JPH01233236A - エチレン製造法 - Google Patents
エチレン製造法Info
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- JPH01233236A JPH01233236A JP63058205A JP5820588A JPH01233236A JP H01233236 A JPH01233236 A JP H01233236A JP 63058205 A JP63058205 A JP 63058205A JP 5820588 A JP5820588 A JP 5820588A JP H01233236 A JPH01233236 A JP H01233236A
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- ethanol
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- ethylene
- hydrogenation
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
イ８発明の目的
・ の１
本発明は、エタノールを原料として脱水反応によりエチ
レンを製造する方法に関するもので、特にアルデヒドを
含有するエタノールを原料とする場合に適している。
レンを製造する方法に関するもので、特にアルデヒドを
含有するエタノールを原料とする場合に適している。
【え立且遣
エタノールを脱水してエチレンを製造することは公知で
あるが、エタノールの脱水反応をアルミナ触媒上で行う
とエチレン以外にブテン類その他の副生物が生成するば
かりでなく、触媒上に徐々に炭素質が析出し活性が低下
する。特にアルデヒドを添加して変性したエタノールを
原料とする場合は、副生物が増加し炭素質析出も増加す
るため活性劣化が大きく、長時間の連ｂＡＭ転が困難で
あった。
あるが、エタノールの脱水反応をアルミナ触媒上で行う
とエチレン以外にブテン類その他の副生物が生成するば
かりでなく、触媒上に徐々に炭素質が析出し活性が低下
する。特にアルデヒドを添加して変性したエタノールを
原料とする場合は、副生物が増加し炭素質析出も増加す
るため活性劣化が大きく、長時間の連ｂＡＭ転が困難で
あった。
ｆが しよ−と る２、′古
本ｆｆｉ Ｉｌｌはアルデヒドを含有するエタノール、
特にアルデヒド変性エタノールを原料としても長時間の
連続遊転がてきるエチレン製造法を提供することを目的
とする。
特にアルデヒド変性エタノールを原料としても長時間の
連続遊転がてきるエチレン製造法を提供することを目的
とする。
口１発明の構成
圧延Ｕ るための−゛
本発明のエチレン製造法は、エタノールを原料として脱
水反応によりエチレンを製造する方法において、予め原
料を水素添加処理してから脱水反応を行うことを特徴と
する。
水反応によりエチレンを製造する方法において、予め原
料を水素添加処理してから脱水反応を行うことを特徴と
する。
本発明方法の実施態様の一例を第１図により説明すると
、アルデヒドを含有する原料エタノールｌとライン２か
らの水素とを混合し予熱器３で予熱して水素添加反応器
４に供給し、原料中のアルデヒドを水素添加する。
、アルデヒドを含有する原料エタノールｌとライン２か
らの水素とを混合し予熱器３で予熱して水素添加反応器
４に供給し、原料中のアルデヒドを水素添加する。
水素添加反応器４出口の流体を冷却器５て冷却し、気液
分離器６でエタノールと水素とを分離する０分離された
水素は新規に供給される水素７と共にコンプレッサー８
で原料の水素添加用に循環する。
分離器６でエタノールと水素とを分離する０分離された
水素は新規に供給される水素７と共にコンプレッサー８
で原料の水素添加用に循環する。
水素添加処理したエタノールは熱交換器９て予熱し、脱
水反応器ｌＯに送り脱水反応を行わせた後、熱交換器９
．冷却器１１で冷却し、気液分離器１２でエチレンと水
とを分離しエチレン１３を得る。
水反応器ｌＯに送り脱水反応を行わせた後、熱交換器９
．冷却器１１で冷却し、気液分離器１２でエチレンと水
とを分離しエチレン１３を得る。
水素添加触媒としては、一般に水素添加に使用される触
媒、例えば、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｐｔ、Ｐｄ等をＡ文２０ｓ
、Ｓ ｉ ０２ ／ＡＪ１２０ｘ 、活性炭等に担持し
た触媒などが使用できるが、水素添加反応はできるだけ
低温で行うことが予８／冷却による熱損失が少なく経済
的なので、低温で活性を有する触媒、例えば、Ｎｉ或は
貴金属なＡｆＬ２０３或は活性）にに担持した触媒など
が特に好ましい。
媒、例えば、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｐｔ、Ｐｄ等をＡ文２０ｓ
、Ｓ ｉ ０２ ／ＡＪ１２０ｘ 、活性炭等に担持し
た触媒などが使用できるが、水素添加反応はできるだけ
低温で行うことが予８／冷却による熱損失が少なく経済
的なので、低温で活性を有する触媒、例えば、Ｎｉ或は
貴金属なＡｆＬ２０３或は活性）にに担持した触媒など
が特に好ましい。
また当然のことながら、アルデヒドのみを選択的に水素
添加し、エタノールの水素添加を生じない触媒及び条件
で行うことが必要である。
添加し、エタノールの水素添加を生じない触媒及び条件
で行うことが必要である。
アルデヒドの水素添加率を高めるためには過剰の水素を
加えることが望ましいが、それをそのまま脱水反応器に
送ったのではエチレンにＨ２が混入してしまうと共に水
素の利用率が低下してしまうので、第１図に示すように
水素添加反応後冷却してエタノールと水素とを分離して
から脱水反応器に送る。
加えることが望ましいが、それをそのまま脱水反応器に
送ったのではエチレンにＨ２が混入してしまうと共に水
素の利用率が低下してしまうので、第１図に示すように
水素添加反応後冷却してエタノールと水素とを分離して
から脱水反応器に送る。
しかし、含有アルデヒド量に対して水素を量論比以下で
供給し、水素添加処理後水素が実質的に０になってしま
う場合、又は水素が残留しても良い場合は水素循環系統
を省略することができる。
供給し、水素添加処理後水素が実質的に０になってしま
う場合、又は水素が残留しても良い場合は水素循環系統
を省略することができる。
その場合は、水素添加反応器４を改行せずに。
水素添加触媒を脱水反応器の上部に充填しても良い。
脱水反応で使用する触媒としては、一般に使用されてい
る公知の脱水触媒はいずれも使用可能である。具体的に
はアルミナ触媒が挙げられる。
る公知の脱水触媒はいずれも使用可能である。具体的に
はアルミナ触媒が挙げられる。
１」
アルデヒドを含有するエタノールを予め水素添加処理す
ると、脱水反応工程における触媒上の炭ＪＩ！１．の析
出か減少し、活性の劣化が抑制され、長時間の連続運転
が可使になる。またエチレン収率も向上する。
ると、脱水反応工程における触媒上の炭ＪＩ！１．の析
出か減少し、活性の劣化が抑制され、長時間の連続運転
が可使になる。またエチレン収率も向上する。
実施例１
アセトアルデヒド０．５重量％を含有する工業用エタノ
ール０．２ｋｇ／ｈｒに、水素ガス１３７ Ｎ ｌ ／
ｈ ｒを加えて水素添加触媒（Ｎ ｉ ／ Ａ立２０
ｓ ）０．１４ｋｇを充填した反応器に送り、温度８０
℃、圧力２．０ｋｇ／ｃｍ２Ｇに保ち水素添加反応を行
い、４０°Ｃに冷却し気液分離してｆ！ｔたエタノール
０．２ｋｇ／ｈｒを、アルミナ触媒１．０ｋｇを充填し
た反応器に送り、温度３３０″Ｃ１圧力２．０ｋｇ／ｃ
ｍ２Ｇに保ち反応させた。
ール０．２ｋｇ／ｈｒに、水素ガス１３７ Ｎ ｌ ／
ｈ ｒを加えて水素添加触媒（Ｎ ｉ ／ Ａ立２０
ｓ ）０．１４ｋｇを充填した反応器に送り、温度８０
℃、圧力２．０ｋｇ／ｃｍ２Ｇに保ち水素添加反応を行
い、４０°Ｃに冷却し気液分離してｆ！ｔたエタノール
０．２ｋｇ／ｈｒを、アルミナ触媒１．０ｋｇを充填し
た反応器に送り、温度３３０″Ｃ１圧力２．０ｋｇ／ｃ
ｍ２Ｇに保ち反応させた。
生成ガス分析の結果及び５００時間反応後の廃触媒上の
炭素分析の結果を第１表に示す、なお。
炭素分析の結果を第１表に示す、なお。
水素添加処理後のエタノール中のアセトアルデヒドは０
．０１１量％以下になっていた。
．０１１量％以下になっていた。
比較例１
実施例１で使用したのと同じアセトアルデヒド０．５１
Ｑ％を含有する工業用エタノール０．２ｋ ｇ ／ ｈ
ｒを直接、アルミナ触媒１．０ｋｇを充填した反応器
に送り、温度３３０°Ｃ１圧力２．０ｋｇ／ｃｍ２Ｇに
保ち反応させた。
Ｑ％を含有する工業用エタノール０．２ｋ ｇ ／ ｈ
ｒを直接、アルミナ触媒１．０ｋｇを充填した反応器
に送り、温度３３０°Ｃ１圧力２．０ｋｇ／ｃｍ２Ｇに
保ち反応させた。
生成ガス分析の結果及び５００時間反応後の廃触媒上の
炭素分析の結果を第１表に示す。
炭素分析の結果を第１表に示す。
（以下余白）
第１表
第１表に示された実施例１及び比較例１の結果から明ら
かなように、予め原料の水素添加を行った場合は脱水触
媒上の炭素質の析出が半減し、エタノール転化率、エチ
レン収率が向上し、副反応が抑制されている。
かなように、予め原料の水素添加を行った場合は脱水触
媒上の炭素質の析出が半減し、エタノール転化率、エチ
レン収率が向上し、副反応が抑制されている。
ハ０発明の効果
脱水反応工程における触媒上の炭素質の析出が減少し、
活性の劣化が抑制され、長時間の連続正転か”ｆ ’Ｒ
，になる。またエチレン収率も向上する。
活性の劣化が抑制され、長時間の連続正転か”ｆ ’Ｒ
，になる。またエチレン収率も向上する。
４、ＩＡ面の筒中な説ＩＪＪ
：ｊＳ１図は本発明を実施するプロセスの一例を示す図
である。
である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ エタノールを原料として脱水反応によりエチレンを
製造する方法において、予め原料を水素添加処理してか
ら脱水反応を行うことを特徴とするエチレン製造法。 ２ 原料エタノールの水素添加処理時に過剰の水素を使
用し、反応物を気液分離器でエタノールと水素とに分離
し、分離された水素を水素添加工程に循環して再使用す
る特許請求の範囲第１項記載のエチレン製造法。 ３ 脱水反応触媒の上部に水素添加触媒を充填し水素添
加と脱水とを同一反応器で行う特許請求の範囲第１項記
載のエチレン製造法。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63058205A JPH01233236A (ja) | 1988-03-14 | 1988-03-14 | エチレン製造法 |
| IN93/CAL/89A IN171095B (ja) | 1987-12-21 | 1989-01-30 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63058205A JPH01233236A (ja) | 1988-03-14 | 1988-03-14 | エチレン製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01233236A true JPH01233236A (ja) | 1989-09-19 |
| JPH0576932B2 JPH0576932B2 (ja) | 1993-10-25 |
Family
ID=13077534
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63058205A Granted JPH01233236A (ja) | 1987-12-21 | 1988-03-14 | エチレン製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01233236A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011529495A (ja) * | 2008-07-31 | 2011-12-08 | セラニーズ・インターナショナル・コーポレーション | 二重反応区域プロセスを用いる酢酸からのエチレンの製造 |
| JP2011529497A (ja) * | 2008-07-31 | 2011-12-08 | セラニーズ・インターナショナル・コーポレーション | 単一の反応区域において酢酸から直接にエチレンを触媒的に製造する方法 |
-
1988
- 1988-03-14 JP JP63058205A patent/JPH01233236A/ja active Granted
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011529495A (ja) * | 2008-07-31 | 2011-12-08 | セラニーズ・インターナショナル・コーポレーション | 二重反応区域プロセスを用いる酢酸からのエチレンの製造 |
| JP2011529497A (ja) * | 2008-07-31 | 2011-12-08 | セラニーズ・インターナショナル・コーポレーション | 単一の反応区域において酢酸から直接にエチレンを触媒的に製造する方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0576932B2 (ja) | 1993-10-25 |
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