JPH0124041B2 - - Google Patents

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JPH0124041B2
JPH0124041B2 JP56181715A JP18171581A JPH0124041B2 JP H0124041 B2 JPH0124041 B2 JP H0124041B2 JP 56181715 A JP56181715 A JP 56181715A JP 18171581 A JP18171581 A JP 18171581A JP H0124041 B2 JPH0124041 B2 JP H0124041B2
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JP
Japan
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mold
ceramic
drying
clay
molded
Prior art date
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JP56181715A
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JPS5884711A (ja
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Hideo Igami
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、陶磁器製品の製造方法に関し、さら
に詳しくは、柔軟性のある練土状の陶磁器組成物
から曲面をもつ製品、例えばタイル状物、瓦など
を製造する方法に関する。
従来、曲面を有するタイル状物、陶器瓦などを
練土状の陶磁器組成物から成形するには、例えば
タイル状物の場合、土練機の抜出口に所望の形の
金型を設けて強制的に加圧押出し成形する方法が
とられている。また陶磁瓦は、土練機で板状に抜
き出した後、所望形状の金型内に入れて100Kg/
cm2程度の高圧プレスにより短時間で加圧し、強制
流動させて成形する方法がとられている。
上述のように、従来方法は、組成物の塑性流動
性を利用し、強い圧力を加えて強制的に曲面を形
成させるものであるが、塑性流動の際の金型表面
と組成物内部の流動抵抗の違いから、組織内に断
層を生じてラミネーシヨンを起こし、また全体と
して内部密度の不均一な成形体となり、結晶の配
向性も乱れた状態となるため、乾燥、焼成などの
過程で部分的な収縮差を生じて亀裂、変形などを
起こし、製品の不良率が極めて高くなる。またこ
れらの内部欠陥の発現をできるだけ抑えるために
は、成形後500以下の低温度で30時間以上乾燥し
なければならない。
本発明の目的は、上記従来技術の欠点を除き、
練土状の陶磁器組成物を強制加圧することなく、
潜在歪のできるだけ少い状態で成形し、かつ短時
間で乾燥、焼成することができる陶磁器製品の製
造方法を提供することにある。
本発明は、可塑性を有する練土状の陶磁器質組
成物を平板状に加工した後、該平板を多数の吸着
口を有する曲面状成形型に押上げ装置を用いて押
上げながら吸着させて成形した後、別に準備した
同形状の金網製乾燥用型台に移してその形状を保
持しつつ乾燥硬化させ、次いで常法により焼成炉
で焼結させることを特徴とする。
本発明に用いる陶磁器組成物は、結晶配向を整
列させ、内部歪をなるべく分散させたもの、例え
ば予め真空土練機で脱気混練した後、板状に形成
し、さらにローラで圧延したものが好ましい。
以下、本発明を図面によりさらに詳細に説明す
る。
第1図ないし第4図は、本発明の陶磁器質タイ
ルを製造する工程を示した断面図である。図にお
いて、先ず所定厚さと面積をもつ平板状陶磁器質
組生地1は、成形装置下部の押上げ装置2の上に
置かれ(第1図)、次いで地面に所望の曲面3を
有し、かつ曲面上に減圧箱に連通する多数の吸着
孔4を有する成形型5を生地1の上に軽く圧着さ
せると同時に、押上装置2を押上げ、成形型5の
曲面3に生地1を吸着させ、曲面上に成形する
(第2図)。成形型5に吸着された生地1は、成形
型5とともに製品と同じ形状の金網などで作られ
た乾燥台6の上に移動され(第3図)、次いで減
圧を開放することにより成形品が成形型5から離
れ、乾燥台6上に置かれ(第4図)、この状態で
乾燥、硬化が行なわれる。乾燥は、加熱水蒸気、
熱風など、どのような手段でもよいが、生地の厚
さおよび組成などにより迅速乾燥が望まれる場合
には、高周波または遠赤外線などを照射すること
が好ましい。
上記のように成形された生地は、従来方法のよ
うに強制的な加圧や塑性変形を受けていないの
で、潜在歪の殆んどない、均一な組織体となり、
急速な乾燥や焼成を行つても亀裂、変形は全く生
じない。
以下、本発明の具体的実施例を述べる。
実施例 可塑性粘土35%、陶石および硅石65%の素地組
成物に解膠剤0.2%を加え、含水率18%に調整し
た磁器質タイル素地を、真空土練機により厚さ20
mmの板状として抜き出し、さらにローラー圧延操
作により厚さ7mm、面積30mm×30mmの柔軟な平板
とし、これを第1図および第2図に示すように真
空減圧装置により吸着成形し、曲面部の幅50mm、
高さ30mmの波形図面を3条有する成形体を得た。
これを第3図および第4図に示すように金網製の
乾燥台にのせて、2kwの遠赤外線を20分間照射す
ると、含水率6%まで急速に乾燥され、硬化状態
となつたが、成形体には何ら亀裂、変形が認めら
れなかつた。引続きこの成形品を180℃の熱風乾
燥装置内へ入れ、30分間で含水率1%程度に乾燥
し、ローラーハースキルンを用いて1200℃で1時
間サイクルの迅速焼成を行つたが、製品には何ら
欠陥が認められなかつた。
以上、本発明によれば、従来の製造時間を例ば
十数分の一に短縮するとともに、亀裂、歪などの
少ない高品質の陶磁器質曲面製品を製造すること
ができる。
【図面の簡単な説明】
第1図、第2図、第3図および第4図は、本発
明の陶磁器質製品を製造する工程を示した断面図
である。 1……陶磁器質生地、2……押上げ装置、3…
…曲面、4……吸着孔、5……成形型、6……乾
燥台。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 可塑性を有する練土状の陶磁器質組成物を平
    板状に加工した後、該平板を多数の吸着口を有す
    る曲面状成形型に押上げ装置を用いて押上げなが
    ら吸着させて成形した後、別に準備した同形状の
    金網製乾燥用型台に移してその形状を保持させつ
    つ乾燥硬化させ、次いで常法により焼成炉で焼結
    させることを特徴とする陶磁器製品の製造方法。
JP18171581A 1981-11-14 1981-11-14 陶磁器製品の製造方法 Granted JPS5884711A (ja)

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JP18171581A JPS5884711A (ja) 1981-11-14 1981-11-14 陶磁器製品の製造方法

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Publication Number Publication Date
JPS5884711A JPS5884711A (ja) 1983-05-20
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JPS604053A (ja) * 1983-06-22 1985-01-10 出光石油化学株式会社 金属−樹脂積層体
JPS62108003A (ja) * 1985-11-05 1987-05-19 株式会社アイジー技術研究所 長尺陶板の製造装置
JPS62121012A (ja) * 1985-11-22 1987-06-02 三菱鉱業セメント株式会社 平滑な曲面端部を有するセラミックス基板とその製法

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JPS4414697Y1 (ja) * 1966-04-04 1969-06-23
JPS5819441B2 (ja) * 1975-12-18 1983-04-18 凸版印刷株式会社 シヨウケツタイノセイゾウホウホウ

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