JPH01239704A - 高誘電率磁器組成物 - Google Patents
高誘電率磁器組成物Info
- Publication number
- JPH01239704A JPH01239704A JP63066623A JP6662388A JPH01239704A JP H01239704 A JPH01239704 A JP H01239704A JP 63066623 A JP63066623 A JP 63066623A JP 6662388 A JP6662388 A JP 6662388A JP H01239704 A JPH01239704 A JP H01239704A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- dielectric constant
- high dielectric
- batio3
- component
- synthesized
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- Pending
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- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Inorganic Insulating Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は電子機器に利用されるコンデンサ用の高誘電率
磁器組成物、さらには還元再酸化型半導体磁器コンデン
サとなシうる高誘電率磁器組成物に関するものである。
磁器組成物、さらには還元再酸化型半導体磁器コンデン
サとなシうる高誘電率磁器組成物に関するものである。
従来の技術
セラミックコンデンサ用高誘電率磁器組成物として、チ
タン酸バリウムBaTiO3を主体とするものが多く知
られている。BaTiO3はキュリー点が120°C付
近にあるため、室温付近では誘電率が低く、キュリー点
を下げて室温付近の誘電率を上げるために、5rTi0
3 、 CjaSn03 、 Ba5no5 。
タン酸バリウムBaTiO3を主体とするものが多く知
られている。BaTiO3はキュリー点が120°C付
近にあるため、室温付近では誘電率が低く、キュリー点
を下げて室温付近の誘電率を上げるために、5rTi0
3 、 CjaSn03 、 Ba5no5 。
BaZr03等のシフターが添加されていた。さらにシ
フターとして希土類元素酸化物(希土類はNd。
フターとして希土類元素酸化物(希土類はNd。
Ca 、 La 、 Pr 、 Sm 、 Eu 、
G4およびD7)を用いた場合、グレインサイズ1〜2
μmの緻密で高誘電率の磁器が得られるのみならず、還
元雰囲気中で熱処理することにより容易に酸素イオン空
孔ができ、還元再酸化型の半導体磁器コンデンサが得ら
れることが知られている。(例えば、特開昭48−67
797号公報、特開昭58−48908号公報参照) 発明が解決しようとする課題 しかし、最近コンデンサの小形大容量化がさらに強く要
望されるに至シ、構造上小形大容量化が実現できる積層
磁器コンデンサや還元再酸化型の半導体磁器コンデンサ
においても、誘電体の誘電率をさらに向上させる必要が
あシ、このため磁器の組成のみならず原料の吟味も必要
となってきている。
G4およびD7)を用いた場合、グレインサイズ1〜2
μmの緻密で高誘電率の磁器が得られるのみならず、還
元雰囲気中で熱処理することにより容易に酸素イオン空
孔ができ、還元再酸化型の半導体磁器コンデンサが得ら
れることが知られている。(例えば、特開昭48−67
797号公報、特開昭58−48908号公報参照) 発明が解決しようとする課題 しかし、最近コンデンサの小形大容量化がさらに強く要
望されるに至シ、構造上小形大容量化が実現できる積層
磁器コンデンサや還元再酸化型の半導体磁器コンデンサ
においても、誘電体の誘電率をさらに向上させる必要が
あシ、このため磁器の組成のみならず原料の吟味も必要
となってきている。
本発明はかかる点に鑑みてなされたもので、積層磁器コ
ンデンサや還元再酸化型の半導体磁器コンデンサに利用
できる高誘電率磁器組成物を提供することを目的とする
ものである。
ンデンサや還元再酸化型の半導体磁器コンデンサに利用
できる高誘電率磁器組成物を提供することを目的とする
ものである。
課題を解決するための手段
上記課題を解決するため本発明は、液相法で合成した高
純度BaTiO3を用いて、BaTiO379,0〜9
4.0モルチ、希土類元素酸化物(Ln−酸化物)3.
0〜6.0モルチ(ただしLnはNd、Co、La、P
r。
純度BaTiO3を用いて、BaTiO379,0〜9
4.0モルチ、希土類元素酸化物(Ln−酸化物)3.
0〜6.0モルチ(ただしLnはNd、Co、La、P
r。
Sm 、 Eu 、 GdおよびDy のうち少なくと
も1つ)、TiO23,0〜16.0モルチからなる組
成物に対して、さらにMnO2を0〜2.0重量%およ
び5i02を0〜1.0重量%含有してなる高誘電率磁
器組成物を提供するものである。
も1つ)、TiO23,0〜16.0モルチからなる組
成物に対して、さらにMnO2を0〜2.0重量%およ
び5i02を0〜1.0重量%含有してなる高誘電率磁
器組成物を提供するものである。
作用
従来のBaCO3とTiO□の粉末よシ固相法で合成さ
れるBaTiO3に比べ、共沈法やアルコキシド等のよ
うに液相法で合成されたBaTiO3は、溶液中でイオ
ンの状態で混合されるため、均質で純度が高く粒径の細
かい粉末が得られる。このような液相法で合成したBa
TiO3を用いて、BaTi0 s−希土類元素酸化物
一丁102系磁器組成物としたときに、反応性の向上、
焼結体の緻密化、不純物の低減等の効果により、従来の
固相法で合成したBaTiO3を用いた場合よシ、誘電
率が大きくなることを見い出した。
れるBaTiO3に比べ、共沈法やアルコキシド等のよ
うに液相法で合成されたBaTiO3は、溶液中でイオ
ンの状態で混合されるため、均質で純度が高く粒径の細
かい粉末が得られる。このような液相法で合成したBa
TiO3を用いて、BaTi0 s−希土類元素酸化物
一丁102系磁器組成物としたときに、反応性の向上、
焼結体の緻密化、不純物の低減等の効果により、従来の
固相法で合成したBaTiO3を用いた場合よシ、誘電
率が大きくなることを見い出した。
実施例
以下、実施例をあげて本発明につき詳細に説明する。
(実施例1)
まず、液相法の1つである共沈法で次のようにBaTi
O3を合成した。T1Cd4水溶液とBaCl2水溶液
をBa : Ti=1 : 1になるように調整、混合
し、この混合溶液を加熱したシュウ酸溶液にゆっくシ滴
下し、シェラ酸バリウムチタニール(BaTiO(02
04)−aH20)の沈殿を得、これを洗浄−p過し、
乾燥させ、950〜1100′Cで4時間仮焼してBa
TiO3(純度99.9%)を合成した。これと市販の
工業用BaTiO3(固相法で合成したもの。純度98
チ)、TiO2(純度96.9チ)、試薬特級Nd2O
3、0e02 、 La20B 、 Pr6011 、
Sm20B 。
O3を合成した。T1Cd4水溶液とBaCl2水溶液
をBa : Ti=1 : 1になるように調整、混合
し、この混合溶液を加熱したシュウ酸溶液にゆっくシ滴
下し、シェラ酸バリウムチタニール(BaTiO(02
04)−aH20)の沈殿を得、これを洗浄−p過し、
乾燥させ、950〜1100′Cで4時間仮焼してBa
TiO3(純度99.9%)を合成した。これと市販の
工業用BaTiO3(固相法で合成したもの。純度98
チ)、TiO2(純度96.9チ)、試薬特級Nd2O
3、0e02 、 La20B 、 Pr6011 、
Sm20B 。
ICu 203 、 Gd2O3、Dy2O3、MnO
2、5i02 (純度はいずれも99.9%以上)を用
い、目的の組成比になるように配合し、メノウ玉石を用
いたボールミルで混合し乾燥した。次にポリビニルアル
コール水溶液をバインダーとして造粒し・32メツシユ
パスに整粒し、直径9111M、厚さ0.36朋の円板
に約1トン/dの圧力で成形した。これらの成形体を空
気中で1280〜1320°Cの温度で2時間焼成して
、直径的7.5ffl、厚み0.3 ff1Fの円板形
誘電体磁器を得た。次にこの磁器の両面に銀ペースト印
刷し860°Cで焼付は電極とした。
2、5i02 (純度はいずれも99.9%以上)を用
い、目的の組成比になるように配合し、メノウ玉石を用
いたボールミルで混合し乾燥した。次にポリビニルアル
コール水溶液をバインダーとして造粒し・32メツシユ
パスに整粒し、直径9111M、厚さ0.36朋の円板
に約1トン/dの圧力で成形した。これらの成形体を空
気中で1280〜1320°Cの温度で2時間焼成して
、直径的7.5ffl、厚み0.3 ff1Fの円板形
誘電体磁器を得た。次にこの磁器の両面に銀ペースト印
刷し860°Cで焼付は電極とした。
このようにして作成したコンデンサについて、20’C
においてI Vrms 1 kl−12で測定した誘
電率及び誘電損失(tanδ)、さらに誘電率が最大と
なる温度(キュリー点)を第1表に示す。
においてI Vrms 1 kl−12で測定した誘
電率及び誘電損失(tanδ)、さらに誘電率が最大と
なる温度(キュリー点)を第1表に示す。
第1表中のBaTiO3の覧のΔ印は従来の固相法で合
成したBaTiO3を示し、試料番号の覧の合印は本発
明の範囲外の組成物を示す。コンデンサの大容量化を図
るため、室温(20’C)で高い誘電率が望まれている
。磁器コンデンサの場合、キュリー点で誘電率が最大と
なυ、温度がキュリー点よシ離れるに従い誘電率が低く
なる。従って、BaTi03の種類を変えた場合、シフ
ターの固溶度合や不純物等によシ同組成にもかかわらず
キュリー点が変わるため、組成を少し変えてキュリー点
を同じにしたうえで20″Cの誘電率の大小を比較しな
くてはならない。試料番号3と4,5と6゜19と20
.24と25.28と29.30と31゜32と33.
34と35.38と37,38と39゜41と42は本
発明と従来法との比較である。共沈法で合成したBaT
iO3を用いた場合、従来の固相法で合成したBaTi
03を用いた場合よシ高誘電率が得られることがわかる
。
成したBaTiO3を示し、試料番号の覧の合印は本発
明の範囲外の組成物を示す。コンデンサの大容量化を図
るため、室温(20’C)で高い誘電率が望まれている
。磁器コンデンサの場合、キュリー点で誘電率が最大と
なυ、温度がキュリー点よシ離れるに従い誘電率が低く
なる。従って、BaTi03の種類を変えた場合、シフ
ターの固溶度合や不純物等によシ同組成にもかかわらず
キュリー点が変わるため、組成を少し変えてキュリー点
を同じにしたうえで20″Cの誘電率の大小を比較しな
くてはならない。試料番号3と4,5と6゜19と20
.24と25.28と29.30と31゜32と33.
34と35.38と37,38と39゜41と42は本
発明と従来法との比較である。共沈法で合成したBaT
iO3を用いた場合、従来の固相法で合成したBaTi
03を用いた場合よシ高誘電率が得られることがわかる
。
希土類元素酸化物(Ln−酸化物)が3.0モルチより
少ない場合は、キュリー点の移動が少なく室温での誘電
率が低く、−δが大きくなる。また、6.0モルチをこ
える場合は、キュリー点の移動が大きく室温での誘電率
が低くなる。TlO2を3.0〜16.0モルチとした
のは、3.0モルチよシ少ない場合、焼結体に針状結晶
の析出量が多くなシ、15、oモルチよシ多くなると誘
電率が低下し、磁器の融着がおこるからである。MnO
2の添加は−δの低下および絶縁抵抗の向上に効果があ
るが、2.0重量%をこえると誘電率の低下が大きくな
る。
少ない場合は、キュリー点の移動が少なく室温での誘電
率が低く、−δが大きくなる。また、6.0モルチをこ
える場合は、キュリー点の移動が大きく室温での誘電率
が低くなる。TlO2を3.0〜16.0モルチとした
のは、3.0モルチよシ少ない場合、焼結体に針状結晶
の析出量が多くなシ、15、oモルチよシ多くなると誘
電率が低下し、磁器の融着がおこるからである。MnO
2の添加は−δの低下および絶縁抵抗の向上に効果があ
るが、2.0重量%をこえると誘電率の低下が大きくな
る。
Si20の添加はMnO2と同様な効果の他に焼成温度
依存性を少なくする効果があるが、1.0重量%をこえ
ると誘電率の低下が大きくなる。
依存性を少なくする効果があるが、1.0重量%をこえ
ると誘電率の低下が大きくなる。
(実施例2ン
第1表の組成物について、空気中で1280〜1320
°Cで2時間焼成し、これを還元性雰囲気(N2 :
N2 =95 : 5 )中で960〜1150′Cで
4時間還元処理し半導体磁器を得た。この半導体磁器を
空気中で900〜1050℃で4時間酸化処理して、両
面に銀ペーストを印刷し850’Cで焼付は電極を形成
し、還元再酸化型半導体磁器コンデンサを得た。
°Cで2時間焼成し、これを還元性雰囲気(N2 :
N2 =95 : 5 )中で960〜1150′Cで
4時間還元処理し半導体磁器を得た。この半導体磁器を
空気中で900〜1050℃で4時間酸化処理して、両
面に銀ペーストを印刷し850’Cで焼付は電極を形成
し、還元再酸化型半導体磁器コンデンサを得た。
このようにして作成したコンデンサについて、20℃に
おいてo、1Vrms 、 1k)4z で単位面積
当シの容量C(μl’/d) 、誘電損失(tanδ)
、絶縁抵抗IR(Ω)、破壊電圧BDV(V)を測定し
た。絶縁抵抗はDO25V印加で測定し、破壊電圧はD
C外圧破壊方式を用いた。なお、単位面積当シの容量お
よび破壊電圧は、還元温度、再酸化温度によって変化す
るため、破壊電圧がおよそ600vになるように条件を
設定して、単位面積abの容量で比較した。結果を第2
表に示す。
おいてo、1Vrms 、 1k)4z で単位面積
当シの容量C(μl’/d) 、誘電損失(tanδ)
、絶縁抵抗IR(Ω)、破壊電圧BDV(V)を測定し
た。絶縁抵抗はDO25V印加で測定し、破壊電圧はD
C外圧破壊方式を用いた。なお、単位面積当シの容量お
よび破壊電圧は、還元温度、再酸化温度によって変化す
るため、破壊電圧がおよそ600vになるように条件を
設定して、単位面積abの容量で比較した。結果を第2
表に示す。
(以下余白)
このように、共沈法で合成したBaTiO3を用いた場
合、従来の固相法で合成したBaTiO3を用いた場合
よシ、面積容量の大きな還元再酸化型の半導体磁器コン
デンサが得られることがわかる。
合、従来の固相法で合成したBaTiO3を用いた場合
よシ、面積容量の大きな還元再酸化型の半導体磁器コン
デンサが得られることがわかる。
なお、本実施例では液相法の1つである共沈法で合成し
たBaTiO3を用いたが、T1とBaのアルコキシド
(チタニウムテトライソプロポキシドTi((OH,)
20HO)4.バリウムビスイソプロポキシド Ba(
OC5H7)2 ) を加水分解して得たBaTiO
3でも同様な良い特性が確認できた。
たBaTiO3を用いたが、T1とBaのアルコキシド
(チタニウムテトライソプロポキシドTi((OH,)
20HO)4.バリウムビスイソプロポキシド Ba(
OC5H7)2 ) を加水分解して得たBaTiO
3でも同様な良い特性が確認できた。
発明の効果
以上のように本発明の組成物によれば、積層磁器コンデ
ンサや還元再酸化型の半導体磁器コンデンサ用の高誘電
率磁器組成物が得られ、その実用的価値は極めて有用で
ある。
ンサや還元再酸化型の半導体磁器コンデンサ用の高誘電
率磁器組成物が得られ、その実用的価値は極めて有用で
ある。
Claims (1)
- 液相法で合成した高純度BaTiO_3を用いて、Ba
TiO_379.0〜94.0モル%、希土類元素酸化
物(Ln−酸化物)3.0〜6.0モル%(ただし、L
nはNd,Ce,La,Pr,Sm,Eu,Gd,およ
びDyのうち少なくとも1つ)、TiO_23.0〜1
5.0モル%からなる組成物に対して、さらにMnO_
2を0〜2.0重量%およびSiO_2を0〜1.0重
量%含有してなる高誘電率磁器組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63066623A JPH01239704A (ja) | 1988-03-18 | 1988-03-18 | 高誘電率磁器組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63066623A JPH01239704A (ja) | 1988-03-18 | 1988-03-18 | 高誘電率磁器組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01239704A true JPH01239704A (ja) | 1989-09-25 |
Family
ID=13321198
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63066623A Pending JPH01239704A (ja) | 1988-03-18 | 1988-03-18 | 高誘電率磁器組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01239704A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005093763A1 (ja) * | 2004-03-29 | 2005-10-06 | Nippon Chemical Industrial Co., Ltd. | 複合誘電体材料用無機誘電体粉末及び複合誘電体材料 |
| JP2008235088A (ja) * | 2007-03-22 | 2008-10-02 | Murata Mfg Co Ltd | 誘電体薄膜、誘電体薄膜キャパシタおよび誘電体薄膜キャパシタの製造方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5848908A (ja) * | 1981-09-18 | 1983-03-23 | 松下電器産業株式会社 | 表面誘電体層型半導体磁器組成物およびその製造方法 |
| JPS6221758A (ja) * | 1985-07-22 | 1987-01-30 | 平野 真一 | 高周波用セラミツク誘電体の製造方法 |
-
1988
- 1988-03-18 JP JP63066623A patent/JPH01239704A/ja active Pending
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5848908A (ja) * | 1981-09-18 | 1983-03-23 | 松下電器産業株式会社 | 表面誘電体層型半導体磁器組成物およびその製造方法 |
| JPS6221758A (ja) * | 1985-07-22 | 1987-01-30 | 平野 真一 | 高周波用セラミツク誘電体の製造方法 |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005093763A1 (ja) * | 2004-03-29 | 2005-10-06 | Nippon Chemical Industrial Co., Ltd. | 複合誘電体材料用無機誘電体粉末及び複合誘電体材料 |
| JP4747091B2 (ja) * | 2004-03-29 | 2011-08-10 | 日本化学工業株式会社 | 複合誘電体材料 |
| JP2008235088A (ja) * | 2007-03-22 | 2008-10-02 | Murata Mfg Co Ltd | 誘電体薄膜、誘電体薄膜キャパシタおよび誘電体薄膜キャパシタの製造方法 |
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