JPH01235320A - 半導体磁器の粒界層形成方法 - Google Patents
半導体磁器の粒界層形成方法Info
- Publication number
- JPH01235320A JPH01235320A JP63062387A JP6238788A JPH01235320A JP H01235320 A JPH01235320 A JP H01235320A JP 63062387 A JP63062387 A JP 63062387A JP 6238788 A JP6238788 A JP 6238788A JP H01235320 A JPH01235320 A JP H01235320A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- grain boundary
- semiconductor
- heat
- diffusion agent
- semiconductor porcelain
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01G—CAPACITORS; CAPACITORS, RECTIFIERS, DETECTORS, SWITCHING DEVICES, LIGHT-SENSITIVE OR TEMPERATURE-SENSITIVE DEVICES OF THE ELECTROLYTIC TYPE
- H01G4/00—Fixed capacitors; Processes of their manufacture
- H01G4/002—Details
- H01G4/018—Dielectrics
- H01G4/06—Solid dielectrics
- H01G4/08—Inorganic dielectrics
- H01G4/12—Ceramic dielectrics
- H01G4/1272—Semiconductive ceramic capacitors
- H01G4/1281—Semiconductive ceramic capacitors with grain boundary layer
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Ceramic Capacitors (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は半導体磁器コンデンサに用いられる半導体磁器
の粒界に金属酸化物を熱拡散する半導体磁器の粒界層形
成方法に関するものである。
の粒界に金属酸化物を熱拡散する半導体磁器の粒界層形
成方法に関するものである。
従来の技術
従来、チタン酸ストロンチウム系半導体磁器は、その結
晶粒界を絶縁化することにより、大きな見掛誘電率を持
つ粒界絶縁型半導体磁器コンデンサが得られることが知
られている。この粒界絶縁型半導体磁器コンデンサは小
型で大容量が得られることから、テレビジラン受像機、
ビデオテープレコーダーのカップリング回路等に使用さ
れ、他にも多くの分野に応用されている。
晶粒界を絶縁化することにより、大きな見掛誘電率を持
つ粒界絶縁型半導体磁器コンデンサが得られることが知
られている。この粒界絶縁型半導体磁器コンデンサは小
型で大容量が得られることから、テレビジラン受像機、
ビデオテープレコーダーのカップリング回路等に使用さ
れ、他にも多くの分野に応用されている。
このような粒界絶縁型半導体磁器コンデンサの結晶粒界
の絶縁化方法としては、金属酸化物とフェノからなる金
属酸化物ペーストを半導体磁器に塗着し、乾燥後大気中
で熱処理を行うことによって結晶粒界に拡散させて絶縁
化する方法が一般的である。また、最近では上記金属酸
化物ペーストの代わりに、拡散剤の成分を有する有機系
金属石ケンと、有機系バインダよシなる混合液を半導体
磁器に塗着し、同様に熱処理する方法(特開昭69−1
7228号公報参照)も行われている。熱処理は、拡散
剤乾燥後、第4図に示すような構成でアルミナ質のサヤ
6に拡散剤を塗布した半導体磁器4をバラ詰めして、ア
ルミナ質の蓋6を被せ空気中で行われている。
の絶縁化方法としては、金属酸化物とフェノからなる金
属酸化物ペーストを半導体磁器に塗着し、乾燥後大気中
で熱処理を行うことによって結晶粒界に拡散させて絶縁
化する方法が一般的である。また、最近では上記金属酸
化物ペーストの代わりに、拡散剤の成分を有する有機系
金属石ケンと、有機系バインダよシなる混合液を半導体
磁器に塗着し、同様に熱処理する方法(特開昭69−1
7228号公報参照)も行われている。熱処理は、拡散
剤乾燥後、第4図に示すような構成でアルミナ質のサヤ
6に拡散剤を塗布した半導体磁器4をバラ詰めして、ア
ルミナ質の蓋6を被せ空気中で行われている。
発明が解決しようとする課題
このような従来の方法では、半導体磁器4によって空気
及びサヤ6との接触状態が異なる。従って、空気中への
拡散剤の蒸発や、サヤ6への拡散の条件が不均等になり
熱処理後の拡散剤の残存量が半導体磁器4によって異な
るので、電気特性のバフツキが大きくなり歩留りの低下
を引き起こすという問題があった。
及びサヤ6との接触状態が異なる。従って、空気中への
拡散剤の蒸発や、サヤ6への拡散の条件が不均等になり
熱処理後の拡散剤の残存量が半導体磁器4によって異な
るので、電気特性のバフツキが大きくなり歩留りの低下
を引き起こすという問題があった。
本発明はこのような問題点を解決するもので。
電気特性のバラツキを低減することを目的とするもので
ある。
ある。
課題を解決するための手段
この課題を解決するために本発明は、あらかじめ均一に
拡散剤を塗着し、乾燥させた半導体磁器を互いに接する
ように規則的に並べ、前記半導体磁器をサヤの内壁に均
等に接するように詰めて熱処理することKよって結晶粒
界を絶縁化する方法としたものである。
拡散剤を塗着し、乾燥させた半導体磁器を互いに接する
ように規則的に並べ、前記半導体磁器をサヤの内壁に均
等に接するように詰めて熱処理することKよって結晶粒
界を絶縁化する方法としたものである。
作用
この方法により、半導体磁器と空気及びサヤとの接触面
積を等しくすることができるため、熱処理後の拡散剤の
残存量のバラツキが減少し、電気特性のバフツキを小さ
くすることができる。さらに空気中への蒸発量を抑える
ことができるので、従来と同等の電気特性を得るには拡
散剤塗着量を少なくできる。
積を等しくすることができるため、熱処理後の拡散剤の
残存量のバラツキが減少し、電気特性のバフツキを小さ
くすることができる。さらに空気中への蒸発量を抑える
ことができるので、従来と同等の電気特性を得るには拡
散剤塗着量を少なくできる。
実施例
以下、実施例に基づき本発明の詳細な説明する。
Sr Ti Os 90モル%、 CaTi0s10モ
ル%。
ル%。
Nk)2050.2モル%の組成比になるように配合し
。
。
湿式ポットミルで混合した後、乾燥した。バインダとし
てポリビニルアルコールの5%水溶液を添加して造粒し
た後、30メツシユのフルイを通して整粒し、油圧プレ
スを用いて直径7絹、肉厚0.4闘の円板に1000k
g/c−の圧力で成形した。成形円板を大気中において
400’Cで2時間加熱した後、90%N2〜10%H
2の混合ガス気流中において1420°Cで2時間還元
焼成して、直径6朋。
てポリビニルアルコールの5%水溶液を添加して造粒し
た後、30メツシユのフルイを通して整粒し、油圧プレ
スを用いて直径7絹、肉厚0.4闘の円板に1000k
g/c−の圧力で成形した。成形円板を大気中において
400’Cで2時間加熱した後、90%N2〜10%H
2の混合ガス気流中において1420°Cで2時間還元
焼成して、直径6朋。
肉厚0.36nの半導体磁器を得た。
拡散剤としては、Cu2O35−E: ル%、 Bi2
03cs6モル%とワニヌを混練して調製した金属酸化
物ペーストを用いた。
03cs6モル%とワニヌを混練して調製した金属酸化
物ペーストを用いた。
この半導体磁器に所定量の拡散剤ペーストを均一に塗着
して乾燥させた後、第1図のように半導体磁器1を規則
的に並べ、第2図のように円筒状のサヤ2に詰めする。
して乾燥させた後、第1図のように半導体磁器1を規則
的に並べ、第2図のように円筒状のサヤ2に詰めする。
第1図及び第2図において、1は拡散剤を塗着した半導
体磁器、2は円筒状のアルミナ質のサヤである。第2図
のようにサヤ詰めした円筒状のサヤ2をさらに第3図の
ように両端を塞ぐように熱処理用サヤ3に並べ、空気中
において1000°Cで4時間熱処理した。熱処理によ
って拡散剤は半導体磁器1の結晶粒界に拡散し。
体磁器、2は円筒状のアルミナ質のサヤである。第2図
のようにサヤ詰めした円筒状のサヤ2をさらに第3図の
ように両端を塞ぐように熱処理用サヤ3に並べ、空気中
において1000°Cで4時間熱処理した。熱処理によ
って拡散剤は半導体磁器1の結晶粒界に拡散し。
絶縁化する。
比較のために所定量の拡散剤を均一に塗着して乾燥させ
た後、第4図のようにバラ詰めして同様に熱処理を行−
た。第4図において、4は拡散剤を塗着した半導体磁器
、6はアルミナ質のサヤ、6はアルミナ質の蓋である。
た後、第4図のようにバラ詰めして同様に熱処理を行−
た。第4図において、4は拡散剤を塗着した半導体磁器
、6はアルミナ質のサヤ、6はアルミナ質の蓋である。
このようにして得られた粒界絶縁型半導体磁器の両面に
電極ペーストを塗布し、850°Cで焼付けてコンデン
サとし、見掛誘電率、誘電損失、破壊電圧を測定し、静
電容量のバラツキを算出した。見掛誘電率及び誘電損失
は、I V 、 1 k Hzの条件で測定し、破壊電
圧はコンデンサの電極間に1mA以上の電流が流れる直
前の電圧を測定した。静電容量のバラツキ理後の拡散剤
残存量は発光分光分析法による元素分析値から求めた6
なお、測定は両端部に位置した半導体磁器を除いて行っ
た。その結果を第1表に示す。
電極ペーストを塗布し、850°Cで焼付けてコンデン
サとし、見掛誘電率、誘電損失、破壊電圧を測定し、静
電容量のバラツキを算出した。見掛誘電率及び誘電損失
は、I V 、 1 k Hzの条件で測定し、破壊電
圧はコンデンサの電極間に1mA以上の電流が流れる直
前の電圧を測定した。静電容量のバラツキ理後の拡散剤
残存量は発光分光分析法による元素分析値から求めた6
なお、測定は両端部に位置した半導体磁器を除いて行っ
た。その結果を第1表に示す。
(以 下金 白)
第1表から明らかなように、同じ清の拡散剤を塗着した
場合、熱処理後の半導体磁器中の拡散剤残存量は従来の
方法に比べて多く、空気中への蒸発及びサヤへの拡散が
減少したことが確認できる。
場合、熱処理後の半導体磁器中の拡散剤残存量は従来の
方法に比べて多く、空気中への蒸発及びサヤへの拡散が
減少したことが確認できる。
また、従来法と同等の電気特性を得るためには拡散剤塗
着量を減らすことによ−て可能となシ、シかも静電容量
のパラツギだけを減少させることができる。
着量を減らすことによ−て可能となシ、シかも静電容量
のパラツギだけを減少させることができる。
発明の効果
以上のように、本発明の方法によれば、半導体磁器を規
則的に並べ、サヤと均等に接するように詰めて熱処理す
ることによって、拡散剤の空気中への蒸発を抑え、かつ
熱処理後の拡散剤残存量のバラツキを減少させ、電気特
性のバラツキを減少させることができる。また、拡散剤
塗着量が少なくても従来法と同等の電気特性を得ること
が可能であり、その際静電容量のバラツキだけを低減す
せることができ、歩留り良く粒界絶縁型半導体磁器コン
デンサを製造できるという効果が得られる。
則的に並べ、サヤと均等に接するように詰めて熱処理す
ることによって、拡散剤の空気中への蒸発を抑え、かつ
熱処理後の拡散剤残存量のバラツキを減少させ、電気特
性のバラツキを減少させることができる。また、拡散剤
塗着量が少なくても従来法と同等の電気特性を得ること
が可能であり、その際静電容量のバラツキだけを低減す
せることができ、歩留り良く粒界絶縁型半導体磁器コン
デンサを製造できるという効果が得られる。
第1図〜第3図は本発明の一実施例による半、連体磁器
の粒界層形成方法を示す工程毎の斜視図、第4図は従来
法による熱処理時を示す断面図である。 1・・・・拡散剤を塗着した半導体磁器、2・・ ・サ
ヤ、3・・・・・・熱処理用サヤ。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 はが1名/
−−−jl−歎@ t #AtLTK 早道(才〈初a
dE良第2図 13い 23−鷹ゞ訃升 / V ′s4
の粒界層形成方法を示す工程毎の斜視図、第4図は従来
法による熱処理時を示す断面図である。 1・・・・拡散剤を塗着した半導体磁器、2・・ ・サ
ヤ、3・・・・・・熱処理用サヤ。 代理人の氏名 弁理士 中 尾 敏 男 はが1名/
−−−jl−歎@ t #AtLTK 早道(才〈初a
dE良第2図 13い 23−鷹ゞ訃升 / V ′s4
Claims (1)
- 拡散剤を塗着した半導体磁器を、互いに接するように規
則的に並べ、前記半導体磁器を筒状のサヤの内壁に均等
に接するように詰めて熱処理することによって粒界を絶
縁化する半導体磁器の粒界層形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63062387A JP2605332B2 (ja) | 1988-03-16 | 1988-03-16 | 半導体磁器の粒界層形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63062387A JP2605332B2 (ja) | 1988-03-16 | 1988-03-16 | 半導体磁器の粒界層形成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01235320A true JPH01235320A (ja) | 1989-09-20 |
| JP2605332B2 JP2605332B2 (ja) | 1997-04-30 |
Family
ID=13198664
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63062387A Expired - Lifetime JP2605332B2 (ja) | 1988-03-16 | 1988-03-16 | 半導体磁器の粒界層形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2605332B2 (ja) |
-
1988
- 1988-03-16 JP JP63062387A patent/JP2605332B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2605332B2 (ja) | 1997-04-30 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| KR0156914B1 (ko) | 티탄산 바륨을 기본으로하는 유전물질의 세라믹체, 세라믹 축전기 및 세라믹체 제조방법 | |
| JPH0524646B2 (ja) | ||
| US4761711A (en) | Barrier layer ceramic dielectric capacitor containing barium plumbate | |
| JPH0226775B2 (ja) | ||
| JP2605332B2 (ja) | 半導体磁器の粒界層形成方法 | |
| JP2696893B2 (ja) | 半導体磁器の粒界層形成方法 | |
| JP2687138B2 (ja) | チタン酸ストロンチウム系半導体磁器の粒界絶縁化方法 | |
| JPS63285920A (ja) | 粒界絶縁型半導体磁器コンデンサの製造方法 | |
| JPH02305417A (ja) | 粒界絶縁型半導体磁器コンデンサの製造方法 | |
| JP3124896B2 (ja) | 半導体磁器の製造方法 | |
| JP2838249B2 (ja) | 粒界絶縁型半導体磁器の製造方法 | |
| JP2506286B2 (ja) | 粒界絶縁型半導体磁器の製造方法 | |
| JPS63285917A (ja) | 半導体磁器コンデンサの粒界絶縁方法 | |
| JPS6128209B2 (ja) | ||
| JPH0547589A (ja) | 粒界絶縁型半導体磁器コンデンサ | |
| JPS6231108A (ja) | セラミツクコンデンサ | |
| JPH07267729A (ja) | 粒界絶縁型半導体磁器の製造方法 | |
| JPS58123714A (ja) | 粒界層型磁器誘電体及びその製造方法 | |
| JPS59127826A (ja) | 粒界絶縁形半導体磁器コンデンサ | |
| JP2000016866A (ja) | チタン酸バリウム系半導体材料の製造方法 | |
| JPS6133251B2 (ja) | ||
| JPH02305418A (ja) | 粒界絶縁型半導体磁器コンデンサの製造方法 | |
| JPS6148245B2 (ja) | ||
| JPS6242366B2 (ja) | ||
| JPH02194510A (ja) | 半導体セラミックコンデンサの製造方法 |