JPS62252904A - 電圧非直線性抵抗体磁器組成物及びその製造方法 - Google Patents
電圧非直線性抵抗体磁器組成物及びその製造方法Info
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- JPS62252904A JPS62252904A JP61097139A JP9713986A JPS62252904A JP S62252904 A JPS62252904 A JP S62252904A JP 61097139 A JP61097139 A JP 61097139A JP 9713986 A JP9713986 A JP 9713986A JP S62252904 A JPS62252904 A JP S62252904A
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- Japan
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- mol parts
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- temperature
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は5r(j z)CaxTi05を主成分とする
、コンデンサとバリスタの両機能を有する電圧非直線性
抵抗体磁器組成物及びその製造方法に関する。
、コンデンサとバリスタの両機能を有する電圧非直線性
抵抗体磁器組成物及びその製造方法に関する。
従来の技術
電子機器において、機器の内外部より伝播する異常電圧
やノイズ等によるトランジスタや集積回路等の破壊誤動
作を防止するため、各種のコンデンサやバリスタ等が使
用されているが、部品ではこれらノイズやサージパルス
等の吸収 il/Iτ去が不完全である。近年登場した
容量性バリスタは、コンデンサとバリスタの両機能を有
するもので、ノイズやサージパルス等の吸収、除去、又
はバイパスとしての機能を単品で行うことができる。
やノイズ等によるトランジスタや集積回路等の破壊誤動
作を防止するため、各種のコンデンサやバリスタ等が使
用されているが、部品ではこれらノイズやサージパルス
等の吸収 il/Iτ去が不完全である。近年登場した
容量性バリスタは、コンデンサとバリスタの両機能を有
するもので、ノイズやサージパルス等の吸収、除去、又
はバイパスとしての機能を単品で行うことができる。
発明が解決しようとする問題点
しかし、従来のSr Ti 05材に半導体化元素(N
d2O3 、 Ta2O3 、 CeO2等)ならびに
粒界に析出する元素Bi、Cu、Mn等)を添加して作
製したものは、サージ耐量が10〜60人と小さいだめ
、信頼性が乏しく、利用範囲も限定されたものであった
。また、電子機器の高性能、多機能化に伴い、小型大容
量でなおかつサージ耐量の大きな、信頼性の高い容量性
バリスタが要求されている。
d2O3 、 Ta2O3 、 CeO2等)ならびに
粒界に析出する元素Bi、Cu、Mn等)を添加して作
製したものは、サージ耐量が10〜60人と小さいだめ
、信頼性が乏しく、利用範囲も限定されたものであった
。また、電子機器の高性能、多機能化に伴い、小型大容
量でなおかつサージ耐量の大きな、信頼性の高い容量性
バリスタが要求されている。
問題点を解決するだめの手段
本発明にかかわる磁器組成物は、Sr(+−x)””T
iO3(但しXは0.014X l−(J 5の範囲)
成分が100モル部、Nb2O3、Ta2O3 、 W
O3、GeO2。
iO3(但しXは0.014X l−(J 5の範囲)
成分が100モル部、Nb2O3、Ta2O3 、 W
O3、GeO2。
”2O3 、Nd2 o3 r Y2O3 * ”2O
3 r D3’2 o5 + ”2O3及びPr60,
1 の内、少くとも1種の金属酸物成分が、0、oO
°6〜3.00モル部、Cr2O3成分が0.01〜2
800モル部、さらに、SiO2.CuO及びMn 0
2の内、少くとも1種の酸化物成分が0.01〜2.0
0モル部からなるものである。
3 r D3’2 o5 + ”2O3及びPr60,
1 の内、少くとも1種の金属酸物成分が、0、oO
°6〜3.00モル部、Cr2O3成分が0.01〜2
800モル部、さらに、SiO2.CuO及びMn 0
2の内、少くとも1種の酸化物成分が0.01〜2.0
0モル部からなるものである。
作用
本発明は以上の手段よりなるため、5r(1−x)Ca
xTi05成分の内C&がバリスタ電圧の非直線係数を
大きくするとともにサージ耐量を向上させNb2o5な
どは、5r(j z)CaxTi05を原子価制御の原
理により半導体化させるのに必要な成分であり、Cr2
O3は、結晶粒界での濃度が高く、バリスタ特性に寄与
し、さらにSiO2 、 (uo及びMnO□はバリス
タ電圧の非直線係数を改善する。
xTi05成分の内C&がバリスタ電圧の非直線係数を
大きくするとともにサージ耐量を向上させNb2o5な
どは、5r(j z)CaxTi05を原子価制御の原
理により半導体化させるのに必要な成分であり、Cr2
O3は、結晶粒界での濃度が高く、バリスタ特性に寄与
し、さらにSiO2 、 (uo及びMnO□はバリス
タ電圧の非直線係数を改善する。
実施例
以下実施例をあげて、本発明につき詳細に説明する。
実施例1
Sr(、z)CaxTi05のXが第1表の主成分の欄
のXの値になるように、市販の工業用原料5rCO5粉
末(純度99係以上)、CaCO3粉末(純度99チ以
上)、及びTiO2粉末(純度99%9%以上それぞれ
秤量配合し、ボールミルで20時間(、i+’5合した
。これを乾燥した後、この粉末を1150℃の温度で2
時間仮焼した。その後ボールミルで湿式粉砕した。この
ようにして得られた5r(1−2)CazT105粉末
100モル部に対して、市販の試薬特級(純度99.9
%以上) Nb2O3、Ta2O,、、WO3。
のXの値になるように、市販の工業用原料5rCO5粉
末(純度99係以上)、CaCO3粉末(純度99チ以
上)、及びTiO2粉末(純度99%9%以上それぞれ
秤量配合し、ボールミルで20時間(、i+’5合した
。これを乾燥した後、この粉末を1150℃の温度で2
時間仮焼した。その後ボールミルで湿式粉砕した。この
ようにして得られた5r(1−2)CazT105粉末
100モル部に対して、市販の試薬特級(純度99.9
%以上) Nb2O3、Ta2O,、、WO3。
CeO2+ L2L2 ”5 + Nd2O3 r Y
2O3− ”2 o5 * D3’2O3 rGd2o
3及びPr6O11の内9、少くとも1種の金属酸化物
と、試薬特級(純度99.9%以上)Cr2O3を第1
表に示すように秤量配合し、ボールミルで20時時間式
混合した。乾燥後、5重量%のポリビニルアルコール水
溶液をバインダーとして10重量係添加混合し、32メ
ツシユバスに造粒した。
2O3− ”2 o5 * D3’2O3 rGd2o
3及びPr6O11の内9、少くとも1種の金属酸化物
と、試薬特級(純度99.9%以上)Cr2O3を第1
表に示すように秤量配合し、ボールミルで20時時間式
混合した。乾燥後、5重量%のポリビニルアルコール水
溶液をバインダーとして10重量係添加混合し、32メ
ツシユバスに造粒した。
この造粒粉末を10100o/cmの圧力で円板形に成
形した。
形した。
これらの成形体を空気中において1000℃の温度で加
熱処理した後、N2 (95容積%)+H2(6容積チ
)の還元性雰囲気中で1400℃の温度で4時間焼成し
、直径約6’ mm、厚さ約0.’7 mmの半導体磁
器を得た。次に、これを空気中で1150℃の温度で4
時間熱処理した。次にこの磁器の両面にオーミックAg
ペーストを塗布し、650℃の温度で焼付けて容量性バ
リスタを得た。
熱処理した後、N2 (95容積%)+H2(6容積チ
)の還元性雰囲気中で1400℃の温度で4時間焼成し
、直径約6’ mm、厚さ約0.’7 mmの半導体磁
器を得た。次に、これを空気中で1150℃の温度で4
時間熱処理した。次にこの磁器の両面にオーミックAg
ペーストを塗布し、650℃の温度で焼付けて容量性バ
リスタを得た。
次に容量性バリスタの特性評価を行うために、静電容量
(以下Cと略す)、誘電圧接(以下tanδと略す)、
バリスタ電圧v+ +非直線係数α、及びサージ耐量
を測定し、第2表に示す結果を得た。
(以下Cと略す)、誘電圧接(以下tanδと略す)、
バリスタ電圧v+ +非直線係数α、及びサージ耐量
を測定し、第2表に示す結果を得た。
Cおよびtanδはブリッジ回路を用い20℃。
1KHzで測定した。
また、バリスタ電圧v1はバリスタに1m人の電流を流
した時の電圧を測定し、非直線係数αはバリスタに1m
mムラ0m人の各電流を流した時のそれぞれの電圧v+
zvToを測定し、次式よシ求めた。
した時の電圧を測定し、非直線係数αはバリスタに1m
mムラ0m人の各電流を流した時のそれぞれの電圧v+
zvToを測定し、次式よシ求めた。
α=1/βOg(L+o/ v4 )
また、サージ耐量は、バリスタに8×20μsの電流波
形のサージを加え、その後バリスタ電圧v1 を測定し
初期値に対して10%変化した時の最大電流値を測定し
た。
形のサージを加え、その後バリスタ電圧v1 を測定し
初期値に対して10%変化した時の最大電流値を測定し
た。
また、寿命試験は、次に示す条件で湿空負荷寿命試験を
1000時間行い、コンデンサ特性とバリスタ特性を前
述の方法で測定した。
1000時間行い、コンデンサ特性とバリスタ特性を前
述の方法で測定した。
湿空負荷寿命試験条件
65±2℃、90〜95チRh、の恒温恒湿槽にてり、
C20V連続印加を行った。
C20V連続印加を行った。
(以 下 余 白)
第 1 表
試料番号1はSr(、z)CaxTi03のXが0.0
1未満でバリスタ特性の改善に効果がなく、試料番号1
6はXが0.5を超え、Capが34nFと低くtan
δ も3.2俤と高く、本発明の範囲外とした。
1未満でバリスタ特性の改善に効果がなく、試料番号1
6はXが0.5を超え、Capが34nFと低くtan
δ も3.2俤と高く、本発明の範囲外とした。
また試料番号8は、Nb2O5の成分量が0.005モ
ル部未満でtanδが8.1チと高く、試料番号15は
Nb2O5の成分量が3.00モル部を超え、tanδ
が5チと高くサージ耐量も了OAと低く本発明の範囲外
とした。また試料番号2,5はCr2O5の成分量が0
.01モル部未満でサージ耐量40.00人と低く、試
料番号9はCr2O5の成分量が200モル部を超え、
tanδが3.2%と高く、サージ耐量も80Aと低く
本発明の範囲外とした。
ル部未満でtanδが8.1チと高く、試料番号15は
Nb2O5の成分量が3.00モル部を超え、tanδ
が5チと高くサージ耐量も了OAと低く本発明の範囲外
とした。また試料番号2,5はCr2O5の成分量が0
.01モル部未満でサージ耐量40.00人と低く、試
料番号9はCr2O5の成分量が200モル部を超え、
tanδが3.2%と高く、サージ耐量も80Aと低く
本発明の範囲外とした。
実施例2
実施例1で示した主成分、半導体化元素、Cr2O5か
らなる組成に第3表に示すように、市販の試薬特級(純
度99.9%以上) SiO2 、 CuO、及びMn
O2の内、少くとも1種の酸化物を添加し、容量性バリ
スタを実施例1と同一方法で作成、測定した。
らなる組成に第3表に示すように、市販の試薬特級(純
度99.9%以上) SiO2 、 CuO、及びMn
O2の内、少くとも1種の酸化物を添加し、容量性バリ
スタを実施例1と同一方法で作成、測定した。
その結果を第4表に示す。
試料番号7は、SiO2 、 CuO、及びMnO2の
添加の効果を調べるための比較試料である。試料番号5
3.63.73は、それぞれSiO2 、 Cu O、
MnO2の成分量が、2.00モル部を超え、tanδ
が3チ以上あり、サージ耐量も50Å以下と低く、本発
明の範囲外とした。
添加の効果を調べるための比較試料である。試料番号5
3.63.73は、それぞれSiO2 、 Cu O、
MnO2の成分量が、2.00モル部を超え、tanδ
が3チ以上あり、サージ耐量も50Å以下と低く、本発
明の範囲外とした。
実施例3
実施例1における試料番号7,4,10.29、実施例
2における試料番号6!5.90の組成を用いて、実施
例1と同一方法で成形体を作成した。
2における試料番号6!5.90の組成を用いて、実施
例1と同一方法で成形体を作成した。
これら成形体を空気中において、1000℃の温度で加
熱処理した後、M2(s s容積係)+H2(6容積係
)の還元性雰囲気中で第6表に示す温度で4時間焼成し
、直径約emm、厚さ約0.7 mmの半導体磁器を得
た。次にこれを空気中で第5表に示す再酸化温度で4時
間、熱処理した。次にこの磁器の両面にオーミックAg
ペーストを!で布し、550℃の温度で焼付けて容量性
バリスタを心また〇測定は、実施例1と同一方法で行な
い、その結果を第ぢ表に併せて示す。
熱処理した後、M2(s s容積係)+H2(6容積係
)の還元性雰囲気中で第6表に示す温度で4時間焼成し
、直径約emm、厚さ約0.7 mmの半導体磁器を得
た。次にこれを空気中で第5表に示す再酸化温度で4時
間、熱処理した。次にこの磁器の両面にオーミックAg
ペーストを!で布し、550℃の温度で焼付けて容量性
バリスタを心また〇測定は、実施例1と同一方法で行な
い、その結果を第ぢ表に併せて示す。
試料番号101は雰囲気焼成温度が1300℃未満で焼
結不足となり半導体化が充分性なわれず、コンデンサ特
性、バリスタ特性共に悪く、また試料番号105は雰囲
気焼成温度が1600℃を超え、100μm以上の粗大
粒子ができ、サージ耐量が50A以下であるので本発明
の範囲外とした。
結不足となり半導体化が充分性なわれず、コンデンサ特
性、バリスタ特性共に悪く、また試料番号105は雰囲
気焼成温度が1600℃を超え、100μm以上の粗大
粒子ができ、サージ耐量が50A以下であるので本発明
の範囲外とした。
また試料番号106は再酸化温度が800℃未満で、結
晶粒界の絶縁化が不充分で、tanδが3係以上、サー
ジ耐量が50Å以下になるので本発明の範囲外とした。
晶粒界の絶縁化が不充分で、tanδが3係以上、サー
ジ耐量が50Å以下になるので本発明の範囲外とした。
また、試料番号111は再酸化温度が1300℃を超え
、結晶粒子内部まで再酸化が進行し、サージ耐量が50
Å以下になるので本発明の範囲外とした。
、結晶粒子内部まで再酸化が進行し、サージ耐量が50
Å以下になるので本発明の範囲外とした。
尚、本発明での実施例では、金属酸化物を使用したが、
最終的に金属酸化物が得られれば本発明の目的が達成さ
れるので、金属元素 H;、H、rl塩、水酸化物、硝
酸塩9シユウ酸塩を用いてもさしつかえない。
最終的に金属酸化物が得られれば本発明の目的が達成さ
れるので、金属元素 H;、H、rl塩、水酸化物、硝
酸塩9シユウ酸塩を用いてもさしつかえない。
発明の効果
本発明の電圧非直線性抵抗体は以上のように、S r
(1z ) (: a X T 105 (但しXは0
.014)(≦0.05の範囲)の成分が100モル部
、Nb2O5+ T’2O3 。
(1z ) (: a X T 105 (但しXは0
.014)(≦0.05の範囲)の成分が100モル部
、Nb2O5+ T’2O3 。
WO3、CeO2,La2O3、Nb2O3、Y2O3
、Y2O3、Sm2O3、Dy2O3゜Gd2O3及び
Pr6O11の内、少くとも1種の金属酸化物成分がO
1○06〜:1JOOモル部、cr2o、成分が0.0
1〜2.0Qモル部、SiO2 、 CuO及びMnO
2の内、少くとも1種の酸化物成分が0.01〜2.0
0モル部からなるだめサージ耐圧が高くまだバリスタ電
圧の非直線性係数が大きくなる。
、Y2O3、Sm2O3、Dy2O3゜Gd2O3及び
Pr6O11の内、少くとも1種の金属酸化物成分がO
1○06〜:1JOOモル部、cr2o、成分が0.0
1〜2.0Qモル部、SiO2 、 CuO及びMnO
2の内、少くとも1種の酸化物成分が0.01〜2.0
0モル部からなるだめサージ耐圧が高くまだバリスタ電
圧の非直線性係数が大きくなる。
Claims (4)
- (1)Sr_(_1_−_x_)Ca_xTiO_3(
但しxは0.01≦x≦0.5の範囲)が100モル部
と、Nb_2O_5、Ta_2O_5、WO_3、Ge
O_2、La_2O_3、Nd_2O_3、Y_2O_
3、Sm_2O_3、Dy_2O_3、Gd_2O_3
及びPr_6O_1_1の内少くとも1種の金属酸化物
0.005〜3.00モル部と、Cr_2O_3が0.
01〜2.00モル部とを含む電圧非直線性抵抗体磁器
組成物。 - (2)Sr_(_1_−_x_)Ca_xTiO_3(
但しxは0.01≦x≦0.5の範囲)が100モル部
と、Nb_2O_5、Ta_2O_5、WO_3、Ce
O_2、La_2O_3、Nd_2O_3、Y_2O_
3、Sm_2O_3、Dy_2O_3、Gd_2O_3
及びPr_6O_1_1の内、少くとも1種の金属酸化
物0.005〜3.00モル部と、Cr_2O_3が0
.01〜2.00モル部とを含む組成物を成形体としこ
れを還元性雰囲気中において、1300〜1500℃の
範囲内の温度で焼結させ、得られた半導体磁器をさらに
酸化性雰囲気中において800〜1300℃の範囲内の
温度で加熱することを特徴とする電圧非直線性抵抗体磁
器組成物の製造方法。 - (3)Sr_(_1_−_x_)Ca_xTiO_3(
但しxは0.01≦x≦0.5の範囲)が100モル部
と、Nb_2O_5、Ta_2O_5、WO_3、Ce
O_2、La_2O_3、Nd_2O_3、Y_2O_
3、Sm_2O_3、Dy_2O_3、Gd_2O_3
及びPr_6O_1_1の内、少くとも1種の金属酸化
物0.005〜3.00モル部と、Cr_2O_3が0
.01〜2.00モル部と、SiO_2、CuO及びM
nO_2の内少くとも1種の酸化物0.01〜2.00
モル部を含む電圧非直線性抵抗体磁器組成物。 - (4)Sr_(_1_−_x_)Ca_xTiO_3(
但しxは0.01≦x≦0.5の範囲)が100モル部
と、Nb_2O_5、Ta_2O_5、WO_3、Ce
O_2、La_2O_3、Nd_2O_3、Y_2O_
3、Sm_2O_3、Dy_2O_3、Gd_2O_3
及びPr_6O_1_1の内、少くとも1種の金属酸化
物0.005〜3.00モル部と、Cr_2O_3が0
.01〜2.00モル部と、SiO_2、CuO及びM
nO_2の内、少くとも1種の酸化物0.01〜2.0
0モル部とから成る組成物を成形体とし、これを還元性
雰囲気中で1300〜1500℃の範囲内の温度で焼結
させ、得られた半導体磁器を、さらに酸化性雰囲気中に
おいて800〜1300℃の範囲内の温度で加熱して再
酸化することを特徴とする電圧非直線性抵抗体磁器組成
物の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61097139A JPS62252904A (ja) | 1986-04-25 | 1986-04-25 | 電圧非直線性抵抗体磁器組成物及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP61097139A JPS62252904A (ja) | 1986-04-25 | 1986-04-25 | 電圧非直線性抵抗体磁器組成物及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62252904A true JPS62252904A (ja) | 1987-11-04 |
Family
ID=14184232
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP61097139A Pending JPS62252904A (ja) | 1986-04-25 | 1986-04-25 | 電圧非直線性抵抗体磁器組成物及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS62252904A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6444003A (en) * | 1987-08-12 | 1989-02-16 | Hokuriku Elect Ind | Voltage-dependent nonlinear resistance ceramic composition |
| JP2021077161A (ja) * | 2019-11-11 | 2021-05-20 | ファナック株式会社 | 数値制御装置 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57187906A (en) * | 1981-05-14 | 1982-11-18 | Taiyo Yuden Kk | Semiconductor porcelain composition with nonlinear voltage/current characteristic and method of producing same |
-
1986
- 1986-04-25 JP JP61097139A patent/JPS62252904A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57187906A (en) * | 1981-05-14 | 1982-11-18 | Taiyo Yuden Kk | Semiconductor porcelain composition with nonlinear voltage/current characteristic and method of producing same |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6444003A (en) * | 1987-08-12 | 1989-02-16 | Hokuriku Elect Ind | Voltage-dependent nonlinear resistance ceramic composition |
| JP2021077161A (ja) * | 2019-11-11 | 2021-05-20 | ファナック株式会社 | 数値制御装置 |
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