JPH01248012A - 位置検出方法 - Google Patents

位置検出方法

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Publication number
JPH01248012A
JPH01248012A JP63074303A JP7430388A JPH01248012A JP H01248012 A JPH01248012 A JP H01248012A JP 63074303 A JP63074303 A JP 63074303A JP 7430388 A JP7430388 A JP 7430388A JP H01248012 A JPH01248012 A JP H01248012A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pattern
mask
alignment
optical system
wafer
Prior art date
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Pending
Application number
JP63074303A
Other languages
English (en)
Inventor
Minoru Ikeda
稔 池田
Akira Inagaki
晃 稲垣
Motoya Taniguchi
素也 谷口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Original Assignee
Hitachi Ltd
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Publication date
Application filed by Hitachi Ltd filed Critical Hitachi Ltd
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Publication of JPH01248012A publication Critical patent/JPH01248012A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Landscapes

  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、互いに近接して重畳する複数個の物体たとえ
ばマスクと半導体のウェハとのプロキシミテイアライナ
のアライメント位置検出方法、とくにマスクのアライメ
ントマークより両者の位置ズレ量を検出し、露光するア
ライメントに好適な位置検出方法に関する。
〔従来の技術〕
従来の位置検出方法は、たとえば特開昭62−8681
9号公報に記載されているように、互いに近接し【重畳
するマスクとウェハとを露光光と干渉しないように光軸
をマスクのパタンの面に垂直な線に対して傾けたパタン
拡大光学系と照明光学系とを用い、拡大光学系から見た
マスクに近接するウェハ面上に発生するマスクのパタン
の影とマスクのパタンとの位置ずれに着目し、影の無い
部分のパタンのみを利用してアライメント位置検出を行
うものが提案されている。
〔発明が解決しようとする課題〕
上記従来技術は、マスクパタンの影の影響な防止するこ
とは可能かも知れないが、ウェハの表面の反射率などの
条件変化などの点について配慮がされておらず、ウェハ
の表面の反射率などの条件変化によってはパタンのコン
トラストが不足する問題があった。
すなわち、たとえば第5図囚に示すパタン拡大光学系の
像において、マスク1のパタン2の照度は、第6図(B
)に示すように照明元軸9aがパタン2表面より反射す
る反射光束4の反射率によって決定すれる。一方、マス
ク1のパタン2周辺部3では第6図(C)に示すように
マスク1の透明部表面の反射率による反射光束4の他に
、マスク1の透明部を透過し、ウェハ5の表面で反射し
た反射光束6が発生する。このウェハ5の表面の反射率
は該ウェハ5の製造プロセスによって異なるため、と(
に反射率の高い場合にはマスク1のパタン2とその周辺
部3との照度の差が小さ(なるときがあり、このときに
は、第5図CB)に示すように位置検出のための走査信
号8αがマスクパタン2の輪郭を示す信号7のみとなっ
て安定した位置検出ができない問題があった。なお、ウ
ェハ5の反射率が低い場合の正常な信号波形を第5図(
Blに破線で示す。
また第5図および第6図に示す8はアライメントパタン
2を通る拡大光学系に有するテレビカメラ(図示せず)
の走査線であり、上記走査信号8aはこの走査線8を圧
縮した信号波形である。
本発明の目的は、上記従来技術の問題点を解決し、いか
なるウェハの反射率の条件においても。
安定してマスクの位置検出を可能とする位置検出方法を
提供することにある。
〔課題ケ解決するための手段〕
上記目的は、互いに近接する如く重畳された複数個の物
体を露光光と同じ側からアライメント位置を検出する位
置検出方法において、検出光軸および照明元軸をそれぞ
れ上記複数個の物体のアライメント面と直角な面に対し
て傾斜し、上記露光光と干渉しないように配置されたア
ライメント拡大光学系と、照明光学系とから構成された
光学系と、上記一方の物体に形成された不透明なパタン
と、この不透明なパタンとは別に該一方の物体に形成さ
れた不透明なパタンにより他方の物体に発生する影とで
構成されたアライメントパタンドパタンとを用いて上記
他方の物体表面の反射率の条件変化に関係なく常に一定
のコントラストで上記一方の物体の位置を検出すること
を特徴とする位置検出方法によって達成される。
〔作用〕
本発明は、マスクパタンの近傍では影忙よってマスクの
透明部の表面反射による光束のみとなり。
ウェハの表面反射率の条件変化に関係なく常に一定とな
るので、安定したマスクの位置を検出することができる
〔実施例〕
以下1本発明の一実施例を示す第1図乃至第3図につい
て説明する。なお1本発明は前記従来技術と比較し、マ
スクの透明部の表面反射による光束以外にウェハの表面
から反射する光束を遮るため、マスクパタンの近傍に影
を形成した点が相異し、それ以外は前記従来技術と同一
であるから。
上記相異点について主として説明する。
まず1本発明が使用する光学系は、第3図にその斜視図
を示すように、照明光学系10と、拡大光学系20とか
ら構成されている。上記照明光学系1゜は、照明用ファ
イバ11とレンズ12とミラー13とレンズ14とから
構成され、照明用ファイバ11より発する光束をマスク
1上のチップパタン8の外周に設けたアライメントパタ
ン9iC照明する。このときの照BA元軸9αは、マス
ク1に垂直な線に対して傾斜しているので、ミラー13
.レンズ14などが露光光束15と干渉するのを防止す
ることができる。
上記拡大光学系20は、対物レンズ21とミラー22゜
23とレンズ24とテレビカメラ25とから構成され。
アライメントパタン9の像ヲテレビカメラ25に撮像す
る。このときの光軸26は上記マスク1に垂直な線に対
して傾斜しているので、対物レンズ21およびミラー2
2が露光光束15と干渉するのを防止することができる
つぎに第1図は上記拡大光学系20のテレビカメラ25
にて画像されたアライメントパタンとその検出位置を示
す平面図である。第1心に示すように。
アライメントパタン31に隣接し、第1図に対して上方
にかつ第2図に対して左側にその影32がアライメント
パタン31の付近な被うように不透明パタン33を配置
している。この不透明パタン33よりずれてはみ出した
影32と、上記不透明パタン33とを通る上記テレビカ
メラ25の走査線38を圧縮した信号波形35のうち、
マスク1のアライメントパタン31に相当する部分34
のみを取出して信号処理することによりマスク1の位置
を検出する。なお、マスク1およびウェハ5の両方の位
置を検出する必要がある場合には、さらにウェハ5にア
ライメントパタン36ヲ設けることによりマスク1にこ
のアライメントパタン36に相当する部分37が得られ
るので、これによってウエノ・5の位置を検出すること
ができるが、焦点合わせのための別の走査線(図示せず
)による信号によってウェハ5の位置を検出することも
できる。
また上記不透明なアライメントパタン31の照度は、第
2図(B)に示すように、従来と同様照明元軸9αがア
ライメントパタン31の表面より反射した反射光束4の
反射率による。一方マスクパタン2周辺の影32の照度
は、第2図(0に示すようにマスク1の透明部の表面反
射率による反射光束4のみで。
ウェハ5の表面で反射する反射光束6は、不透明パタン
33によって遮えぎられる。このため第1図(B)に示
すように、マスクアライメントパタン31の信号レベル
40とウェハ反射光3の信号レベル41が等しくても影
32の信号レベル42が低いため、マスクアライメント
パタン31の信号を正しく検出することができる。
第1図では、中央部にマスク1の不透明パタン33を配
置し、その両側に影32を配置したが、これに限定され
るものでなく、たとえば1本発明の他の一実施例である
第4図にその1部に示すように。
中央部に透明パタンを配置してそこに影32がくるよう
に配置し、その両側にマスク1の不透明パタン33を配
置してもよい。
〔発明の効果〕
本発明によれば、ウニ八表面の′反射率の条件変化に関
係なく常に一定のコントラストでマスクパタンを検出で
きるので安定した検出ができ、信頼性を向上することが
できる。
【図面の簡単な説明】 第1図は本発明の一実施例であるアライメントパタンと
その検出位置を示し、その囚は平面図。 その(B)はアライメントパタンの照度を示し、第2図
は第1図の機能を説明するための説明図で、その囚は平
面図、その(B)はアライメントパタンとその周辺の反
射光束を示し、第3図は本発明が使用する光学系を示す
斜視図、第4図は本発明の他の一実施例であるアライメ
ントパタンとその検出位置を示す説明図でその囚は平面
図、その(Blはアライメントパタンの照度を示し、第
5図は従来のアライメントパタンとその検出位置を示す
説明図で。 その(5)は平面図、その03)はアライメントパタン
の照度を示し、第6図は第5図の機能を説明するための
説明図で、その囚は平面図、その(B)はアライメント
パタンの反射光束を示し、その(0はアライメントパタ
ンとその周辺の反射光束を示す。 1・・・マスク、     2・・・マスクパタン。 3・・・マスクパタン周辺部。 4.6・・・反射光束、   5・・・ウエノ・。 10・・・照明光学系、20・・・拡大光字系。 31・・・アライメントパタン。 32・・・影、33・・・不透明パタン。 36・・・ウェハのアライメントパタン。 40 、41・・・信号レベル。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、互いに近接する如く重畳された複数個の物体を露光
    光と同じ側からアライメント位置を検出する位置検出方
    法において、検出光軸および照明光軸をそれぞれ上記複
    数個の物体のアライメント面と直角な方向の面に対して
    傾斜し、上記露光光と干渉しないように配置されたアラ
    イメント拡大光学系と照明光学系とからなる光学系と、
    上記一方の物体に形成された不透明なパタンと、この不
    透明なパタンとは別に該一方の物体に形成された不透明
    なパタンにより他方の物体に発生する影とで構成された
    アライメントパタンを用いて上記他方の物体表面の反射
    率の条件変化に関係なく常に一定のコントラストで上記
    一方の物体の位置を検出することを特徴とする位置検出
    方法。
JP63074303A 1988-03-30 1988-03-30 位置検出方法 Pending JPH01248012A (ja)

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