JPH01242742A - 電子機器用銅合金 - Google Patents
電子機器用銅合金Info
- Publication number
- JPH01242742A JPH01242742A JP6851188A JP6851188A JPH01242742A JP H01242742 A JPH01242742 A JP H01242742A JP 6851188 A JP6851188 A JP 6851188A JP 6851188 A JP6851188 A JP 6851188A JP H01242742 A JPH01242742 A JP H01242742A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- copper alloy
- strength
- alloy
- copper
- electrical conductivity
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Conductive Materials (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、集積回路のリードフレーム材等の電子機器用
銅合金に関するものである。
銅合金に関するものである。
電子機器に使用される材料は部品の小型化や高信頼性の
要求に伴い、高強度、高電導性に加え、耐食性や耐熱性
のより優れたものが望まれている。
要求に伴い、高強度、高電導性に加え、耐食性や耐熱性
のより優れたものが望まれている。
集積回路のリードフレーム材の例では、従来鉄系の42
アロイ(Fe−42%Ni)と銅系のものに大別される
が、近年は高集積度化による発熱から、熱を逃がすため
に銅系材への変更が進みつつある。しかしながら、一方
では小型化の進行に伴って、材料自体も薄板化が進み、
従来の銅合金の強度水準では不十分で、QFP (クラ
オード・フラット・パッケージ)タイプのICパッケー
ジにおいて1よ、4270イが依然として使用されてい
る。これらの動きの中で、広範囲のニーズに応えられる
水準の[1安として、4270イと同等の強度、即ち引
張強さで70kgf/am2相当の強度、電気伝導率と
しては30%・lAC3以上を伴せもつ材料が望まれて
いる。
アロイ(Fe−42%Ni)と銅系のものに大別される
が、近年は高集積度化による発熱から、熱を逃がすため
に銅系材への変更が進みつつある。しかしながら、一方
では小型化の進行に伴って、材料自体も薄板化が進み、
従来の銅合金の強度水準では不十分で、QFP (クラ
オード・フラット・パッケージ)タイプのICパッケー
ジにおいて1よ、4270イが依然として使用されてい
る。これらの動きの中で、広範囲のニーズに応えられる
水準の[1安として、4270イと同等の強度、即ち引
張強さで70kgf/am2相当の強度、電気伝導率と
しては30%・lAC3以上を伴せもつ材料が望まれて
いる。
従来の電子機器用の銅合金としては、
CDA(Copper Development As
5ociation) C19400合金や、Cu−0
,1%Sn、Cu−0,1%Feなどの高電導型(引張
強さは約50kgf/mm”程度以下だが、電気伝導率
は60%lAC3以上)や、りん青銅のような高強度型
(強度は4270イ水準であるが、電気伝導率は20%
lAC3以下)などが主に使われてきているが、いずれ
も強度と電気伝導率の両方を満足させられなかった、 この発明は−に記の問題点を解決するためになされたも
ので、強度と電気伝導率の両方に優れた特性をもつ電子
機器用銅合金を提供することを目的とするものである。
5ociation) C19400合金や、Cu−0
,1%Sn、Cu−0,1%Feなどの高電導型(引張
強さは約50kgf/mm”程度以下だが、電気伝導率
は60%lAC3以上)や、りん青銅のような高強度型
(強度は4270イ水準であるが、電気伝導率は20%
lAC3以下)などが主に使われてきているが、いずれ
も強度と電気伝導率の両方を満足させられなかった、 この発明は−に記の問題点を解決するためになされたも
ので、強度と電気伝導率の両方に優れた特性をもつ電子
機器用銅合金を提供することを目的とするものである。
この発明は次の電子機器用銅合金である。
(1)重量%にて、1.0〜4.0%のニッケル、0.
2%を超え0.8%までの燐、 およびO01〜3.0
%の錫を含有し、残部が銅および不可避の不純物からな
る′電子機器用銅合金。
2%を超え0.8%までの燐、 およびO01〜3.0
%の錫を含有し、残部が銅および不可避の不純物からな
る′電子機器用銅合金。
(2)重に%にて、1.0〜4.0%のニッケル、0.
2%を超え0.8%までの燐、0.1〜3.0%の錫、
および0.03〜0.5%の亜鉛を含有し、残部が銅お
よび不可避の不純物からなる電子機器用銅合金。
2%を超え0.8%までの燐、0.1〜3.0%の錫、
および0.03〜0.5%の亜鉛を含有し、残部が銅お
よび不可避の不純物からなる電子機器用銅合金。
本発明の電子機器用銅合金を構成する合金成分の添加理
由と、その組成範囲の限定理由を説明する。
由と、その組成範囲の限定理由を説明する。
ニッケルおよび燐は、これらの元素が金属間化合物を効
率よく生成し、強度を向上させ、かつ導電率の低下の少
ない範囲としている。ニッケルの下限1.0%は、 こ
れ未満では金属間化合物が少なく、強度の向上が少ない
ためであり、 上限4.0%は、これを超えると強度水
亭の向上が配合量に比し少なく、また電気伝導率および
はんだめっきの耐熱性が低下する傾向にあるためである
。またニッケルと燐はいくつかの金属間化合物をつくる
が、重量比的に約5:1の比率で添加したときに強度。
率よく生成し、強度を向上させ、かつ導電率の低下の少
ない範囲としている。ニッケルの下限1.0%は、 こ
れ未満では金属間化合物が少なく、強度の向上が少ない
ためであり、 上限4.0%は、これを超えると強度水
亭の向上が配合量に比し少なく、また電気伝導率および
はんだめっきの耐熱性が低下する傾向にあるためである
。またニッケルと燐はいくつかの金属間化合物をつくる
が、重量比的に約5:1の比率で添加したときに強度。
電気伝導率の水準が優れており、燐の含有量の範囲はこ
れにより定めた。
れにより定めた。
添加元素の錫については、母材の強度を向」ニさせるに
最も効果的な元素であり、添加捕が多ければ多いほど強
度は向」ニする。錫の下限0.1%は強度の向上が明ら
かになる量とし、上限は電気伝導率の低下より3.0%
に制限した。
最も効果的な元素であり、添加捕が多ければ多いほど強
度は向」ニする。錫の下限0.1%は強度の向上が明ら
かになる量とし、上限は電気伝導率の低下より3.0%
に制限した。
亜鉛の添加については、亜鉛は、はんだ付けあるいはは
んだめっき後の高温環境におけるはんだ層の剥雅等の信
頼性低下を抑える効果が認められ、その最小必要量の0
.03%を下限とし、上限については応力腐食性の点で
0.5%とした。
んだめっき後の高温環境におけるはんだ層の剥雅等の信
頼性低下を抑える効果が認められ、その最小必要量の0
.03%を下限とし、上限については応力腐食性の点で
0.5%とした。
以下、この発明の一実施例について説明する。
試料の作成は高周波電気炉にて溶解後厚さ20+nmの
鋳型にνi込み、表面を薄削後冷間圧延と熱処理をくり
返し、最終50%の冷間加工を行って0.25mmの板
状に仕」二げた。最終仕上圧延前の熱処理は800°C
で30分加熱後、水中に焼入れし、 その後450℃で
2時間の焼戻し処理を施した。
鋳型にνi込み、表面を薄削後冷間圧延と熱処理をくり
返し、最終50%の冷間加工を行って0.25mmの板
状に仕」二げた。最終仕上圧延前の熱処理は800°C
で30分加熱後、水中に焼入れし、 その後450℃で
2時間の焼戻し処理を施した。
表1に本発明材と比較材の諸特性を示す。
表1の結果より、NiおよびPの含有量の少ない試料N
α1では強度水準が低く、Nα2でも引張強さの水準は
約60kgf/mm2である。これにSnを添加した試
料Na 3以降は強度的に優れたものが得られている。
α1では強度水準が低く、Nα2でも引張強さの水準は
約60kgf/mm2である。これにSnを添加した試
料Na 3以降は強度的に優れたものが得られている。
Znを含まない試料N[14,7,8において、Niお
よびPの含有量は1:2:3の比率でSnは一定とした
ものであるが、これらのはんだ耐熱性の比較において明
らかな傾向が認められ、Ni、 Pの含有量が増すと低
下していくことが分かる。この低下を抑えるのに試料N
n 7と8の比較においてZnは効果があることが認め
られる。またZn量が0.73%の試料&6においては
、応力腐食感受性が大となり、上限についてはおのずと
制限され、追加実験の結果0.5%以上で劣下の大きい
ことが認められた。
よびPの含有量は1:2:3の比率でSnは一定とした
ものであるが、これらのはんだ耐熱性の比較において明
らかな傾向が認められ、Ni、 Pの含有量が増すと低
下していくことが分かる。この低下を抑えるのに試料N
n 7と8の比較においてZnは効果があることが認め
られる。またZn量が0.73%の試料&6においては
、応力腐食感受性が大となり、上限についてはおのずと
制限され、追加実験の結果0.5%以上で劣下の大きい
ことが認められた。
本発明の銅合金はニッケル、燐、錫を含有するため、強
度水準が高く、電気伝導率も比較的優れ、電子機器用部
品の小型化に非常に有用な特性を有しており、集積回路
のリードフレーム材に限らず。
度水準が高く、電気伝導率も比較的優れ、電子機器用部
品の小型化に非常に有用な特性を有しており、集積回路
のリードフレーム材に限らず。
コネクター、リレー、スイッチ等広範な用途に適用でき
るだけでなく、安価な銅合金として有用である。
るだけでなく、安価な銅合金として有用である。
さらに亜鉛を含有する銅合金は、耐熱性の低下が小さい
ため、強度水準をさらに上げることができる。
ため、強度水準をさらに上げることができる。
Claims (2)
- (1)重量%にて、1.0〜4.0%のニッケル、0.
2%を超え0.8%までの燐、および0.1〜3.0%
の錫を含有し、残部が銅および不可避の不純物からなる
ことを特徴とする電子機器用銅合金。 - (2)重量%にて、1.0〜4.0%のニッケル、0.
2%を超え0.8%までの燐、0.1〜3.0%の錫、
および0.03〜0.5%の亜鉛を含有し、残部が銅お
よび不可避の不純物からなることを特徴とする電子機器
用銅合金。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6851188A JPH01242742A (ja) | 1988-03-23 | 1988-03-23 | 電子機器用銅合金 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6851188A JPH01242742A (ja) | 1988-03-23 | 1988-03-23 | 電子機器用銅合金 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01242742A true JPH01242742A (ja) | 1989-09-27 |
Family
ID=13375814
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6851188A Pending JPH01242742A (ja) | 1988-03-23 | 1988-03-23 | 電子機器用銅合金 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01242742A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02205643A (ja) * | 1989-02-01 | 1990-08-15 | Hitachi Cable Ltd | リードフレーム用高強度銅合金 |
| JPH04236736A (ja) * | 1991-01-17 | 1992-08-25 | Dowa Mining Co Ltd | 端子用銅基合金 |
-
1988
- 1988-03-23 JP JP6851188A patent/JPH01242742A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02205643A (ja) * | 1989-02-01 | 1990-08-15 | Hitachi Cable Ltd | リードフレーム用高強度銅合金 |
| JPH04236736A (ja) * | 1991-01-17 | 1992-08-25 | Dowa Mining Co Ltd | 端子用銅基合金 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4732731A (en) | Copper alloy for electronic instruments and method of manufacturing the same | |
| JP2670670B2 (ja) | 高力高導電性銅合金 | |
| US5463247A (en) | Lead frame material formed of copper alloy for resin sealed type semiconductor devices | |
| US4750029A (en) | Copper base lead material for leads of semiconductor devices | |
| US4668471A (en) | Copper alloy lead material for leads of a semiconductor device | |
| JPS63149345A (ja) | 耐熱性を向上させた高力高導電銅合金 | |
| JPS63307232A (ja) | 銅合金 | |
| JPH0718356A (ja) | 電子機器用銅合金、その製造方法およびicリードフレーム | |
| JPS6158536B2 (ja) | ||
| JP3379380B2 (ja) | 高強度・高導電性銅合金 | |
| JPH0219433A (ja) | 電子機器用銅合金 | |
| JPH01159337A (ja) | 高力高導電性銅合金 | |
| JPH02122039A (ja) | 酸化膜密着性に優れた高力高導電銅合金 | |
| US5248351A (en) | Copper Ni-Si-P alloy for an electronic device | |
| JPS62156242A (ja) | 銅基合金 | |
| JPH0222433A (ja) | 電子機器用銅合金 | |
| JP2514926B2 (ja) | はんだ接合強度に優れた電子機器用銅合金とその製造法 | |
| JPS63109132A (ja) | 高力導電性銅合金及びその製造方法 | |
| JPH0356294B2 (ja) | ||
| JPH01263243A (ja) | 電子機器用銅合金 | |
| JPH0219432A (ja) | 半導体機器リード材又は導電性ばね材用高力高導電銅合金 | |
| JPH0830233B2 (ja) | 高力高導電性銅合金 | |
| JPS61174344A (ja) | リ−ドフレ−ム用銅合金 | |
| JPS63192835A (ja) | セラミツクパツケ−ジ用リ−ド材 | |
| JP3391492B2 (ja) | 半導体機器のリ−ド材用,導電性ばね材用の高力高導電性銅合金 |