ジメチルアミノスチリル)ピラ
ゾリン、1−フェニル−3−〔p−ジエチルアミノスチ
リル〕−5−(p−ジエチルアミノスチリル)ピラゾリ
ン等がある。
米国特許第4,245,021号に記載されているような置換フ
ルオレン電荷移送分子。典型的なフルオレン電荷移送分
子には、9−(4′−ジメチルアミノベンジリデン)フ
ルオレン、9−(4′−メトキシベンジリデン)フルオ
レン、9−(2′,4′−ジメトキシベンジリデン)フル
オレン、2−ニトロ−9−ベンジリデン−フルオレン、
2−ニトロ−9−(4′−ジエチルアミノベンジリデ
ン)フルオレン等がある。
ルオレン電荷移送分子。典型的なフルオレン電荷移送分
子には、9−(4′−ジメチルアミノベンジリデン)フ
ルオレン、9−(4′−メトキシベンジリデン)フルオ
レン、9−(2′,4′−ジメトキシベンジリデン)フル
オレン、2−ニトロ−9−ベンジリデン−フルオレン、
2−ニトロ−9−(4′−ジエチルアミノベンジリデ
ン)フルオレン等がある。
2,5−ビス(4−ジエチルアミノフェニル)−1,3,4−オ
キサジアゾール、ピラゾリン、イミダゾール、トリアゾ
ール等のようなオキサジアゾール移送分子。他の典型的
なオキサジアゾール移送分子は、例えば、ドイツ特許第
1,058,836号、第1,060,260号および第1,120,875号に記
載されている。
キサジアゾール、ピラゾリン、イミダゾール、トリアゾ
ール等のようなオキサジアゾール移送分子。他の典型的
なオキサジアゾール移送分子は、例えば、ドイツ特許第
1,058,836号、第1,060,260号および第1,120,875号に記
載されている。
p−ジエチルアミノベンズアルデヒド−(ジフェニルヒ
ドラゾン)、o−エトキシ−p−ジエチルアミノベンズ
アルデヒド−(ジフェニルヒドラゾン)、o−メチル−
p−ジエチルアミノベンズアルデヒド−(ジフェニルヒ
ドラゾン)、o−メチル−p−ジメチルアミノベンズア
ルデヒド−(ジフェニルヒドラゾン)、1−ナフタレン
カルボアルデヒド1−メチル−1−フェニルヒドラゾ
ン、1−ナフタレンカルボアルデヒド1,1−フェニルヒ
ドラゾン、4−メトキシナフタレン−1−カルボアルデ
ヒド1−メチル−1−フェニルヒドラゾン等のヒドラゾ
ン移送分子。他の典型的なヒドラゾン移送分子は、例え
ば、米国特許第4,150,987号、第4,385,106号、第4,338,
388号、第4,387,147号に記載されている。
ドラゾン)、o−エトキシ−p−ジエチルアミノベンズ
アルデヒド−(ジフェニルヒドラゾン)、o−メチル−
p−ジエチルアミノベンズアルデヒド−(ジフェニルヒ
ドラゾン)、o−メチル−p−ジメチルアミノベンズア
ルデヒド−(ジフェニルヒドラゾン)、1−ナフタレン
カルボアルデヒド1−メチル−1−フェニルヒドラゾ
ン、1−ナフタレンカルボアルデヒド1,1−フェニルヒ
ドラゾン、4−メトキシナフタレン−1−カルボアルデ
ヒド1−メチル−1−フェニルヒドラゾン等のヒドラゾ
ン移送分子。他の典型的なヒドラゾン移送分子は、例え
ば、米国特許第4,150,987号、第4,385,106号、第4,338,
388号、第4,387,147号に記載されている。
9−エチルカルバゾール−3−カルボアルデヒド−1−
メチル−1−フェニルヒドラゾン、9−エチルカルバゾ
ール−3−カルボアルデヒド−1−メチル−1−フェニ
ルヒドラゾン、9−エチルカルバゾール−3−カルボア
ルデヒド−1−メチル−1−フェニルヒドラゾン、9−
エチルカルバゾール−3−カルボアルデヒド−1−エチ
ル−1−ベンジル−フェニルヒドラゾン、9−エチルカ
ルバゾール−3−カルボアルデヒド−1,1−ジフェニル
ヒドラゾン等のカルバゾールフェニルヒドラゾン移送分
子。他の典型的なカルバゾールフェニルヒドラゾン移送
分子は米国特許第4,256,821号および第4,297,426号に記
載されている。
メチル−1−フェニルヒドラゾン、9−エチルカルバゾ
ール−3−カルボアルデヒド−1−メチル−1−フェニ
ルヒドラゾン、9−エチルカルバゾール−3−カルボア
ルデヒド−1−メチル−1−フェニルヒドラゾン、9−
エチルカルバゾール−3−カルボアルデヒド−1−エチ
ル−1−ベンジル−フェニルヒドラゾン、9−エチルカ
ルバゾール−3−カルボアルデヒド−1,1−ジフェニル
ヒドラゾン等のカルバゾールフェニルヒドラゾン移送分
子。他の典型的なカルバゾールフェニルヒドラゾン移送
分子は米国特許第4,256,821号および第4,297,426号に記
載されている。
ポリビニルアントラセン、ポリアセナフチレンのような
ビニル芳香族ポリマー;ホルムアルデヒドと3−ブロモ
ピレンとの縮合物のようなホルムアルデヒドの各種芳香
族との縮合生成物;2,4,7−トリニトロフルオレノン;お
よび米国特許第3,972,717号に記載されているような3,6
−ジニトロ−N−t−ブチル−ナフタルイミド。
ビニル芳香族ポリマー;ホルムアルデヒドと3−ブロモ
ピレンとの縮合物のようなホルムアルデヒドの各種芳香
族との縮合生成物;2,4,7−トリニトロフルオレノン;お
よび米国特許第3,972,717号に記載されているような3,6
−ジニトロ−N−t−ブチル−ナフタルイミド。
米国特許第3,895,944号に記載されている2,5−ビス−
(p−ジエチルアミノフェニル)オキジアゾール−1,3,
4のようなオキサジアゾール誘導体。
(p−ジエチルアミノフェニル)オキジアゾール−1,3,
4のようなオキサジアゾール誘導体。
米国特許第3,820,989号に記載されているようなアルキ
ル−ビス(N,N−ジアルキルアミノアリール)メタン、
シクロアルキル−ビス(N,N−ジアルキルアミノアリー
ル)メタン、およびシクロアルケニル−ビス(N,N−ジ
アルキルアミノアリール)メタンのようなトリ置換メタ
ン類。
ル−ビス(N,N−ジアルキルアミノアリール)メタン、
シクロアルキル−ビス(N,N−ジアルキルアミノアリー
ル)メタン、およびシクロアルケニル−ビス(N,N−ジ
アルキルアミノアリール)メタンのようなトリ置換メタ
ン類。
次式: (式中、XおよびYはシアノ基またはアルコキシカルボ
ニル基であり、A、BおよびWは、個々に、アシル、ア
ルコキシカルボニル、ニトロ、アルキルアミノカルボニ
ルおよびこれらの誘導体から選ばれた電子吸引基であ
り、mは0〜2の数であり、nは0または1の数であ
る) を有する米国特許第4,474,865号に記載されているよう
な9−フルオレニリデンメタン誘導体。上記式に属する
典型的な9−フルオレニリデンメタン誘導体には、(4
−n−ブトキシカルボニル−9−フルオニリデン)マロ
ノントリル、(4−フェネトキシカルボニル−9−フル
オレニリデン)マロノントリル、(4−カルビトキシ−
9−フルオレニリデン)マロノントリル、(4−n−ブ
トキシカルボニル−2,7−ジニトロ−9−フルオレニリ
デン)マロネート等がある。
ニル基であり、A、BおよびWは、個々に、アシル、ア
ルコキシカルボニル、ニトロ、アルキルアミノカルボニ
ルおよびこれらの誘導体から選ばれた電子吸引基であ
り、mは0〜2の数であり、nは0または1の数であ
る) を有する米国特許第4,474,865号に記載されているよう
な9−フルオレニリデンメタン誘導体。上記式に属する
典型的な9−フルオレニリデンメタン誘導体には、(4
−n−ブトキシカルボニル−9−フルオニリデン)マロ
ノントリル、(4−フェネトキシカルボニル−9−フル
オレニリデン)マロノントリル、(4−カルビトキシ−
9−フルオレニリデン)マロノントリル、(4−n−ブ
トキシカルボニル−2,7−ジニトロ−9−フルオレニリ
デン)マロネート等がある。
他の電荷移送物質には、ポリ−1−ビニルピレン、ポリ
−9−ビニルアンスラセン、ポリ−9−(4−ペンテニ
ル)−カルバゾール、ポリ−9−(5−ヘキシル)−カ
ルバゾール、ポリメチレンピレン、ポリ−1−(ピレニ
ル)ブタジエン;ポリ−3−アミノカルバゾール、1,3
−ジブロモ−ポリ−N−ビニルカルバゾールおよび3,6
−ジブロモ−ポリ−N−ビニルカルバゾールのようなア
ルキル、ニトロ、アミノ、ハロゲン、およびヒドロキシ
置換ポリマーのようなポリマー;および米国特許第3,87
0,516号に記載されているような他の多くの透明有機高
分子または非高分子移送物質がある。
−9−ビニルアンスラセン、ポリ−9−(4−ペンテニ
ル)−カルバゾール、ポリ−9−(5−ヘキシル)−カ
ルバゾール、ポリメチレンピレン、ポリ−1−(ピレニ
ル)ブタジエン;ポリ−3−アミノカルバゾール、1,3
−ジブロモ−ポリ−N−ビニルカルバゾールおよび3,6
−ジブロモ−ポリ−N−ビニルカルバゾールのようなア
ルキル、ニトロ、アミノ、ハロゲン、およびヒドロキシ
置換ポリマーのようなポリマー;および米国特許第3,87
0,516号に記載されているような他の多くの透明有機高
分子または非高分子移送物質がある。
フィルム形成性バインダー中で可溶性または分子規模で
分散性である電荷移送分子に関する上述の各特許の記載
はすべて本明細書に引用する。
分散性である電荷移送分子に関する上述の各特許の記載
はすべて本明細書に引用する。
電荷移送物質を絶縁性バインダーと組合せて軟化性層を
形成させる場合、使用する電荷移送物質の量は特定の電
荷移送物質およびその軟化性層の連続絶縁性フィルム形
成性バインダー相中での適合性(例えば、溶解性)等に
依存し得る。特定の像形成構造体、材料、各処理工程お
よび他の各パラメーターを包含する特定の使用像形成系
によるが、満足できる結果は軟化性層の総重量基準で約
0〜約50重量%の電荷移送物質を用いたとき得られる。
静電印刷用マスターにおていは、満足できる結果は軟化
性層の総重量基準で約8〜約50重量%の電荷移送物質を
用いたとき得られる。特に好ましい電荷移送分子は、次
式 (式中、X,YおよびZは水素、1〜20個の炭素原子を有
するアルキル基および塩素からなる群より選ばれ、X,Y
およびZの少なくとも1つは、それぞれ、1〜20個の炭
素原子を有するアルキル基または塩素であるように選ば
れる) を有する分子である。YおよびZが水素である場合、そ
の化合物はN,N′−ビス(アルキルフェニル)−〔1,1′
−ビフェニル〕−4,4′−ジアミン(アルキルは、例え
ば、メチル、エチル、プロピル、n−ブチル等であ
る)、あるいは化合物はN,N′−ジフェニル−N,N′−ビ
ス(クロロフェニル)−〔1,1′−ビフェニル〕−4,4′
−ジアミンであり得る。
形成させる場合、使用する電荷移送物質の量は特定の電
荷移送物質およびその軟化性層の連続絶縁性フィルム形
成性バインダー相中での適合性(例えば、溶解性)等に
依存し得る。特定の像形成構造体、材料、各処理工程お
よび他の各パラメーターを包含する特定の使用像形成系
によるが、満足できる結果は軟化性層の総重量基準で約
0〜約50重量%の電荷移送物質を用いたとき得られる。
静電印刷用マスターにおていは、満足できる結果は軟化
性層の総重量基準で約8〜約50重量%の電荷移送物質を
用いたとき得られる。特に好ましい電荷移送分子は、次
式 (式中、X,YおよびZは水素、1〜20個の炭素原子を有
するアルキル基および塩素からなる群より選ばれ、X,Y
およびZの少なくとも1つは、それぞれ、1〜20個の炭
素原子を有するアルキル基または塩素であるように選ば
れる) を有する分子である。YおよびZが水素である場合、そ
の化合物はN,N′−ビス(アルキルフェニル)−〔1,1′
−ビフェニル〕−4,4′−ジアミン(アルキルは、例え
ば、メチル、エチル、プロピル、n−ブチル等であ
る)、あるいは化合物はN,N′−ジフェニル−N,N′−ビ
ス(クロロフェニル)−〔1,1′−ビフェニル〕−4,4′
−ジアミンであり得る。
蒸気と加熱の組合せを用いて像形成部材を現像する場
合、格別な貯蔵安定性を含む優れた結果は軟化性層が軟
化性層の総重量基準で約10〜約40重量%の上記ジアミン
化合物を含有するときに達成できる。最良の結果は転化
性層が転化性層の総重量基準で約16〜約40重量%のN,
N′−ジフェニル−N,N′−ビス(3″−メチルフェニ
ル)−(1,1′−ビフェニル)−4,4′−ジアミンを含む
ときに得られる。軟化性層が軟化性層総重量基準で約8
重量%以下の上記ジアミン化合物を含有するときは、Dm
inは著しく高くなりまた効果的でない電荷移送のため
に、静電印刷のための静電対比電位は低下する。軟化性
層が軟化性層総重量基準で約50重量%以上の上記ジアミ
ン化合物を含有するときは、軟化性層の機械的強度、可
撓性および一体性が幾分劣下し、電荷暗減衰も高くな
る。さらにまた、極めて高濃度の上記ジアミン化合物も
軟化性層中の化合物の結晶化を生じ得る。
合、格別な貯蔵安定性を含む優れた結果は軟化性層が軟
化性層の総重量基準で約10〜約40重量%の上記ジアミン
化合物を含有するときに達成できる。最良の結果は転化
性層が転化性層の総重量基準で約16〜約40重量%のN,
N′−ジフェニル−N,N′−ビス(3″−メチルフェニ
ル)−(1,1′−ビフェニル)−4,4′−ジアミンを含む
ときに得られる。軟化性層が軟化性層総重量基準で約8
重量%以下の上記ジアミン化合物を含有するときは、Dm
inは著しく高くなりまた効果的でない電荷移送のため
に、静電印刷のための静電対比電位は低下する。軟化性
層が軟化性層総重量基準で約50重量%以上の上記ジアミ
ン化合物を含有するときは、軟化性層の機械的強度、可
撓性および一体性が幾分劣下し、電荷暗減衰も高くな
る。さらにまた、極めて高濃度の上記ジアミン化合物も
軟化性層中の化合物の結晶化を生じ得る。
加熱のみまたは蒸気のみを用いて像形成部材を現像する
場合には、優れた結果は軟化性層が転化性層総重量基準
で約10〜約40重量%の上記ジアミン化合物を含有すると
きに得られる。最良の結果は軟化性層が軟化性層総重量
基準で約16〜約40重量%のN,N′−ジフェニル−N,N′−
ビス(3″−メチルフェニル)−(1,1′−ビフェニ
ル)−4,4′−ジアミンを含有するときに得られる。
場合には、優れた結果は軟化性層が転化性層総重量基準
で約10〜約40重量%の上記ジアミン化合物を含有すると
きに得られる。最良の結果は軟化性層が軟化性層総重量
基準で約16〜約40重量%のN,N′−ジフェニル−N,N′−
ビス(3″−メチルフェニル)−(1,1′−ビフェニ
ル)−4,4′−ジアミンを含有するときに得られる。
電荷移送物質は軟化性層および任意構成成分としての電
荷移送スペーシング層中に任意の適当な方法によって含
有させ得る。例えば、電荷移送物質は軟化性層またはス
ペーシング層成分と共通溶媒中に溶解させることによっ
て混合できる。必要ならば、軟化性層またはスペーシン
グ層用の各溶媒の混合物を用いて混合またはコーティン
グを容易にすることができる。
荷移送スペーシング層中に任意の適当な方法によって含
有させ得る。例えば、電荷移送物質は軟化性層またはス
ペーシング層成分と共通溶媒中に溶解させることによっ
て混合できる。必要ならば、軟化性層またはスペーシン
グ層用の各溶媒の混合物を用いて混合またはコーティン
グを容易にすることができる。
任意構成成分の接着層、任意構成成分の電荷移送スペー
シング層および軟化性層は任意の適当なコーティング方
法によって基体に適用できる。これら多層のコーティン
グにおいては、適切な制限を設けて1つの層のコーティ
ングが下地層を溶解しないようにすべきである。これは
フィルム形成性バインダー物質とその溶媒または溶媒混
合物との適切な選択によって達成できる。典型的なコー
ティング法には、引き延し棒法、スプレー法、押出し
法、浸漬法グラビアロール法、ワイヤー巻きロッド法、
エアナイフコーティング法等がある。接着層および電荷
移送スペーシング層の厚さは前述したとおりである。軟
化性層の厚さは最終像の目的とする用途による。最終目
的が単に像形成部材上に可視像を形成することである場
合には、軟化性層の厚さは一般に1〜3μmの範囲であ
る。
シング層および軟化性層は任意の適当なコーティング方
法によって基体に適用できる。これら多層のコーティン
グにおいては、適切な制限を設けて1つの層のコーティ
ングが下地層を溶解しないようにすべきである。これは
フィルム形成性バインダー物質とその溶媒または溶媒混
合物との適切な選択によって達成できる。典型的なコー
ティング法には、引き延し棒法、スプレー法、押出し
法、浸漬法グラビアロール法、ワイヤー巻きロッド法、
エアナイフコーティング法等がある。接着層および電荷
移送スペーシング層の厚さは前述したとおりである。軟
化性層の厚さは最終像の目的とする用途による。最終目
的が単に像形成部材上に可視像を形成することである場
合には、軟化性層の厚さは一般に1〜3μmの範囲であ
る。
しかしながら、像形成させた部材を静電印刷用に使用す
る場合、軟化性層の厚さは電荷移送スペーシング層を使
用するかどうかによる。1〜25μm範囲の厚さを有する
電荷移送スペーシング層を用いる場合、乾燥即ち硬化工
程後の付着軟化性層の厚さは合計厚さが約3〜30μmの
範囲である場合に約2〜5μmの範囲にあることが好ま
しい。軟化性層の2μm以下の厚さは静電印刷中の潜像
の現像に対して不十分な静電対比電位をもたらし得る。
電荷移送層の使用は約5μmより厚い軟化性層の使用を
必要としない。しかしながら、電荷移送層を使用しない
場合には、軟化性層の厚さは約3〜30μmの範囲が好ま
しく十分に高静電対比電位を与えて特定の用途に適する
ものとする。約30μmより厚い層も使用できるが、印刷
品質のそれ以上の改良は得られない。
る場合、軟化性層の厚さは電荷移送スペーシング層を使
用するかどうかによる。1〜25μm範囲の厚さを有する
電荷移送スペーシング層を用いる場合、乾燥即ち硬化工
程後の付着軟化性層の厚さは合計厚さが約3〜30μmの
範囲である場合に約2〜5μmの範囲にあることが好ま
しい。軟化性層の2μm以下の厚さは静電印刷中の潜像
の現像に対して不十分な静電対比電位をもたらし得る。
電荷移送層の使用は約5μmより厚い軟化性層の使用を
必要としない。しかしながら、電荷移送層を使用しない
場合には、軟化性層の厚さは約3〜30μmの範囲が好ま
しく十分に高静電対比電位を与えて特定の用途に適する
ものとする。約30μmより厚い層も使用できるが、印刷
品質のそれ以上の改良は得られない。
電荷移送物質を軟化性層および電荷移送層に含有させる
ことよって、本発明の像形成部材に光学的に符号逆転像
または光学的に符号保持像を形成する能力を与えまたそ
の静電印刷用マスターとしての使用性を改善する。
ことよって、本発明の像形成部材に光学的に符号逆転像
または光学的に符号保持像を形成する能力を与えまたそ
の静電印刷用マスターとしての使用性を改善する。
溶媒予備処理続いての加熱を用いるマイグレーション像
形成部材現像系においては、他の要因を考慮すべきであ
る。軟化性層中の軟化性物質用の任意の適当な溶媒が使
用できる。接触時に、溶媒は軟化性層を十分に軟化させ
て露光マイグレーションマーキング材料にわずかな正味
電荷を保持せしめて凝集を防止すると共にマイグレーシ
ョンマーキング材料の深部での基体に向っての像形状で
のわずかな移行のみを可能にし、さらに軟化性層中のマ
ーキング材料の移行に対する抵抗を減少させて非露光マ
ーキング材料を凝集させ融合させる。典型的な溶媒には
種々のケトン類、脂肪族エステル類、ハロゲン化脂肪族
類およびこれらの混合物がある。軟化性層を十分に軟化
させてマイグレーションマーキング材料の深部での基体
に向って像形状でのわずかな移行を可能にするのは溶媒
または溶媒混合物の蒸気または液体と接触させることに
よって行い得る。必要ならば、溶媒混合物は軟化性物質
に対する貧溶媒と良溶媒の混合物を含んで軟化性物質の
軟化度を一定時間内で制御し得る。軟化性物質と溶媒ま
たは溶媒混合物の典型的な組合せには、スチレンエチル
アクリレートコポリマーとメチルエチルケトン溶媒、ス
チレンヘキシルメタクリレートコポリマーとメチルエチ
ルケトン溶媒、スチレンヘキシルメタクリレートコポリ
マーと酢酸エチル溶媒、スチレンヘキシルメタクリレー
トコポリマーとジエチルケトン溶媒、スチレンヘキシル
メタクリレートコポリマーと塩化メチレン溶媒、スチレ
ンブチルメタクリレートコポリマーと1,1,1−トリクロ
ロエタン溶媒、スチレンヘキシルメタクリレートコポリ
マーとトルエンおよびイソプロパノール溶媒混合物、ス
チレンブタジエンコポリマーと酢酸エチルおよび酢酸ブ
チル溶媒混合物がある。任意構成成分としてのオーバー
コーティング層を軟化性層上部で用いて耐摩耗性を改善
する場合には、このオーバーコーティング層は使用する
溶媒蒸気に対して透過性であるべきであり、溶媒処理時
間は溶媒蒸気が軟化性層を十分に軟化させて露光マイグ
レーションマーキング材料にわずかな正味電荷を保持さ
せると共にマイグレーションマーキング材料の深部での
像形状のわずかな移行のみを可能にし、さらに軟化性層
中のマーキング材料の移行に対する抵抗を減少させて非
露光マーキング材料を凝集し融合させ得るようでなけれ
ばならない。
形成部材現像系においては、他の要因を考慮すべきであ
る。軟化性層中の軟化性物質用の任意の適当な溶媒が使
用できる。接触時に、溶媒は軟化性層を十分に軟化させ
て露光マイグレーションマーキング材料にわずかな正味
電荷を保持せしめて凝集を防止すると共にマイグレーシ
ョンマーキング材料の深部での基体に向っての像形状で
のわずかな移行のみを可能にし、さらに軟化性層中のマ
ーキング材料の移行に対する抵抗を減少させて非露光マ
ーキング材料を凝集させ融合させる。典型的な溶媒には
種々のケトン類、脂肪族エステル類、ハロゲン化脂肪族
類およびこれらの混合物がある。軟化性層を十分に軟化
させてマイグレーションマーキング材料の深部での基体
に向って像形状でのわずかな移行を可能にするのは溶媒
または溶媒混合物の蒸気または液体と接触させることに
よって行い得る。必要ならば、溶媒混合物は軟化性物質
に対する貧溶媒と良溶媒の混合物を含んで軟化性物質の
軟化度を一定時間内で制御し得る。軟化性物質と溶媒ま
たは溶媒混合物の典型的な組合せには、スチレンエチル
アクリレートコポリマーとメチルエチルケトン溶媒、ス
チレンヘキシルメタクリレートコポリマーとメチルエチ
ルケトン溶媒、スチレンヘキシルメタクリレートコポリ
マーと酢酸エチル溶媒、スチレンヘキシルメタクリレー
トコポリマーとジエチルケトン溶媒、スチレンヘキシル
メタクリレートコポリマーと塩化メチレン溶媒、スチレ
ンブチルメタクリレートコポリマーと1,1,1−トリクロ
ロエタン溶媒、スチレンヘキシルメタクリレートコポリ
マーとトルエンおよびイソプロパノール溶媒混合物、ス
チレンブタジエンコポリマーと酢酸エチルおよび酢酸ブ
チル溶媒混合物がある。任意構成成分としてのオーバー
コーティング層を軟化性層上部で用いて耐摩耗性を改善
する場合には、このオーバーコーティング層は使用する
溶媒蒸気に対して透過性であるべきであり、溶媒処理時
間は溶媒蒸気が軟化性層を十分に軟化させて露光マイグ
レーションマーキング材料にわずかな正味電荷を保持さ
せると共にマイグレーションマーキング材料の深部での
像形状のわずかな移行のみを可能にし、さらに軟化性層
中のマーキング材料の移行に対する抵抗を減少させて非
露光マーキング材料を凝集し融合させ得るようでなけれ
ばならない。
任意構成成分としてのオーバーコーティング層は実質的
に電気絶縁性であり得また他の適当な性質を有し得る。
オーバーコーティング層は、少なくとも、電磁線を像形
成過程の像形成露光工程および静電印刷過程の均一露光
工程で用いる場合のスペクトル領域において、実質的に
透明であるべきである。オーバーコーティングは連続し
ており、好ましくは約1〜2μmまでの厚さを有してい
る。好ましいのは、オーバーコーティングは約0.1〜約
0.5μmの厚さを有して残留電荷蓄積を最小にすべきで
ある。約1〜2μmより厚いオーバーコーティング層も
使用できるが、多刷プリントを静電印刷中に行うときオ
ーバーコーティング層内で生ずる電荷捕捉傾向のために
サイクルアップを生じ得る。典型的なオーバーコーティ
ング材料にはアクリル−スチレンコポリマー、メタクリ
レートポリマー、メタクリレートコポリマー、スチレン
−ブチルメタクリレートコポリマーブチルメタクリレー
ト樹脂、塩化ビニルコポリマー、フッ素化ホモまたはコ
ポリマー、高分子量ポリ酢酸ビニル、オルガノシロキサ
ンホモおよびコポリマー、ポリエステル,ポリカーボネ
ート、ポリアミド、ポリビニルトルエン等がある。オー
バーコーティング層は軟化性層を保護して取扱い中、像
形成中および静電印刷中に摩耗の悪影響に対してより大
きい抵抗性を与えるべきである。オーバーコーティング
層は好ましくは軟化性層に強固に接着して劣下を最小に
する。オーバーコーティング層はまたトナー付中、転写
中および/またはクリーニング中のトナーのフィルム形
成化に対する改良された抵抗性を与える外表面としての
非粘着性も有し得る。非粘着性はオーバーコーティング
層固有のものであり得、あるいは他の層または非粘着性
材料成分を含有させることによってオーバーコーティン
グ層に付与し得る。これらの非粘着性材料はオーバーコ
ーティングのフィルム形成性成分を劣下させるべきでな
く、好ましくは、約20エルグ/cm2以下の表面エネルギ
ーを有すべきである。典型的な非粘着性材料には脂肪酸
類、塩およびエステル類、フルオロカーボン類,シリコ
ーン類等がある。オーバーコーティングは引き延し棒
法、スプレー、浸漬、溶融、押出しまたはグラビアコー
ティングのような任意の適当な方法によって適用でき
る。これらのオーバーコーティング層が像形成前、像形
成中、部材を像形成させた後および静電印刷中に静電印
刷用マスター保護するものであることは理解されるであ
ろう。
に電気絶縁性であり得また他の適当な性質を有し得る。
オーバーコーティング層は、少なくとも、電磁線を像形
成過程の像形成露光工程および静電印刷過程の均一露光
工程で用いる場合のスペクトル領域において、実質的に
透明であるべきである。オーバーコーティングは連続し
ており、好ましくは約1〜2μmまでの厚さを有してい
る。好ましいのは、オーバーコーティングは約0.1〜約
0.5μmの厚さを有して残留電荷蓄積を最小にすべきで
ある。約1〜2μmより厚いオーバーコーティング層も
使用できるが、多刷プリントを静電印刷中に行うときオ
ーバーコーティング層内で生ずる電荷捕捉傾向のために
サイクルアップを生じ得る。典型的なオーバーコーティ
ング材料にはアクリル−スチレンコポリマー、メタクリ
レートポリマー、メタクリレートコポリマー、スチレン
−ブチルメタクリレートコポリマーブチルメタクリレー
ト樹脂、塩化ビニルコポリマー、フッ素化ホモまたはコ
ポリマー、高分子量ポリ酢酸ビニル、オルガノシロキサ
ンホモおよびコポリマー、ポリエステル,ポリカーボネ
ート、ポリアミド、ポリビニルトルエン等がある。オー
バーコーティング層は軟化性層を保護して取扱い中、像
形成中および静電印刷中に摩耗の悪影響に対してより大
きい抵抗性を与えるべきである。オーバーコーティング
層は好ましくは軟化性層に強固に接着して劣下を最小に
する。オーバーコーティング層はまたトナー付中、転写
中および/またはクリーニング中のトナーのフィルム形
成化に対する改良された抵抗性を与える外表面としての
非粘着性も有し得る。非粘着性はオーバーコーティング
層固有のものであり得、あるいは他の層または非粘着性
材料成分を含有させることによってオーバーコーティン
グ層に付与し得る。これらの非粘着性材料はオーバーコ
ーティングのフィルム形成性成分を劣下させるべきでな
く、好ましくは、約20エルグ/cm2以下の表面エネルギ
ーを有すべきである。典型的な非粘着性材料には脂肪酸
類、塩およびエステル類、フルオロカーボン類,シリコ
ーン類等がある。オーバーコーティングは引き延し棒
法、スプレー、浸漬、溶融、押出しまたはグラビアコー
ティングのような任意の適当な方法によって適用でき
る。これらのオーバーコーティング層が像形成前、像形
成中、部材を像形成させた後および静電印刷中に静電印
刷用マスター保護するものであることは理解されるであ
ろう。
1つの実施態様における本発明の像形成部材を用いる方
法での像形成工程は、静電潜像を像形成部材上に形成さ
せること、およびこの潜像を軟化性材料の移行に対する
抵抗性を低下させて粒状マーキング材料の移行を軟化性
層を通して行いそれによってマイグレーションマーキン
グ材料を軟化性材料層の深部で像形状で移行させること
によって現像することの各工程を含む。
法での像形成工程は、静電潜像を像形成部材上に形成さ
せること、およびこの潜像を軟化性材料の移行に対する
抵抗性を低下させて粒状マーキング材料の移行を軟化性
層を通して行いそれによってマイグレーションマーキン
グ材料を軟化性材料層の深部で像形状で移行させること
によって現像することの各工程を含む。
静電潜像は、像形成部材上に、該像形成部材を均一に静
電的に帯電させ次いで帯電させた部材を活性化用電磁線
に上記均一帯電の実質的暗減衰が起る前に像形成的に露
光させることによって形成できる。満足できる結果は暗
減衰が初期電荷の50%より小さいときに得られる、即
ち、“実質的減衰”なる表現は暗減衰が初期電荷の50%
より小さいことを意味する。初期電荷の約25%より小さ
い暗減衰が最適の像形成にとって好ましい。本発明の像
形成部材が伝導性コーティングを有する基体、軟化性
層、軟化性層表面と連続するマーキング材料の破壊性層
および軟化性層中のスチレン−エチルアクリレートコポ
リマーを含み、これをコロナ荷電装置で静電的に帯電さ
せる場合には、伝導性コーティングは静帯電中に接地ま
たは所定の電位に維持し得る。この帯電部材を活性化用
電磁照射に像形成的に露光させそれによって像形成部材
上に静電潜像を形成させる。この静電潜像を有する部材
を、次いで、軟化性材料の抵抗性を低下させて粒状マー
キング材料の移行を軟化性層を通して、例えば、熱放射
を軟化性材料に適用して軟化を行うことによって行うこ
とに現像する。熱、溶媒蒸気、これらの組合せまたは任
意の適当な手段を用いて軟化性層の軟化性材料の抵抗性
を低下させてマイグレーションマーキング材料を軟化性
層深部で像形状に移行させることによって潜像を現像す
ることもできる。軟化性層が任意構成成分の電荷移送物
質を含有し熱を用いて現像する実施態様においては、マ
イグレーションマーキング材料は露光領域に相応する領
域の軟化性層深部に移行し、未露光領域に相応する領域
ではその初期の移行しないまゝの状態で残存する。オー
バーコーティング層を適用して像形成前、像形成中およ
び像形成後の像形成部材を保護し得る。
電的に帯電させ次いで帯電させた部材を活性化用電磁線
に上記均一帯電の実質的暗減衰が起る前に像形成的に露
光させることによって形成できる。満足できる結果は暗
減衰が初期電荷の50%より小さいときに得られる、即
ち、“実質的減衰”なる表現は暗減衰が初期電荷の50%
より小さいことを意味する。初期電荷の約25%より小さ
い暗減衰が最適の像形成にとって好ましい。本発明の像
形成部材が伝導性コーティングを有する基体、軟化性
層、軟化性層表面と連続するマーキング材料の破壊性層
および軟化性層中のスチレン−エチルアクリレートコポ
リマーを含み、これをコロナ荷電装置で静電的に帯電さ
せる場合には、伝導性コーティングは静帯電中に接地ま
たは所定の電位に維持し得る。この帯電部材を活性化用
電磁照射に像形成的に露光させそれによって像形成部材
上に静電潜像を形成させる。この静電潜像を有する部材
を、次いで、軟化性材料の抵抗性を低下させて粒状マー
キング材料の移行を軟化性層を通して、例えば、熱放射
を軟化性材料に適用して軟化を行うことによって行うこ
とに現像する。熱、溶媒蒸気、これらの組合せまたは任
意の適当な手段を用いて軟化性層の軟化性材料の抵抗性
を低下させてマイグレーションマーキング材料を軟化性
層深部で像形状に移行させることによって潜像を現像す
ることもできる。軟化性層が任意構成成分の電荷移送物
質を含有し熱を用いて現像する実施態様においては、マ
イグレーションマーキング材料は露光領域に相応する領
域の軟化性層深部に移行し、未露光領域に相応する領域
ではその初期の移行しないまゝの状態で残存する。オー
バーコーティング層を適用して像形成前、像形成中およ
び像形成後の像形成部材を保護し得る。
加熱現像工程においては、像形成部材は、典型的には、
比較的低温に均一に加熱することによって現像する。例
えば、110℃〜約130℃の温度では、115℃で約104ポイズ
の溶融粘度を有する80/20スチレン−エキシルメタクリ
レートコポリマーを含有する軟化性層に対しては、数秒
間加熱するだけでよい。より低温では、もっと加熱時間
を必要とする。熱を適用するとき、軟化性層は粘度低下
しそれによって露光領域の軟化性層を通っての深部での
マーキング材料の移行に対する抵抗性を低下させる。
比較的低温に均一に加熱することによって現像する。例
えば、110℃〜約130℃の温度では、115℃で約104ポイズ
の溶融粘度を有する80/20スチレン−エキシルメタクリ
レートコポリマーを含有する軟化性層に対しては、数秒
間加熱するだけでよい。より低温では、もっと加熱時間
を必要とする。熱を適用するとき、軟化性層は粘度低下
しそれによって露光領域の軟化性層を通っての深部での
マーキング材料の移行に対する抵抗性を低下させる。
必要に応じて、溶媒蒸気現像を加熱現像工程に代えて用
いてもよい。マイグレーション像形成部材の蒸気現像は
当該技術において周知である。溶解蒸気現像に用いる好
ましい溶媒は約5〜30mmHgの溶媒蒸気部分圧で約4〜約
60秒の蒸気暴露によるトルエンである。
いてもよい。マイグレーション像形成部材の蒸気現像は
当該技術において周知である。溶解蒸気現像に用いる好
ましい溶媒は約5〜30mmHgの溶媒蒸気部分圧で約4〜約
60秒の蒸気暴露によるトルエンである。
現像したマイグレーション像形成部材は静電印刷法にお
ける静電印刷用マスターとして使用でき、この静電印刷
用マスターをコロナ荷電によるような適当な手段で均一
に帯電させる。静電印刷で用いるコロナ荷電の極性は正
孔移送物質または電子移送物質を軟化性層および電荷移
送スペーシング層に含有させているかどうかによって決
定される。正コロナ荷電は軟化性層および電荷移送スペ
ーシング層中に正孔移送物質が存在するときに使用す
る。電荷移送物質が軟化性層および電荷移送層中に含ま
れる場合には、静電印刷用マスターは均一に負帯電させ
る。帯電をコロナ荷電に関して説明しているけれども、
これは単に例示であって帯電は任意の他の適当な手段に
よっても行い得る。他の帯電方法には米国特許第2,934,
649号および第2,833,930号に記載されているような摩擦
荷電および誘導荷電、および米国特許第2,934,650号に
記載されているようなロール荷電がある。
ける静電印刷用マスターとして使用でき、この静電印刷
用マスターをコロナ荷電によるような適当な手段で均一
に帯電させる。静電印刷で用いるコロナ荷電の極性は正
孔移送物質または電子移送物質を軟化性層および電荷移
送スペーシング層に含有させているかどうかによって決
定される。正コロナ荷電は軟化性層および電荷移送スペ
ーシング層中に正孔移送物質が存在するときに使用す
る。電荷移送物質が軟化性層および電荷移送層中に含ま
れる場合には、静電印刷用マスターは均一に負帯電させ
る。帯電をコロナ荷電に関して説明しているけれども、
これは単に例示であって帯電は任意の他の適当な手段に
よっても行い得る。他の帯電方法には米国特許第2,934,
649号および第2,833,930号に記載されているような摩擦
荷電および誘導荷電、および米国特許第2,934,650号に
記載されているようなロール荷電がある。
帯電させた静電印刷用マスターはその後活性化用照射に
露光させて静電潜像を形成させる。特定の像形成性構
造、材料、処理工程、および他の諸パラメーターを包含
する特定の像形成系によるが、本発明の像形成部材は正
原紙からの正像または正原紙からの負像を形成できる。
例えば、軟化性層中に電荷移送物質を含有するマイグレ
ーション像形成部材は溶媒蒸気にさらし次いで加熱する
ことによって現像して静電印刷用マスター上に光学的に
符号逆転像を形成できる。未露光領域では、マイグレー
ションマーキング粒子は凝集し融合して比較的少ない大
きい粒子を形成してDmin領域を与える。露光領域では、
マイグレーションマーキング粒子は小さい正味電荷を保
持して、この電荷が基体に向ってマイグレーション材料
の深部でのわずかな凝集、わずかな融合、わずかな移行
またはこれらの組合せを可能にしDmax領域を与える。Dm
axとDmin領域でのマイグレーション粒子の大きさおよび
数0違いにより、DmaxとDmin領域での光放電速度と光放
電度合は著しく異なる。この静電印刷用マスターを均一
に帯電させ活性化用電磁線に均一に露光させた場合、光
放電は主としてDmax領域で起り、実質的にそれより少な
い光放電が静電印刷用マスターのDmin領域で起って静電
潜像を与える。均一露光工程で使用する活性化用電磁線
はマイグレーションマーキング粒子が電荷キャリヤーを
光放電させるスペクトル領域にあるべきである。300〜5
00ナノメーター(nm)領域の単色光がセレン粒子にとっ
て好ましく静電潜像の静電対比電位を最大にする。露光
エネルギーは所望のおよび/または最適の静電対比電位
が得られるようにあるべきである。即ち、この実施態様
においては、静電印刷用マスター上の可視像は正原紙の
光学的に負像であるけれども(マスターをレーザー走査
の代りにレンズ達成露光により形成させた場合)、静電
荷像は原像の正(符号保持性)の像である。
露光させて静電潜像を形成させる。特定の像形成性構
造、材料、処理工程、および他の諸パラメーターを包含
する特定の像形成系によるが、本発明の像形成部材は正
原紙からの正像または正原紙からの負像を形成できる。
例えば、軟化性層中に電荷移送物質を含有するマイグレ
ーション像形成部材は溶媒蒸気にさらし次いで加熱する
ことによって現像して静電印刷用マスター上に光学的に
符号逆転像を形成できる。未露光領域では、マイグレー
ションマーキング粒子は凝集し融合して比較的少ない大
きい粒子を形成してDmin領域を与える。露光領域では、
マイグレーションマーキング粒子は小さい正味電荷を保
持して、この電荷が基体に向ってマイグレーション材料
の深部でのわずかな凝集、わずかな融合、わずかな移行
またはこれらの組合せを可能にしDmax領域を与える。Dm
axとDmin領域でのマイグレーション粒子の大きさおよび
数0違いにより、DmaxとDmin領域での光放電速度と光放
電度合は著しく異なる。この静電印刷用マスターを均一
に帯電させ活性化用電磁線に均一に露光させた場合、光
放電は主としてDmax領域で起り、実質的にそれより少な
い光放電が静電印刷用マスターのDmin領域で起って静電
潜像を与える。均一露光工程で使用する活性化用電磁線
はマイグレーションマーキング粒子が電荷キャリヤーを
光放電させるスペクトル領域にあるべきである。300〜5
00ナノメーター(nm)領域の単色光がセレン粒子にとっ
て好ましく静電潜像の静電対比電位を最大にする。露光
エネルギーは所望のおよび/または最適の静電対比電位
が得られるようにあるべきである。即ち、この実施態様
においては、静電印刷用マスター上の可視像は正原紙の
光学的に負像であるけれども(マスターをレーザー走査
の代りにレンズ達成露光により形成させた場合)、静電
荷像は原像の正(符号保持性)の像である。
別の像形成法においては、軟化性層中に電荷移送物質を
含有するマイグレーション像形成部材もまた熱のみまた
は溶媒蒸気のみを適用することによって現像して静電印
刷用マスター上に光学的に符号保持性像を形成できる。
未露光領域では、マイグレーションマーキング粒子は実
質的にその初期位置に残ってDmax領域を与える。露光領
域では、マイグレーションマーキング粒子は深部に移行
して軟化性層中で分散状態となりDmin領域を与える。Dm
axとDmin領域での光放電速度および光放電度はDmaxとDm
in領域でのマーキング粒子の位置および分布の違いによ
る著しく異なる。この静電印刷用マスターを均一に帯電
させ次いで活性化用電磁線に均一に露光させたときは、
光放電は主としてDmax領域で起り、実質的にそれより少
ない光放電が静電印刷用マスターのDmin領域で起って静
電潜像を与える。この実施態様においては、静電印刷用
マスター上の可視像は光学的に符号保持性像、即ち、正
原像の正の像であるけれども(マスターをレーザー走査
の代りにレンズ連成露光によって形成させたとき)、静
電荷像は光学的に符号逆点、即ち、原像の負像である。
含有するマイグレーション像形成部材もまた熱のみまた
は溶媒蒸気のみを適用することによって現像して静電印
刷用マスター上に光学的に符号保持性像を形成できる。
未露光領域では、マイグレーションマーキング粒子は実
質的にその初期位置に残ってDmax領域を与える。露光領
域では、マイグレーションマーキング粒子は深部に移行
して軟化性層中で分散状態となりDmin領域を与える。Dm
axとDmin領域での光放電速度および光放電度はDmaxとDm
in領域でのマーキング粒子の位置および分布の違いによ
る著しく異なる。この静電印刷用マスターを均一に帯電
させ次いで活性化用電磁線に均一に露光させたときは、
光放電は主としてDmax領域で起り、実質的にそれより少
ない光放電が静電印刷用マスターのDmin領域で起って静
電潜像を与える。この実施態様においては、静電印刷用
マスター上の可視像は光学的に符号保持性像、即ち、正
原像の正の像であるけれども(マスターをレーザー走査
の代りにレンズ連成露光によって形成させたとき)、静
電荷像は光学的に符号逆点、即ち、原像の負像である。
次いで、静電潜像はトナー粒子によって現像して静電潜
像に相応するトナー像を形成させる。現像(トナー付)
工程は静電複写像形成において通常使用する工程と同じ
である。静電的に吸引性のマーキング粒子を含有する任
意の適当な通常の静電複写用乾燥または液体現像剤を用
いて本発明の静電印刷用マスター上の静電潜像を現像で
きる。典型的な乾燥トナーは約6〜約20μmの粒度を有
する。典型的な液体トナーは約0.1〜約0.3μmの粒度を
有する。乾燥トナーは、例えば、米国特許第2,788,288
号、第3,079,342号および再発行特許第25,136号に開示
されている。液体現像剤は、例えば、米国特許第2,890,
174号および第2,899,335号に開示されている。トナー粒
子の粒度はプリントの解像力に影響する。カラープルー
フィングおよびカラー印刷のような極めて高解像力を必
要とする用途においては、液体トナーが微細なハーフト
ーンドットのより良好な解像力を与えるそのかなり小さ
い粒度故に一般に好ましく、濃密黒色領域での過度の厚
さなしで4色像を形成する。
像に相応するトナー像を形成させる。現像(トナー付)
工程は静電複写像形成において通常使用する工程と同じ
である。静電的に吸引性のマーキング粒子を含有する任
意の適当な通常の静電複写用乾燥または液体現像剤を用
いて本発明の静電印刷用マスター上の静電潜像を現像で
きる。典型的な乾燥トナーは約6〜約20μmの粒度を有
する。典型的な液体トナーは約0.1〜約0.3μmの粒度を
有する。乾燥トナーは、例えば、米国特許第2,788,288
号、第3,079,342号および再発行特許第25,136号に開示
されている。液体現像剤は、例えば、米国特許第2,890,
174号および第2,899,335号に開示されている。トナー粒
子の粒度はプリントの解像力に影響する。カラープルー
フィングおよびカラー印刷のような極めて高解像力を必
要とする用途においては、液体トナーが微細なハーフト
ーンドットのより良好な解像力を与えるそのかなり小さ
い粒度故に一般に好ましく、濃密黒色領域での過度の厚
さなしで4色像を形成する。
本発明は静電複写液体現像剤による現像において特に有
用である。液体現像剤は水系または油系インクを含み得
る。液体現像剤には水溶性または油溶性染料物質を含む
インクと顔料化インクの両方がある。典型的な染料物質
にはイーストマンコダック社より商業的に入手できるメ
チレンブルー、ハーラコケミカル社より商業的に入手で
きるブリアントイエロー、過マンガン酸カリウム、塩化
第2鉄、メチレンバイオレット、ローズベンガルおよび
キノリンイエロー等があり、後の3つはアライドケミカ
ル社より入手できる。典型的な顔料はカーボンブラッ
ク、グラファイト、油煙、骨炭、木炭、二酸化チタン、
白鉛、酸化亜鉛、硫化亜鉛、酸化鉄、酸化クロム、クロ
ム酸鉛、クロム酸亜鉛、カドミウムイエロー、カドミニ
ウムレッド、鉛丹、二酸化アンチモン、ケイ酸マグネシ
ウム、炭酸カルシウム、ケイ酸カルシウム、フタロシア
ニン類、ベンジジン類、ナフトール類、トルイジン類等
がある。液体現像剤組成物は微分割不透明粉末、高抵抗
液体および凝集防止成分を含み得る。典型的な高抵抗液
体にはアイソパール(Isopar)、四塩化炭素、ケロセ
ン、ベンゼン、トリクロロエチレン等のような有機絶縁
性液体がある。他の現像剤成分または添加剤には、カル
ボキシビニルポリマー、ポリビニルピロリドン、メチル
ビニルエーテル−無水マレイン酸コポリマー、ビニルア
ルコールのようなビニル樹脂;ナトリウムカルボキシ−
エチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロー
ス、ヒドロキシエチルセルロース、メチルセルロースの
ようなセルロース類;これらセルロースのエステルおよ
びエーテルのようなセルロース誘導体;アルカリ可溶性
たんぱく質、カゼイン、ゼラチン;およびポリアクリル
酸アンモニウム、ポリアクリル酸ナトリウムのようなア
クリル酸塩等がある。
用である。液体現像剤は水系または油系インクを含み得
る。液体現像剤には水溶性または油溶性染料物質を含む
インクと顔料化インクの両方がある。典型的な染料物質
にはイーストマンコダック社より商業的に入手できるメ
チレンブルー、ハーラコケミカル社より商業的に入手で
きるブリアントイエロー、過マンガン酸カリウム、塩化
第2鉄、メチレンバイオレット、ローズベンガルおよび
キノリンイエロー等があり、後の3つはアライドケミカ
ル社より入手できる。典型的な顔料はカーボンブラッ
ク、グラファイト、油煙、骨炭、木炭、二酸化チタン、
白鉛、酸化亜鉛、硫化亜鉛、酸化鉄、酸化クロム、クロ
ム酸鉛、クロム酸亜鉛、カドミウムイエロー、カドミニ
ウムレッド、鉛丹、二酸化アンチモン、ケイ酸マグネシ
ウム、炭酸カルシウム、ケイ酸カルシウム、フタロシア
ニン類、ベンジジン類、ナフトール類、トルイジン類等
がある。液体現像剤組成物は微分割不透明粉末、高抵抗
液体および凝集防止成分を含み得る。典型的な高抵抗液
体にはアイソパール(Isopar)、四塩化炭素、ケロセ
ン、ベンゼン、トリクロロエチレン等のような有機絶縁
性液体がある。他の現像剤成分または添加剤には、カル
ボキシビニルポリマー、ポリビニルピロリドン、メチル
ビニルエーテル−無水マレイン酸コポリマー、ビニルア
ルコールのようなビニル樹脂;ナトリウムカルボキシ−
エチルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロー
ス、ヒドロキシエチルセルロース、メチルセルロースの
ようなセルロース類;これらセルロースのエステルおよ
びエーテルのようなセルロース誘導体;アルカリ可溶性
たんぱく質、カゼイン、ゼラチン;およびポリアクリル
酸アンモニウム、ポリアクリル酸ナトリウムのようなア
クリル酸塩等がある。
任意の適当な通常の静電複写現像法を用いてトナー粒子
を本発明の静電印刷用マスターの像形成表面上の静電上
に付着させ得る。周知の静電複写現像法には、磁性ブラ
シ法、粉末被覆法、カスケード法、液体法および同様な
現像方法がある。カスケード現像法は米国特許第2,618,
551号および第2,618,552号により詳しく記載されてお
り、粉末被覆現像法は米国特許第2,725,305号および第
2,918,910号により詳しく記載されており、磁性ブラシ
現像法は米国特許第2,791,949号および第3,015,305号に
より詳しく記載されており、さらに液体現像法は米国特
許第3,084,043号により詳しく記載されている。これら
トナー、現像剤および現像法に関する特許はすべて本明
細書に引用する。現像が帯電領域に相応する現像を含む
ことを欲する場合には、一般に、潜像の保持電荷と反対
極性に摩擦電気的に帯電させた現像剤と接触させて通し
それによって現像剤を絶縁性像パターンの帯電領域に吸
引させ付着させることが好ましい。しかしながら、未帯
電領域に相応する現像を複写させることが好ましい場合
には、像の帯電パターンと同じ極性に帯電させた現像剤
を用いることが一般的実施である。次いで、現像剤は潜
像の電荷によって反発されてプレートの非帯電領域に付
着し、帯電領域は現像剤なしのまゝで残るであろう。
を本発明の静電印刷用マスターの像形成表面上の静電上
に付着させ得る。周知の静電複写現像法には、磁性ブラ
シ法、粉末被覆法、カスケード法、液体法および同様な
現像方法がある。カスケード現像法は米国特許第2,618,
551号および第2,618,552号により詳しく記載されてお
り、粉末被覆現像法は米国特許第2,725,305号および第
2,918,910号により詳しく記載されており、磁性ブラシ
現像法は米国特許第2,791,949号および第3,015,305号に
より詳しく記載されており、さらに液体現像法は米国特
許第3,084,043号により詳しく記載されている。これら
トナー、現像剤および現像法に関する特許はすべて本明
細書に引用する。現像が帯電領域に相応する現像を含む
ことを欲する場合には、一般に、潜像の保持電荷と反対
極性に摩擦電気的に帯電させた現像剤と接触させて通し
それによって現像剤を絶縁性像パターンの帯電領域に吸
引させ付着させることが好ましい。しかしながら、未帯
電領域に相応する現像を複写させることが好ましい場合
には、像の帯電パターンと同じ極性に帯電させた現像剤
を用いることが一般的実施である。次いで、現像剤は潜
像の電荷によって反発されてプレートの非帯電領域に付
着し、帯電領域は現像剤なしのまゝで残るであろう。
任意の適当な手段を用いて現像した静電印刷用マスター
表面から転写即ちコピーシートに転写して最終コピーを
得ることができる。転写操作を行うのに特に有用で一般
に好ましい方法は転写シートを像付着表面即ち静電印刷
表面と接触させ、電荷を転写シートの反対面に、例え
ば、転写部材に対し並置させたコロナ放電電極または他
の同様な装置のような隣接のイオン源により適用するこ
とからなる静電転写法を含む。そのようなイオン源は静
電印刷過程の荷電工程中に用いた源と同じであり得、像
付着に関して高電位に維持する。コロナ放電が生じてイ
オン化粒子の転写シートへの付着が起り、このイオン化
粒子は部材を帯電するように働く。転写部材は現像の極
性とは反対極性にかつ最初静電印刷用マスターに適用さ
れた電位に打ち勝のに十分に強く帯電されるであろう。
約5000〜約8000ボルトの電位を適用された単線コロトロ
ンが満足できる転写を与える。接着ピックオフ(pickof
f)は使用し得る像転写のもう1つの態様である。静電
転写法は高解像力を維持しながら最適の像転写を得るの
に好ましいものである。液体現像剤を用いるとき、像転
写のもっと一般的に好ましい方法は転写部材を現像と表
面接触させたとき接触圧を適用する方法である。
表面から転写即ちコピーシートに転写して最終コピーを
得ることができる。転写操作を行うのに特に有用で一般
に好ましい方法は転写シートを像付着表面即ち静電印刷
表面と接触させ、電荷を転写シートの反対面に、例え
ば、転写部材に対し並置させたコロナ放電電極または他
の同様な装置のような隣接のイオン源により適用するこ
とからなる静電転写法を含む。そのようなイオン源は静
電印刷過程の荷電工程中に用いた源と同じであり得、像
付着に関して高電位に維持する。コロナ放電が生じてイ
オン化粒子の転写シートへの付着が起り、このイオン化
粒子は部材を帯電するように働く。転写部材は現像の極
性とは反対極性にかつ最初静電印刷用マスターに適用さ
れた電位に打ち勝のに十分に強く帯電されるであろう。
約5000〜約8000ボルトの電位を適用された単線コロトロ
ンが満足できる転写を与える。接着ピックオフ(pickof
f)は使用し得る像転写のもう1つの態様である。静電
転写法は高解像力を維持しながら最適の像転写を得るの
に好ましいものである。液体現像剤を用いるとき、像転
写のもっと一般的に好ましい方法は転写部材を現像と表
面接触させたとき接触圧を適用する方法である。
任意の適当な材料を静電印刷過程での現像の転写または
受け入れシートとして使用できる。コピー材料は本質的
に絶縁性あるいは部分的に伝導性であり得る。典型的な
材料にはポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリフッ化ビ
ニル、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、
および普通のポンド紙がある。
受け入れシートとして使用できる。コピー材料は本質的
に絶縁性あるいは部分的に伝導性であり得る。典型的な
材料にはポリエチレン、ポリ塩化ビニル、ポリフッ化ビ
ニル、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、
および普通のポンド紙がある。
転写または受け入れシートの表面に転写した像はその支
持体に任意の適当な手段、例えば、蒸気定着、加熱ロー
ル定着、フラッシュ定着、または調整量の熱による現像
のオーブン定着によりあるいはラミネーティング法によ
り定着できる。好ましいのはトナー現像に対して加熱定
着技術を用いることであり、これは定着過程の高度の制
御を可能にするからである。液体現像剤を用いる場合、
定着は使用した比較的揮発性のキャリヤー液の蒸発を行
うことによって達成する。即ち、定着工程は静電複写像
形成において通常用いるのと同じであり得る。
持体に任意の適当な手段、例えば、蒸気定着、加熱ロー
ル定着、フラッシュ定着、または調整量の熱による現像
のオーブン定着によりあるいはラミネーティング法によ
り定着できる。好ましいのはトナー現像に対して加熱定
着技術を用いることであり、これは定着過程の高度の制
御を可能にするからである。液体現像剤を用いる場合、
定着は使用した比較的揮発性のキャリヤー液の蒸発を行
うことによって達成する。即ち、定着工程は静電複写像
形成において通常用いるのと同じであり得る。
静電印刷用マスターは同一の連続像を正確に同じ領域に
形成するので、連続像形成サイクル間で静電潜像を消去
する必要はない。しかしながら、必要ならば、マスター
を通常の静電複写消去法によって任意に消去させてもよ
い。例えば、静電印刷用マスターの強力光への均一露光
によりマスターの像領域および非像領域の両方を放電す
る。消去に用い得る典型的な光強度は均一露光工程で用
いる光強度の約10倍から約300倍の範囲である。別の周
知方法は像形成表面をACコロナ放電にさらしてマスター
上のすべての残留電荷を中和することを含む。ACコロナ
消去装置のコロナ線に適用する典型的な電位は約5〜約
10キロボルトの範囲であり得る。
形成するので、連続像形成サイクル間で静電潜像を消去
する必要はない。しかしながら、必要ならば、マスター
を通常の静電複写消去法によって任意に消去させてもよ
い。例えば、静電印刷用マスターの強力光への均一露光
によりマスターの像領域および非像領域の両方を放電す
る。消去に用い得る典型的な光強度は均一露光工程で用
いる光強度の約10倍から約300倍の範囲である。別の周
知方法は像形成表面をACコロナ放電にさらしてマスター
上のすべての残留電荷を中和することを含む。ACコロナ
消去装置のコロナ線に適用する典型的な電位は約5〜約
10キロボルトの範囲であり得る。
必要ならば、静電印刷用マスターの表面はクリーニング
してもよい。静電複写像形成において通常使用する任意
の適当なクリーニング工程を用いて本発明の静電印刷用
マスターをクリーニングするのに使用できる。典型的な
周知の静電複写クリーニング法には、ブラシクリーニン
グ法、ウェブクリーニング法等がある。
してもよい。静電複写像形成において通常使用する任意
の適当なクリーニング工程を用いて本発明の静電印刷用
マスターをクリーニングするのに使用できる。典型的な
周知の静電複写クリーニング法には、ブラシクリーニン
グ法、ウェブクリーニング法等がある。
マスターから付着トナー像を受け入れ部材に転写したの
ち、マスターは、消去工程およびクリーニング工程無し
または有りで、追加の均一帯電、均一照射、現像および
転写の各工程によりサイクル操作して追加の像形成受け
入れ部材を形成できる。
ち、マスターは、消去工程およびクリーニング工程無し
または有りで、追加の均一帯電、均一照射、現像および
転写の各工程によりサイクル操作して追加の像形成受け
入れ部材を形成できる。
本発明のマイグレーション像形成部材は軟化性層からの
電荷移送分子のリーチングに対して抵抗性のある実施態
様を包含する。本発明のマイグレーション像形成部材は
また基体に対する各層の優れた接着性を示しそれによっ
て製造中、貯蔵中および使用中のはがれを回避する実施
態様も包含する。外側層がスチレン−エチルアクリレー
トコポリマーを含む実施態様においては、本発明のマイ
グレーション像形成部材はブロッキングなしで強くコイ
ル化できる。スチレン−エチルアクリレートコポリマー
を本発明のマイグレーション像形成部材の1以上の層に
含有させるのは像形成部材の機械的、熱的、化学的およ
び電気的性質に悪影響を及ぼすことなく行うことができ
る。
電荷移送分子のリーチングに対して抵抗性のある実施態
様を包含する。本発明のマイグレーション像形成部材は
また基体に対する各層の優れた接着性を示しそれによっ
て製造中、貯蔵中および使用中のはがれを回避する実施
態様も包含する。外側層がスチレン−エチルアクリレー
トコポリマーを含む実施態様においては、本発明のマイ
グレーション像形成部材はブロッキングなしで強くコイ
ル化できる。スチレン−エチルアクリレートコポリマー
を本発明のマイグレーション像形成部材の1以上の層に
含有させるのは像形成部材の機械的、熱的、化学的およ
び電気的性質に悪影響を及ぼすことなく行うことができ
る。
以下、本発明を特定の好ましい実施態様に関連して詳細
に説明するが、これらの実施例は単に例示を目的とし本
発明の範囲を限定するものでないことに留意されたい。
部およびパーセントは他に断わらない限り重量による。
に説明するが、これらの実施例は単に例示を目的とし本
発明の範囲を限定するものでないことに留意されたい。
部およびパーセントは他に断わらない限り重量による。
実施例1 スチレンエチルアクリレートアクリル酸ターポリマー樹
脂(モンサント社より入手できるRP−1215)の50重量%
トルエン溶液をトルエンで希釈して5%(総重量の)溶
液を得た。このスチレンエチルアクリレートアクリル酸
ターポリマー樹脂は次の性質を有していた:74モル%の
スチレン、25モル%のエチルアクリレート、1モル%の
アクリル酸、Mn30×103、Mw72×103、酸化8、Tg約65
℃、および115℃で約5×106ポイズの溶融粘度。マイグ
レーション像形成フィルムは上記で調製した溶液を76μ
m(3ミル)厚アルミニウム処理ポリエステル(ICI社
より入手できるメリネックスタイプ442)上に♯4メイ
ヤーロッドを用いて手でコーティングすることによって
作製した。コーティングしたフィルムは115℃で5分間
加熱アルミニウムブロックと接触させることによって乾
燥させた。この接着層の乾燥厚は約0.3μmであった。
次の性質を有するスチレン−n−ヘキシルメタクリレー
トコポリマーを調製した:80モル%のスチレンと20モル
%のn−ヘキシルメタクリレート、Mn12×103、Mw28×1
03、酸化0、Tg約51℃、および115℃での溶融粘度約3
×104ポイズ。このスチレン−n−ヘキシルメタクリレ
ートコポリマーをシクロヘキサン中に溶解して13.5%
(総重量の)溶液を得た。トルエンの代りにシクロヘキ
サンを用いて接着層の溶解を回避した。スチレン−n−
ヘキシルメタクリレートコポリマー溶液を接着層上部に
♯10メイヤーロッドにより手でコーティングし、コーテ
ィングしたフィルムを再び115℃で5分間乾燥させて像
形成部材の軟化性層を形成させた。乾燥軟化性層の厚さ
は約2μmであった。軟化性層の温度を約115℃に上げ
て軟化性層露出表面の粘度を約5×103ポイズに低下さ
せてマーキング材料付着の基準とした。粒状ガラス質セ
レンの薄層を約4×104トールの真空に維持した真空チ
ャンバー中で真空蒸着により適用した。次いで、得られ
た像形成部材を室温に急冷させた。スチレン−n−ヘキ
シルメタクリレートコポリマーの露出表面下約0.05〜0.
1μmが埋め込まれた平均直径0.3μmを有するセレン粒
子の単分子量が形成された。得られた像形成部材は約1.
85の極めて均一な光学密度を有していた。
脂(モンサント社より入手できるRP−1215)の50重量%
トルエン溶液をトルエンで希釈して5%(総重量の)溶
液を得た。このスチレンエチルアクリレートアクリル酸
ターポリマー樹脂は次の性質を有していた:74モル%の
スチレン、25モル%のエチルアクリレート、1モル%の
アクリル酸、Mn30×103、Mw72×103、酸化8、Tg約65
℃、および115℃で約5×106ポイズの溶融粘度。マイグ
レーション像形成フィルムは上記で調製した溶液を76μ
m(3ミル)厚アルミニウム処理ポリエステル(ICI社
より入手できるメリネックスタイプ442)上に♯4メイ
ヤーロッドを用いて手でコーティングすることによって
作製した。コーティングしたフィルムは115℃で5分間
加熱アルミニウムブロックと接触させることによって乾
燥させた。この接着層の乾燥厚は約0.3μmであった。
次の性質を有するスチレン−n−ヘキシルメタクリレー
トコポリマーを調製した:80モル%のスチレンと20モル
%のn−ヘキシルメタクリレート、Mn12×103、Mw28×1
03、酸化0、Tg約51℃、および115℃での溶融粘度約3
×104ポイズ。このスチレン−n−ヘキシルメタクリレ
ートコポリマーをシクロヘキサン中に溶解して13.5%
(総重量の)溶液を得た。トルエンの代りにシクロヘキ
サンを用いて接着層の溶解を回避した。スチレン−n−
ヘキシルメタクリレートコポリマー溶液を接着層上部に
♯10メイヤーロッドにより手でコーティングし、コーテ
ィングしたフィルムを再び115℃で5分間乾燥させて像
形成部材の軟化性層を形成させた。乾燥軟化性層の厚さ
は約2μmであった。軟化性層の温度を約115℃に上げ
て軟化性層露出表面の粘度を約5×103ポイズに低下さ
せてマーキング材料付着の基準とした。粒状ガラス質セ
レンの薄層を約4×104トールの真空に維持した真空チ
ャンバー中で真空蒸着により適用した。次いで、得られ
た像形成部材を室温に急冷させた。スチレン−n−ヘキ
シルメタクリレートコポリマーの露出表面下約0.05〜0.
1μmが埋め込まれた平均直径0.3μmを有するセレン粒
子の単分子量が形成された。得られた像形成部材は約1.
85の極めて均一な光学密度を有していた。
実施例2 追加のマイグレーション像形成部材を実施例1で記載し
たのと同じ材料および条件によって作製したが、接着層
は適用しなかった。得られた像形成部材は約1.85の極め
て均一な光学密度を有していた。これらの追加の像形成
部材は比較目的の対照として用いた。
たのと同じ材料および条件によって作製したが、接着層
は適用しなかった。得られた像形成部材は約1.85の極め
て均一な光学密度を有していた。これらの追加の像形成
部材は比較目的の対照として用いた。
実施例3 上記で作製した各マイグレーション像形成部材(1組は
実施例1で記載したような接着層を含み、他の1組は実
施例2で記載した対照である)を約−200ボルトへの負
コロナ帯電、約3エルグ/cm2の400nm光による像形成的
露光、および加熱アルミニウムブロックとの接触による
115℃、5分間の加熱現像によって像形成させた。2つ
の組のマイグレーション像形成部材の像の解像力および
光学対比密度のような像形成特性は本質的に同じであっ
た。換言すれば、本発明の接着層を含むマイグレーショ
ン像形成部材の像形成特性は接着層を有しない現在の高
品質マイグレーション像形成部材と比較して本質的に変
化してなかった。
実施例1で記載したような接着層を含み、他の1組は実
施例2で記載した対照である)を約−200ボルトへの負
コロナ帯電、約3エルグ/cm2の400nm光による像形成的
露光、および加熱アルミニウムブロックとの接触による
115℃、5分間の加熱現像によって像形成させた。2つ
の組のマイグレーション像形成部材の像の解像力および
光学対比密度のような像形成特性は本質的に同じであっ
た。換言すれば、本発明の接着層を含むマイグレーショ
ン像形成部材の像形成特性は接着層を有しない現在の高
品質マイグレーション像形成部材と比較して本質的に変
化してなかった。
実施例4 上記で作製した各マイグレーション像形成部材(1つの
組は実施例1で記載したような接着層を含み、他の組は
実施例2で記載したような対照である)を巻き締め試験
におけるはがれに対する抵抗性について試験した。巻き
締め試験を行うために、接着層を含むマイグレーション
像形成部材セットからおよび対照セットからの約1.27cm
×25.4cm(約0.5インチ×10インチ)の各ストリップを
作製し、その後、0.32cm(1/8インチ)直径の合せピン
の周りに714g/cm(41b/インチ)の適用張力によって強
く巻き付けた(軟化性層側面内側から)。これらの同一
試験条件下では、接着層を含むマイグレーション像形成
部材においてはこの実施例1の巻き付けマイグレーショ
ン像形成部材を少なくとも5週間後に巻き戻したときに
はがれは見られなかったのに対し、対照のマイグレーシ
ョン像形成部材においてはわずかに48時間後の巻き戻し
時において全体的なはがれが起った。別の試験におい
て、実施例1および2からの各マイグレーション像形成
部材を、スコッチ商標の接着テープ(3M社より入手でき
る♯600)の6インチ(15.24cm)ストリップの半分を軟
化性層に適用し、他端を軟化性表面から垂直に引き離す
という極めて厳しい接着テープ試験に供した。接着層を
含むマイグレーション像形成部材はこの接着テープ試験
に耐えることができたが、対照のマイグレーション像形
成部材の軟化性層は接着テープによりはく離した。これ
らの試験条件は実際の使用条件において遭遇するような
条件よりも数倍も厳しいもの、例えば、巻き締め試験は
製造および実際の使用条件中に遭遇する張力よりも数倍
高い張力で行ったものであるが、接着層を含むマイグレ
ーション像形成部材には劣化は生じなかった。
組は実施例1で記載したような接着層を含み、他の組は
実施例2で記載したような対照である)を巻き締め試験
におけるはがれに対する抵抗性について試験した。巻き
締め試験を行うために、接着層を含むマイグレーション
像形成部材セットからおよび対照セットからの約1.27cm
×25.4cm(約0.5インチ×10インチ)の各ストリップを
作製し、その後、0.32cm(1/8インチ)直径の合せピン
の周りに714g/cm(41b/インチ)の適用張力によって強
く巻き付けた(軟化性層側面内側から)。これらの同一
試験条件下では、接着層を含むマイグレーション像形成
部材においてはこの実施例1の巻き付けマイグレーショ
ン像形成部材を少なくとも5週間後に巻き戻したときに
はがれは見られなかったのに対し、対照のマイグレーシ
ョン像形成部材においてはわずかに48時間後の巻き戻し
時において全体的なはがれが起った。別の試験におい
て、実施例1および2からの各マイグレーション像形成
部材を、スコッチ商標の接着テープ(3M社より入手でき
る♯600)の6インチ(15.24cm)ストリップの半分を軟
化性層に適用し、他端を軟化性表面から垂直に引き離す
という極めて厳しい接着テープ試験に供した。接着層を
含むマイグレーション像形成部材はこの接着テープ試験
に耐えることができたが、対照のマイグレーション像形
成部材の軟化性層は接着テープによりはく離した。これ
らの試験条件は実際の使用条件において遭遇するような
条件よりも数倍も厳しいもの、例えば、巻き締め試験は
製造および実際の使用条件中に遭遇する張力よりも数倍
高い張力で行ったものであるが、接着層を含むマイグレ
ーション像形成部材には劣化は生じなかった。
実施例5 追加のマイグレーション像形成部材を実施例1で記載し
たのと同じ材料および条件を用いて作製したが、接着層
として、イソシアネート硬化剤(E.I.デュポン社より入
手できるRC−803)でドーピングしたポリエステル接着
剤(49001、これもE.I.デュポン社より入手できる)を
スチレンエチルアクリレートアクリル酸ターポリマーの
代りに用いた。ポリエステル接着剤とイソシアネート硬
化剤はメチルエチルケトン溶媒に溶解させアルミニウム
処理ポリエステル基体上に手でコーティングした。ポリ
エステル接着剤とイソシアネート硬化剤は厚さ約0.3μ
mを有する乾燥層を形成した。最終像形成部材は微結晶
または凝集物の微候もなく極めて均一な光学密度を有し
ていた。この像形成部材は実施例1で記載したような像
形成部材との比較目的の対照として用いた。作製した各
マイグレーション像形成部材(1つの組は実施例1で記
載したようなスチレンエチルアクリレートアクリル酸接
着層を含み、もう1つの組はポリエステル接着層を含
む)を約−200ボルトへの負コロナ荷電、約3エルグ/c
m2の400nm光により像形成的露光、および加熱アルミニ
ウムブロックとの接触による115℃、5分間の加熱現像
により像形成させた。対照のマイグレーション像形成部
材の像の光学対比密度は実施例1で記載したスチレンエ
チルアクリレートアクリル酸接着層を含む部材の光学対
比密度(Dminは約0.72であった)に較べてDminの増大
(Dminは約1.3であった)に基づき厳しく低下してい
た。さらに、乾燥ポリエステル接着層のむしろ低いTg
(約28℃)のために、この材料は幾分粘着性であり、ジ
ルス(Dilts)コーター上での作製中フィルムをロール
上に強く巻くときフィルムの若干のブロッキングを生じ
た。
たのと同じ材料および条件を用いて作製したが、接着層
として、イソシアネート硬化剤(E.I.デュポン社より入
手できるRC−803)でドーピングしたポリエステル接着
剤(49001、これもE.I.デュポン社より入手できる)を
スチレンエチルアクリレートアクリル酸ターポリマーの
代りに用いた。ポリエステル接着剤とイソシアネート硬
化剤はメチルエチルケトン溶媒に溶解させアルミニウム
処理ポリエステル基体上に手でコーティングした。ポリ
エステル接着剤とイソシアネート硬化剤は厚さ約0.3μ
mを有する乾燥層を形成した。最終像形成部材は微結晶
または凝集物の微候もなく極めて均一な光学密度を有し
ていた。この像形成部材は実施例1で記載したような像
形成部材との比較目的の対照として用いた。作製した各
マイグレーション像形成部材(1つの組は実施例1で記
載したようなスチレンエチルアクリレートアクリル酸接
着層を含み、もう1つの組はポリエステル接着層を含
む)を約−200ボルトへの負コロナ荷電、約3エルグ/c
m2の400nm光により像形成的露光、および加熱アルミニ
ウムブロックとの接触による115℃、5分間の加熱現像
により像形成させた。対照のマイグレーション像形成部
材の像の光学対比密度は実施例1で記載したスチレンエ
チルアクリレートアクリル酸接着層を含む部材の光学対
比密度(Dminは約0.72であった)に較べてDminの増大
(Dminは約1.3であった)に基づき厳しく低下してい
た。さらに、乾燥ポリエステル接着層のむしろ低いTg
(約28℃)のために、この材料は幾分粘着性であり、ジ
ルス(Dilts)コーター上での作製中フィルムをロール
上に強く巻くときフィルムの若干のブロッキングを生じ
た。
実施例6 静電印刷用マスタープレカーサー部材を、次の諸性質;8
0モル%のスチレンと20モル%のn−ヘキシルメタクリ
レート、Mn12×103、Mw28×103、酸価0、Tg約51℃、お
よび115℃での溶融粘度約3×104ポイズを有するスチレ
ン−n−ヘキシルメタクリレートコポリマーの約10重量
%とN,N′−ジフェニル−N,N′−ビス(3″−メチルフ
ェニル)−1,1′−ビフェニル)−4,4′−ジアミン約2.
4重量%をトルエン約87.6重量%(溶液の総重量基準)
に溶解させることによって作製した。得られた溶液をN
o.10ワイヤー巻きロッドを用いて薄い半透明アルミニウ
ムコーティングを有する12インチ(30.5cm)幅の76mm
(3ミル)のマイラーポリエステルフィルム(E.I.デュ
ポン社より入手できる)に適用した。付着軟化性層を約
115℃で5分間乾燥させて厚さ約3.5μmを有する乾燥層
を形成させた。軟化性層の温度を約115℃に上げて軟化
性層露出表面の粘度を約5×103ポイズに低下させマー
キング材料付着の準備とした。次いで、粒状ガラス質セ
レン薄層を約4×10-4トールの真空に維持した真空チャ
ンバー内で真空蒸着によって適用した。像形成部材を次
いで室温に急冷させた。上記コポリマーの露出表面下の
約0.05〜0.1μmに埋め込まれた平均直径約0.3μmを有
するセレン粒子の赤色単分子層が形成された。得られた
像形成部材は極めて均一な光学密度を有していた。
0モル%のスチレンと20モル%のn−ヘキシルメタクリ
レート、Mn12×103、Mw28×103、酸価0、Tg約51℃、お
よび115℃での溶融粘度約3×104ポイズを有するスチレ
ン−n−ヘキシルメタクリレートコポリマーの約10重量
%とN,N′−ジフェニル−N,N′−ビス(3″−メチルフ
ェニル)−1,1′−ビフェニル)−4,4′−ジアミン約2.
4重量%をトルエン約87.6重量%(溶液の総重量基準)
に溶解させることによって作製した。得られた溶液をN
o.10ワイヤー巻きロッドを用いて薄い半透明アルミニウ
ムコーティングを有する12インチ(30.5cm)幅の76mm
(3ミル)のマイラーポリエステルフィルム(E.I.デュ
ポン社より入手できる)に適用した。付着軟化性層を約
115℃で5分間乾燥させて厚さ約3.5μmを有する乾燥層
を形成させた。軟化性層の温度を約115℃に上げて軟化
性層露出表面の粘度を約5×103ポイズに低下させマー
キング材料付着の準備とした。次いで、粒状ガラス質セ
レン薄層を約4×10-4トールの真空に維持した真空チャ
ンバー内で真空蒸着によって適用した。像形成部材を次
いで室温に急冷させた。上記コポリマーの露出表面下の
約0.05〜0.1μmに埋め込まれた平均直径約0.3μmを有
するセレン粒子の赤色単分子層が形成された。得られた
像形成部材は極めて均一な光学密度を有していた。
実施例7 静電印刷用マスタープレカーサー部材を作製したが、そ
の軟化性層は次の性質:74モル%のスチレン、25モル%
のエチルアクリレートおよび1モル%のアクリル酸、Mn
30×103、Mw72×103、酸価8、Tg約65℃、および115℃
での溶融粘度約5×106を有するスチレンエチルアクリ
レートアクリル酸ターポリマー樹脂を含んでいた。スチ
レンエチルアクリレートアクリル酸ターポリマー樹脂は
モンサント社からRP1215として50重量%トルエン溶液で
入手できた。約87.6重量%のトルエン中の約10重量%の
上記スチレンエチルアクリレートアクリル酸ターポリマ
ーと約2.4重量%のN,N′−ジフェニル−N,N′−ビス
(3″−メチルフェニル)−(1,1′−ビフェニル)−
4,4′−ジアミンとからなる溶液を調製した(成分割合
はいずれも溶液総重量基準)。得られた溶液をNo.10ワ
イヤー巻きロッドを用いて薄い半透明アルミニウムコー
ティングを有する12インチ(30.5cm)幅の76μm(3ミ
ル)マイラーポリエステルフィルム(E.I.デュポン社よ
り入手できる)に適用した。付着軟化性層を約115℃で
5分間乾燥させて厚さ約3.5μmを有する乾燥層を形成
させた。軟化性層の温度を約115℃に上げて軟化性層露
出表面の粘度を約5×103ポイズに低下させてマーキン
グ材料の付着の準備とした。次いで、粒状ガラス質セレ
ン薄層を約4×10-4トールの真空に維持した真空チャン
バー内での真空蒸着によって適用した。像形成部材を次
いで室温に急冷させた。軟化性層の露光表面下約0.05〜
0.1μmに埋め込まれた平均粒度約0.3μmを有するセレ
ン粒子の赤色単分子層が形成された。得られた像形成部
材は微結晶または凝集の徴候のない極めて均一な光学密
度を有していた。
の軟化性層は次の性質:74モル%のスチレン、25モル%
のエチルアクリレートおよび1モル%のアクリル酸、Mn
30×103、Mw72×103、酸価8、Tg約65℃、および115℃
での溶融粘度約5×106を有するスチレンエチルアクリ
レートアクリル酸ターポリマー樹脂を含んでいた。スチ
レンエチルアクリレートアクリル酸ターポリマー樹脂は
モンサント社からRP1215として50重量%トルエン溶液で
入手できた。約87.6重量%のトルエン中の約10重量%の
上記スチレンエチルアクリレートアクリル酸ターポリマ
ーと約2.4重量%のN,N′−ジフェニル−N,N′−ビス
(3″−メチルフェニル)−(1,1′−ビフェニル)−
4,4′−ジアミンとからなる溶液を調製した(成分割合
はいずれも溶液総重量基準)。得られた溶液をNo.10ワ
イヤー巻きロッドを用いて薄い半透明アルミニウムコー
ティングを有する12インチ(30.5cm)幅の76μm(3ミ
ル)マイラーポリエステルフィルム(E.I.デュポン社よ
り入手できる)に適用した。付着軟化性層を約115℃で
5分間乾燥させて厚さ約3.5μmを有する乾燥層を形成
させた。軟化性層の温度を約115℃に上げて軟化性層露
出表面の粘度を約5×103ポイズに低下させてマーキン
グ材料の付着の準備とした。次いで、粒状ガラス質セレ
ン薄層を約4×10-4トールの真空に維持した真空チャン
バー内での真空蒸着によって適用した。像形成部材を次
いで室温に急冷させた。軟化性層の露光表面下約0.05〜
0.1μmに埋め込まれた平均粒度約0.3μmを有するセレ
ン粒子の赤色単分子層が形成された。得られた像形成部
材は微結晶または凝集の徴候のない極めて均一な光学密
度を有していた。
実施例8 実施例6および7の各像形成部材をイソパラフィン炭化
水素(アイソパールL、これは普通に使用される静電複
写現体現像剤キャリヤーであり、エクソン社より入手で
きる)中に24時間浸浸した。浸浸前後のUV吸収スペクト
ルとFTIRスペクトルを記録させた。99重量%以上のN,
N′−ジフェニル−ビス(3″−メチルフェニル)−
(1,1′−ビフェニル)−4,4′−ジアミンが実施例6の
マイグレーション像形成部材のスチレン−n−ヘキシル
メタクリレートコポリマー軟化性層からはわずかに24時
間後にリーチングしてしまったのに対し、実施例7のマ
イグレーション像形成部材のスチレンエチルアクリレー
トアクリル酸ターポリマー軟化性層においては95重量%
以上のN,N′−ジフェニル−N,N′−ビス(3″−メチル
フェニル)−(1,1′−ビフェニル)−4,4′−ジアミン
が4週間後でさえも残存していることが判った。
水素(アイソパールL、これは普通に使用される静電複
写現体現像剤キャリヤーであり、エクソン社より入手で
きる)中に24時間浸浸した。浸浸前後のUV吸収スペクト
ルとFTIRスペクトルを記録させた。99重量%以上のN,
N′−ジフェニル−ビス(3″−メチルフェニル)−
(1,1′−ビフェニル)−4,4′−ジアミンが実施例6の
マイグレーション像形成部材のスチレン−n−ヘキシル
メタクリレートコポリマー軟化性層からはわずかに24時
間後にリーチングしてしまったのに対し、実施例7のマ
イグレーション像形成部材のスチレンエチルアクリレー
トアクリル酸ターポリマー軟化性層においては95重量%
以上のN,N′−ジフェニル−N,N′−ビス(3″−メチル
フェニル)−(1,1′−ビフェニル)−4,4′−ジアミン
が4週間後でさえも残存していることが判った。
実施例9 実施例8で記載した各マイグレーション像形成部材を、
アイソパールL浸浸処理後、電気的に接地した平坦金属
プレートに貼り付け正コロナ荷電によって+300ボルト
の電位に帯電させ、15エルグ/cm2の強度を有する活性
化用照射に露光させた。帯電および露光の各工程を1000
サイクル繰返した。軟化性層中のスチレンエチルアクリ
レートアクリル酸ターポリマーを含むマイグレーション
像形成部材は露光時に+300ボルトの電荷アクセプタン
スと約+30ボルトの背景電位を有していることが判り、
その電気的サイクル操作特性は極めて安定していた。軟
化性層中にスチレンヘキシルメタクリレートコポリマー
を有するマイグレーション像形成部材は軟化性層からア
イソパールLへの電荷移送分子の全体的な減損によるは
げしい光放電並びに軟化性層中での電荷捕捉による厳し
いサイクルアップを示すことが観察された。
アイソパールL浸浸処理後、電気的に接地した平坦金属
プレートに貼り付け正コロナ荷電によって+300ボルト
の電位に帯電させ、15エルグ/cm2の強度を有する活性
化用照射に露光させた。帯電および露光の各工程を1000
サイクル繰返した。軟化性層中のスチレンエチルアクリ
レートアクリル酸ターポリマーを含むマイグレーション
像形成部材は露光時に+300ボルトの電荷アクセプタン
スと約+30ボルトの背景電位を有していることが判り、
その電気的サイクル操作特性は極めて安定していた。軟
化性層中にスチレンヘキシルメタクリレートコポリマー
を有するマイグレーション像形成部材は軟化性層からア
イソパールLへの電荷移送分子の全体的な減損によるは
げしい光放電並びに軟化性層中での電荷捕捉による厳し
いサイクルアップを示すことが観察された。
実施例10 実施例7で記載した作製マイグレーション像形成部材
を、約+410ボルトへの正コロナ荷電によって像形成
し、正シルバー像を接触させることにより像形成的に露
光し蒸気および加熱処理の組合せにより現像した。この
現像処理は像形成部材を蒸気室中のメチルエチルケトン
溶媒蒸気へ約40秒間均一に露出することによって予備処
理し、その後、ポリエステル基体と接触させたホットプ
レート上で約115℃に約5秒間加熱する各工程を含んで
いた。優れた像品質と約0.9の光学対比密度(Dmax約1.2
2、Dmin約0.32)とを有する光学的に符号逆転像を得
た。Dmin領域(未露光)は軟化性層中のセレン粒子の少
数であるが大きい粒子への凝集、融合に基づいていた。
この静電印刷用マスターを次いで裸ドラムに貼り付け、
自動複写器の元の感光体ドラムと置き換えた。次に、こ
の静電印刷用マスターを正コロナ荷電によって約+400
ボルトの電位に帯電させフラッシュ照射に均一に露光し
て静電潜像を形成させた。この静電潜像を液体現像剤に
よってトナー付し付着トナー像を形成させた。液体現像
剤は約2重量%のカーボンブラック着色ポリエチレンア
クリル酸樹脂と約98重量%のアイソパールLを含んでい
た。付着トナー像を紙シートに転写し定着させて極めて
良好な静電プリント(正)を得た。この静電印刷過程を
極めて良好な結果で少なくとも1000回繰返した。
を、約+410ボルトへの正コロナ荷電によって像形成
し、正シルバー像を接触させることにより像形成的に露
光し蒸気および加熱処理の組合せにより現像した。この
現像処理は像形成部材を蒸気室中のメチルエチルケトン
溶媒蒸気へ約40秒間均一に露出することによって予備処
理し、その後、ポリエステル基体と接触させたホットプ
レート上で約115℃に約5秒間加熱する各工程を含んで
いた。優れた像品質と約0.9の光学対比密度(Dmax約1.2
2、Dmin約0.32)とを有する光学的に符号逆転像を得
た。Dmin領域(未露光)は軟化性層中のセレン粒子の少
数であるが大きい粒子への凝集、融合に基づいていた。
この静電印刷用マスターを次いで裸ドラムに貼り付け、
自動複写器の元の感光体ドラムと置き換えた。次に、こ
の静電印刷用マスターを正コロナ荷電によって約+400
ボルトの電位に帯電させフラッシュ照射に均一に露光し
て静電潜像を形成させた。この静電潜像を液体現像剤に
よってトナー付し付着トナー像を形成させた。液体現像
剤は約2重量%のカーボンブラック着色ポリエチレンア
クリル酸樹脂と約98重量%のアイソパールLを含んでい
た。付着トナー像を紙シートに転写し定着させて極めて
良好な静電プリント(正)を得た。この静電印刷過程を
極めて良好な結果で少なくとも1000回繰返した。
実施例11 静電印刷用マスタープレカーサー部材を作製したが、そ
の軟化性層は次の性質:48モル%のスチレン、50モル%
のエチルアクリレートおよび2モル%のアクリル酸、Mn
21×103、Mw54×103、酸価15、Tg約36℃、および115℃
での溶融粘度約5×103を有するスチレンエチルアクリ
レートアクリル酸ターポリマー樹脂を含んでいた。この
スチレンエチルアクリレートアクリル酸ターポリマー樹
脂はデサト社からE−335(50重量%のトルエン/キシ
レン溶液)として入手できた。約87.6重量%のトルエン
/キシレン中の約10重量%の上記スチレンエチルアクリ
レートアクリル酸ターポリマーと約2.4重量%のN,N′−
ジフェニル−N,N′−ビス(3″−メチルフェニル)−
(1,1′−ビフェニル)−4,4′−ジアミンとからなる溶
液を調製した(成分割合はいずれも溶液総重量基準)。
得られた溶液をNo.10ワイヤー巻きロッドを用いて薄い
半透明アルミニウムコーティングを有する12インチ(3
0.5cm)幅の102μm(4ミル)厚のポリエステルフィル
ムに適用した。付着軟化性層を約110℃で15分間乾燥さ
せて厚さ約3.5μmを有する乾燥層を形成させた。軟化
性層の温度を約115℃に上げて軟化性層露出表面の粘度
を約5×103ポイズに低下させてマーキング材料の付着
の準備とした。次いで、粒状ガラス質セレン薄層を約4
×10-4トールの真空に維持した真空チャンバー内での真
空蒸着によって適用した。像形成部材を次いで室温に急
冷させた。コポリマーの露光表面下約0.05〜0.1μmに
埋め込まれた平均粒度約0.3μmを有するセレン粒子の
赤色単分子層が形成された。得られた像形成部材は極め
て均一な光学密度を有していた。
の軟化性層は次の性質:48モル%のスチレン、50モル%
のエチルアクリレートおよび2モル%のアクリル酸、Mn
21×103、Mw54×103、酸価15、Tg約36℃、および115℃
での溶融粘度約5×103を有するスチレンエチルアクリ
レートアクリル酸ターポリマー樹脂を含んでいた。この
スチレンエチルアクリレートアクリル酸ターポリマー樹
脂はデサト社からE−335(50重量%のトルエン/キシ
レン溶液)として入手できた。約87.6重量%のトルエン
/キシレン中の約10重量%の上記スチレンエチルアクリ
レートアクリル酸ターポリマーと約2.4重量%のN,N′−
ジフェニル−N,N′−ビス(3″−メチルフェニル)−
(1,1′−ビフェニル)−4,4′−ジアミンとからなる溶
液を調製した(成分割合はいずれも溶液総重量基準)。
得られた溶液をNo.10ワイヤー巻きロッドを用いて薄い
半透明アルミニウムコーティングを有する12インチ(3
0.5cm)幅の102μm(4ミル)厚のポリエステルフィル
ムに適用した。付着軟化性層を約110℃で15分間乾燥さ
せて厚さ約3.5μmを有する乾燥層を形成させた。軟化
性層の温度を約115℃に上げて軟化性層露出表面の粘度
を約5×103ポイズに低下させてマーキング材料の付着
の準備とした。次いで、粒状ガラス質セレン薄層を約4
×10-4トールの真空に維持した真空チャンバー内での真
空蒸着によって適用した。像形成部材を次いで室温に急
冷させた。コポリマーの露光表面下約0.05〜0.1μmに
埋め込まれた平均粒度約0.3μmを有するセレン粒子の
赤色単分子層が形成された。得られた像形成部材は極め
て均一な光学密度を有していた。
実施例12 静電印刷用マスタープレカーサー部材を作製したが、そ
の軟化性層は、次の性質:48モル%のスチレン、50モル
%のエチルアクリレートおよび2モル%のアクリル酸、
Mn26×103、Mw49×103、酸価18およびTg約65℃を有する
スチレンエチルアクリレートアクリル酸ターポリマー樹
脂を含んでいた。このスチレンエチルアクリレートアク
リル酸ターポリマー樹脂はデサト社からE−048(50重
量%のトルエン/キシレン溶液)として入手できた。約
87.6重量%のトルエン/キシレン中の約10重量%の上記
スチレンエチルアクリレートアクリル酸ターポリマーと
約2.4重量%のN,N′−ジフェニル−N,N′−ビス(3″
−メチルフェニル)−(1,1′−ビフェニル)−4,4′−
ジアミンとからなる溶液を調製した(成分割合はいずれ
も溶液総重量基準)。得られた溶液をNo.10ワイヤー巻
きロッドを用いて薄い半透明アルミニウムコーティング
を有する12インチ(30.5cm)幅で102μm(4ミル)厚
のポリエステルフィルムに適用した。付着軟化性層を約
110℃で15分間乾燥させて厚さ約3.5μmを有する乾燥層
を形成させた。軟化性層の温度を約115℃に上げて軟化
性層露出表面の粘度を約5×103ポイズに低下させてマ
ーキング材料の付着の準備とした。次いで、粒状ガラス
質セレン薄層を約4×10-4トールの真空に維持した真空
チャンバー内での真空蒸着によって適用した。像形成部
材を次いで室温に急冷させた。コポリマーの露光表面下
約0.05〜0.1μmに埋め込まれた平均粒度約0.3μmを有
するセレン粒子の赤色単分子層が形成された。得られた
像形成部材は極めて均一な光学密度を有していた。
の軟化性層は、次の性質:48モル%のスチレン、50モル
%のエチルアクリレートおよび2モル%のアクリル酸、
Mn26×103、Mw49×103、酸価18およびTg約65℃を有する
スチレンエチルアクリレートアクリル酸ターポリマー樹
脂を含んでいた。このスチレンエチルアクリレートアク
リル酸ターポリマー樹脂はデサト社からE−048(50重
量%のトルエン/キシレン溶液)として入手できた。約
87.6重量%のトルエン/キシレン中の約10重量%の上記
スチレンエチルアクリレートアクリル酸ターポリマーと
約2.4重量%のN,N′−ジフェニル−N,N′−ビス(3″
−メチルフェニル)−(1,1′−ビフェニル)−4,4′−
ジアミンとからなる溶液を調製した(成分割合はいずれ
も溶液総重量基準)。得られた溶液をNo.10ワイヤー巻
きロッドを用いて薄い半透明アルミニウムコーティング
を有する12インチ(30.5cm)幅で102μm(4ミル)厚
のポリエステルフィルムに適用した。付着軟化性層を約
110℃で15分間乾燥させて厚さ約3.5μmを有する乾燥層
を形成させた。軟化性層の温度を約115℃に上げて軟化
性層露出表面の粘度を約5×103ポイズに低下させてマ
ーキング材料の付着の準備とした。次いで、粒状ガラス
質セレン薄層を約4×10-4トールの真空に維持した真空
チャンバー内での真空蒸着によって適用した。像形成部
材を次いで室温に急冷させた。コポリマーの露光表面下
約0.05〜0.1μmに埋め込まれた平均粒度約0.3μmを有
するセレン粒子の赤色単分子層が形成された。得られた
像形成部材は極めて均一な光学密度を有していた。
実施例13 実施例6、11および12の各像形成部材をイソパラフィン
炭化水素(アイソパールL、これは普通に使用される静
電複写現体現像剤キャリヤーであり、エクソン社より入
手できる)中に24時間浸漬した。アイソパールLでの浸
漬前後のUV吸収スペクトルとFTIRスペクトルを記録させ
た。99重量%以上のN,N′−ジフェニル−ビス(3″−
メチルフェニル)−(1,1′−ビフェニル)−4,4′−ジ
アミンが実施例6のマイグレーション像形成部材のスチ
レン−n−ヘキシルメタクリレートコポリマー軟化性層
からはわずかに24時間後にリーチングしてしまったのに
対し、実施例11のマイグレーション像形成部材のスチレ
ンエチルアクリレートアクリル酸ターポリマー軟化性層
においては95重量%のN,N′−ジフェニル−N,N′−ビス
(3″−メチルフェニル)−(1,1′−ビフェニル)−
4,4′−ジアミンが残存し、実施例12のスチレンアクリ
レートコポリマーによっては約95重量%が残存してい
た。
炭化水素(アイソパールL、これは普通に使用される静
電複写現体現像剤キャリヤーであり、エクソン社より入
手できる)中に24時間浸漬した。アイソパールLでの浸
漬前後のUV吸収スペクトルとFTIRスペクトルを記録させ
た。99重量%以上のN,N′−ジフェニル−ビス(3″−
メチルフェニル)−(1,1′−ビフェニル)−4,4′−ジ
アミンが実施例6のマイグレーション像形成部材のスチ
レン−n−ヘキシルメタクリレートコポリマー軟化性層
からはわずかに24時間後にリーチングしてしまったのに
対し、実施例11のマイグレーション像形成部材のスチレ
ンエチルアクリレートアクリル酸ターポリマー軟化性層
においては95重量%のN,N′−ジフェニル−N,N′−ビス
(3″−メチルフェニル)−(1,1′−ビフェニル)−
4,4′−ジアミンが残存し、実施例12のスチレンアクリ
レートコポリマーによっては約95重量%が残存してい
た。
実施例14 実施例11で記載したように作製したマイグレーション像
形成部材を、約−340ボルトへ表面電位への負コロトロ
ン荷電、負シルバー像への像形成的露光および115℃で
5秒間の加熱現像により処理して静電印刷用マスターを
形成させた。優れた像品質と約1.9の光学対比密度(Dma
x約1.76、Dmin約0.60)とを有する光学的に符号保持性
像を得た。Dmin領域(露光)はポリマーマトリックス中
に分散した移行表面下セレン粒子によっていた。次い
で、この静電印刷用マスターを正コロナ荷電によって約
+400ボルトの電位に均一に帯電させ、約15エルグ/cm2
の400nmの活性化照射に均一に露光させた。+42ボルト
と+242ボルトの表面電位が、それぞれ、DmaxおよびDmi
n領域において観察され、約+200ボルトの静電対比電位
が得られた。加熱現像した静電印刷用マスターのDmaxと
Dmin領域の均一正帯電および均一露光の各工程を数100
回繰返した。この静電印刷用マスターは約2〜5ボルト
/秒の低暗減衰でもって極めて良好な電気サイクル安定
性を示した。
形成部材を、約−340ボルトへ表面電位への負コロトロ
ン荷電、負シルバー像への像形成的露光および115℃で
5秒間の加熱現像により処理して静電印刷用マスターを
形成させた。優れた像品質と約1.9の光学対比密度(Dma
x約1.76、Dmin約0.60)とを有する光学的に符号保持性
像を得た。Dmin領域(露光)はポリマーマトリックス中
に分散した移行表面下セレン粒子によっていた。次い
で、この静電印刷用マスターを正コロナ荷電によって約
+400ボルトの電位に均一に帯電させ、約15エルグ/cm2
の400nmの活性化照射に均一に露光させた。+42ボルト
と+242ボルトの表面電位が、それぞれ、DmaxおよびDmi
n領域において観察され、約+200ボルトの静電対比電位
が得られた。加熱現像した静電印刷用マスターのDmaxと
Dmin領域の均一正帯電および均一露光の各工程を数100
回繰返した。この静電印刷用マスターは約2〜5ボルト
/秒の低暗減衰でもって極めて良好な電気サイクル安定
性を示した。
実施例15 静電印刷用マスターを実施例14で記載したようにして作
製した。次いで、この静電印刷用マスターを裸のドラム
に貼り付け、自動被複機の元の感光体ドラムと置き換え
た。続いて、静電印刷用マスターを正コロナ荷電によっ
て約+400ボルトの電位に帯電させフラッシュ照射に均
一に露光させて静電潜像を形成させた。この静電潜像を
液体現像剤でトナー付して付着トナー像を形成させた。
液体現像剤は約2重量%のカーボンブラック顔料着色ポ
リエチレンアクリル樹脂と約98重量%のアイソパールL
を含んでいた。付着トナー像を紙シートに転写し定着さ
せて極めて良好な静電プリント(正)を得た・この静電
印刷工程を極めて良好な結果でもって少なくとも1000回
繰返した。
製した。次いで、この静電印刷用マスターを裸のドラム
に貼り付け、自動被複機の元の感光体ドラムと置き換え
た。続いて、静電印刷用マスターを正コロナ荷電によっ
て約+400ボルトの電位に帯電させフラッシュ照射に均
一に露光させて静電潜像を形成させた。この静電潜像を
液体現像剤でトナー付して付着トナー像を形成させた。
液体現像剤は約2重量%のカーボンブラック顔料着色ポ
リエチレンアクリル樹脂と約98重量%のアイソパールL
を含んでいた。付着トナー像を紙シートに転写し定着さ
せて極めて良好な静電プリント(正)を得た・この静電
印刷工程を極めて良好な結果でもって少なくとも1000回
繰返した。
実施例16 実施例11で記載したようにして作製したマイグレーショ
ン像形成部材を、約+440ボルトの表面電位への正コロ
トロン荷電、正シルバー像を接触させることにより像形
成的露光、および蒸気および加熱処理法との組合せによ
る現像によって処理して静電印刷用マスターを形成させ
た。上記現像処理は像形成部材を蒸気室中のメチルエチ
ルケトン溶媒蒸気へ約40秒間均一に露光することによっ
て予備処理し、その後、ポリエステル基体と接触させた
ホットプレート上で約115℃に約5秒間加熱させる各工
程を含んでいた。優れた像品質と約0.86の光学対比密度
(Dmax約1.12、Dmin約0.26)とを有する光学的に符号逆
転像を得た。Dmin領域(未露光)は軟化性層中のセレン
粒子の少数であるが大きい粒子への実質的な凝集と融合
に基づいていた。次いで、この静電印刷用マスターを正
コロナ荷電により約+440ボルトの電位に均一に帯電さ
せ、約15エルグ/cm2の440nmの活性化用照射に均一に露
光させた。約+50ボルトと+270ボルトの表面電位がDma
x領域とDmin領域とにおいてそれぞれ観察され、約+220
ボルトの静電対比電位を得た。蒸気/加熱現像したDmax
とびDmin領域での均一正帯電および露光の各工程を数百
回繰返した。この静電印刷用マスターは約2〜5ボルト
/秒の極めて低い暗減衰でもって極めて良好な電気サイ
クル安定性を示した。
ン像形成部材を、約+440ボルトの表面電位への正コロ
トロン荷電、正シルバー像を接触させることにより像形
成的露光、および蒸気および加熱処理法との組合せによ
る現像によって処理して静電印刷用マスターを形成させ
た。上記現像処理は像形成部材を蒸気室中のメチルエチ
ルケトン溶媒蒸気へ約40秒間均一に露光することによっ
て予備処理し、その後、ポリエステル基体と接触させた
ホットプレート上で約115℃に約5秒間加熱させる各工
程を含んでいた。優れた像品質と約0.86の光学対比密度
(Dmax約1.12、Dmin約0.26)とを有する光学的に符号逆
転像を得た。Dmin領域(未露光)は軟化性層中のセレン
粒子の少数であるが大きい粒子への実質的な凝集と融合
に基づいていた。次いで、この静電印刷用マスターを正
コロナ荷電により約+440ボルトの電位に均一に帯電さ
せ、約15エルグ/cm2の440nmの活性化用照射に均一に露
光させた。約+50ボルトと+270ボルトの表面電位がDma
x領域とDmin領域とにおいてそれぞれ観察され、約+220
ボルトの静電対比電位を得た。蒸気/加熱現像したDmax
とびDmin領域での均一正帯電および露光の各工程を数百
回繰返した。この静電印刷用マスターは約2〜5ボルト
/秒の極めて低い暗減衰でもって極めて良好な電気サイ
クル安定性を示した。
実施例17 静電印刷用マスターを実施例16で記載したようにして作
製した。この静電印刷用マスターを裸のドラムに貼り付
け、自動複写機の元の感光体ドラムと置き換えた。次い
で、静電印刷用マスターを正コロナ荷電によって約+44
0ボルトの電位に均一に帯電させフラッシュ照射に均一
に露光させて静電潜像を形成した。この静電潜像を液体
現像剤でトナー付して付着トナー像を形成させた。液体
現像剤は約2重量%のカーボンブラック顔料着色ポリエ
チレンアクリル酸樹脂と約98重量%のアイソパールLと
を含んでいた。付着トナー像を紙シートに転写し定着さ
せて極めて良好な静電プリント(正)を得た。この静電
印刷工程を極めて良好な結果でもって少なくとも1000回
繰返した。
製した。この静電印刷用マスターを裸のドラムに貼り付
け、自動複写機の元の感光体ドラムと置き換えた。次い
で、静電印刷用マスターを正コロナ荷電によって約+44
0ボルトの電位に均一に帯電させフラッシュ照射に均一
に露光させて静電潜像を形成した。この静電潜像を液体
現像剤でトナー付して付着トナー像を形成させた。液体
現像剤は約2重量%のカーボンブラック顔料着色ポリエ
チレンアクリル酸樹脂と約98重量%のアイソパールLと
を含んでいた。付着トナー像を紙シートに転写し定着さ
せて極めて良好な静電プリント(正)を得た。この静電
印刷工程を極めて良好な結果でもって少なくとも1000回
繰返した。
実施例18 コポリマーを、65モル%のスチレンと35モル%のエチル
アクリレートとをトルエン溶媒の一部を含む反応容器に
加えることによってトルエン中のフリーラジカル重合に
よって調製した。これらのモノマーは、反応系をモノマ
ー溶液への窒素バッブリングによりパージしながら、反
応器温度85℃と平衡させた。モノマー溶液は反応系のパ
ージング中およびその後重合中攪拌した。約2.01重量%
の過酸化ベンゾイル開始剤を第2部分のトルエン溶媒に
加え、反応容器に加える前に溶媒に溶解混合させた。次
いで、重合を5時間進行せしめ、その間反応器内の温度
を冷却して制御した。得られたスチレンエチルアクリレ
ートコポリマー樹脂は次の性質:66モル%のスチレン、3
4モル%のエチルアクリレート、Mn16×103、Mw28×1
03、酸価0、Tg約60℃、および115℃での溶融粘度約7
×103ポイズを有していた。
アクリレートとをトルエン溶媒の一部を含む反応容器に
加えることによってトルエン中のフリーラジカル重合に
よって調製した。これらのモノマーは、反応系をモノマ
ー溶液への窒素バッブリングによりパージしながら、反
応器温度85℃と平衡させた。モノマー溶液は反応系のパ
ージング中およびその後重合中攪拌した。約2.01重量%
の過酸化ベンゾイル開始剤を第2部分のトルエン溶媒に
加え、反応容器に加える前に溶媒に溶解混合させた。次
いで、重合を5時間進行せしめ、その間反応器内の温度
を冷却して制御した。得られたスチレンエチルアクリレ
ートコポリマー樹脂は次の性質:66モル%のスチレン、3
4モル%のエチルアクリレート、Mn16×103、Mw28×1
03、酸価0、Tg約60℃、および115℃での溶融粘度約7
×103ポイズを有していた。
実施例19 コポリマーを、70モル%のスチレンと30モル%のエチル
アクリレートとをトルエン溶媒の一部を含む反応容器に
加えることによって過酸化ベンゾイル開始剤を用いたト
ルエン中のフリーラジカル重合によって調製した。これ
らのモノマーは、反応系をモノマー溶液への窒素バッブ
リングによりパージしながら、反応器温度80℃と平衡さ
せた。モノマー溶液は反応系のパーシング中およびその
後重合中攪拌した。約1.0重量%の過酸化ベンゾイル開
始剤を第2部分のトルエン溶媒に加え、反応容器に加え
る前に溶媒に溶解混合させた。次いで、重合を5時間進
行せしめ、その間反応器内の温度を冷却して制御した。
得られたスチレンエチルアクリレートコポリマー樹脂は
次の性質:73モル%のスチレン、27モル%のエチルアク
リレート、Mn30×103、Mw52×103、酸価0、Tg約68℃、
および115℃での溶融粘度約5×104ポイズを有してい
た。
アクリレートとをトルエン溶媒の一部を含む反応容器に
加えることによって過酸化ベンゾイル開始剤を用いたト
ルエン中のフリーラジカル重合によって調製した。これ
らのモノマーは、反応系をモノマー溶液への窒素バッブ
リングによりパージしながら、反応器温度80℃と平衡さ
せた。モノマー溶液は反応系のパーシング中およびその
後重合中攪拌した。約1.0重量%の過酸化ベンゾイル開
始剤を第2部分のトルエン溶媒に加え、反応容器に加え
る前に溶媒に溶解混合させた。次いで、重合を5時間進
行せしめ、その間反応器内の温度を冷却して制御した。
得られたスチレンエチルアクリレートコポリマー樹脂は
次の性質:73モル%のスチレン、27モル%のエチルアク
リレート、Mn30×103、Mw52×103、酸価0、Tg約68℃、
および115℃での溶融粘度約5×104ポイズを有してい
た。
実施例20 コポリマーを、68モル%のスチレン、30モル%のエチル
アクリレートおよび2モル%のアクリル酸とをトルエン
溶媒の一部を含む反応容器に加えることによって過酸化
ベンゾイル開始剤を用いたトルエン中のフリーラジカル
重合によって調製した。これらのモノマーは、反応系を
モノマー溶液への窒素バッブリングによりパージしなが
ら、反応器温度90℃と平衡させた。モノマー溶液は反応
系のパージング中およびその後の重合中攪拌した。約1.
0重量%の過酸化ベンゾイル開始剤を第2部分のトルエ
ン溶媒に加え、反応容器に加える前に溶媒に溶解混合さ
せた。次いで、重合を5時間進行せしめ、その間、反応
器内の温度を冷却により制御した。得られたスチレンエ
チルアクリレートアクリル酸ターポリマー樹脂は次の性
質を有していた:76モル%のスチレン、22モル%のエチ
ルアクリレート、2モル%のアクリル酸、Mn27×103、M
w48×103、酸価15、Tg約68℃、および115℃での溶融粘
度約3×104ポイズ。
アクリレートおよび2モル%のアクリル酸とをトルエン
溶媒の一部を含む反応容器に加えることによって過酸化
ベンゾイル開始剤を用いたトルエン中のフリーラジカル
重合によって調製した。これらのモノマーは、反応系を
モノマー溶液への窒素バッブリングによりパージしなが
ら、反応器温度90℃と平衡させた。モノマー溶液は反応
系のパージング中およびその後の重合中攪拌した。約1.
0重量%の過酸化ベンゾイル開始剤を第2部分のトルエ
ン溶媒に加え、反応容器に加える前に溶媒に溶解混合さ
せた。次いで、重合を5時間進行せしめ、その間、反応
器内の温度を冷却により制御した。得られたスチレンエ
チルアクリレートアクリル酸ターポリマー樹脂は次の性
質を有していた:76モル%のスチレン、22モル%のエチ
ルアクリレート、2モル%のアクリル酸、Mn27×103、M
w48×103、酸価15、Tg約68℃、および115℃での溶融粘
度約3×104ポイズ。
実施例21 軟化性層が実施例11で記載したターポリマー樹脂を含む
第1組の静電印刷用マスタープレカーサー部材を作製し
た。約13重量%の上記スチレンエチルアクリレートアク
リル酸ターポリマー樹脂を約84.9重量%のトルエン中の
約2.1重量%のN,N′−ジフェニル−N,N′−ビス(3″
−メチルフェニル)−(1,1′−ビフェニル)−4,4′−
ジアミンと混合した(いずれも得られる溶液の総重量基
準)。溶液をNo.10ワイヤー巻きロッドを用いて薄い半
透明アルミニウムコーティングを有する30cm(12イン
チ)幅で102μm(4ミル)厚のポリエステルフィルム
に適用した。付着軟化性層を加熱ブロック上で約110
℃、15分間良く乾燥させてトルエン溶媒を十分に除去さ
せた。乾燥軟化性層は約3.5μmの厚さを有していた。
軟化性層の温度を約115℃に上げて軟化性層の露出表面
の粘度を約5×103ポイズに低下させてマーキング材料
の付着準備とした。次いで、粒状ガラス質セレンの薄層
を約4×10-4トールの真空に維持した真空チャンバー内
で真空蒸着によって適用した。像形成部材を次いで室温
に急冷させた。上記コポリマーの露出表面下の約0.05〜
0.1μmに埋め込まれた平均直径約0.3μmを有するセレ
ン粒子の赤色単分子量が形成された。
第1組の静電印刷用マスタープレカーサー部材を作製し
た。約13重量%の上記スチレンエチルアクリレートアク
リル酸ターポリマー樹脂を約84.9重量%のトルエン中の
約2.1重量%のN,N′−ジフェニル−N,N′−ビス(3″
−メチルフェニル)−(1,1′−ビフェニル)−4,4′−
ジアミンと混合した(いずれも得られる溶液の総重量基
準)。溶液をNo.10ワイヤー巻きロッドを用いて薄い半
透明アルミニウムコーティングを有する30cm(12イン
チ)幅で102μm(4ミル)厚のポリエステルフィルム
に適用した。付着軟化性層を加熱ブロック上で約110
℃、15分間良く乾燥させてトルエン溶媒を十分に除去さ
せた。乾燥軟化性層は約3.5μmの厚さを有していた。
軟化性層の温度を約115℃に上げて軟化性層の露出表面
の粘度を約5×103ポイズに低下させてマーキング材料
の付着準備とした。次いで、粒状ガラス質セレンの薄層
を約4×10-4トールの真空に維持した真空チャンバー内
で真空蒸着によって適用した。像形成部材を次いで室温
に急冷させた。上記コポリマーの露出表面下の約0.05〜
0.1μmに埋め込まれた平均直径約0.3μmを有するセレ
ン粒子の赤色単分子量が形成された。
上記の手順を同じ材料および条件を用いて繰返して第
2、第3および第4の各組の静電印刷用マスタープレカ
ーサー部材を形成させた。ただし、第2組の静電印刷用
プレカーサー部材においては実施例18のコポリマーを実
施例11のコポリマーの代りに用い、第3組の静電印刷用
プレカーサー部材においては実施例19のコポリマーを実
施例18のコポリマーの代りに用い、第4組の静電印刷用
プレカーサー部材においては実施例20のコポリマーを実
施例18のコポリマーの代りに用いた。得られた各組の静
電印刷用マスタープレカーサー部材は微結晶または凝集
の徴候もなしに極めて均一な光学密度を有していた。
2、第3および第4の各組の静電印刷用マスタープレカ
ーサー部材を形成させた。ただし、第2組の静電印刷用
プレカーサー部材においては実施例18のコポリマーを実
施例11のコポリマーの代りに用い、第3組の静電印刷用
プレカーサー部材においては実施例19のコポリマーを実
施例18のコポリマーの代りに用い、第4組の静電印刷用
プレカーサー部材においては実施例20のコポリマーを実
施例18のコポリマーの代りに用いた。得られた各組の静
電印刷用マスタープレカーサー部材は微結晶または凝集
の徴候もなしに極めて均一な光学密度を有していた。
実施例22 対の1インチ四方(6.45cm2)切片を実施例21で記載し
た各4組の静電印刷用マスタープレカーサー部材から切
り取った。各対からの1個の四角切片を同じ元の対から
の他の四角切片に対して前後相対して置き、0.6kg/cm2
(9psi)荷重に45℃で1時間供した。実施例11からの材
料は幾分かのブロッキングを示したのに対し、実施例1
8、19および20からの各材料はブロッキングの証拠を何
ら示さなかった。ブロッキングが実施例11からの材料に
おいてのみ生じたのは約45℃の試験温度が約36℃である
実施例11のターポリマーのTgよりも高いが実施例18、実
施例19および実施例20の各コポリマーのTg(各々、約60
℃、約67℃および約68℃)より低かったからであると信
じている。留意すべきことは上記の試験条件は実際の条
件で遭遇する数倍も厳しいものであったということであ
る。本実施例は耐ブロッキング性が高Tgを有するスチレ
ンエチルアクリレートコポリマーによって改良できるこ
とを示さんとしたものである。
た各4組の静電印刷用マスタープレカーサー部材から切
り取った。各対からの1個の四角切片を同じ元の対から
の他の四角切片に対して前後相対して置き、0.6kg/cm2
(9psi)荷重に45℃で1時間供した。実施例11からの材
料は幾分かのブロッキングを示したのに対し、実施例1
8、19および20からの各材料はブロッキングの証拠を何
ら示さなかった。ブロッキングが実施例11からの材料に
おいてのみ生じたのは約45℃の試験温度が約36℃である
実施例11のターポリマーのTgよりも高いが実施例18、実
施例19および実施例20の各コポリマーのTg(各々、約60
℃、約67℃および約68℃)より低かったからであると信
じている。留意すべきことは上記の試験条件は実際の条
件で遭遇する数倍も厳しいものであったということであ
る。本実施例は耐ブロッキング性が高Tgを有するスチレ
ンエチルアクリレートコポリマーによって改良できるこ
とを示さんとしたものである。
実施例23 実施例21で記載したようにして作製した実施例20のター
ポリマーを含む実施例21の第3組の静電印刷用部材から
のサンプルを、約+400ボルトの表面電位への正コロナ
荷電、正シルバー像を接触させることによる像形成的露
光、および蒸気および加熱処理法の組合せによる現像に
よって処理して静電印刷用マスターを形成させた。上記
組合せ現像処理は像形成部材を蒸気室中でのメチルエチ
ルケトン蒸気への約40秒間の露出により予備処理し、そ
の後、基体と接触させたホットプレート上で約115℃に
約5秒間加熱する各工程を含んでいる。優れた像品質と
約0.79の対比密度(Dmax約1.1、Dmin約0.32)を有する
光学的に符号逆転像が得られた。Dmin領域(未露光)は
ポリマーマトリックス中でのSe粒子の少数であるが大き
い粒子への凝集および融合によっていた。次に、この静
電印刷用マスターを正コロナ荷電によって約+460ボル
トの電位に帯電させ、約15エルグ/cm2の活性化用照射
に均一に露光させた。+53ボルトと+270ボルトの表面
電位がそれぞれDmax領域とDmin領域で観察され、約+21
7ボルトの静電対比電位を得た。加熱現像静電印刷用マ
スターのDmaxおよびDminの両領域を数100回電気的にサ
イクル操作した。この静電印刷用マスターは約2〜5ボ
ルト/秒の極めて低い暗減衰でもって極めて良好な電気
的サイクル安定性を示した。
ポリマーを含む実施例21の第3組の静電印刷用部材から
のサンプルを、約+400ボルトの表面電位への正コロナ
荷電、正シルバー像を接触させることによる像形成的露
光、および蒸気および加熱処理法の組合せによる現像に
よって処理して静電印刷用マスターを形成させた。上記
組合せ現像処理は像形成部材を蒸気室中でのメチルエチ
ルケトン蒸気への約40秒間の露出により予備処理し、そ
の後、基体と接触させたホットプレート上で約115℃に
約5秒間加熱する各工程を含んでいる。優れた像品質と
約0.79の対比密度(Dmax約1.1、Dmin約0.32)を有する
光学的に符号逆転像が得られた。Dmin領域(未露光)は
ポリマーマトリックス中でのSe粒子の少数であるが大き
い粒子への凝集および融合によっていた。次に、この静
電印刷用マスターを正コロナ荷電によって約+460ボル
トの電位に帯電させ、約15エルグ/cm2の活性化用照射
に均一に露光させた。+53ボルトと+270ボルトの表面
電位がそれぞれDmax領域とDmin領域で観察され、約+21
7ボルトの静電対比電位を得た。加熱現像静電印刷用マ
スターのDmaxおよびDminの両領域を数100回電気的にサ
イクル操作した。この静電印刷用マスターは約2〜5ボ
ルト/秒の極めて低い暗減衰でもって極めて良好な電気
的サイクル安定性を示した。
実施例24 実施例21で記載したようにして作製した実施例20のコポ
リマーを含む実施例21の第3組の静電印刷用部材からの
サンプルを、約−400ボルトの表面電位への負コロナ荷
電、負シルバー像と接触させることによる像形成的露
光、および115℃、5秒間の加熱現像によって処理して
静電印刷用マスターを形成させた。優れた像品質と約1.
1の対比密度(Dmax約1.8、Dmin約0.7)を有する光学的
に符号保持性像が得られた。Dmin領域(露光)はポリマ
ーマトリックス中に分散した移行表面下セレン粒子によ
っていた。次いで、この静電印刷用マスターを正コロナ
荷電によって約+440ボルトの電位に均一に帯電させ、
約15エルグ/cm2の440nmの活性化用照射に均一に露光さ
せた。+40ボルトと+240ボルトの表面電位がそれぞれD
maxおよびDmin領域で観察され、約+200ボルトの静電対
比電位を得た。この加熱現像静電印刷用マスターのDmax
とDminの領域での均一正帯電と露光の各工程を数100回
電気的にサイクル操作した。静電印刷用マスターは約2
〜5ボルト/秒の極めて低い暗減衰でもって極めて良好
な電気的サイクル安定性を示した。前述のようにして作
製した静電印刷用マスターの新しい切片を正コロナ帯電
により約+440ボルトの電位に再び均一に帯電させ、フ
ラッシュ照射に均一に露光させて静電潜像を形成させ
た。この静電潜像を液体現像剤でトナー付して付着トナ
ー像を形成させた。液体現像剤は約2重量%のカーボン
ブラック顔料着色ポリエチレンアクリル酸樹脂と約98重
量%のアイソパールLを含んでいた。付着トナー像をス
コッチテープによって紙シートに転写して極めて良好な
静電プリント(正)を得た。この静電印刷工程を極めて
良好な結果でもって少なくとも10回手で繰返した。
リマーを含む実施例21の第3組の静電印刷用部材からの
サンプルを、約−400ボルトの表面電位への負コロナ荷
電、負シルバー像と接触させることによる像形成的露
光、および115℃、5秒間の加熱現像によって処理して
静電印刷用マスターを形成させた。優れた像品質と約1.
1の対比密度(Dmax約1.8、Dmin約0.7)を有する光学的
に符号保持性像が得られた。Dmin領域(露光)はポリマ
ーマトリックス中に分散した移行表面下セレン粒子によ
っていた。次いで、この静電印刷用マスターを正コロナ
荷電によって約+440ボルトの電位に均一に帯電させ、
約15エルグ/cm2の440nmの活性化用照射に均一に露光さ
せた。+40ボルトと+240ボルトの表面電位がそれぞれD
maxおよびDmin領域で観察され、約+200ボルトの静電対
比電位を得た。この加熱現像静電印刷用マスターのDmax
とDminの領域での均一正帯電と露光の各工程を数100回
電気的にサイクル操作した。静電印刷用マスターは約2
〜5ボルト/秒の極めて低い暗減衰でもって極めて良好
な電気的サイクル安定性を示した。前述のようにして作
製した静電印刷用マスターの新しい切片を正コロナ帯電
により約+440ボルトの電位に再び均一に帯電させ、フ
ラッシュ照射に均一に露光させて静電潜像を形成させ
た。この静電潜像を液体現像剤でトナー付して付着トナ
ー像を形成させた。液体現像剤は約2重量%のカーボン
ブラック顔料着色ポリエチレンアクリル酸樹脂と約98重
量%のアイソパールLを含んでいた。付着トナー像をス
コッチテープによって紙シートに転写して極めて良好な
静電プリント(正)を得た。この静電印刷工程を極めて
良好な結果でもって少なくとも10回手で繰返した。
実施例25 実施例7で記載したようにして作製した静電印刷用プレ
カーサー部材を、約−440ボルトの表面電位への負コロ
トロン荷電、負シルバー像を接触させることによる像形
成的露光、および115℃で5秒間の加熱現像により処理
して静電印刷用マスターを形成させた。約0.1の対比密
度(Dmax約1.85、Dmin約1.75)を有する極めて弱い光学
的に符号保持性像を得た。実施例24で用いたターポリマ
ーの48×103Mwは本実施例(実施例25)で用いたターポ
リマーの72×103Mwよりかなり低いので、低溶融粘度が
用いた現像温度で実施例23で用いたターポリマーで得ら
れ、それによって現像中に粒子の移行を可能にしたもの
と信じている。
カーサー部材を、約−440ボルトの表面電位への負コロ
トロン荷電、負シルバー像を接触させることによる像形
成的露光、および115℃で5秒間の加熱現像により処理
して静電印刷用マスターを形成させた。約0.1の対比密
度(Dmax約1.85、Dmin約1.75)を有する極めて弱い光学
的に符号保持性像を得た。実施例24で用いたターポリマ
ーの48×103Mwは本実施例(実施例25)で用いたターポ
リマーの72×103Mwよりかなり低いので、低溶融粘度が
用いた現像温度で実施例23で用いたターポリマーで得ら
れ、それによって現像中に粒子の移行を可能にしたもの
と信じている。
実施例26 実施例11のターポリマーを含む実施例21で記載した静電
印刷用プレカーサー部材からのサンプル、実施例19のコ
ポリマーを含む実施例21で記載した第3組の静電印刷用
プレカーサー部材からのサンプル、および実施例20のコ
ポリマーを含む実施例21で記載した第4組の静電印刷用
プレカーサー部材からのサンプルを、6インチ(15.24c
m)長のスコッチ商標接着テープ(3M社より入手できる
♯600)のストリップの長さの半分を軟化性層に適用
し、他端を軟化性表面から急速に垂直に引き離すという
極めて厳しい接着テープ試験に供した。第1組および第
4組の静電印刷用プレカーサー部材は目視できる劣化な
しにこの接着テープ試験に耐え得たが、第2組の静電印
刷用プレカーサー部材の軟化性層は厳しいフィルム離脱
をこうむった。実施例11と20のターポリマーのアクリル
酸成分が軟化性層の下地の金属処理ポリエステル層に対
する優れた接着性に貢献しているものと信じる。即ち、
実施例21で記載した第3組の静電印刷用プレカーサー部
材中の実施例19のコポリマーにアクリル酸成分が存在し
ないことが第3組の静電印刷用プレカーサー部材をして
接着テープ試験に耐え得なくしたものである。
印刷用プレカーサー部材からのサンプル、実施例19のコ
ポリマーを含む実施例21で記載した第3組の静電印刷用
プレカーサー部材からのサンプル、および実施例20のコ
ポリマーを含む実施例21で記載した第4組の静電印刷用
プレカーサー部材からのサンプルを、6インチ(15.24c
m)長のスコッチ商標接着テープ(3M社より入手できる
♯600)のストリップの長さの半分を軟化性層に適用
し、他端を軟化性表面から急速に垂直に引き離すという
極めて厳しい接着テープ試験に供した。第1組および第
4組の静電印刷用プレカーサー部材は目視できる劣化な
しにこの接着テープ試験に耐え得たが、第2組の静電印
刷用プレカーサー部材の軟化性層は厳しいフィルム離脱
をこうむった。実施例11と20のターポリマーのアクリル
酸成分が軟化性層の下地の金属処理ポリエステル層に対
する優れた接着性に貢献しているものと信じる。即ち、
実施例21で記載した第3組の静電印刷用プレカーサー部
材中の実施例19のコポリマーにアクリル酸成分が存在し
ないことが第3組の静電印刷用プレカーサー部材をして
接着テープ試験に耐え得なくしたものである。
実施例27 実施例11で記載したようにして、しかし、N,N′−ジフ
ェニル−N,N′−ビス(3″−メチルフェニル)−(1,
1′−ビフェニル)−4,4′−ジアミンなしで像形成部材
を作製した。この像形成部材を約−400ボルトの表面電
位に負コロナ荷電することによって像形成させ、負シル
バー像を接触させることによって像形成的に露光させ、
115℃で5秒間加熱現像した。優れた像品質と約1.16の
光学対比密度(Dmax約1.76、Dmin約0.60)を有する光学
的に符号保持性像が得られた。Dmin領域(露光)はポリ
マーストリックス中に分散した移行表面下をセレン粒子
によっていた。
ェニル−N,N′−ビス(3″−メチルフェニル)−(1,
1′−ビフェニル)−4,4′−ジアミンなしで像形成部材
を作製した。この像形成部材を約−400ボルトの表面電
位に負コロナ荷電することによって像形成させ、負シル
バー像を接触させることによって像形成的に露光させ、
115℃で5秒間加熱現像した。優れた像品質と約1.16の
光学対比密度(Dmax約1.76、Dmin約0.60)を有する光学
的に符号保持性像が得られた。Dmin領域(露光)はポリ
マーストリックス中に分散した移行表面下をセレン粒子
によっていた。
本発明の他の変形は本明細書の記載から当業者にとって
容易であろう。これらの変形は本発明の範囲に包含され
るものとする。
容易であろう。これらの変形は本発明の範囲に包含され
るものとする。
フロントページの続き (72)発明者 グレゴリー ジェイ コヴァックス カナダ国 エル5シー 3アール3 オン タリオ ミシソーガ スウィートバーチ コート 1378 (72)発明者 キャロル エイ ジェニングス カナダ国 エル5エイ 3エス2 オンタ リオ ミシソーガ ミシソーガ ヴァリー ブールヴァード 50 アパートメント 1011 (72)発明者 ラフィク オー ルートフィー カナダ国 エム2エル 1ケイ8 オンタ リオ ウィローデイル ヨーク ミルズ ロード 189 (72)発明者 サンドラ ジェイ ガードナー カナダ国 エム2エム 4エイ6 オンタ リオ トロント ゴールデンウッド ロー ド 274 (72)発明者 マイケル ジー テイラー カナダ国 エヌ0エヌ 1シー0 オンタ リオ ブライツ グローヴ シェイファー コート 2369 (56)参考文献 特開 昭60−169853(JP,A)
Claims (1)
- 【請求項1】基体と該基体に隣接する電気絶縁性の軟化
性層とを含み、該軟化性層が上記基体から離れた該軟化
性層の実質的表面または表面近くに存在させた電気的に
感光性のマイグレーションマーキング材料の破壊性層を
含み、上記基体と隣接した少なくとも1つの層中にスチ
レンとエチルアクリレートのコポリマーを含み、該コポ
リマーが約40〜約80モル%のスチレン、約20〜約60モル
%のエチルアクリレートおよび約0〜約3モル%の炭素
−炭素不飽和含有共重合性有機酸またはその共重合性誘
導体とを含み、該コポリマーが約4,000〜約35,000のM
n、約10,000〜約80,000のMw、約25までの酸価、約30℃
〜約75℃のTg、および115℃で約1×102ポイズ〜約1×
106ポイズの溶融粘度を有することを特徴とするマイグ
レーション像形成部材。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| US07/140,441 US4853307A (en) | 1988-01-04 | 1988-01-04 | Imaging member containing a copolymer of styrene and ethyl acrylate |
| US140441 | 1988-01-04 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01230048A JPH01230048A (ja) | 1989-09-13 |
| JPH0731401B2 true JPH0731401B2 (ja) | 1995-04-10 |
Family
ID=22491231
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63332754A Expired - Fee Related JPH0731401B2 (ja) | 1988-01-04 | 1988-12-28 | スチレンとエチルアクリレートのコポリマーを含有する像形成部材 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4853307A (ja) |
| JP (1) | JPH0731401B2 (ja) |
| CA (1) | CA1332115C (ja) |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0362804B1 (en) * | 1988-10-04 | 1996-01-03 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Electrophotographic photoreceptor |
| US4970130A (en) * | 1989-12-01 | 1990-11-13 | Xerox Corporation | Xeroprinting process with improved contrast potential |
| JPH0594034A (ja) * | 1990-06-29 | 1993-04-16 | Xerox Corp | クラツクのない電子写真画像形成デバイス |
| US5240799A (en) * | 1990-07-23 | 1993-08-31 | Xerox Corporation | Dual electrode migration imaging members and apparatuses and processes for the preparation and use of same |
| CA2063473C (en) * | 1991-07-01 | 1998-09-22 | T. Hwee Ng | Process for preparing copolymers |
| US5215838A (en) * | 1991-10-04 | 1993-06-01 | Xerox Corporation | Infrared or red light sensitive migration imaging member |
| US5202206A (en) * | 1991-10-04 | 1993-04-13 | Xerox Corporation | Process for simultaneous printing of fixed data and variable data |
| US5690993A (en) * | 1995-05-01 | 1997-11-25 | Xerox Corporation | Overcoated migration imaging members |
| US5514505A (en) * | 1995-05-15 | 1996-05-07 | Xerox Corporation | Method for obtaining improved image contrast in migration imaging members |
| US5563014A (en) * | 1995-05-15 | 1996-10-08 | Xerox Corporation | Migration imaging members |
| JP3145053B2 (ja) * | 1997-05-12 | 2001-03-12 | 岩崎通信機株式会社 | 光導電体塗料とそれを用いた電子写真感光体 |
| US5981120A (en) * | 1998-01-08 | 1999-11-09 | Xerox Corporation | Verdefilm for more uniform charging |
Family Cites Families (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CA715497A (en) * | 1965-08-10 | Arthur D. Little | Photoconductive compositions and sheets coated therewith and process for preparing the same | |
| US3975739A (en) * | 1964-10-12 | 1976-08-17 | Xerox Corporation | Migration imaging system using shaped electrode |
| US4081273A (en) * | 1970-01-02 | 1978-03-28 | Xerox Corporation | Migration imaging method |
| US3672889A (en) * | 1969-07-14 | 1972-06-27 | Addressograph Multigraph | Acrylate terpolymer resin binders for photoelectrostatic members |
| US3799911A (en) * | 1972-12-04 | 1974-03-26 | Dexter Corp | Binder for electrophotographic coatings |
| DE3024772A1 (de) * | 1980-06-30 | 1982-01-28 | Hoechst Ag, 6000 Frankfurt | Elastische, laminierbare lichtempfindliche schicht |
| US4482622A (en) * | 1983-03-31 | 1984-11-13 | Xerox Corporation | Multistage deposition process |
| NL8402805A (nl) * | 1984-09-13 | 1986-04-01 | Oce Nederland Bv | Werkwijze voor het kopieren en electrofotografisch element. |
-
1988
- 1988-01-04 US US07/140,441 patent/US4853307A/en not_active Expired - Lifetime
- 1988-11-30 CA CA000584608A patent/CA1332115C/en not_active Expired - Fee Related
- 1988-12-28 JP JP63332754A patent/JPH0731401B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CA1332115C (en) | 1994-09-27 |
| JPH01230048A (ja) | 1989-09-13 |
| US4853307A (en) | 1989-08-01 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |